「へいきんけっしょうばんようせき」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

活性酸素消去作用、ラジカル消去作用、ヒアルロニダーゼ阻害作用、ヘキソサミニダーゼ遊離抑制作用、血小板凝集抑制作用、プロスタグランジンＥ_２産生抑制作用、及びサイクリックＡＭＰホスホジエステラーゼ阻害作用から選択される少なくともいずれかを有することが好ましい。例文帳に追加

The antioxidant or the antiinflammatory/antiallergic agent preferably has at least one selected from an active oxygen-scavenging activity, a radical-scavenging activity, a hyaluronidase-inhibiting activity, a hexosaminidase release-inhibiting activity, a platelet aggregation-inhibiting activity, a prostaglandin E2 production-inhibiting activity and a cyclic AMP (adenosine monophosphate) phosphodiesterase-inhibiting activity. - 特許庁

ＹＡＧロッド１２と、このＹＡＧロッド１２において発生した光を共振するための共振器１８ａ、１８ｂと、前記光の反射角がブリュースター角となるように前記共振器内に配設される非線形光学結晶３０と、前記共振器内に配設されており、前記光の位相を変化させる電気光学素子２６および１／４波長板２８と、を備える。例文帳に追加

The wavelength converter is provided with a YAG rod 12, resonators 18a, 18b for resonating light generated in the YAG rod 12, a non- linear optical crystal 30, electro-optical elements 26 arranged in the resonators 18a, 18b and capable of changing the phase of light, and a 1/4 wavelength plate 28. - 特許庁

液晶画像表示装置（ＬＣＤ）における偏光板の保護フィルムとして好適なセルロースエステルフィルムについて、液晶表示素子の薄膜化に伴い、偏光板用保護フィルムを薄膜化した場合においても、結晶状異物の発生を抑えることができて、偏光板用保護フィルムに適した品質の良いセルロースエステルフィルムを提供する。例文帳に追加

To provide a cellulose ester film of good qualities suitable as a protecting film for a polarizing plate in a liquid crystal image display device (LCD) which can suppress generation of crystalline foreign matters even when the thickness of the protecting film for the polarizing plate is reduced coping with the reduction of the thickness of the liquid crystal display device. - 特許庁

基板である鉄鋼材料の表面に、下地膜を準備することなく、大面積を有する表面への成膜が容易に可能な生産性や費用効果が高い電気めっき法を用いることにより、鉄鋼材料の表面上に、結晶c軸の高い配向性を有する磁性膜を生成する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of forming a magnetic film having highly oriented crystal (c) axis on the surface of a steel material by using an electroplating method, which can facilitate a film formation on the surface of a steel material being a substrate having a large area and is high in productivity and cost performance, without preparing an underlying film. - 特許庁

本発明の血液浄化膜は、（１）ヘパリン添加全血を６０分にわたって灌流・接触させた際の血液中の血小板保持率が７０％以上、９８％以下であり、（２）カチオン性染料水溶液を灌流・接触させた際、溶液中のカチオン性染料吸着率が４０％以上、７０％以下であることを特徴とする。例文帳に追加

This blood purifying membrane has such properties that: (1) a platelet retention rate in blood when the heparin-added whole blood is circulated/brought into contact over 60 minutes is ≥70% and ≤98%; and (2) a cationic dye adsorption rate in a solution is ≥40% and ≤70% when a cationic dye aqueous solution is circulated/brought into contact. - 特許庁

光を放射する発光層と、この光に対して透光性を有する基板と、を備える半導体発光素子において、上記基板の側面に、へき開によって得られ結晶欠陥を防止する第１の側面と、上記発光層からの光の一部を外部に射出する第２の側面と、マウントを容易にする第３の側面と、を設ける。例文帳に追加

In the semiconductor light-emitting element having a light generation layer for radiating light and a translucent substrate to the light at the side of the substrate, there are a first side that is formed by cleavage and prevents a crystal defect, a second side for injecting one portion of the light from the light generation layer to the outside, and a third side for facilitating mounting. - 特許庁

本発明は、外表面へエンドトキシンを吸着する血液浄化用中空糸膜および中空糸膜型人工腎臓を提供すること、また、中空糸膜中の親水性高分子が少なくかつ血小板を吸着させない血液浄化用中空糸膜および中空糸膜型人工腎臓を提供すること。例文帳に追加

