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ultraviolet regionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 717



例文

To provide titanium oxide particles responsive to a wide wavelength range from the ultraviolet region to the visible light region and exhibiting high catalytic activity even with a light source in an ordinary living space such as solar light, an incandescent lamp and fluorescent lamp, a photocatalyst comprising the titanium oxide particle, and a method for producing the titanium oxide particles.例文帳に追加

紫外線域から可視光線域までの広い波長範囲に応答性を有し、太陽光や白熱灯、蛍光灯等の通常の生活空間における光源でも高い触媒活性を発揮することができる酸化チタン粒子と、この酸化チタン粒子からなる光触媒、及び該酸化チタン粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁

A black resin layer 6 containing a coloring pigment for shielding visible light in a wavelength region of 390 to 550 nm and a sealant layer 3 having white resin layers 4, 8 containing a coloring pigment for shielding ultraviolet rays in a wavelength region of 240 to 390 nm are laminated on a base film 1, and the sealant layer further includes transparent resin layers 5, 7 to form a film.例文帳に追加

基材フィルム1に、390nm〜550nmの波長領域の可視光線を遮断する着色顔料を含有した黒色樹脂層6、および、240nm〜390nmの波長領域の紫外線を遮断する着色顔料を含有した白色樹脂層4、8を有するシーラント層3を積層し、シーラント層にさらに透明樹脂層5、7を備えて、フィルムを形成した。 - 特許庁

In an FBG section 40 that performs high cutoff filtering against optical input in excess of 40 dB in a wide band exceeding 1 nm, a photo-sensitive material having a phtosensitivity against ultraviolet rays is added in the region of a cladding 42 so as to form the chirped Bragg grating same as that in the region of the core 41.例文帳に追加

光入力に対し、1nmを越える広帯域で40dBを越える高遮断のフィルタリングを行うFBG部40であって、クラッド42の領域に、紫外線に対して感光性を有する感光性材料を添付し、コア41の領域と同じチャープトブラッググレーティングを形成している。 - 特許庁

To prevent foreign matter from sticking to the exposure pattern region of a photomask applicable to the 157 nm photolithography technique, electron beam lithography technique and EUV (extreme-ultraviolet radiation) lithography technique when the photomask is delivered, stored and attached to a stepper after production and to make the top of the exposure pattern region free of a shielding material in exposure.例文帳に追加

157nmの光リソグラフィ技術、電子線リソグラフィ技術及びEUVリソグラフィ技術に適用可能なフォトマスクに対し、フォトマスクを製造した後、納品時や保管時、ステッパーへの装着時などに異物が露光パターン領域に付着することを防止し、且つ露光の際には露光パターン領域上に遮蔽物が存在しないようにする。 - 特許庁

例文

To provide an electrophotographic photoreceptor showing high sensitivity even in a wave length ranging from near ultraviolet region to the wave length region of 500 nm, having stable performance with the charge potential and the residual potential, hardly changed even in repeated use, and giving a high quality output image stably at the time of forming the image by an electrophotographic process.例文帳に追加

近紫外領域から500nmの波長域でも高感度を示し、かつ繰り返し使用しても帯電電位及び残留電位がほとんど変化せずに安定した性能を有し、電子写真プロセスにより画像形成を行う際に、安定して高品位な出力画像を与える電子写真感光体を提供すること。 - 特許庁


例文

To provide a curing (meth)acrylate-based composition for forming optical parts, transparent, hardly discolored, denatured and deteriorated by lights from a light source having an emission light wave length distribution ranging from a short wave region of visible light to an ultraviolet region and excellent in dimensional stability, moldability and water resistance of cured products.例文帳に追加

本発明の課題は、透明であり、可視光の短波長領域から紫外領域の発光波長分布を有する光源からの光に対しても着色、変質や劣化を起こし難く、また、寸法安定性、成形性や硬化物の耐水性に優れた光学部品形成用の硬化性(メタ)アクリル系組成物を提供することにある。 - 特許庁

The hollow waveguide has a metallic pipe 2 constituting a waveguide and a dielectric layer 3 internally provided on the inner wall of the pipe 2, and cyclic polyolefin polymer having transparent thickness in the wavelength band of an ultraviolet region or an infrared region of ≥2μm wavelength, and having ≤0.01% water absorption is used for the dielectric layer 3.例文帳に追加

