「あそみ」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

制御部は、第１音源ＳＰ１と第２音源ＳＰ２との両方から監視空間に超音波Ａ，Ｂを同時に送波させることにより、監視空間において第１の超音波Ａと第２の超音波Ｂとを互いに干渉させて固定周波数の疎密波であるビート波Ｃを生じさせる。例文帳に追加

The control part causes both first sound source SP1 and second sound source SP2 to simultaneously transmit the ultrasonic waves A and B to a monitored space, in which the first ultrasonic wave A and second ultrasonic wave B interfere with each other, to generate a bead wave C that is the compression wave of the fixed frequency. - 特許庁

磁性粒子を非磁性体媒体に分散し、磁性体からなる突起を有するエンコーダ上で固定することにより、あらかじめエンコーダに配列された磁束密度の粗密に従った配列で、該磁性粒子が１個以上からなる集合体となって配列する。例文帳に追加

By dispersing the magnetic particles in a non-magnetic material medium and fixing on an encoder made of a magnetic material and having projections, the magnetic particles are arranged in the form of aggregate comprising one or more particles in arrangement according to roughness and fineness of magnetic flux density. - 特許庁

尿素水が、圧送部１８、および、駆動部１９を流通することにより、コイル２９へステータコア２５を磁化させるように通電された通電エネルギの一部が、熱エネルギに変換されてステータコア２５の温度を上昇させる。例文帳に追加

The circulation of the urea water through the pressurizing unit 18 and the drive unit 19 converts a part of energization energy caused by the energization of a coil 29 for magnetizing a stator core 25 into thermal energy, thus causing a rise in a temperature of the stator core 25. - 特許庁

本発明の転がり軸受は、保持器１０の各ポケット１１の内周面１１ａと保持器１０の両側端面を除いて、外周面１０ａ及び内周面１０ｂの全面に渡って複数の細溝１２が形成されている。例文帳に追加

This roller bearing is provided with a plurality of slender grooves 12 formed over the entirety of an outer peripheral face 10a and an inner peripheral face 10b, except for an inner peripheral face 11a in the pocket 11 of the retainer 10 and both the side end faces of the retainer 10. - 特許庁

第１配線層１０を被覆している第１層間絶縁膜１２表面に配線溝１６ａ及びダミー配線溝１６ｂを形成し、第１層間絶縁膜１２表面における配線溝１６ａ表面とダミー配線溝１６ｂ表面とを合わせた分布の粗密を低減化する。例文帳に追加

A wiring groove 16a and a dummy wiring groove 16b are formed on the surface of a first interlayer dielectric 12 covering a first wiring layer 10, and the coarseness and fineness of distribution for which the surface of the wiring groove 16a and the surface of the dummy wiring groove 16b are joined on the surface of the first interlayer dielectric 12 are reduced. - 特許庁

従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度、露光余裕度、小さい疎密寸法差、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。例文帳に追加

To provide a positive-type resist material, particularly a chemically-amplified, positive-type resist material, having a high resolution, margin of exposure, a small difference between sparse and dense dimensions, and process adaptability, surpassing those of conventional positive-type resist materials, furnishing a good pattern shape on exposure, and showing excellent etching resistance. - 特許庁

パターンの凸部上端のシリコンのコーナーに丸み形状を形成した上で、パターンの疎密による膜厚差を生じさせずに均一な膜厚でシリコン酸化膜を形成することが可能なシリコン酸化膜の形成方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a formation method of a silicon oxide film in which, upon forming a round shape at a corner of silicon at an upper end of a projection of a pattern, the silicon oxide film can be formed at a uniform film thickness without causing a film thickness difference by a nondense and dense state of the pattern. - 特許庁

枚葉式洗浄処理を行う基板処理装置において、処理対象となる基板を回転させつつその基板に対してアンモニア過酸化水素水混合水溶液を吐出する処理（ステップＳ１ａ）と、基板を回転させつつその基板に対してフッ酸を間欠吐出する処理（ステップＳ２ａ）とを行う。例文帳に追加

In a substrate processor for a single wafer cleaning process, a process (steps S1a) of discharging an ammonia hydrogen peroxide solution- mixed aqueous solution against a substrate to be processed which is being rotated, and a process (step S2a) of intermittently discharging a hydrofluoric acid against the rotating substrate, are performed. - 特許庁