To provide a hollow fiber membrane for hematocatharsis and a hollow fiber membrane type artificial kidney in which endotoxine is adsorbed on an outer surface and to provide a hollow fiber membrane for hematocatharsis and a hollow fiber membrane type artificial kidney in which a hydrophilic polymer in the hollow fiber membrane is less and a blood platelet is not adsorbed. - 特許庁

本発明は、多結晶シリコン薄膜を用いた薄膜トランジスタを有するアクティブマトリクス型表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置及びその製造方法に関し、優れたＴＦＴ特性及び表示品質が得られる周辺回路一体型のアクティブマトリクス型表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a substrate for an active matrix display device integral with a peripheral circuit, comprising a thin-film transistor which uses a polycrystal silicon thin-film and provides excellent TFT characteristics and display quality, and to provide a liquid-crystal display device comprising it and a manufacturing method therefor. - 特許庁

また、本発明は、一回以上の熱履歴及び／又はエッチングを経た直径１５０ｍｍ以上で３００ｍｍ以下の単結晶シリコンウェハをコア抜き加工して外径６５ｍｍ以下の複数のドーナツ状基板を得るコア抜き工程を含んでなる磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

Moreover, the method for manufacturing the substrate for the magnetic recording medium including a coring step of obtaining a plurality of doughnut-shaped substrates having an outer diameter ≤65 mm by coring a monocrystalline silicon wafer having a diameter 150 to 300 mm subjected to the heat history and/or etching at least onc times or more is provided. - 特許庁

積層体は、表面保護フィルムにおける二軸配向ポリエステルフィルムの配向結晶主軸の方向と、偏光板、位相差板または視野角拡大フィルムの配向軸の方向が実質的に一致、あるいは９０°となるように位置され、かつ二軸配向ポリエステルフィルムは下記式で表わされるリターデーション値Ｒが１２００ｎｍ以上であることを特徴とする偏光特性の改善された積層体。例文帳に追加

The laminate is so positioned that the direction of the orientation crystal main axis of a biaxially oriented polyester film of the surface protective film and the direction of the orientation axis of the polarizing plate, the phase difference plate or the visual field angle magnifying film are substantially aligned or attain 90°. - 特許庁

基準面が変化せず、化学的な反応が可能な触媒作用を利用した触媒支援型化学加工方法において、ＳｉＣやＧａＮ等の難加工物に対して精度良く加工能率を大幅に改善することができ、本発明の加工方法のみで単結晶ＳｉＣやＧａＮ等のパワーデバイス用基板を作製することが可能な加工方法と装置を提供する。例文帳に追加

To provide a catalyst support type chemical machining method, and a catalyst support type chemical machining apparatus considerably improving the machining efficiency with excellent accuracy for a hard-to-work workpiece such as SiC and GaN in the catalyst support type chemical machining method using the catalyst effect enabling the chemical reaction while without changing the reference surface, and manufacturing a substrate for a power device such as single crystal SiC and GaN only by the machining method. - 特許庁

溶融押出法で熱可塑性樹脂フィルムを製造する方法において、溶融押出された熱可塑性樹脂フィルムを加熱し、該フィルム全体が溶融しないうちに、平均表面粗さＲａ１０００ｎｍ以下の表面平滑な金属あるいはシリコン単結晶板を有する加熱加圧装置で圧締することを特徴とする熱可塑性樹脂フィルムの製造方法である。例文帳に追加

In the method for manufacturing the thermoplastic resin film by a melting and extrusion process, the extruded molten thermoplastic resin film is heated and, before the entirety of the film does melt, it is clamped using a thermally pressurizing device having a metallic or a silicon single crystalline plate with a smooth surface having an average surface roughness of Ra 1,000 nm or less. - 特許庁

従来にない平均短径が細いロッド状又はチューブ状の棒状結晶を基板上に立設してなり、表面積を大きくすることができるので、高感度のセンサーとして有用な金属酸化物構造体、及び該金属酸化物構造体を効率よく、低コストで製造することができる金属酸化物構造体の製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a metal oxide structure obtained by erecting rod-like crystals having a rod-like shape or a tube-like shape and an unprecedented small average short diameter, and useful as a high sensitive sensor because the surface area can be enlarged, and to provide a producing method of a metal oxide structure which can produce the metal oxide structure efficiently and at a low cost. - 特許庁