導波路を構成する金属パイプ2と、金属パイプ2の内壁に内装された誘電体層3を有し、誘電体層3は、紫外領域または波長2μm以上の赤外領域の波長帯で透明な厚さを有し、かつ、その吸水率が0.01%以下の環状オレフィンポリマーを用いた。 - 特許庁

To provide an optical semiconductor mounting board which can maintain a reflectance ratio in wavelengths of 400-800 nm which is a visible light region at 80% and over, and at the same time inhibit reduction in reflectance ratio by attenuating or extinguishing reflectance ratio absorption peak appearing at wavelengths of around 340-380 nm which is a near ultraviolet region.例文帳に追加

可視光域である波長400〜800nmの反射率が80%以上を維持すると同時に、近紫外域である波長340〜380nm付近に出現する反射率吸収ピークを減衰あるいは消滅させて反射率低下を抑制することができる光半導体実装用基板を提供する。 - 特許庁

After a resist film 8 is removed, the second resist film 13 is deposited over the entire surface and is patterned, in correspondence with the channel region of a memory cell transistor regions A to form holes 13a corresponding to the channel regions of the memory cell transistor region A in the second resist film 13, and then the second resist film 13 is cured with heat and ultraviolet rays.例文帳に追加

レジスト膜8を除去した後、全面に第2のレジスト膜13を堆積し、メモリセルトランジスタ領域Aのチャネル領域に対応させて第2のレジスト膜13をパターニングし、第2のレジスト膜13にメモリセルトランジスタ領域Aのチャネル領域に対応するホール13aを形成し、第2のレジスト膜13を熱及び紫外線により硬化させる。 - 特許庁

例文

The illumination optical system for illuminating an illuminated region M by extreme ultraviolet light emitted from a light source 2 comprises a first compensation means 16 for correcting the light intensity distribution, in the optical conjugation position or in its vicinity with the pupil of a projection optical system; and a second correction means 14 for correcting the light intensity distribution in the illuminated region M.例文帳に追加

光源2から射出される極端紫外光で照明領域Mを照明する照明光学系において、前記照明光学系の瞳位置と光学的に共役な位置またはその近傍の位置における光強度分布を補正する第1補正手段16と、前記照明領域Mにおける光強度分布を補正する第2補正手段14とを備える。 - 特許庁

例文

At least one of laser beams of the visible region and the ultraviolet region is made incident on the back layer of a magnetic tape, while the magnetic tape is carried in a longitudinal direction, and when the back layer is machined to form a recess therein, a part near the machined part is enclosed, and powder dust generated during the machining is removed by exhausting the enclosed part.例文帳に追加

磁気テープを長手方向に搬送しつつ、可視域もしくは紫外域のレーザビームの少なくとも一方を磁気テープのバック層に入射し、バック層を加工して凹部を形成する際に、加工部分の近傍を囲い込み、加工で発生する粉塵を、囲い込んだ部分を排気して除去することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a polyolefin-based light-reflecting film which has a high and flat light reflectance from the near ultraviolet light region to the visible light region, a uniform and high brightness, and is used as a light-reflecting film for liquid crystal display back lights, a light-reflecting film for electrical bulletin boards, an agricultural light-reflecting film, and the like.例文帳に追加

光線反射率が高く、近紫外から可視光域での光線反射率がフラットで輝度ムラがなく、かつ高輝度を有し、液晶表示装置バックライト用光反射フィルム、電飾掲示板用光反射フィルム、農業用光反射フィルム等に好適なポリオレフィン系光反射フィルムを提供する。 - 特許庁

In a fluorescence color converting film comprising an organic fluorescence pigment absorbing a light of a near ultraviolet ray region to a visible region acquired from a luminescence substance to emit another visible light, a molecular weight modifier, a matrix resin supporting the organic fluorescence pigment and the molecular weight modifier, the molecular weight modifier comprises one or more kind of compounds indicated, represented by a general formula 1 below.例文帳に追加