転動体は、表面から転動体直径の０．５％以上の深さまでの部分である表層部１とその内側の内部２とで構成されており、表層部１が緻密な窒化ケイ素（密度：３．２０ｇ／ｃｍ^3 ）で構成され、内部２が多孔質窒化ケイ素（相対密度：５０％）で構成されている。例文帳に追加

The rolling element is composed of a facial layer 1 having a depth of 0.5% or more of the diameter of the rolling element from the surface thereof and an internal part 2 inside the layer 1, wherein the facial layer 1 is composed of dense silicon nitride (density: 3.20 g/cm^3) while the internal part 2 is composed of porous silicon nitride (relative density: 50%). - 特許庁

また、細溝１９は、底辺１９ｂが下り傾斜する傾斜面となっているので、傾斜面のくさび作用により、厚い油膜が形成され油膜の交換性が向上して油温の上昇が抑制されるため、焼付きを防止することができる。例文帳に追加

Because the narrow grooves 19 become the inclined surfaces where the bottom sides 19b are inclined downward, the seizure of the bearing is prevented since a thick oil film is formed by a wedge action of an inclined surface, and temperature rise of the oil is restrained because of improved interchangeability of the oil film. - 特許庁

また、必要に応じて、消石灰等と光照射の組み合わせに、酸化チタン等の光触媒処理や、過酸化水素水、オゾン等の各種酸化剤添加、通気処理、微生物処理を組み合わせる事によって、固形有機物処理能力を、更に向上させる事が可能になった。例文帳に追加

Also, the photocatalyst treatment of titanium oxide, etc., the addition of various kinds of oxidizing agents, such as hydrogen peroxide water and ozone, ventilation treatment and microorganism treatment are combined with the combination of the slaked lime and the photoirradiation at need, by which the additional improvement of the capability to treat the solid organic matter is made possible. - 特許庁

水切部を外側と内側との２カ所に形成して２重構造にすることで、これら２カ所の水切部で雨水などを確実に水切りして、雨水などにより基礎部の外周面が汚れるのを防止して外観を良好に保つことのできる基礎水切を提供する。例文帳に追加

To provide foundation throating capable of securely dripping rainwater in throating parts in two sections on an outer side and an inner side, preventing an outer peripheral face of a foundation part from becoming dirty due to rainwater, and keeping the appearance in a satisfactory condition by forming the throating parts in two sections to realize a double structure. - 特許庁

高融点短繊維と熱融着短繊維の混繊繊維層が二層以上、積層一体化され、一側より他側に向かって粗密構造をもつ積層繊維層に形成された不織布よりなる燃料の濾過性に優れたインタンク用フィルター材である。例文帳に追加

This in-tank filter material of excellent fuel filtering property is formed of nonwoven fabric formed in a laminated fiber layer of coarse-dense structure from one side toward the other side by laminating and integrating two or more mixed fiber layers of high fusing point short fiber and heat-fused short fiber. - 特許庁

ウエハＷ上で硫酸および過酸化水素水を混合して生成されるレジスト剥離液による処理の後、ウエハＷの表面に温水が供給されて、ウエハＷの表面に付着しているレジスト剥離液が温水によって洗い流される。例文帳に追加

After a wafer W is treated with a resist peeling liquid prepared by mixing the sulfuric acid and hydrogen peroxide water with each other, the resist peeling liquid adhering to the surface of the wafer W is washed away with hot water by supplying the hot water to the surface of the wafer W. - 特許庁

パターンの粗密やサイズに関係なく、高精度且つ面内均一に線幅制御が可能でありながら、シリル化プロセスの利点を生かすことができるレジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法およびシリル化装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a resist pattern forming method which is capable of making the best of a merit of a silylation process although width of a line can be precisely and uniformly controlled through a plane independently of size and density of a pattern, a method of manufacturing a semiconductor device, and a silylation device. - 特許庁

絶縁膜２０中に配線溝を形成し、この絶縁膜上および配線溝内部にタングステン膜２２を形成した後、このタングステン膜を機械化学的に研磨する際、絶縁膜が露出した後は、過酸化水素水の含有量が少ない研磨液を用いてタングステン膜および絶縁膜を研磨する。例文帳に追加

When a tungsten film 22, formed on an insulation film 20 and in interconnection trenches made therein, is polished by chemical-mechanical polishing method, the tungsten film and the insulation film are polished, using a polishing liquid having a low content of hydrogen peroxide water after the insulation film is exposed. - 特許庁

