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type patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2281件
The type of information to be notified according to the contents of the operation is instructed by the main control part 200 to a special pattern display device 100 (S45, S60).例文帳に追加
操作内容に応じて報知すべき報知情報の種類が主制御部200から特別図柄表示装置100に指示される(S45,S60)。 - 特許庁
A second power line pattern 44 connects the output terminal 14 of the transmission line type noise filter 10 to the power terminal 32 of the microprocessor 30.例文帳に追加
第2電源ラインパターン44は、伝送線路型ノイズフィルタ10の信号出力端子14をマイクロプロセッサ30の電源端子32に接続する。 - 特許庁
To provide an inkjet type image forming apparatus capable of adding a traceable pattern for preventing the forgery without deteriorating the productivity in the printing.例文帳に追加
印刷生産性を損なうことなく、偽造防止のための追跡パターンを付加することができるインクジェット方式の画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide a production method for a high definition resist pattern at the time of using chemical amplification type resist and a conductive film.例文帳に追加
本発明は、化学増幅型レジストおよび導電性膜を使用した際の、高精細なレジストパターンの製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁
To measure a reticle pattern surface without increasing a device inspection time before exposure treatment in a scanning type exposure device.例文帳に追加
本発明は、走査型露光装置において露光処理前の装置検査時間を増加させることなく、レチクルパターン面測定を行うことを目的とする。 - 特許庁
Finally, the method also comprises the step of generating a suction pattern by cross cropping (component array deciding by considering simultaneous suction) from the component type (component tape) on the real Z axis.例文帳に追加
最後に、実Z軸上の部品種(部品テープ)から、刈り上げ処理(同時吸着を考慮した部品配列決定)により、吸着パターンを生成する。 - 特許庁
To provide a chemical amplification type resist composition giving a resist pattern having excellent transparency to radiation, dry etching properties, sensitivity, resolution, flatness, heat resistance, etc.例文帳に追加
放射線に対する透明性、ドライエッチング性、感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れるレジストパターンを与える化学増幅型レジスト組成物の提供。 - 特許庁
To provide an embedded type multilayer wiring structure with a low electrical resistivity for excellently embedding via-holes or the like to a highly integrated finer pattern.例文帳に追加
高集積化、微細化されたパターンにおいて、ビアホール等を良好に埋め込み、かつ電気抵抗率の低い埋め込み型の多層配線構造を提供する。 - 特許庁
To provide an NOR type flash memory which improves pattern resolution/dimension controllability by lithography is improved and ensures stable operation.例文帳に追加
本発明は、NOR型のフラッシュメモリ装置において、リソグラフィによるパターン解像性/寸法制御性を改善できるとともに、より安定した動作を可能にする。 - 特許庁
To provide a polyimide precursor developable with an aqueous alkali solution and having positive type pattern forming ability, and a method of stably producing the polyimide precursor.例文帳に追加
アルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有するポリイミド前駆体とこのポリイミド前駆体を安定して製造する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a polyimide precursor developable with an aqueous alkali solution and having negative type pattern forming ability, and a method of stably producing the polyimide precursor.例文帳に追加
アルカリ水溶液にて現像が可能なネガ型パターン形成能を有するポリイミド前駆体とこのポリイミド前駆体を安定して製造する方法を提供する。 - 特許庁
A coil-shaped circuit pattern 31 is formed on an antenna board 22 to be used as an antenna for radio communication with the non-contact type IC card 10.例文帳に追加
非接触式ICカード10との無線通信のためのアンテナとして用いられるアンテナ基板22には、コイル状の回路パターン31が形成されている。 - 特許庁
To provide a multi-directional projection type moire interferometer for irradiating an inspecting object with pattern lighting from many directions, and an inspection method using this.例文帳に追加
多方向からパターン照明を検査対象物に照射する多方向映写式モアレ干渉計及びこれを用いた検査方法を提供する。 - 特許庁
The passive type exerciser is provided with an exercise assisting mechanism for assisting the exercise of the user by performing an operation in a prescribed operation pattern.例文帳に追加
本発明に係る受動型運動機器は、所定の動作パターンで動作することによってユーザの運動を補助する運動補助機構を有する。 - 特許庁
To provide a chemical amplification type radiation sensitive resist composition giving an improved resist pattern shape independently of the wavelength of ionizing radiation for irradiation.例文帳に追加
照射する電離放射線の波長に依存せずに、レジストパターン形状が向上した化学増幅型の感放射線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
Thus, detecting the diffusion reflection light and mirror reflection light makes it possible to detect a registration control pattern 38 formed with any type of toner.例文帳に追加
