「Defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(184ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for inspecting defects in the surfaces of objects uses a color camera as a camera and determines regions of only defective parts, on the basis of a two-dimensional distribution of grayscale values of part marks, regions except the marks, and the regions of defective parts, on the basis of color images of an object illuminated by difference illumination means.例文帳に追加

この対象物表面の欠陥検査方法は，カメラとしてカラーカメラを用い，異なる照明手段によって照らした対象物のカラー画像から部品マークとマーク以外の領域，及び欠陥部の領域の濃淡値に関する２次元的分布から，欠陥部のみの領域を判別する。 - 特許庁

To provide a color electrophotographic developer freed of image defects, such as deterioration of transfer efficiency, that of image density, that of uniformity, overemphasized edges, void in image, and color stains, especially, even in the case of repeated uses of the full color two-component developer.例文帳に追加

特にフルカラー２成分現像剤の繰り返し使用においても転写性に関わる諸問題がなく、具体的には転写効率の悪化が無く、画像濃度の低下、均一性不良、エッジ強調、画像中抜け、画像色汚れ等の画像上の欠陥のないカラー電子写真用現像剤を提供する。 - 特許庁

Further, the artificial flaw forming means is a means for forming the artificial defective image at every flaw of a plurality of defects to be classified and the learning means determines the learning patterns of the artificial image of a defect to be classified and a non-defective image by random numbers to allow the neural network to learn.例文帳に追加

また、人工欠陥作成手段は複数の分類すべき欠陥毎に人工的な欠陥画像を作成する手段であり、学習手段は分類すべき欠陥の人工画像と良品画像の学習パターンを乱数により決定してニューラルネットワークに学習させる。 - 特許庁

To provide an organic light-emitting device capable of reducing a production cost by preventing moisture and oxygen from invading the organic light-emitting device, and also by eliminating unevenness formed by TFTs and signal wiring, foreign substances deposited at an end portion of an organic protective layer, and defects caused by cracks or the like of a ground.例文帳に追加

有機発光素子への水分、酸素の進入を防止すると共に、ＴＦＴ及び信号配線による凹凸、有機保護層端部に付着した異物、下地の傷等に起因する欠陥を無くし、生産コストの低減が可能な有機発光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a novel levelling agent for plating which gives excellent characteristics in any of plating appearance such as plating covering power for the insides or corner parts of blind via holes or through-holes and levelling property of a plated surface and is capable of coping with substrate defects.例文帳に追加

酸性銅めっき処理において、ブラインドビアホールやスルーホールの内部やコーナー部のめっき付き回り性およびめっき面のレベリング性などのめっき外観のいずれにおいても優れた特性を与え、かつ下地不良にも対応できる新規なめっき用レベリング剤を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition exhibiting sufficient transmitting property when a light source at 157 nm is used and improved in development defects, coating property and line edge roughness.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、現像欠陥、塗布性及びラインエッジラフネスの点で改善されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a near infrared cut filter glass, which hardly produces crystals in the glass and thereby, can be used without inducing defects or the like even when the glass is subjected to heat treatment in a film forming process after forming the glass or in a manufacturing process of an imaging device using the glass.例文帳に追加

ガラス成形後に行われる成膜工程やこれらガラスを用いた撮像デバイスの製造工程等において、加熱処理が行われた場合であっても、ガラスに結晶が生じにくく、これにより欠点発生等のおそれなく用いることができる近赤外線カットフィルタガラスを提供する。 - 特許庁

The single mode optical fiber containing a glass part made of quartz glass and having a center core and a clad, is characterized in that the density of non-crosslinked oxygen defects in the glass parts is ≤1.0×10^14 spins/g in terms of the spin density measured by an electron spin resonance method.例文帳に追加