読取り画素密度に応じて、エンドレスベルト９ａを駆動するモータの回転速度、シート１を走査するレーザ光１１のビーム径、Ａ／Ｄ変換器３６ａのサンプリングクロック等を変更してデジタル画像信号Ｓ１を得る。例文帳に追加

The image information reader alters a drive speed of a motor driving an endless belt 9a, a beam diameter of a laser beam 11 to scan a sheet 1, and a sampling clock or the like of an analog/digital converter 36a to obtain a digital image signal S1. - 特許庁

従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度、露光余裕度、小さく疎密寸法差、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。例文帳に追加

To provide a chemically amplified positive resist material having high resolution, wide exposure latitude, a small difference in dimension between thinness and denseness, process adaptability, a good pattern shape after exposure and excellent etching resistance. - 特許庁

レジストパターンのエッジラフネスが改善され、レジスト液の調製時に、あるいは経時保存後に不溶解物の析出を生じず、疎密依存性に優れ、経時保存後の感度変動を軽減できるポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a positive photoresist composition which ensures improved edge roughness of a resist pattern, deposits no insoluble matter in the preparation of a resist solution or after storage, is excellent in dependency on density and can reduce a sensitivity change after storage. - 特許庁

導光体７の光偏向面７ａに、入射面７Ｌと直交する方向に光立上げレンズ１８１を疎密をつけて形成し、その隙間を埋めるように、入射面７Ｌに平行な方向に配列する光閉じ込めレンズ１８２を形成した。例文帳に追加

Light-raising lenses 181 are formed with coarseness and finenesses on an optical deflection face 7a of the light guide 7 in a direction crossing an incident face 7L and light-confining lenses 182 to be arrayed in a direction parallel with the incident face 7L are formed so as to fill in gaps. - 特許庁

位置情報生成部２８は、ステレオ画像のデータのうち低解像度、広範囲の画像で対象物の領域または動きのある領域を対象領域としておよそ見積もり、当該領域のみ高解像度の画像でステレオマッチングを行い、対象物の３次元の位置を特定する。例文帳に追加

A location information generation unit 28 specifies the three-dimensional location of the object by roughly estimating a region in which the object is present or a region in which there is movement as an object region among stereo image data using low-resolution and wide-field images, and performing stereo matching only for these regions using high resolution images. - 特許庁

他方の光ケーブル16Ａは、光ファイバ心線20Ｂに融着接続部補強スリーブ24を挿通した後、光ファイバホルダ10Ｂの細溝26に光ファイバ心線20Ｂを、太溝28に補強スリーブ24を載置し、補強スリーブ24の端面を突き当て面30に当接させて端末処理を行う。例文帳に追加

The other optical fiber 16A is subjected to terminal processing while a coated after being run through a fusion-splicing connection part reinforcing sleeve 24 is mounted in the thick groove 28 and an end surface of a reinforcing sleeve 24 is made to abut against the abutting surface 30. - 特許庁

位置情報生成部２８は、ステレオ画像のデータのうち低解像度、広範囲の画像で対象物の領域または動きのある領域を対象領域としておよそ見積もり、当該領域のみ高解像度の画像でステレオマッチングを行い、対象物の３次元の位置を特定する。例文帳に追加

A positional information creation part 28 approximately estimates a region of the object or an active region from the image with a low resolution and a wide range among the data of a stereo image, as an object region, and executes stereo-matching of only the region using an image of a high resolution to specify a three-dimensional position of the object. - 特許庁

調整溝の有無に拘わらず、輾圧作業により皺寄せられて競り上がった捨石群を効率よく短時間に均すことができるとともに、これによって高品質の水中捨石基礎を仕上げることができる重錘自由落下式水中捨石基礎圧密均し工法の提供。例文帳に追加

To provide a weight free-falling type underwater riprap foundation consolidation leveling construction method, by which a riprap group shifted on by rolling compaction works and pushed up can be leveled efficiently in a short time regardless of the presence of an adjusting groove and an underwater riprap foundation having high quality can be finished by the leveling of the riprap group. - 特許庁

