「Due Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an image forming apparatus without any variation or deterioration in reading precision of a sensor for a toner image for control due to vibration occurring during the switching action of developing machines or staining of a sensor by toner and surely shortening required time for a process control action.例文帳に追加

現像器の切り替え動作時に発生する振動やセンサのトナー汚れに起因した制御用トナー像のセンサによる読み取り精度のばらつきや低下がなく、プロセス制御動作の所要時間を確実に短縮することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide nickel powder for an electrode capable of preventing occurrence of a crack, warpage or the like due to mismatching of heating contraction percentage in a baking process when a solid oxide fuel cell is manufactured and capable of lowering a resistance value of a fuel electrode.例文帳に追加

固体電解質型燃料電池を製造する際の焼成工程において、加熱収縮率の不整合による割れや反りなどの発生を防止でき、しかも燃料電極の抵抗値を低下させることが可能な電極用ニッケル粉を提供する。 - 特許庁

To provide a support body for a substrate and a substrate storage container such that a thin film has its peeling or cracking due to contacting with a support piece suppressed, process as designed or the like can be performed on a substrate, and contamination of the substrate and a decrease in yield of a product can be prevented.例文帳に追加

薄膜が支持片と接触して剥離したり、クラックが発生するのを抑制し、基板に設計通りの加工等を施すことができ、基板の汚染や製品の歩留まり低下を防止できる基板用支持体及び基板収納容器を提供する。 - 特許庁

With this method, since the communication clearance 61 can be stably formed, a rise of the internal pressure to be generated by thermal expansion of the air inside of the noise absorbing space 25 during a heat treatment process can be relaxed, and a formation failure due to a rise of the internal pressure can be restricted.例文帳に追加

この方法では、連通空隙６１を安定して形成できるため、熱処理工程の際に吸音空域２５内の空気が熱膨張することにより生ずる内圧上昇を緩和でき、該内圧上昇による成形不良を抑制できる。 - 特許庁

The deposition of the cover layer is conducted in a state in which a bias voltage, selected so as to make arithmetic average roughness (Ra) of the molding surface more increased than that before deposition due to collision of a portion of ions of a process gas with the molding surface during deposition, is applied to the base material.例文帳に追加

被覆層の成膜は、成膜中にプロセスガスのイオンの一部が成形面に衝突することによって成形面の算術平均粗さ（Ｒａ）が成膜前よりも増大するように選択されたバイアス電圧を基材に印加した状態で行う。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a nitride-based compound semiconductor substrate for eliminating a growth process of a low-temperature protective layer for reducing the manufacturing cost of a GaN-based semiconductor substrate and removing influence due to variations in the quality of the low-temperature protecting layer.例文帳に追加

低温保護層の成長プロセスを省略でき、ＧａＮ系半導体基板の製造コストを低減できるとともに、低温保護層の品質のばらつきによる影響を排除できる窒化物系化合物半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a ferroelectric memory that achieves low-temperature heat treatment in a manufacturing process while preventing degradation of memory characteristics due to shortage of heat treatment of baking densification to crystallize a ferroelectric film, especially degradation of residual polarization characteristics of the ferroelectric film.例文帳に追加

強誘電体膜の結晶化のための焼き締めによる熱処理不足によるメモリ特性の低下、特に強誘電体膜の残留分極特性の低下を防止しながら、製造プロセスの低温熱処理化を実現できる強誘電体メモリ装置を提供する。 - 特許庁

In the welding process, the output and irradiation time of the laser are set such that the second temperature becomes such a temperature that a leading end of a weld penetration part 81 produced due to melting of the vicinity of the fitting surface 80 is located within thickness of the fuel passage member 30.例文帳に追加

溶接工程において、レーザの出力および照射時間は、第２温度が、嵌合面８０近傍が溶融することで生じる溶け込み部８１の先端が燃料通路部材３０の板厚内に位置する程度の温度となるよう設定される。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition used for patterning due to double exposure, suitably used for a liquid immersion exposure process, such as water, without requiring separate formation of an upper layer film, and which os suitably used for forming a first resist layer.例文帳に追加

二重露光によるパターンニングに用いられ、上層膜を別途形成する必要がなく、水等の液浸露光プロセスにも好適に用いられることが可能であり、第一のレジスト層を形成するために好適に用いられる感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an internal solid pharmaceutical preparation in which formulation change due to mixing of an antipyretic and analgesic component having an acidic carboxy group and an antiacid including a bivalent and/or trivalent metal salt is suppressed and which has an excellent antipyretic and analgesic component-eluting characteristics, and to provide a process for producing the internal solid pharmaceutical preparation.例文帳に追加