発光体から得られる近紫外線領域ないし可視領域の光を吸収して異なる可視光を発する有機蛍光色素と、分子量調節剤と、有機蛍光色素および分子量調節剤を支持するマトリクス樹脂とを含む蛍光色変換膜であって、前記分子量調節剤は、下記一般式: - 特許庁

The image forming apparatus forms an image by affording it through an inkjet method in which ink is cured by an active energy ray, wherein in the presence of an image region with an ink amount of 10 g/m^2 or less for composing an image, the temperature of the region selectively irradiated by the ultraviolet ray is increased by a heating element 17.例文帳に追加

活発エネルギー線により硬化するインクをインクジェット法により付与して像を形成する像形成装置であって、画像を構成するインクの量が10g/m^2以下の画像領域が存在するときに選択的に紫外線が照射される領域の温度を発熱体17によって上昇させるようになっている。 - 特許庁

The plate for planographic printing is made through a step of curing a resin in an exposed region by emitting light within a ultraviolet range corresponding to image data from a digital mirror device while heating the original plate for planographic printing having a photosensitive layer with a photo-curing resin and a hydrophilic supporting body, and a step of removing a photosensitive layer in an unexposed region.例文帳に追加

光硬化性樹脂を含む感光層および親水性支持体を有する平版印刷原版を加熱しながら、デジタル・ミラー・デバイスからの画像データに対応する紫外領域の光を照射し、露光部の樹脂を硬化させる工程;そして、未露光部の感光層を除去する工程により平版印刷版を製版する。 - 特許庁

The original plate for planography printing plate has a photosensitive image forming layer including a compound that chemically or physically changes the property by light, a layer including a wavelength converting material that converts wavelength of incident light into photosensitive wavelength of the compound shorter than the wavelength of the incident light, and a layer absorbing or reflecting light in the range from ultraviolet region to visible region, which are in turn disposed on a hydrophilic supporting body.例文帳に追加

親水性支持体上に、光により化学的または物理的に変化する化合物を含有する感光性画像形成層と、入射光をそれよりも波長の短い前記化合物の感光波長の光に変換する波長変換材料を含有する層を順に有し、更に紫外〜可視領域の光を吸収または反射する層を有することを特徴とする。 - 特許庁

The light-receiving device 10 is composed so that ultraviolet light is absorbed with the first partial light-receiving region 26 so as to be converted into a positive current flowing between the first electrode 32 and the second electrode 34, and blue light is absorbed with the second partial light-receiving region 28 so as to be converted into a negative current flowing between the first electrode 32 and the second electrode 34.例文帳に追加

受光装置10では、紫外光が第1部分受光領域26で吸収されることによって第1電極32と第2電極間34を流れる正の電流に変換され、青色光が第2部分受光領域28で吸収されることによって第1電極32と第2電極24間を流れる負の電流に変換される。 - 特許庁

To obtain a photocatalyst capable of utilizing not only an ultraviolet region but also a visible light region, a means for forming and manufacturing hydrogen by using this photocatalyst in the decomposition of water, or the like, and a harmful substance detoxifying treatment means using the photocatalyst in the decomposition treatment of a harmful substance.例文帳に追加

紫外光のみならず可視光領域も利用しうる光触媒を提供し、この触媒を用いて水等の分解に使用し、これによって、水素を生成、製造する手段を提供しようとするものであり、更にまた、有害化学物質の分解処理に使用し、これによって、有害物質無害化処理手段を提供しようとするものである。 - 特許庁

In the excimer lamp in which, on an inner surface of a discharging vessel made of silica glass, there is formed an ultraviolet reflection layer by a diffusion reflection, which is composed of a particle deposited body of silica particles as a main composition, there is formed an impurity gas permeation controlling region composed as a film-state region continuing as a whole where a particle shape is lost.例文帳に追加

シリカガラスよりなる放電容器の内表面に、シリカ粒子を主成分とする粒子堆積体により構成された拡散反射による紫外線反射層が形成されたエキシマランプにおいて、前記紫外線反射層の内表面には、粒子の形態が失われて一体の連続した膜状領域として構成された不純ガス透過抑制領域が形成されている。 - 特許庁