レジストとして、狭スペースの加工性能、多様なパターンデザインにおけるＣＤ均一性および保存安定性に優れ、粗密依存性が小さく、微細パターンを高精度で安定に形成することができる化学増幅型ポジ型またはネガ型の感放射線性組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a chemically amplifying positive or negative radiation sensitive composition capable of stably forming a fine pattern excellent in machining performance in a small space, critical dimension uniformity, maintainability and stability as a resist, having small density dependence in high accuracy. - 特許庁

被評価ウエーハをアンモニア−過酸化水素水からなるエッチング液に長時間浸漬し、その後、光散乱方式のパーティクルカウンターを用いピットクラスターに相当する欠陥を評価するか、または０．３μｍ以上の欠陥を評価するようにした。例文帳に追加

The wafer evaluation method is characterised in that a wafer to be evaluated is dipped in an etchant formed of ammonia and hydrogen peroxide for a long period of time, and thereafter, a defect corresponding to the pit cluster is evaluated using a light scattering-method particle counter or a defect of 0.3 μm or above is evaluated. - 特許庁

パターンの粗密やサイズに関係なく、高精度且つ面内均一に線幅制御が可能でありながら、シリル化プロセスの利点を生かすことができるレジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法およびレジストパターンの形成装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for forming a resist pattern, a method for fabricating a semiconductor device, and an apparatus for forming the resist pattern, in which advantages of sililation process is displayed while line width can be controlled precisely and uniformly in plane irrespective of density or size of the pattern. - 特許庁

ターゲット・パターンの近傍領域の中から、パターンの形成時に、パターンの近接効果や疎密が原因で変形が生じても、重心位置が変化しないパターンをアライメント・パターンとして選択し、その重心位置をアライメント基準座標に設定する（S12）。例文帳に追加

A pattern, in which the gravity position does not change even if deformations are generated due to the approximity effect of pattern and coarse density, is selected at pattern formation as an alignment pattern from the areas near to the target pattern, and its center of gravity position is set to the reference coordinates of alignment (S12). - 特許庁

機械的振動を伴わずに疎密波を発生させる送波装置を用いることにより、振動成分をほとんど含まない単発的な圧力変化を媒質に生じさせることを可能とし、結果的に超音波振動子を送波装置に用いる場合の問題を解消した物体センサを提供する。例文帳に追加

To provide an object sensor allowing generation of a single pressure change, hardly including vibration components by using a wave transmission device generating a compressional wave, without accompanying mechanical vibration, to solve the problem when using ultrasonic vibrator in the wave transmission device. - 特許庁

未含浸強化繊維よりなる織布の裁断に際して、熱可塑性樹脂やタッキファイアの粉末を付与して織布を固定する方法では、粉末の分量や疎密のコントロールが難しく、裁断処理装置を自動化した場合に高速化ができない。例文帳に追加

To solve the problem of the impossible speeding up in automating a cutting device due to the difficulty of controlling the quantity, and the roughness and fineness of a powder in the method to fix a woven fabric by giving a powder of a thermoplastic resin and a tackifier at the time of cutting a woven fabric which consists of an unimpregnated reinforcing fiber. - 特許庁

レジストパターンのエッジラフネスが改善され、レジスト液の調製時に、あるいは経時保存後に不溶解物の析出を生じず、疎密依存性に優れ、経時保存後の感度変動を軽減できるポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a positive photoresist composition which improves edge roughness of a resist pattern, does not cause deposition of insoluble matter in the preparation of a resist solution or after storage, is superior in density dependency and can suppress a sensitivity change after storage. - 特許庁

例えば、１，３−ビス（アリルオキシ）アダマンタンのようなアダマンタン骨格を有するアリルオキシ化合物と、ベンゾニトリルのようなニトリル化合物と、過酸化水素水と、を炭酸カリウムなどの塩基性化合物の存在下反応させることによりエポキシ化を行い、１，３−ビス（グリシジルオキシ）アダマンタンのようなアダマンタン骨格を有するエポキシ化合物を得る。例文帳に追加

The epoxy compound having an adamantane skeleton such as 1,3-bis(glycidyloxy) adamantane is obtained by epoxydation by reacting, for example, an allyloxy compound having an adamantane skeleton such as 1,3-bis(allyloxy) adamantane, a nitrile compound such as benzonitrile and aqueous hydrogen peroxide in the presence of a basic compound such as potassium carbonate. - 特許庁