酸型のカルボキシ基を有する解熱鎮痛成分と、２価及び／又は３価の金属塩からなる制酸剤との配合変化が抑制され、前記解熱鎮痛成分の溶出性に優れた内服固形製剤及びその製造方法の提供。 - 特許庁

Therefore, in assembling work, damage of the link board 31C due to its unnecessarily large deformation scarcely occurs, and the installation number of man-hours (time) can be reduced since a process for warping the link board 31C is not necessary.例文帳に追加

したがって、組み付け作業時に、リンク板３１Ｃが必要以上に撓むことに起因してこのリンク板３１Ｃが損傷してしまうことは殆どなく、かつ、リンク板３１Ｃを撓ませる工程も必要ないので、組み付け工数（時間）の低減を図ることができる。 - 特許庁

To obtain an electroconductive member having a slight increase in electric resistance due to continuous turning on of electric current, a small fluctuation range of electric resistance between at low temperature at low humidity and at high temperature at high humidity, suitably useful as a development member and a transcription member in an electrophotographic process.例文帳に追加

連続通電による電気抵抗の増大が小さく、かつ低温低湿時と高温高湿時とでの電気抵抗の変動幅も小さく、電子写真プロセスにおける現像部材や転写部材として好適に使用される導電性部材を得る。 - 特許庁

To provide a securities processing method requiring no additional work such as manual reconfirmation without causing a visual error, an erroneous input, and erroneous recognition due to stains or rubbing at a dealing (liquidation) process of securities such as checks and bills.例文帳に追加

小切手や手形などの有価証券類の取引（決済）処理時に、目視誤りや誤入力や、汚れや擦れなどによる誤認識がなく、人手による再確認などの付加的な作業を必要としない有価証券類処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an ion implantation device and an ion implantation method which can suppress the variation in an implantation angle due to a position on a wafer when ion implantation is carried out by a batch process method, and in which setting and varying of a tilt angle are easily carried out.例文帳に追加

バッチ処理方式によってイオン注入を行なう場合に、ウェハ上の位置によって注入角度が変化するのを抑制でき、且つ、ティルト角の設定及び変更を容易に行なえ得るイオン注入装置及びイオン注入方法を提供することにある。 - 特許庁

To prevent flaws due to ultrasonic vibration for the manufacturing method of a semiconductor device including a process for electrically connecting the terminal electrode of a circuit board to the electrode pad of a semiconductor substrate by ultrasonic vibration.例文帳に追加

本発明は回路基板の端子電極と半導体基板の電極パッドとの間に超音波振動により電気的接続を得る工程を含む半導体装置の製造方法に関し、超音波振動に起因するキズの発生を防止することを目的とする。 - 特許庁

Thereby, the temperature of exhaust gas is elevated by the combustion heat of the fuel injected in the expansion process and also the heat generated due to the oxidation of unburned HC by turbine agitation to elevate the temperature or promote the activation of the exhaust emission control catalyst downstream from the turbine.例文帳に追加

これにより、膨張行程で噴射された燃料の燃焼熱と、タービン撹拌による未燃ＨＣの酸化により発生する熱とによって、排気ガス温度が高められ、タービン下流の排気ガス浄化触媒の昇温ないしは活性化が促進される。 - 特許庁

To provide a semiconductor inspection apparatus which prevents applied ink from adhering to good chips due to deformation or scattering of the ink and consequently avoids overkill, in other words, elimination of the good chips as defects in the semiconductor inspection process.例文帳に追加

塗布されたインクの変形や飛散による良品チップへの付着を回避することができ、その結果、半導体検査工程でのオーバーキル、つまり良品を不良品として排除してしまうことを回避することができる半導体検査装置を提供する。 - 特許庁

The microstructure regarding a junction part of a tunnel magneto-resistance film 12 is formed by a lithography process using focused ion beam(FIB) drawing to prevent the problems of deterioration in shape caused by reflected electrons and electrostatic breakdown due to charging-up.例文帳に追加

トンネル磁気抵抗膜１２の接合部に関わる微細構造を集束イオンビーム（ＦＩＢ）描画を用いたリソグラフィプロセスにより形成することにより、反射電子による形状の劣化や、チャージアップによる静電破壊という問題を防ぐことが可能となる。 - 特許庁

To provide an EB (electron beam) transfer mask which can be easily manufactured and which can suppress deterioration in the accuracy of drawing a pattern due to the spatial charge effect, resist heating or the like caused during the EB transfer in the process of forming an EB transfer mask data composed of complementary masks.例文帳に追加