A semiconductor ultraviolet light receiving element comprises a semiconductor layer 3 formed of a group II oxide semiconductor or a group III nitride semiconductor; an ultraviolet-transmitting organic electrode 5 formed on the semiconductor layer 3; an insulating layer formed outside of the organic electrode 5 on the semiconductor layer 3; and a metal electrode 6 for wiring-bonding extending from the organic electrode to the insulating layer and ensuring a bonding region above the insulating layer.例文帳に追加

半導体紫外線受光素子は、II族酸化物半導体またはIII族窒化物半導体で形成された半導体層3と、半導体層3上に形成された紫外線透過性の有機物電極5と、半導体層3上に、有機物電極5の外側に形成された絶縁層と、有機物電極上から絶縁層上に延在し、絶縁層上方にボンディング領域を確保するワイヤーボンディング用金属電極6とを有する。 - 特許庁

The visible light-respondent photocatalyst thin film is manufactured by using the titanium oxide partially sulfurized by the laser abrasion method, namely, by pulsatively irradiating a thin film of a titanium oxide photocatalyst responding to the light of an ultraviolet region with a laser beam in an atmosphere of a sulfurizing gas such as carbon disulfide having constant gas pressure.例文帳に追加

本発明は、一定ガス圧力の二硫化炭素等の硫化ガス雰囲気中で、紫外領域で応答する光触媒の酸化チタン薄膜上にレーザー光をパルス状に照射し、レーザーアブレーション法による部分硫化を施すことにより、部分硫化チタン酸化物の可視光応答型光触媒薄膜ならびにその製造方法を得ることができる。 - 特許庁

To provide a silicon light emitting device and method of manufacturing the same in which the silicon carbon nitride film is formed on at least either the upper or lower side of the silicon light emitting layer to improve the emitting efficiency in the region of the near infrared ray, visible light and ultraviolet.例文帳に追加

シリコン発光層の上部と下部のうち少なくとも一つに、広いエネルギー領域でバンドギャップを有し、ドーピングが可能であるうえ、非晶質薄膜上に成長できるシリコンカーボンナイトライド膜を形成することにより、近赤外線、可視光及び紫外線領域で発光効率を向上させることが可能なシリコン発光素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new compound excellent in stability, having a low sublimating property, excellent in developing property, having high transmittance in a visible light region and useful as a highly sensitive photopolymerization initiator activated by absorbing a near ultraviolet light at 365 nm etc., in a good efficiency, and a photopolymerization initiator and a photosensitive composition by using the same compound.例文帳に追加

安定性に優れ、低昇華性であり、現像性に優れ、可視光領域の透過率が高く、365nm等の近紫外光を効率よく吸収し活性化される高感度の光重合開始剤として有用な新規な化合物及び該化合物を用いた光重合開始剤並びに感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To form a resist laminate having a sufficient antireflection effect, particularly in a photolithography process using rays in a vacuum ultraviolet region, and sufficient developing characteristics in a developing process of the photolithography, by forming an antireflective film for a resist on the photoresist layer, the antireflective film comprising a fluorine-containing polymer having a lower refractive index and excellent in solubility in a developing solution.例文帳に追加

より低屈折率で、かつ現像液溶解性に優れた含フッ素重合体からなるレジスト用反射防止膜をフォトレジスト層上に設けることで、特に真空紫外領域の光線を利用するフォトリソグラフィープロセスにおいて充分な反射防止効果を有し、かつその中の現像プロセスにおいても充分な現像特性を有するレジスト積層体を形成する。 - 特許庁

Ink under curing by irradiation with ultraviolet ray is exposed in the printing medium 104 moved to the work region, based on any one of an initial printing in a step S110 and a step S200, an intermediate printing in a step S120 and the step S200, and a later stage printing in a step S130 and the step S200.例文帳に追加

ステップS110及びステップS200での初期印刷処理、ステップS120及びステップS200での中期印刷処理、並びにステップS130及びステップS200での後期印刷処理の少なくともいずれかに基づく紫外線の照射により硬化進行中のインクが、作業領域へ移動した被印刷媒体104において露出する。 - 特許庁

To provide a lighting system in a simple cooling structure which radiates ultraviolet rays suitable for curing a photo-curable ink, can be instantaneously turned ON/OFF, can prevent the temperature rise of a work with less radiation of light of a wavelength region unnecessary for curing, has a long service life of a light source, has a good maintainability, and can secure surface-hardening.例文帳に追加