複数のポリッシング工程により表面を研磨する処理を含むタッチダウンハイトが６ｎｍ以下とされる磁気ディスク用の結晶化ガラス基板の製造方法であって、ダイヤモンドペレットを使用して、ガラス基板の表面をポリッシングすることにより、微小うねりの最大高さの平均値が３．５ｎｍ以下であって、表面粗さの最大高さが６ｎｍ以下であるガラス表面を得ることを特徴とする。例文帳に追加

The method of manufacturing a glass substrate for magnetic disk having the touch-down-height of ≤6 nm, including polishing the surface by a plurality of polishing processes, is designed to use a diamond pellet to polish the surface of te glass substrate, to obtain the glass substrate whose average maximum microwaviness is ≤3.5 nm and the maximum surface roughness is ≤6 nm. - 特許庁

ガラス、石英、プラスチックフィルム、ステンレススチール、高分子系繊維、紙などの絶縁性、又は柔軟性基板上の非晶質半導体層内で、フォノンを非熱平衡状態で局所的に励起させ、不規則位置に存在する原子を規則位置に移動させることにより、非溶融状態で半導体結晶膜を得る。例文帳に追加

The semiconductor crystal film in a semi-molten state is obtained by locally exciting a phonon in a thermal nonequilibrium condition in an amorphous semiconductor layer on the insulating substrate such as a glass, a quartz, a plastic film, a stainless steel, a polymer series fiber, a paper or the like, or the flexible substrate to move the atom existing in an irregular position to a regular position. - 特許庁

この発明は、鉛を連続して押出しさらに所定の温度範囲で圧延加工することによって、再結晶を促進させて緻密化して耐食性を改善し、また内部残留応力を低減することによってエキスパンド加工での平坦化を向上させた高品質のＰｂ−Ｃａ−Ｓｎ−Ｂａ系鉛合金よりなる格子基板を製造できるようにしたものである。例文帳に追加

To enable to manufacture a grid base board made of Pb-Ca-Sn-Ba group lead alloy with high quality and improved flatness at an expanding process, by improving corrosion resistance by densifying lead by promoting re-crystallization thereof, by continuously squeezing and rolling the lead in a prescribed temperature range, and by reducing residual inside stress. - 特許庁

セグメント化は、ヒストグラムに対して線はめ込み技法を使用することにより、データの心外膜の脂肪、カルシウム、管腔／コントラスト、および脂肪性血小板／血栓の少なくとも１つとして、血管組織の要素を異なる密度に分類することによるヒストグラム分析を含む方法を使用することによってデータについて実施され、各要素は、血管の外壁を画定する。例文帳に追加

The segmentation is performed on the data by using a method which includes histogram analysis by classification of elements of vascular tissue as one of epicardial fat, calcium, lumen/contrast, and fatty plaque/thrombus of the data into different densities through the use of a line fitting technique on the histogram, where each element defines the outer wall of the vessel. - 特許庁

バルク単結晶ＳＴＯは、低温で高い誘電率を示すため、超伝導や低温デバイスの実用化で極めて有用な誘電体であるにも関わらず、薄膜化すると誘電率が低下してしまうという欠点があったが、上記欠点を克服したチタン酸ストロンチウム積層体を誘電体とする平行平板コンデンサを提供することにある。例文帳に追加

To provide a parallel flat plate capacitor that uses a strontium titanate laminate as a dielectric, which has solved the problem wherein a bulk single crystal STO's dielectric constant drops when used as a thin film although it is a very useful dielectric in practically using a superconducting or low temperature device because of its high dielectric constant at a low temperature. - 特許庁

ＷＳｉ膜を形成する方法は、(1)ＷＦ_6およびＳｉ_2Ｈ_2Ｃｌ_2を含む原料ガスを用いる化学的気相成長法によってＳｉおよびＷを主要構成元素としヘキサゴナル結晶相を有する堆積膜6を形成し、(2)堆積膜6が形成された基板2をアンモニア雰囲気中においてアニールを行いＷＳｉ膜を形成する、各ステップを備える。例文帳に追加

A method for forming a WSi film includes a step (1) of forming a deposit film 6, containing Si and W as main components and having a hexagonal crystal phase chemical vapor growth using a gaseous start material containing WF6 and Si2H2Cl2 and a step (2) forming a WSi film annealing a substrate 2, on which the deposit film 6 is formed in an ammonia atmosphere. - 特許庁