石英系ガラスよりなり、中心コアとクラッドを有するガラス部分を含むシングルモード光ファイバにおいて、前記ガラス部分の非架橋酸素欠陥の密度が、電子スピン共鳴法により測定されるスピン密度の値として１．０×１０^^１４ｓｐｉｎｓ／ｇ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of suppressing the generation of defects in cleaning, the wear of a cleaning blade and the filming of a photoreceptor, to provide an image forming method using the image forming apparatus, and to provide a process cartridge used for the image forming apparatus.例文帳に追加

本発明は、クリーニング不良の発生、クリーニングブレードの磨耗及び感光体のフィルミングを抑制することが可能な画像形成装置、該画像形成装置を用いる画像形成方法及び該画像形成装置に用いられるプロセスカートリッジを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor light emitting device which hardly has crystal defects and crystal dislocation and includes a hexagonal-crystal BN film with very little mixture of cubic-crystal BN and which emits light with high efficiency near room temperature since light emission by transition to a deeper level is suppressed and band-edge emission becomes predominant.例文帳に追加

深い凖位への遷移による発光が抑制されてバンド端発光が支配的となり、室温付近でも高効率発光する、結晶欠陥、結晶転位が生じ難く、かつ立方晶ＢＮの混在が極めて少ない六方晶ＢＮ膜を有する半導体発光素子を実現すること。 - 特許庁

To prevent serrate defects from being generated in the peripheral parts of separated substrates when a laminated substrate formed by laminating together first and second substrates of a structure, wherein a single-crystal Si layer is formed on a porous layer and an insulating layer is formed on the Si layer, is separated into the separated substrates in the porous layers.例文帳に追加

多孔質層の上に単結晶Ｓｉ層を形成し、その上に絶縁層を形成した第１の基板と第２の基板とを貼り合わせて形成された貼り合わせ基板を多孔質層で分離する際に、分離された基板の周辺部に鋸歯状の欠陥が生じることを防止する。 - 特許庁

To provide an electronic component mounting method and apparatus which can improve the connection reliability by reducing the occurrence of vacancy defects and voids due to an insufficient amount of solder by increasing the entire amount of solder or improving the solder wettability.例文帳に追加

本発明では、全体のはんだの量を増加させ、もしくははんだぬれ性を向上させることによって、はんだ不足による穴あき不良やボイドの発生を低減して、接続信頼性の向上を図ることが可能である電子部品の実装方法および実装装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a copolymer which is suppressed in pattern defects such as water mark and in abnormality of sensitivity or pattern shape due to elution of additives such as a radiation-sensitive acid generator and which gives surface characteristics preferable to immersion lithography, and a composition containing the copolymer.例文帳に追加

ウオーターマーク等のパターン欠陥や、感放射線性酸発生剤等の添加物の溶出による感度やパターン形状の異常等を抑えることができる、液浸リソグラフィーに好適な表面特性を与える共重合体と、該共重合体を含む組成物を提供する。 - 特許庁

To make the coating thickness distribution sufficiently even in the width direction of a web in extrusion type application and particularly to make the coating thickness distribution sufficiently even in the width direction of a web even under conditions that the slit gap is narrowed to suppress coating defects caused following high speed thin layer application.例文帳に追加

エクストルージョン型塗布においてウエブ幅方向の塗布厚分布を十分に均一化することができ、特に、高速薄層塗布に伴って生じる塗布欠陥を抑止するためにスリット間隙寸法を狭くした条件下でもウエブ幅方向の塗布厚分布を均一化することができる。 - 特許庁

To provide a method of inspecting the surface of an inspection object and an inspection apparatus capable of discriminating the surface indentation which exists in the inspection object and is derived from cutting work or grinding work from the indentation coming from other wounds and the defects of substrate.例文帳に追加

本発明は、検査対象物に存在する切削加工あるいは研削加工に由来する表面凹凸と、それ以外の傷や基体欠陥に起因する凹凸を弁別できる検査対象物表面検査方法及び検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide spacers having high film hardness, excellent in smoothness of spacer surfaces, less liable to produce residue and scumming on a substrate in an unexposed portion, and less liable to cause image defects such as image persistence and display irregularities, and a radiation-sensitive resin composition for forming the spacers.例文帳に追加