光硬化型インクを硬化するのに適した紫外線を放射する光源装置であり、瞬時ON/OFFが可能で、キュアに不要な波長領域の光放射が少なくワークの温度上昇を防止でき、冷却構造が簡単で、光源の寿命が長くてメンテナンス性が良好で、表面硬化を確実なものとできる、光源装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a relief type diffraction optical device which can be used in not only infrared, near infrared, and visible light regions but also in the ultraviolet light region and has a high flexibility of design because of a high refractive index and doesn't lose a diffracting function even when recesses of a relief surface are filled with other materials, and can be stably used for high power laser.例文帳に追加

赤外、近赤外、および可視の領域だけでなく紫外領域でも使用でき、高い屈折率に起因して高い設計の自由度を有し、レリーフ面の凹部が他の材料で埋められても回折機能が失われず、さらにハイパワーレーザ用途でも安定して使用し得るレリーフ型回折光学素子を提供する。 - 特許庁

To obtain a print system and a printing method using a special ink reactive only to radiation on the outside of visible region, e.g. ultraviolet or infrared radiation, in which a user can easily confirm the fact that printing is performed with the special ink on a recording medium for which printing is interrupted.例文帳に追加

赤外線や紫外線といった可視領域外放射にのみ反応する特殊インクを用いて印刷を行う印刷システムおよび印刷方法に対し、印刷が中断された記録媒体上に特殊インクによる印刷が行われていることをユーザーが容易に認識できるシステムおよび方法を提案する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus with which images of high image quality can be repetitively and stably obtained in the image forming apparatus equipped with an exposure light source having a major light emission wavelength region within a range from 350 to 500 nm, more particularly a blue LED or an exposure light source oscillating an ultraviolet blue-purple laser light.例文帳に追加

350〜500nmの範囲に主たる発光波長領域を有する露光光源、特に青色のLEDあるいは紫外青紫色レーザー光を発振する露光光源を備えた画像形成装置において、高画質の画像を繰り返し、安定に得ることができる画像形成装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a white reflection film which has practically sufficient reflection performance in a visible light region, can be stably formed, can suppress deterioration and especially the yellowing due to ultraviolet rays, hardly causes deformation due to heat and can be used suitably for a reflection plate base material for a liquid crystal display and an inner irradiation type illumination signboard.例文帳に追加

実用上十分な可視光領域の反射性能を備え、安定して製膜することができ、紫外線による劣化、特に黄変が抑制され、熱による変形が少ない、液晶ディスプレイや内照式電飾看板用の反射板基材として好適に用いることのできる、白色反射フィルムを提供する。 - 特許庁

The ultraviolet low-pressure mercury lamp is formed by bending the straight tube type arc tube a plurality of times within a space region in polygonal prism shape and forming a metal oxide layer on the inner surface, wherein straight tube parts formed in the arc tube 1 are arranged on sides orthogonal to the bottom face of the polygonal prism.例文帳に追加

直管形の発光管を多角柱状内の空間領域内に複数回屈曲させ、さらに発光管内面に金属酸化物層が形成されている紫外線低圧水銀ランプにおいて、該発光管が構成する直管部分は前記多角柱の底面に直交する方向の辺上に配置した事を特徴とする。 - 特許庁

The visual inspection apparatus is provided with an imaging means which images a carton blank by including its skived and hemmed part so as to output an imaging signal; an illumination means for irradiating an imaging region with ultraviolet light or visible light in the imaging means so as to be changed over; and an input means to which the imaging signal is input so as to be stored in a memory as a captured image.例文帳に追加

カートンブランクをそのスカイブヘミング加工部を含めて撮像し撮像信号を出力する撮像手段と、前記撮像手段における撮像領域に対して切替えにより紫外光または可視光のいずれかを照射する照明手段と、前記撮像信号を入力し撮像画像としてメモリに記憶する入力手段と、を具備するようにした外観検査装置。 - 特許庁