このように、拡散反射光と鏡面反射光を検出することで、どのような種類のトナーで形成されたレジコンパターン38でも検出可能となる。 - 特許庁
(2) A desired outline pattern is formed by discharging hydrophilic ultraviolet-curable type ink onto the recording medium applied with the hydrophilic treatment at the steps S2 and S3.例文帳に追加
(2)その親水処理を施した録媒体上に、親水性の紫外線硬化型インクを吐出して所望の輪郭パターンを形成する(S2、S3)。 - 特許庁
To more effectively suppress the interference pattern (mutilation of FFP) of light, which leaks from an n-type contact layer than a conventional one in a stably oscillating semiconductor laser.例文帳に追加
安定して発振する半導体レーザにおいて、従来よりも効果的にn型コンタクト層から漏れ出る光の干渉縞(FFPの乱れ)を抑制すること。 - 特許庁
Since these operations are carried out in a vacuum atmosphere, air is not penetrated between the relief pattern of the die 1 and the ultraviolet cure type resin 2.例文帳に追加
これらの作業は真空雰囲気内で行われるので、金型1のレリーフパターンと紫外線硬化型樹脂2との間に空気が入り込むことがない。 - 特許庁
To contemplate multiplier compatibility of a view aliasing artifact correction method and spectral shifting compensation algorithm for multiplex energy pattern computer type tomography data.例文帳に追加
多重エネルギ型計算機式断層写真法データに対するビュー・エイリアシング・アーティファクト補正方法とスペクトル・シフト補償アルゴリズムとの相乗的両立を図る。 - 特許庁
A patch type test pattern is employed for adjusting positional shift between first and second dots formed at different timings.例文帳に追加
異なるタイミングで形成される第1のドットと第2のドットとの間の形成位置のずれを調整するためのテストパターンとして、パッチ状のパターンを用いる。 - 特許庁
To directly measure the phase difference working amount of a phase shifter without stripping a resist pattern in the working process of the phase shifter of an engraved Levenson type phase shifting mask, etc.例文帳に追加
彫り込み型レベンソン型位相シフトマスク等における位相シフター加工工程中にレジストパターンを剥離することなく位相差加工量を直接計測する。 - 特許庁
To provide a recess gate and its manufacturing method which can reduce the size of the void remaining in the ball pattern of a bulb type recess.例文帳に追加
バルブ型リセスパターンのボールパターン内に残留するボイドの大きさを小さくすることができる半導体素子のリセスゲート及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a heat-resistant resin composition that is inexpensive, does not cause metal corrosion, and has positive type photosensitivity allowing pattern forming in alkali aqueous solution.例文帳に追加
安価で、金属コロージョンを引き起こさず、アルカリ水溶液にてパターン形成が可能なポジ型の感光性を有する耐熱性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a capacitance type coordinate detector constituted so that coordinate detection is performed with high accuracy even when bypasses are formed in an electrode pattern.例文帳に追加
電極パターンに迂回路を形成しても高い精度で座標検出を行えるようにした静電容量式の座標検出装置を提供する。 - 特許庁
To provide a positive type photoresist composition for exposure with far UV having improved exposure margin and defocus latitude in the resolution of a contact hole pattern.例文帳に追加
コンタクトホールパターン解像における露光マージン及びデフォーカスラチチュードが改善された遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a tape cassette capable of enhancing flexibility of a pattern of a part to be detected provided for a tape printer to detect the type of the tape cassette.例文帳に追加
テープ印字装置がテープカセットの種類を検出するために設けられる被検出部のパターンの自由度を高めることが可能なテープカセットを提供する。 - 特許庁
Moreover, a resist film 44 is formed on the pattern again in the same way as (c), and an eight step reflection type diffraction optics is formed by repeating the same processes.例文帳に追加
又、再度(c)と同様にパターン上にレジスト膜44を形成し(h)、同様の工程を繰り返すことにより、8段の反射型回折光学素子を作成する。 - 特許庁
A channel ion implantation region is formed by ion-implanting a dopant of a first conductivity type in the active region of the semiconductor substrate using the mask pattern.例文帳に追加
前記マスクパターンを前記半導体基板の活性領域に第1導電型のドープ剤をイオン注入してチャンネルイオン注入領域を形成する。 - 特許庁
The collector electrode of the vertical p-type semiconductor element 4 is connected directly with a copper pattern 3b provided on the other ceramic substrate 2 (left-side portion).例文帳に追加
縦型のp型半導体素子4は、コレクタ電極が、他方(左側部分)のセラミック基板2上に設けられた銅パターン膜3bと直接接続されている。 - 特許庁
A chemical amplification type photoresist pattern 15 is formed on a semiconductor substrate 11 having a layer 13 to be etched chemically, and is spin-coated with polymer containing silicon.例文帳に追加
被食刻層13を有する半導体基板11上に化学増幅型フォトレジストパターン15を形成し、この上にシリコン含有ポリマーをスピンコーティングする。 - 特許庁
To provide a new negative type photosensitive resin composition developable with a dilute alkali solution and capable of supplying a high sensitivity and high resolution resist pattern.例文帳に追加
希アルカリ溶液にて現像可能な、高感度、高解像度のレジストパターンを供給することができる新規なネガ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