コンプリメンタリーマスクで構成されるＥＢ（電子線）転写マスクデータの作成において、ＥＢ転写の際における空間電荷効果やレジストヒーティング等に起因する描画精度劣化を抑制し、かつ容易に製造可能なＥＢ転写マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a developing roller capable of highly achieving both of suppression of fusion due to long-term use and suppression of initial filming, and capable of obtaining images of uniform density from the beginning of use to the end of long-term use, and an image forming apparatus and a process cartridge using the same.例文帳に追加

耐久融着抑制と初期フィルミング抑制とを高い次元で両立することができ、使用初期から長期使用後に亘って均一な濃度の画像を得ることができる現像ローラーや、これを用いた画像形成装置やプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

Furthermore, since the reinforcement rib 18 is housed in the recessed portion 47 accompanying elastic bending of the lance 15B in the insertion process of the terminal fitting 30, it is evaded that the connector becomes large size in the bending direction due to formation of the reinforcement rib 18.例文帳に追加

また、端子金具３０を挿入する過程では、ランス１５Ｂが弾性撓みするのに伴ない、補強リブ１８が逃がし部４７内に収容されるので、補強リブ１８を形成したことに起因してコネクタがランス撓み方向に大型化することを回避できる。 - 特許庁

In this configuration, since there are no level differences on the upper surface of the light guide plate 1 as in the past due to the hardness differences between the core 15 and the clad 24 in the polishing process, the light emitting elements 30 can be formed well on the upper surface of the light guide plate 1.例文帳に追加

上記構成によれば、従来、研磨工程において、コア１５とクラッド２４の材質の硬度差のために導光板１の上面に形成されていた段差がないため、導光板１の上面に発光素子３０を良好に形成することができる。 - 特許庁

To provide a method for reproducing a substrate with a multilayer reflection film by which the reproducing cost of the substrate can be reduced because a large-scale apparatus is not required, the damage of the substrate due to the peeling and removal of the multilayer reflection film can be reduced and also the process load of re-polishing is low.例文帳に追加

大掛かりな装置を必要とせず、しかも多層反射膜の剥離除去による基板のダメージが少なく、再研磨の工程負荷も少ないことにより、基板の再生コストを低減できる多層反射膜付き基板の再生方法を提供する。 - 特許庁

To provide a constant current circuit for fitting a ripple current into a certain range even when a property of a light-emitting diode (LED) changes due to variation of ambient temperature, etc. in an LED drive unit in which constant current is available, without using a high-breakdown semiconductor process.例文帳に追加

高耐圧半導体プロセスを用いずに、定電流が可能な発光ダイオード駆動装置において、発光ダイオードの特性が周辺温度等の変化により変わったとしてもリップル電流を一定の範囲に収める定電流回路を提供する。 - 特許庁

Thus, the same process cartridge 20 is used in common corresponding to a different kind of image forming apparatus having an exposure path 3X, 3Y, or 3Z to eliminate the need for large restrictions due to change of the exposure path in the image forming apparatus body.例文帳に追加

そのようにして露光経路が３Ｘ，３Ｙ，３Ｚのように異なる機種の画像形成装置本体に対応して同一のプロセスカートリッジ２０を共用させることで、画像形成装置本体では露光経路の変更による大きな制限などを要しない。 - 特許庁

To generate constant bandgap reference voltage by performing stable circuit operation regardless of an erroneous operation of a start-up circuit or a change in an element due to process mismatch in switching a standby mode over to an operation mode of a bandgap reference voltage generating circuit.例文帳に追加

バンドギャップ基準電圧発生回路のスタンバイモードから動作モードへの切り替え時にスタートアップ回路の誤動作と工程のミスマッチによる素子の変化にもかかわらず、安定した回路動作を行うことで、一定のバンドギャップ基準電圧を発生させる。 - 特許庁

To provide a semi-transmissive reflecting film laminate reduced in the peeling and falling-off of a coating film during a manufacturing process and long-term use and used for a liquid crystal display device imparting excellent visibility even in display due to reflected light or transmitted light.例文帳に追加

製造工程および長期の使用において塗膜の剥離および脱落の少なく、かつ反射光及び透過光によるどちらの表示においても、優れた視認性をあたえる液晶表示装置に用いられる半透過反射フィルム積層体を提供する。 - 特許庁

Then, the temperature rises in a deposition layer on the terminal pin 1 in the contact C melting it and, since no plating adhesion failure is produced, the elimination process for the plating adhesion failure after the press fitting of the terminal pin 1 is not necessary and all inconvenience due to plating adhesion failure S is eliminated.例文帳に追加