The method of patterning the conductive tin oxide film using a solution containing a tin compound and a dopant compound soluble in an organic solvent, dissolved in the organic solvent comprises drying a dry film within the range of retaining solubility in a developer, exposing it to a light containing a ultraviolet region to make it insoluble in part and etching a non- exposed portion with the developer.例文帳に追加

有機溶媒に可溶なスズ化合物とドーパント化合物を該有機溶媒に溶解した溶液を用い、該乾燥膜が現像液に対する溶解性を保持する範囲内で乾燥して、紫外領域を含む光により露光することで部分的に不溶にし、現像液で未露光部をエッチングすることを特徴とする導電性酸化スズ膜のパターニング方法。 - 特許庁

In the lithium tantalate single crystal with a substantially stoichiometric composition to which Sc is added, Sc is added within a range of10^-1 mol% or more and 8×10^-1 mol% or less to the lithium tantalate single crystal, and is for the wavelength conversion element which converts wavelength of incident light into wavelength in the ultraviolet region by utilizing polarization reversal structure.例文帳に追加

本発明によるScを添加した実質的に定比組成のタンタル酸リチウム単結晶において、Scは、タンタル酸リチウム単結晶に対して4×10^−1mol%以上8×10^−1mol%以下の範囲添加されており、分極反転構造を利用して、入射光の波長を紫外域の波長に変換する波長変換素子用であることを特徴とする。 - 特許庁

In the optical element, the polymer liquid crystal has the molecular orientation induced by chemical reaction or by both of chemical reaction and thermal treatment, further, the chemical reaction is caused by polarized light irradiation, further, the polarized light irradiation is polarized ultraviolet ray irradiation and, furthermore, the polymer liquid crystal has no absorption in the visible light region.例文帳に追加

また、本発明の光学素子は、該高分子液晶が化学的反応または化学的反応と熱的処理の両方によってその分子配向を誘起されたものであることを特徴とし、さらには該化学的反応が偏光光照射によるものであることを特徴とし、さらには偏光光照射が偏光紫外線照射であることを特徴とし、さらには高分子液晶は可視光域に吸収持たないものである。 - 特許庁

The luminous material layer comprises luminescent glass formed by mixing fluorescent powder and/or luminous powder emitting light having maximum value of emission spectrum in ultraviolet region with glass transmitting light having a wave length equal to or below that of visible light and the photocatalytic layer comprises the photocatalytic material excited by light emitted from the luminous material layer.例文帳に追加

蓄光材層は、可視光の波長以下の光を透過するガラスに、紫外域に発光スペクトルの極大値がある光を発光する蛍光性粉末及び/又は蓄光性粉末を混合・分散してなる発光ガラスであり、光触媒層は、前記蓄光材層から発光される光により光励起される光触媒性材料からなる。 - 特許庁

To the photocatalytic coating film provided on a base material, a coating material, which contains a binder component with at least one functional group selected from an epoxy group, an amino group and a hydrolyzable silyl group and forms a coating film having reflectivity or absorbability to the light of an ultraviolet or visible region for allowing a photocatalyst in the photocatalytic coating film to cause photoexcitation, is applied.例文帳に追加

基材上に設けられた光触媒塗膜に対し、エポキシ基、アミノ基、及び加水分解性シリル基から選ばれる1種以上の官能基を有する結合材成分を含有し、前記光触媒塗膜における光触媒が光励起を生じる紫外ないし可視領域の光に対し、反射性または吸収性を有する塗膜を形成する被覆材を塗付する。 - 特許庁

Therefore, an operation of forming the positive type photopolymer pattern is carried out stably, without lowering the optical characteristic of the second optical filter due to light portions of the ultraviolet region component.例文帳に追加

照明部からの光路に紫外領域の波長成分を選択的に低減する第一光学フィルタと、520nm以下の波長域成分を選択的に低減させる第二光学フィルタを挿入することにより、照明光の紫外領域の波長成分を選択的に低減させ、紫外領域成分の光線による第二光学フィルタの光学特性を低下させることなく、安定したポジ型感光性樹脂パターン形成を行なうことが可能となる。 - 特許庁

In the light irradiation device comprising the metal halide lamp and a reflection mirror, an opening for cooling air is formed in the reflection mirror, the metal halide lamp contains a reflection film reflecting the ultraviolet light in a region facing the opening of the reflection mirror on the outer surface of a luminous tube, and the reflection film contains silica particles as a main component.例文帳に追加