A type of kosode prevailing during the Keicho era (from 1596 to 1614) and it is said that a typical Keicho kosode is patterned all over the cloth and the pattern became minute, however, the color tone used is darker than Momoyama kosode. 例文帳に追加
慶長年間に流行したタイプの小袖で、総柄であるが、模様が細かくなり、色調が桃山小袖に比べて暗いのが特徴とされる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Aquatic communities gradually recover with increased distance downstream from impacts, although the pattern may vary according to the type of impact and discharge.例文帳に追加
水生生物群集は,影響からの流下距離が増すにつれて徐々に回復する。ただし,そのパターンは,影響および排出の種類に応じて異なる。 - 英語論文検索例文集
Aquatic communities gradually recover with increased distance downstream from impacts, although the pattern may vary according to the type of impact and discharge.例文帳に追加
水生生物群集は,影響からの下流距離が増すにつれて徐々に回復する。ただし,そのパターンは,影響および放流の種類に応じ異なる。 - 英語論文検索例文集
Aquatic communities gradually recover with increased distance downstream from impacts, although the pattern may vary according to the type of impact and discharge.例文帳に追加
水生生物群集は,影響からの下流距離が増すにつれて徐々に回復する。ただし,そのパターンは,影響および排出の種類に応じ異なる。 - 英語論文検索例文集
Aquatic communities gradually recover with increased distance downstream from impacts, although the pattern may vary according to the type of impact and discharge.例文帳に追加
水生生物群集は,影響からの下流距離が増すにつれて徐々に回復する。ただし,そのパターンは,影響および排出の種類に応じ異なる。 - 英語論文検索例文集
In recent years, furisode is often worn by young unmarried women as a type of formal dress, since furisode are now seen as equally formal and appropriate as black or colored formal susomoyo (kimono with a pattern on the skirt) and homongi (a kind of semi-formal kimono for women). 例文帳に追加
現在では未婚の女性が、裾模様の黒留袖や色留袖、訪問着に相当する格式の礼装として着ることが多い。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
To improve precision of a drawing position of a pattern in a continuous drawing-type EB mask drawing device.例文帳に追加
本発明は、連続描画型のEBマスク描画装置において、パターンの描画位置の精度をより向上できるようにすることを最も主要な特徴とする。 - 特許庁
To make a light distribution pattern for high beam superior in long-range visibility in a projector type lighting fixture unit with a light emitting element as a light source.例文帳に追加
発光素子を光源とするプロジェクタ型の灯具ユニットにおいて、これにより形成されるハイビーム用配光パターンを遠方視認性に優れたものとする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor, by which the processing dimensional accuracy is improved, and also to provide a method for forming a mask pattern, and a Levenson type phase shift mask.例文帳に追加
加工寸法精度の向上を図ることが可能な半導体製造方法、マスクパターンの形成方法及びレベンソン型位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁
As for super ready-to-win B as a special variation pattern type to be prefetched, a common determination value is allocated regardless of the number of reserves.例文帳に追加
そして、先読み判定の対象となる特別の変動パターン種別としてのスーパーリーチBについては、保留記憶数に関わらず共通の判定値を割振る。 - 特許庁
To improve wear resistance of a tread central part, uneven abrasion resistance of a shoulder part, and heat resistance with good balance in a pneumatic tire with a rib-lug type pattern.例文帳に追加
リブラグ型パターンを備えた空気入りタイヤにおいて、トレッド中央部の耐摩耗性、ショルダー部の耐偏摩耗性、及び耐熱性をバランス良く向上させる。 - 特許庁
To provide an applicator which enables a user to easily draw a pattern such as a Chinese ink flowing type, a marble tone, etc., by simultaneously applying a plurality of color manicure liquid.例文帳に追加
複数色のマニキュア液を同時に塗布することで墨流し風やマーブル調などの模様を簡便に塗布することができる塗布具を提供する。 - 特許庁
To provide a pinball game machine capable of achieving a plurality of types of operation patterns in the operation of a movable generator based on a single type of operation pattern.例文帳に追加
可動式役物の動作を1種類の動作パターンに基づき、複数種類の動作パターンを実現することができる弾球遊技機を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a transflective type liquid crystal display which has an improved yield and reflection efficiency of an uneven pattern and is manufactured through simple steps.例文帳に追加
凹凸パターンの収率と反射効率が向上し、製造工程が簡単な半透過型液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a chemical amplification type resist material which ensures a high resolution, good resist pattern profile and improved storage stability.例文帳に追加
レジストパターン形状が良好で、保存安定性も向上し、高い解像性、良好なパターン形状、保存安定性が得られる化学増幅型レジスト材料の提供。 - 特許庁
Determination is made, based on a type of encoding of the decompressed block and a position of the corresponding reference frame, or a given topology pattern and a size of the frame memory.例文帳に追加
これはこの圧縮解除ブロックの符号化タイプと対応参考フレームの位置、或いは付与されたトポロジーパターンとフレームメモリの容量によりなされる。 - 特許庁
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