アルミニウム板の一面または両面に、下層には融点２４０℃以下の酸変形ポリエステル樹脂フィルムと、上層には融点２５０℃以上の結晶性２軸配向ポリエステル樹脂フィルムから構成される２層構造のポリエステル樹脂フィルムが接着され、又は、アルミニウム板の一面に接着剤が塗布された結晶性２軸配向ポリエステル樹脂フィルムが接着されていることを特徴とする電解コンデンサ外装容器。例文帳に追加

An electrolytic capacitor outer case is formed of an aluminum plate where a polyester resin film, which is a two-layered structure composed of a lower acid-deformation polyester resin film, whose melting point is 240°C or below and an upper crystalline biaxially oriented polyester resin film whose melting point is 250°C or above, is bonded to its one side or both its sides. - 特許庁

加熱結晶化装置１は、ヒータユニット３０が、プリフォーム１０の口部１１に光を照射する近赤外線ヒータ３１３と、照射された光を反射する遮蔽板３１９と、加熱された口部１１周囲の空気を強制的に排気する排気口６０と、排気量制御用のバルブ６２とを備えている。例文帳に追加

In this heating and crystallizing apparatus for the saturated polyester hollow object, the heater unit 30 is equipped with a near infrared heater 313 for irradiating the mouth part 11 of a preform 10 with light, a shield plate 319 for reflecting the irradiated light, an exhaust port 60 for forcibly exhausting air in the periphery of the heated mouth part 11 and a valve 62 for controlling exhaust quantity. - 特許庁

特定の繰り返し単位を有するポリビフェニルエーテルサルホン樹脂（Ａ）と結晶性樹脂（Ｂ）とを主成分として含有するフィルムを成形してなることを特徴とする電気音響変換器用振動板、及び引張弾性率が１０００ＭＰａ以上、２５００ＭＰａ未満であることを特徴とする前記振動板用のフィルム。例文帳に追加

The diaphragm for the electroacoustic transducer is formed of a film which contains polybiphenyl ether sulfone resin (A) having specific repeating unit and crystalline resin (B) as main components, and the film for the diaphragm is 1,000 MPa or more and less than 2,500 MPa in a modulus of elasticity in tension. - 特許庁

テラヘルツ波を用いたメタルメッシュ法を利用することを特徴とする、皮膚角層成分の計測技術であって、該メタルメッシュは、金属板に波長以下の開口を規則的に配列した構造を有する、金属メッシュ、ＦＳＳ、金属開口アレイ、金属フォトニック結晶、或いはプラズモニックメタマテリアル等が利用できる。例文帳に追加

In a horny layer component measuring technique characterized by a metal mesh method using terahertz wave, the metal mesh includes a structure in which metal mesh, FSS, metal opening array, metal photonic crystal or plasmonic meta-material etc. in which openings below wavelength are regularly arranged on a metal plate can be utilized. - 特許庁

ガラス基板Ｇを載置面に載置した状態で加熱炉内に導入されるガラス基板熱処理用セッター１おいて、熱膨張係数が１５×１０^−７／Ｋ以下の結晶化ガラスからなり、載置面の平坦度が０．３％以下であり、かつ、載置面の表面粗さがＲａ値で０．１〜１μｍの範囲にあることを特徴とする。例文帳に追加

The setter 1 which is introduced into a heating furnace under a condition setting the glass substrate G on the setting surface comprises crystallized glass having a ≤15×10^-7/K coefficient of thermal expansion, the flatness of the setting surface is ≤0.3% and the surface roughness Ra of the setting surface is 0.1-1 μm. - 特許庁

大型のガラス基板Ｇを載置面に載置した状態で加熱炉内に導入されるガラス基板熱処理用セッター１おいて、熱膨張係数が１５×１０^-7／Ｋ以下の結晶化ガラスからなり、載置面の平坦度が０．３％以下であり、かつ、載置面の表面粗さがＲａ値で０．１〜１μｍの範囲にあることを特徴とする。例文帳に追加

The setter 1 which is introduced into a heating furnace after setting a large-sized glass substrate G on the setting surface comprises crystallized glass having ≤15×10-7/K coefficient of thermal expansion, the flatness of the setting surface is ≤0.3% and the surface roughness Ra of the setting surface is 0.1-1 μm. - 特許庁