ＥＣＵ４６がエンジン１の運転状態に応じて尿素水インジェクタ４０から排気通路内への尿素の供給を制御することにより、尿素から生成されたアンモニアがアンモニア選択還元型ＮＯｘ触媒３６に供給され、アンモニアを還元剤として排気中のＮＯｘが選択還元される。例文帳に追加

An ECU 46 controls feeding of urea from a urea water injector 40 into an exhaust passage according to the operating condition of an engine 1, thereby ammonia formed from the urea is fed to an ammonia selective reduction type NOx catalyst 36, and NOx in the exhaust gas is selectively reduced with the ammonia as a reducing agent. - 特許庁

有機性廃水に該廃水中の有機性物質の酸化を促進させる酸化促進剤を混合してなる廃水処理方法であって、前記有機性廃水と酸化促進剤とを混合する工程の直前、工程中又は工程の直後に超音波処理を行い、更に酸化促進剤が過酸化水素水であることを特徴とする有機性廃水の処理方法である。例文帳に追加

In the waste water treating method in which an oxidation promoter for promoting the oxidation of an organic material in the waste water is mixed in the organic waste water, the ultrasonic treatment is performed just before, during or just after the stage in which the organic waste water and the oxidation promoter are mixed, moreover the oxidation promoter is hydrogen peroxide solution. - 特許庁

ジエン系ゴムにエポキシ化触媒としての有機酸と過酸化水素水とを添加し、機械的せん断力を用いて混練することによりエポキシ化させるエポキシ化ジエン系ゴムの製造方法において、上記有機酸の添加割合が、ジエン系ゴムの不飽和結合が５０〜５００に対しカルボキシル基が１つ存在する割合であることを特徴とするエポキシ化ジエン系ゴムの製造方法である。例文帳に追加

In this method for producing epoxidized diene-based rubber, organic acid and hydrogen peroxide solution as epoxidation catalysts are added to diene-based rubber, and then kneaded by using mechanical shear force, to thereby generate epoxidation, wherein the addition ratio of the organic acid is such a ratio that one carboxyl group exists to 50-500 unsaturated bonds in the diene-based rubber. - 特許庁

アイアン型ゴルフクラブヘッド１であって、ヘッド重心からフェース面に下ろした法線が該フェース面と交わる点であるスイートスポットＳＳを中心とする半径１０mmのフェース面中央領域の背面ＦＣＢに、屈曲してのびる少なくとも１本の屈曲細溝４が設けられたことを特徴とする。例文帳に追加

This iron golf club head 1 is provided with at least a single curved narrow groove 4 which curvedly extends in a back face FCB of a face central area of the radius of 10 mm with a sweet spot SS, or a crossing point where a normal line lined from the head gravity center crosses with the face, as the center of the circle. - 特許庁

過酸化水素水とアルカリ性水溶液を混合し、かつ、その混合液のｐＨが９．５以上１１．５以下であるエッチング溶液が持つＧａＡｓとＩｎＧａＡｓの選択エッチング特性を利用することにより、ＩｎＧａＡｓ層を庇としＧａＡｓ層が掘り込まれた形状のアンダーカット構造を形成することができる。例文帳に追加

By utilizing the selection etching characteristics of the GaAs and InGaAs of etching solution where hydrogen peroxide water is mixed with alkaline solution, and at the same time the pH of the mixed liquid is equal to 9.5 or more and 11.5 or less, an InGaAs layer is set to an overhang, and the undercut structure is formed in a shape where a GaAs layer is engraved. - 特許庁

単斜晶相のセラミックであるチタン酸リチウム（Li_2TiO_3）を過酸水素（H_2O_2）水で溶解させ、水溶性の２配位子もしくは３配位子のキレート試薬を加えることにより、この溶液を安定化処理した後にリチウムの同位体比を調整し、濃縮した後に乾燥及び加熱することにより、Li_2TiO_3をセラミックスの製造に適した微粉末として回収する。例文帳に追加

Li_2TiO_3 is recovered as a fine powder suitable for manufacturing ceramics by dissolving lithium titanate (Li_2TiO_3), which is a monoclinic ceramic, in a hydrogen peroxide (H_2O_2) solution, stabilizing the solution by adding a water-soluble diligand or triligand chelate reagent, controlling the lithium isotope ratio, concentrating, drying, and finally heating. - 特許庁