高い膜硬度を有し、スペーサー表面の平滑性に優れるとともに、未露光部の基板上に残渣や地汚れを生じ難く、しかも焼き付きや表示ムラなどの表示不良が起こり難いスペーサー、並びに上記スペーサー形成用の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To improve alignment stability of an entire liquid crystal layer even when the liquid crystal layer is made thick, to prevent the occurrence of a turbid state due to flowage or defects near the center in the thickness direction of the liquid crystal layer and to prevent decrease in transmittance or malfunction of deflection.例文帳に追加

液晶層を厚くしても、液晶層全体の配向安定性が向上し、液晶層の厚さ方向の中央付近での流動や欠陥発生による白濁現象の発生を防止することができ、透過率の低下や偏向動作不良を防止することができるようにする。 - 特許庁

To reduce the thickness of a silicon thin film to a prescribed value without deteriorating it in quality and avoiding it that the oxidation of crystal defects generated when a usual sacrificial oxidation is carried out is accelerated, the surface is roughened by the influence of a foreign object, and an oxide film is deteriorated in withstand voltage due to the fact that the surface gets rough.例文帳に追加

従来の犠牲酸化を行う際に生じた結晶欠陥部の増速酸化や、異物の影響などによる表面荒れ、表面荒れに伴う酸化膜耐圧の劣化などを回避しつつ、シリコン薄膜の品質を劣化させることなく、その膜厚を所望の値に減少させる。 - 特許庁

To provide a continuous casting method which reduces surface defects such as a sliver flaw by reducing a quantity of coarse inclusions in molten steel which adhere to an outer circumference of an immersion nozzle and then drop off owing to the movement of a molten steel surface or the like.例文帳に追加

本発明は、浸漬ノズル外周部に付着し、湯面変動等で脱落して生成した溶鋼中の粗大介在物の量を低減することによって、薄鋼板で発生するスリバー疵等の表面欠陥を低減するための連続鋳造方法の提供を課題としている。 - 特許庁

To provide a slip type wire drawing machine for an extra fine wire by which the extra fine wire can be manufactured without causing wiring defects such as a scratch and a breaking of wire, without specially lowering the degree of viscosity of a lubricant as in the past, causing slips between the wire and the guide capstan, and between the wire and the driving capstan.例文帳に追加

従来通りに潤滑材の粘度を特に低くすることなく、またワイヤと案内キャプスタンおよび駆動キャプスタンとの間でスリップを起こさせたまま、そしてキズ発生などの伸線欠陥や断線を発生させることなく、極細線が製造できるスリップ型伸線機を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate and its forming method wherein, in a strain layer/stain-applied crystal layer structure, the crystallinity deterioration of the strain layer due to crystal defects caused in the strain-applied crystal layer structure is reduced, and the strain layer/strain-applied crystal layer structure is formed with a thin film on an insulation layer.例文帳に追加

歪み層／歪み印加結晶層構造において、歪み印加結晶層構造より発生する結晶欠陥による歪み層の結晶性劣化を低減し、かつ絶縁層上に歪み層／歪み印加結晶層構造を薄膜で形成した基板の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polarizing plate curling of which can be prevented when protective films having different characteristics are stuck on the top and reverse of a polarizing film and which can suppress defects liable to be generated at ends even when exposed to a high temperature condition while stuck on a glass of a liquid crystal cell etc.例文帳に追加

偏光フィルムの表裏に特性の異なる保護フィルムを貼り合わせたときに、偏光板のカールを抑えることができ、液晶セルなどのガラスに貼着した状態で高温条件下にさらしても、端部に発生しやすい不良を抑えることができる偏光板を提供する。 - 特許庁