そして、エッチング液注入用トレンチ９を通した異方性エッチング液の注入により単結晶シリコン基板をエッチングして、側壁７ａを、最も広い部位から深さ方向において上下方向に向かうほど幅が狭くなる（１１１）面にて構成した空洞７を形成し、透孔８及び貫通孔９を封止部材１０で塞ぐ。例文帳に追加

Then, a single crystal silicon substrate is etched by injecting an anisotropic etching liquid through the trench 9 for injecting the etching liquid, a cavity 7 where a side wall 7a is constituted by the face (111) whose width becomes narrower in upper and lower directions in a depthwise direction from the widest site is formed, and a through hole 8 and a penetration hole 9 are blocked by a sealing member 10. - 特許庁

従来の分子ビーム供給源から放出される分子または原子の少なくとも一部分をイオン化することによって得られる部分イオン化ビームを使用して、従来の蒸発源からの中性分子ビームと併用することにより、基板結晶材料の上に化合物材料のエピタキシャル膜の成長を行う。例文帳に追加

An epitaxial film of a compound material is grown on a substrate crystal material by jointly using a partially ionized beam obtained by ionizing at least one portion of molecules or atoms released from a conventional molecular beam supplying source and a neutral molecular beam from a conventional vaporization source. - 特許庁

加熱された基板１上にドーパント原料、III族原料、Ｖ族原料及び希釈用ガスを供給し、バッファ層２、チャネル層４、スペーサ層１０、電子供給層５及びコンタクト層６を順次結晶成長させる際に、スペーサ層１０に酸素をドーピングすることにより、スペーサ層１０の平坦度が向上する。例文帳に追加

The flatness of a spacer 10 is enhanced by doping the spacer layer 10 with oxygen, when growing sequentially the crystals of a buffer layer 2, a channel layer 4, the spacer layer 10, an electron supply layer 5, and a contact layer 6 by supplying dopant material, group III material, group V material, and gas for dilution onto a heated substrate 1. - 特許庁

冷間圧延工程にて最終板厚に調整されるシャドウマスク用あるいはアパーチャグリル用薄板の製造方法であって、その冷間圧延工程の中には、お互いの圧延方向が３０°以上の関係となる個々の冷間圧延の組合わせを導入し、その後に焼鈍を行なう、平均結晶粒径が１０μｍ以下の薄板の製造方法である。例文帳に追加

A method for manufacturing the think steel plate, having an average grain size of 10 μm or less, for shadow masks or aperture grills adjusted to the final wall thickness in the cold rolling process and after introducing a combination of individual cold rolling whose mutual rolling directions are different more than 30 degrees in the cold rolling process, an annealing process follows. - 特許庁

Ｃ面サファイア単結晶基材１ａの上にＭＯＣＶＤ法によってＡｌＮからなる表面層１ｂをエピタキシャル形成した後、該積層体を１３００℃以上の温度で加熱することで、面内圧縮応力が作用してなる、実質的に原子レベルで平坦な表面層が形成されてなるテンプレート基板を得る。例文帳に追加

A template substrate having a flat surface layer formed substantially in an atomic level with in-plane compression stress applied is obtained by epitaxially forming the surface layer 1b made of AlN by a MOCVD method on a C-face sapphire single crystal base material 1a, and then by heating the laminate at a temperature of 1,300°C or higher. - 特許庁

窒化物半導体発光ダイオード素子１０において、サファイア基板１１の結晶成長面には平行に並んだストライプ状の溝Ｔ１０が複数形成され、その上には溝Ｔ１０を埋めるように窒化物半導体層Ｎが形成され、窒化物半導体層Ｎは発光するｐｎ接合部を含んでいる。例文帳に追加

In the nitride semiconductor light emitting diode element 10, a plurality of stripe-shaped trenches T10 are arranged in parallel to each other and formed on a crystal growing face of a sapphire substrate 11, a nitride semiconductor layer N is formed thereon so as to bury the trenches T10, and the nitride semiconductor layer N contains a pn junction which emits a light. - 特許庁