透明基板上に遮光膜や位相シフト膜を設けたマスク基板の洗浄方法であって、前記マスク基板に紫外線を照射する第１の工程と、前記マスク基板をオゾン水に浸漬して洗浄する第２の工程と、前記マスク基板を水素水、またはアンモニア水、またはアンモニア過水に浸漬して洗浄する第３の工程と、前記マスク基板を乾燥させる第４の工程と、を含むことを特徴とする。例文帳に追加

The method for cleaning a mask substrate having a light shielding film or phase shift film on a transparent substrate comprises a first process of irradiating the mask substrate with ultraviolet ray; a second process of cleaning the mask substrate by dipping it in ozone water; a third process of cleaning the mask substrate by dipping it in hydrogen water, ammonia water or ammonia hyperhydration; and a fourth process of drying the mask substrate. - 特許庁

下記一般式(1)（式中、Ｒは１価の有機基または有機金属基を示す。）の化合物の製造方法であって、下記一般式(2)で示される化合物(式中、Ｒ”は、アルキル基又はアリール基を示す。)に過酸化水素水を加え酸化的開裂反応を行い得られた粗生成物中の水酸基に保護試薬を加えて保護化反応させることを特徴とする化合物の製造方法。例文帳に追加

The method for producing a compound represented by general formula (1) (R is a monofunctional organic group or an organometallic group) comprises subjecting a compound represented by general formula (2) (R" is an alkyl group or an aryl group) to oxidative cleavage reaction with a hydrogen peroxide solution to give a crude product and protecting the hydroxy group of the crude product with a protection reagent. - 特許庁

ディーゼルエンジンの排気ガス中に含まれる窒素酸化物（ＮＯｘ）を尿素水の加水分解によって得られたアンモニアガスによりＳＣＲ触媒上において還元するＳＣＲシステムにおいて、ＮＯｘの還元率を高めて排気ガス中のＮＯｘ濃度をできるだけ減らすと共に、排気ガス中に含まれるアンモニアの量が環境保全濃度以下となるようにすること。例文帳に追加

To reduce a quantity of ammonia included in exhaust gas to the environmental preservation concentration or less, by minimizing the NOx concentration in the exhaust gas by enhancing the reduction ratio of NOx, in an SCR system for reducing nitrogen oxides (NOx) included in the exhaust gas of a diesel engine on an SCR catalyst by ammonia gas provided by a hydrolysis of urea water. - 特許庁

アンモニア、過酸化水素、水よりなる処理液を用いてシリコンウェーハ表面に長時間のエッチング処理を施し、該シリコンウェーハ表面に形成されたＬＰＤの個数を調べることによりシリコンウェーハの評価を行う方法であり、該処理液中のアンモニアの濃度を過酸化水素の濃度よりも高濃度とするようにした。例文帳に追加

For this evaluation method, a silicon wafer is evaluated by subjecting the surface of the silicone wafer to a long-time etching treatment, while using a treatment liquid composed of ammonia, a mixture of hydrogen peroxide and water and by investigating the number of light point defects(LPD) formed on the surface of the silicon wafer and the concentration of ammonia in the treatment liquid is made higher than that of hydrogen peroxide. - 特許庁

本発明は、カラーフィルタ製造における露光・現像方法、現像装置であって、プロキシミティ露光方式で低照度露光を行う、ノズルからの現像液吐出圧が高圧である現像方式で現像を行う、現像・リンス後水洗では水素水超音波洗浄を行う、ことによって高解像度・高品質な製品を提供する。例文帳に追加

The exposing/developing method and the developing device for manufacturing a color filter are characterized in that: low illuminance exposure is carried out in the proximity exposure system; development is carried out at high discharge pressure of a developer solution from a nozzle; and hydrogen water ultrasonic cleaning is carried out as washing after development and rinsing. - 特許庁

活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a resist composition superior in dissolution contrast by simultaneously satisfying high sensitivity, excellent line edge roughness and excellent density independence, and to provide a pattern-forming method using it. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、疎密依存性が小さく、サイドローブマージンが広い優れたポジ型感光性組成物、更にはエッジラフネス及び現像欠陥についても改善されたポジ型感光性組成物を提供することにある。例文帳に追加

To solve the problem of a performance enhancing technique proper to microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, to provide a positive photosensitive composition having small density dependence and a wide side lobe margin, and to further provide a positive photosensitive composition improved also with respect to edge roughness and development defects. - 特許庁