To remove defects of former conveyance mechanisms for conveying a tape carrier consisting of any one of: a conveyance mechanism for utilizing a perforation; a grip roller conveyance mechanism for performing a conveyance in the state of being pinched by a roller pair; or a clamp mechanism for performing the conveyance by clamping tape front and rear sides, wherein any mechanism damages a tape front surface.例文帳に追加

従来のテープキャリアを搬送する搬送機構は、パーフォレーションを利用する搬送機構、ローラ対で挟持して搬送するグリップローラ搬送機構、又はテープ表裏面をクランプして搬送するクランプ機構があるがいずれも、テープ表面に損傷を与えている。 - 特許庁

To provide a method of removing particles by which exposure defects is reduced significantly in the course of near-field exposure by easily removing particles between substrates, and also to provide a method for near-field exposure and a particle removing device using the method, and a near-field exposure device based on the removing device.例文帳に追加

基板間の粒子を容易に除去することができ、これにより近接場露光における露光欠陥を大幅に低減することが可能となる粒子の除去方法、該方法を用いた近接場露光方法、及び粒子の除去装置、該装置による近接場露光装置を提供する。 - 特許庁

This planter or flowerpot having a water-pouring port is characterized by providing a water-pouring port (3) in the planter or the flowerpot having water-pouring port to solve the above defects and arranging a water- absorbing member (2) having a shape cross section promoting water-absorbing property in the interior to provide a water-receiving part (5).例文帳に追加

本発明は、注水口付きプランター、及び、植木鉢（１）に注水口（３）を設けることによって、上記欠点を解決すると共に、吸水性を促進する形状断面を持った吸水部材（２）を、内部に配置して受水部分（５）を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a compound semiconductor crystal base material which is produced by an epitaxial growth process without requiring an additional process and reduces planar defects such as anti-phase area boundary planes or twins, which are formed in the epitaxially grown crystal, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

エピタキシャル成長以外の付加的な工程を必要とせず、かつエピタキシャル成長させた結晶内に生じる反位相領域境界面や双晶のような面欠陥を低減し得る化合物半導体結晶基材及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The inspecting device for printed matters has a defect detecting means, which judges the existence of defects and their kinds so as to output a detection signal, and an alarming means for alarming the kind of the defect with a defect specifying sound on the basis of the detection signal.例文帳に追加

欠陥の存在とともにその種類を判別して検出信号を出力する欠陥検出手段と、前記検出信号に基づいて前記欠陥の種類を特定する欠陥特定音で警報する警報手段とを有するようにした印刷物検査装置。 - 特許庁

To provide a new improved method for producing a fiber-reinforced inorganic plate compounded with a pulp fiber by extrusion molding, capable of raising dimensional stability and improving strength of inorganic plate, undoubtedly reducing defects caused by spring back.例文帳に追加

パルプ繊維を配合した繊維補強無機質板の押出成形による製造において、寸法安定性を高め、スプリングバックによって生じる欠陥を低減することはもちろんのこととして、無機質板の強度をより向上させることのできる、改善された新しい製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus capable of continuously producing a stable and high quality silicon carbide single crystal under stable conditions, which has a large diameter and in which the density and unevenness of crystal defects in the growth direction are small and no lattice distortion exists.例文帳に追加

成長方向における結晶欠陥の密度及びばらつきが小さく、格子歪の無い、しかも大口径かつ安定した品質の炭化珪素単結晶を、安定した条件下で連続的に製造することができる炭化珪素単結晶の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a copper plating solution which is capable of performing a plating treatment of a wafer surface, as a surface to be plated, subjected to formation of fine wiring having spacings of a sub-μm level and coated with copper as a seed metallic film, so as to suppress dissolving of the seed metallic film and to embed the inside of the microspacings by the copper without defects.例文帳に追加