Ｆｅ、Ｃｒ、Ｎｉ及びＭｏの中から選ばれた遷移金属元素を含む合金からなる基材１０の表面１０ａを窒化処理することにより得られる燃料電池用セパレータ３であって、基材１０の表面１０ａから深さ方向に形成された立方晶の結晶構造を有する窒化層１１を備え、基材１０は、微細なテクスチャを有する平板部１４を備える。例文帳に追加

The separator 3 for the fuel cell is manufactured by nitriding the surface 10a of a substrate 10, comprising alloy containing a transition metal element selected from Fe, Cr, Ni and Mo, and is equipped with a nitride layer 11 having cubic system crystal structure formed in the depth direction from the surface 10a of the substrate 10, and the substrate 10 is equipped with a plane part 14 having fine texture. - 特許庁

研磨用砥石は、アルコレートからゾル−ゲル法を用いて製造されたα型アルミナから成る平均粒径が0.6(μm)程度の微細な砥粒をエポキシ樹脂結合剤で結合して構成されていることから、単結晶サファイア基板を研磨するに際して、高い研磨能率および良好な表面粗さを共に得ることができる。例文帳に追加

This polishing grinding wheel can provide both high polishing efficiency and superior surface roughness, when polishing a single crystal sapphire substrate, due to being constituted by joining a fine abrasive grain having an average particle size of about 0.6 μm, composed of α-based alumina manufactured from alcoholate by using a sol-gel method, by an epoxy resin binder. - 特許庁

所定の硬度の材質よりなる前記ラッピング定盤の表面を平坦に切削するとともに２種類の溝を加工生成するフェージング工程と、円弧状のシェービング治具でシェービングするシェービング工程と、該シェービング工程後のラッピング定盤をチャージングリングを用いてチャージングする工程とにより製作される所定の平坦度に形成されたラッピング定盤を使用して、ＳｉＣ単結晶基板をメカニカルラッピングする。例文帳に追加

An SiC monocrystal substrate is mechanically lapped using a lapping plate formed with a predetermined flatness manufactured by a facing process of cutting the surface of the lapping plate made of material quality having a predetermined hardness and generating two kinds of grooves by machining, a shaving process of shaving with a circular-arc shaving tool, and a process of charging the lapping plate after the shaving process using a charging ring. - 特許庁

基板上に少なくとも第１保護層、記録層、第２保護層、反射層をこの順に或いは逆順に有し、電磁波の照射により記録層に結晶相と非晶相の可逆的な相変化を生じ、その光学的な変化を利用して少なくとも情報の記録、再生が行われる相変化型光記録媒体において、記録層がＳｂとＳｂ以外の一つの元素を主成分とする記録材料で構成され、次の条件を満足することを特徴とする相変化型光記録媒体。例文帳に追加

In this phase-change type optical recording medium, at least a first protective layer, the recording layer, a second protective layer and a reflecting layer are provided on a substrate in this order or reverse order; electromagnetic-wave irradiation causes a reversible change between a crystal phase and an amorphous phase on the recording layer; and at least the recording and reproduction of information are performed by utilizing the optical change. - 特許庁

サルオガセ科地衣類の紅雪茶を、水若しくは親水性有機溶媒又はこれらの混合溶媒で抽出して得られるテストステロン５α−レダクターゼ阻害作用、ホスホリパーゼＡ２阻害作用、血小板凝集抑制作用、ヘキソサミニダーゼ遊離抑制作用、ヒアルロニダーゼ阻害作用を兼ね備え、及びこれらを配合した皮脂分泌の抑制及び種々の原因による皮膚の炎症及びアレルギーの防止に有用な頭髪又は皮膚化粧料、並びに飲食品である。例文帳に追加

The hair or skin cosmetic and food/drink contain the active ingredients of the above-mentioned inhibitors each obtained by extraction of lethariellacladonioides, a kind of lichens belonging to Usneaceae with water or a hydrophilic organic solvent or a mixture thereof, therefore have a combination of the respective activities of these inhibitors and are useful for inhibiting sebum secretion and preventing skin inflammation and allergy caused by various factors. - 特許庁