またタルハライドランプと反射ミラーを備えた光照射装置において、反射ミラーは冷却風用の開口が形成されてなり、メタルハライドランプは、発光管の外表面上に反射ミラーの開口に対向した領域に紫外光に対して反射性を備えた反射膜を有し、該反射膜はシリカ粒子を主成分として構成されている。 - 特許庁

To provide a thermosetting resin composition for light reflection, a substrate for loading a photosemiconductor device using the same and its manufacturing method, and the photosemiconductor device, in which curing inhibition on its transfer molding is improved, the cured material is less apt to produce destruction, and the cured material having full high reflectance in a region of visible light to near-ultraviolet light can be formed.例文帳に追加

トランスファー成形時における硬化阻害を改善し、形成する硬化物に破壊が生じ難く、かつ、可視光から近紫外光領域における光反射率が十分に高い硬化物を形成可能な光反射用熱硬化性樹脂組成物、これを用いた光半導体素子搭載用基板及びその製造方法、並びに光半導体装置を提供すること。 - 特許庁

The edge susceptors 723 arranged in an annular region facing the edge of the wafer W, and the outer periphery susceptors 724 on the outside thereof are made of an material which is opaque from ultraviolet ray to infrared ray and has a thermal conductivity larger than that of quartz, e.g. silicon (Si), sintered ceramics (sintered SiC), or a metal (e.g. AlN).例文帳に追加

ウエハWの端縁部に対向する円環状の領域に配置されるサセプタ端縁723と、その外側のサセプタ外周724とは、石英よりも熱伝導率が大きく、紫外線から赤外線にかけて不透明な素材であるシリコン(Si)、焼結セラミックス(焼結SiC)、金属(例えばAlN)などから作られる。 - 特許庁

This thermal transfer main ribbon is characterized in that the thermal transfer transparent protective layer comprises at least a kind selected from compounds expressed by formulae (1), (2) and (3) as an ultraviolet light absorber in the thermal transfer ribbon in which at least a sublimation type dye region and a thermal transfer transparent protective layer are facially provided successively on a substrate.例文帳に追加

本発明の感熱転写本リボンは、基材上に少なくとも昇華性染料領域と感熱転写透明保護層とが面順次に設けられてなる感熱転写リボンにおいて、該感熱転写透明保護層が紫外線吸収剤として式(1)〜(3)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種を含有していることを特徴とする感熱転写リボンである。 - 特許庁

To provide a laser system capable of outputting in an ultraviolet region high-energy monochromatic short optical pulses which are necessary when so bringing efficiently such short-lived excited molecules as dioxin molecules into multiphoton ionizations as to subject them to mass spectrometry, and are necessary for measurements of protein and DNA, etc., by an MALDI mass spectrometer, and further, are necessary for studies of nonlinear optical phenomena, etc.例文帳に追加

ダイオキシンといった短寿命励起分子を効率よく多光子イオン化して質量分析する場合やMALDI質量分析計による蛋白質、DNAなどの測定、また、非線形光学現象の研究等に必要な、紫外域で短パルスかつ単色で高エネルギーの光パルスを出力することができるレーザーシステムを提供すること。 - 特許庁

To provide a light-emitting diode sealing resin that has a higher permeability in a short wavelength region in comparison with conventional epoxy resins, has a strong resistance against discoloring (yellowing) due to ultraviolet rays or heat generation, and produces no defect factor such as a resin crack that deteriorates the light-emitting diode reliability; and to provide a light-emitting diode using the light-emitting diode sealing resin.例文帳に追加

従来のエポキシ樹脂に比べて短波長領域の透過率が高く、且つ紫外線及び熱による変色(黄変)が少ないと共に、樹脂クラックなどの発光ダイオードとしての信頼性を低下させる不良要因を生じさせない発光ダイオード用封止樹脂及びそれを使用した発光ダイオードを提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of a thin-film transistor, using a semiconductor thin film as a channel formation region, the semiconductor thin film is obtained by applying ultraviolet laser beams to an amorphous semiconductor thin-film having the concentrations of carbon, nitrogen, and oxygen equal to 1×1019 cm-3 or smaller and by setting the peak value of Raman shift to a move number of 515 cm-1 or smaller.例文帳に追加