サブμｍレベルの間隙を有する微細配線加工が施され、シード金属膜として銅が被覆されたウェハー表面を被メッキ面として、シード金属膜の溶解を抑制し、極小間隙内を銅により欠陥無く埋め込みメッキ処理ができる銅メッキ液を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for molding an inorganic substance powder capable of suppressing generation of defects in the process of molding and degreasing, high in extraction degreasing rate, keeping good shape retention and good low temperature fluidity at the same time, and capable of effectively manufacturing a thin molding.例文帳に追加

成形体の成形および脱脂工程における欠陥の発生が抑えられ、抽出脱脂率が高く、さらに、良好な保形性と良好な低温流動性の両立が図られ、薄肉の成形体を効率よく製造することができる無機物質粉末の成形用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a defect detection apparatus and a defect detection method for detecting the defect of an object to be inspected reliably by applying light for detecting defects to the site of the object to be detected whose position is regulated reliably, and for miniaturizing the entire defect detection apparatus.例文帳に追加

位置が確実に規制される検査対象物の部位に欠陥検出用の光を照射して、検査対象物の欠陥を確実に検出することができ、しかも欠陥検出装置全体の小型化を図ることができる欠陥検出装置および欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁

By carrying out pressure reduction and heating under predetermined pressure reduction conditions (such as a reduced pressure value and retention time of the reduced pressure) and predetermined temperature conditions (such as a substrate temperature, heating temperature and heating time), generation of defects and abnormal film thickness in a color layer can be suppressed to improve the yield.例文帳に追加

また、所定の減圧条件（減圧圧力や減圧保持時間）及び所定の温度条件（基板温度、加熱温度や加熱時間）の下で減圧及び加熱を行うことにより、着色層における欠陥や膜厚異常の発生を抑制して、歩留まりを向上させることができる。 - 特許庁

To obtain diazo photosensitive paper which prevents the formation of a low contrast image and precoupling in storage as defects peculiar to acid- free paper, has high color forming property and gives a clear color image even when the acid-free paper containing calcium carbonate, kaolin, talc, titanium dioxide or the like is used as a substrate for the diazo photosensitive paper.例文帳に追加

炭酸カルシウム、カオリン、タルク、酸化チタン等を含有する中性紙をジアゾ感光紙用の支持体として用いても、その欠点である低コントラスト画像および保存時のプレカッリングが防止され、さらに高発色性で発色画像が鮮明なジア感光紙を提供すること。 - 特許庁

To provide an adhesive protection film which does not have the defects of prior arts, has a remarkable initial adhesive strength, a balanced final adhesive strength, does not remain when removed, has good a adaptability to finish coatings, and is especially useful for the finish coatings of new automobiles.例文帳に追加

先行技術の欠点を有しておらず、顕著な初期接着強さ、均衡が保たれた最終的接着強さを有し、除去時に残留物がなく、仕上塗料適合性を有する、特に新しい自動車の仕上塗料のための粘着性保護フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition showing sufficient transmitting property when a light source at 157 nm wavelength is used, and having little line edge roughness, development defects and scum.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及びスカムが少ないポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for producing a waterproof and moisture-permeable processed fabric obtained by directly coating a fiber fabric with an aqueous resin, which obtains a waterproof and moisture-permeable processed fabric having excellent moisture permeability and waterproofness and excellent film surface qualities free from processing defects such as processing wrinkles, coating unevenness, etc.例文帳に追加

水系樹脂を繊維布帛に直接コーティングする防水透湿加工布帛の製造方法において、優れた透湿性と防水性を有し、かつ、加工シワ、塗工ムラなどの加工欠点がない膜面品位の優れた防水透湿加工布帛を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which is suitable to application to the manufacture of an electric resistance welded aluminum tube of ≥2 mm thick the electric resistance welded part of which is mostly free from weld defects and a method by which the electric resistance welded aluminum tubes and electric resistance welded steel tube consisting of steel materials are separately manufactured.例文帳に追加