光透過性の基板２Ａ，２Ｃ上に、少なくともマスク層３と反射層４とを順次積層して成る光情報記録媒体１Ａであって、前記マスク層が、前記基板側から入射する再生用レーザ光が連続照射される照射部分の温度が消色温度以上になった場合には、前記照射部分の一部分の光透過率は高くなって光スポット径を実質的に縮小して前記再生用レーザ光を前記反射層側へ出射して前記反射層側からの戻り光を前記基板側へ出射することにより情報信号を再生するディスク超解像機能を有するサーモクロミック材料から成る光ディスクにおいて、前記サーモクロミック材料中に、このサーモクロミック材料の消色温度よりも低い融点を有する有機結晶性物質を含むようにする。例文帳に追加

The optical information recording medium 1A is an optical disk obtained by successively stacking at least a mask layer 3 and a reflecting layer 4 on a light transmissive substrate 2A, 2C. - 特許庁

セラミックや金属等の支持基板上に絶縁層が形成され、その絶縁層上に光エネルギーを電気エネルギーに変換する光電変換層が設けられ、入射光により発生したキャリアを取り出すために、光電変換層の入射光面倒に第1の電極が、その反対の絶縁層側の面に第2の電極が形成された太陽電池において、支持基板上の光電変換層が形成されていない領域または絶縁層上の光電変換層が形成されていない領域に形成された第3の電極が前記第2の電極に接続されている構造とすることにより、入射光と反対の面の電気抵抗を低減し、高効率で大面積の結晶系太陽電池を得る。例文帳に追加

By attaining a structure for which a third electrode formed in an area, where the photoelectric conversion layer is not formed on the supporting substrate or in the area where the photoelectric conversion layer is not formed on the insulation layer is connected to the second electrode, the electrical resistance of the surface opposite to the incident light is reduced, and the crystal system solar battery of high efficiency and the large area is obtained. - 特許庁

本発明は多層炭素ナノチューブ及びその製造方法に関するもので、より詳しくは最近高性能導電材及び平板ディスプレー用電子放出機（電子源）（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｅｍｉｔｔｅｒ）等の用途開発が進められている、多層炭素ナノチューブの炭素六方格子面の面間距離（ｄ−ｓｐａｃｉｎｇ、ｄ_００２）が０．３４００ｎｍ未満である高結晶性多層炭素ナノチューブ及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a highly crystalline multiplayer carbon nano tube whose d-spacing, d002 of carbon hexagonal lattice faces of the tube is 0.3400 nm or less for which application development is in progress recently including application for a highly efficient electric conductor and an electron emitter for a plate display and a method for manufacturing the same. - 特許庁

(a)写真は，通常は適正な図面とはみなされない。写真は，出願日を取得する目的では受理されるが，一般に非公式の図面とみなされる。写真は，次項に記載する特別な範疇に該当する場合にのみ受理される。写真現像用の原版は，絶対に受理されない。 (b)庁は，墨による図面では正確に又は十分に描写することができない発明を例示するために，墨による図面の代わりに，感光紙に焼き付けた白黒の写真，又は(写真平版又はその他スクリーン印刷による写真の複製でない)顕微鏡写真を受理することが可能であるが，次の範疇のものに限定する。結晶構造，金属組織，織物地等，粒状構造及び装飾効果。写真又は顕微鏡写真は，墨による図面よりも発明を明瞭に示さなければならず，また，当該図面に関する規則に従うものとする。 (c)当該写真が受理されるためには，写真業界で一般に認められている次の特性を有する印画紙，すなわち表面が滑らかで，白無地の印画紙に焼き付けた写真，又は適切な寸法のブリストル紙を台紙にした写真でなければならない。例文帳に追加

(a) Photographs are not normally considered to be proper drawings. Photographs are acceptable for obtaining a filing date and generally considered to be informal drawings. Photographs are only acceptable where they come within the special categories as set forth in the paragraph below. Photolitographs of photographs are never acceptable. (b) The Office is willing to accept black and white photographs or photomicrographs (not photolitographs or other reproduction of photographs made by using screens) printed on sensitized paper in lieu of India ink drawings, to illustrate the inventions which are incapable of being accurately or adequately depicted by India ink drawings restricted to the following categories: crystalline structures, metallurgical microstructures, textile fabrics, grain structures and ornamental effects. The photographs or photomicrographs must show the invention more clearly than they can be done by the India ink drawings and otherwise comply with the rules concerning such drawings. (c) Such photographs to be acceptable must be made on photographic paper having the following characteristics which are generally recognized in the photographic trade: paper with a surface described as smooth, tint, white, or be photographs mounted on a proper sized Bristol board. - 特許庁