本発明は、半導体薄膜をチャネル形成領域に用いた薄膜トランジスタの作製方法であって、前記半導体薄膜は、炭素、窒素および酸素の濃度がいずれも1×10^19cm^-3以下のアモルファス半導体薄膜に紫外レーザ光を照射して、ラマンシフトのピーク値を515cm^-1以下の波数にせしめて得た半導体薄膜であることを特徴とするものである。 - 特許庁

Mutually different K pieces (K≥2) of interference patterns having the cycle Λk (k=1 to K) are superposed and formed in the core region 111 of an optical fiber 110 existing in the side of a first surface 310 when a ultraviolet laser beam makes incident from the side of second surface 320 by an optical waveguide type diffraction grating element manufacturing hologram 300.例文帳に追加

光導波路型回折格子素子製造用ホログラム300は、第2面320の側から紫外レーザ光が入射したときに第1面310の側にある光ファイバ110のコア領域111において互いに異なるK個(K≧2)の周期Λ_k(k=1〜K)の干渉パターンを重畳して形成するものである。 - 特許庁

This method for producing a synthesized silica glass optical member to be applied in irradiating laser beams of ultraviolet region is characterized by treating a porous silica glass body at high temperature in an atmosphere containing hydrogen or oxygen wherein the porous glass is obtained by flame hydrolysis of a glass forming material and, thereafter, heating and sintering the porous silica body to transparently vitrify it in an atmosphere containing fluorine.例文帳に追加

紫外線波長域のレーザー光を照射する際に使用される合成石英ガラス光学部材の製造方法であって、ガラス形成原料を火炎加水分解して形成した多孔質石英ガラス体を水素または酸素含有雰囲気下で高温処理した後、該多孔質石英ガラス体をフッ素含有雰囲気下で加熱,焼結して透明ガラス化することを特徴としている。 - 特許庁

By such a structure, the deflecting condition of the ultraviolet irradiating the farm field 3 is maintained in the vicinity of the transmission through the covering film 4 to attain light distribution equal to a light deflection pattern in an airy region in the farm field 3, and thereby the pollinating insects 2 make accurate recognition of the direction so as to exactly fly toward farm crops 31 or nest boxes 32 placed in the farm field 3.例文帳に追加

これにより、圃場3に照射される紫外線の偏光状態を被覆フィルム4の透過前後で維持することができ、圃場3内において天空の偏光パターンと同等の配光状態を実現でき、受粉用昆虫2が方向認識を的確に行い、圃場3内にある農作物31や巣箱32に向かって正確に飛翔できる。 - 特許庁

At least one kind of gas selected from the gases of fluorine- carbon compounds CR4, CHF3, C2F6, C3F8 and C4F8 is mixed into methane or ethylene as a film deposition gaseous starting material and is used, further, while light with any wavelength in the region from far infrared radiation to ultraviolet radiation is applied on a substrate face, film deposition is performed by plasma CVD.例文帳に追加

成膜原料ガスであるメタン、またはエチレン中に、フッ素炭素化合物CF_4、CHF_3、C_2F_6、C_3F_8、及びC_4F_8のガスから選ばれた少なくとも一種のガスを混合して用いるとともに、基板面に遠赤外線から紫外線域までのいずれかの波長の光を照射しながら、プラズマCVDにより成膜する。 - 特許庁

例文

After all, for having the low absorption capacity and the high acid initiator efficiency in an ultraviolet region, even if the subject photo-acid initiator10 pts.mass is added to a photosensitive polyimide precursor composition, lowering permeability of the whole composition is not great, resultingly, even a film having a thickness of10 μm, the pattern formation of a high resolution can be stably formed.例文帳に追加

結局、紫外線領域で吸収度が低く酸発生効率が高いため、感光性ポリイミド前駆体組成物に10質量部以上多量添加しても全体組成物の透過度低下が大きくなく、結果的に10μm以上の高いフィルム厚さでも高解像度のパタン形成が安定的に形成できる。 - 特許庁

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