電縫溶接部の溶接欠陥がほとんどない肉厚２ｍｍ以上のアルミニウム電縫管の製造に適用して好適な製造方法と、同じ製造設備を用いて前記のアルミニウム電縫管と鉄鋼材料からなる電縫鋼管とを作り分ける方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical waveguide element having a polarization inversion structure and being capable of reducing its manufacturing cost and time by suppressing the occurrence of defects on a crystal surface due to stress distortion caused by a polarization domain wall when polarization inversion is formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に分極反転を形成した際に、分極ドメイン壁が及ぼす応力歪により結晶表面に欠陥が生じることを抑え、製造コストや製造時間を削減することが可能な、分極反転構造を有する光導波路素子を提供すること。 - 特許庁

To provide a method making a planographic printing plate which does not leave a residual film in the non-image area without causing defects to the formed image area of does not finally stain on a print even if a residual film remains in a some degree and can give a high sharpness clear image.例文帳に追加

形成した画像部に欠陥を与えることなく、非画像部に残膜を残さないか、又は、ある程度残膜が残ったとしても最終的に印刷物上に汚れとならず、高鮮鋭で鮮明な画像を得ることのできる平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁

This information storage medium is provided with a user area (UA) for storing user data, a defect management area (DMA) for storing defective information related to the defects on the user area and an overwrite management area (DMA) for storing overwrite information related to the frequency of overwrites with respect to the defect management area.例文帳に追加

ユーザデータを格納するためのユーザエリア（ＵＡ）と、前記ユーザエリア上の欠陥に関する欠陥情報を格納するための欠陥管理エリア（ＤＭＡ）と、前記欠陥管理エリアに対するオーバーライト回数に関するオーバーライト情報を格納するためのオーバーライト管理エリア（ＤＭＡ）とを備えている。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor, in which the crack in a charge transport layer and the crystallization of a hole transport agent are suppressed and the occurrence of image fogging at high pressure and high humidity is less likely, and the electrical characteristics are excellent, and to provide an image forming apparatus with which images free of image defects, image fogging, etc., can be obtained.例文帳に追加

電荷輸送層におけるクラックおよび正孔輸送剤の結晶化が抑えられ、高温高湿下で画像かぶりが発生しにくく、かつ電気特性に優れた電子写真感光体、および画像欠損、画像かぶり等のない画像を得ることができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an equipment, by which a deposited film of uniform distribution can be formed on a substrate at high speed over a large area and a semiconductor thin film such as photovoltaic element, having high quality and excellent film quality, also having higher reproducibility, and reduced in defects can be economically formed.例文帳に追加

基板上に大面積にわたって、高速に分布の均一な堆積膜を形成することができ、高品質で優れた膜質を有し、より再現性高く欠陥の少ない光起電力素子等の半導体薄膜を経済的に形成することができる方法および装置を提供する。 - 特許庁

To obtain semiconductor on insulator substrates with a reduced SECCO defect density less than 100 defects/cm^2, the implanting is carried out with a dose less than 2.3×10^16 atoms/cm^2 and the thinning step includes a step of oxidation at a temperature below 925°C.例文帳に追加

１００defects／ｃｍ^2未満の低減されたＳＥＣＣＯ欠陥密度を有するセミコンダクタ・オン・インシュレータ基板を獲得するために、注入することは、２．３×１０^16atoms／ｃｍ^2未満の分量で実行され、薄層化するステップは、９２５℃未満の温度で酸化するステップを含む。 - 特許庁

To manufacture a front plate having a dielectric film with no defect at high yield to realize a device with high reliability by inspecting the dielectric film after processes of printing, drying, and baking, and correcting defects such as pinholes and voids.例文帳に追加

プラズマディスプレイ装置の前面板に形成されている誘電体膜にピンホールやボイドなどの欠落欠陥が発生することがあり、そのままプラズマディスプレイ装置を製造すると、完成時の点灯検査で電極の断線を引き起こして不良となり、製品歩留まりが低下する。 - 特許庁