すると、接触部Ｃで端子ピン１のメッキ層が昇温して溶け、メッキ削れが生じることがないので、端子ピン１の圧入後にメッキ削れの除去工程を必要としないで、メッキ削れＳに起因する不都合を完全になくすことができる。 - 特許庁

To provide a method for producing an autoclaved light-weight concrete(ALC) in which the hardening time from a raw material slurry cast into a frame mold to a semi-hardened material having the hardness suitable for cutting can optionally be controlled and the response can be made to a load fluctuation in the process due to the change of the production amount.例文帳に追加

型枠に注入した原料スラリーが切断に適した硬度の半硬化体となるまでの硬化時間を任意に調節することができ、生産量の増減による工程の負荷変動への対応が可能なＡＬＣの製造方法を提供する。 - 特許庁

With due observance to the specific interpretation and patent application process as referred to in this Government Regulation, the application of the provisions concerning restriction or basis of evaluation to determine the novelty of an invention must be adjusted in processing the patent application as referred to in Article 67. 例文帳に追加

本政令にいう特許出願の解釈及び手続の特殊性に留意して，発明の新規性を決定するための判断の制約又は基準に関する規定は，第67条にいう特許出願の手続においてその適用が調整されるものとする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method that can form a high-quality film and prevent heat damage to a substrate due to a high-density plasma, in a method for manufacturing a functional film by CCP-CVD in which a roll-to-roll process using a film forming drum is adopted.例文帳に追加

成膜ドラムを用いるロール・トゥ・ロールを利用する、ＣＣＰ−ＣＶＤによる機能性フィルムの製造において、高品質な膜を成膜することができ、かつ、高密度なプラズマに起因する基板の熱損傷も防止できる製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce cost by obviating the need of nonslip work (post-process) for preventing the coming off of a slope member 5 after being mounted to a housing 3 without using an expensive resin material (synthetic resin small in the amount of deformation due to high-temperature creep or the like).例文帳に追加

高価な樹脂材料（高温クリープ等による変形量の小さい合成樹脂）を使用することなく、また、ハウジング３への装着後のスロープ部材５の抜け防止のための抜け止め作業（後工程）を不要とすることで、コストダウンを図ることを課題とする。 - 特許庁

To avoid high manufacturing cost due to a complicated manufacturing/ assembling process requiring precise processing for uniformizing the thickness of a side wall of a dielectric cylinder that is used to cover the reflecting face of a secondary reflecting mirror in the structure for supporting the conventional secondary reflecting mirror of this kind.例文帳に追加

従来のこの種の副反射鏡支持構造は、副反射鏡の反斜面を覆う誘電体円筒を用いているが、この誘電体円筒の側壁の厚さの均一化に精密加工を要する等、製造／組立工程が複雑で製造コストが高くなる。 - 特許庁

To prevent degradation in speech quality which happens due to an instability of a coping process until stopping of echo-canceling toward after the second stage echo-canceler cascade-connected, and to guarantee an action of an echo-canceler connected to a terminal to which an echo-canceler is unnecessary.例文帳に追加

従属接続での２段目以降のエコーキャンセラに対してエコーキャンセラ停止までの間に収束過程の不安定さに起因して起こる通話品質劣化防止を行い、エコーキャンセラ不要端末が接続されたエコーキャンセラに対して動作を保証する。 - 特許庁

To provide a process cartridge capable of suppressing disengagement of a separation member caused by vibration and the like occurring during transportation or display for the cartridge with a simple configuration suppressing image defects due to deformation, and the like, of a charging member during long-term storage and saving user a trouble when starting to use the cartridge.例文帳に追加

長期保管時に帯電部材の変形等による画像不良を簡易な構成で抑制しつつ、使用開始時にユーザの手間を省く構成において、運搬・陳列時に受ける振動等による離間部材外れを抑制できるプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which has stable sensitivity and residual potential even for repetitive use and having excellent durability without causing an out-of-focus state in an image due to active gas such as NOX, and to provide an image forming device and a process cartridge which use the above electrphotographic photoreceptor.例文帳に追加

本発明はＮＯ_X等の活性ガスによる画像ボケの発生がなく、繰り返し使用による感度・残留電位の安定した耐久性に優れた電子写真感光体、該電子写真感光体を用いた画像形成装置及びプロセスカートリッジの提供。 - 特許庁

In a washing process, washing of a washing step 1 and a washing step 2 carried out thereafter fully uses the chemical force of the detergent to prevent a drop in washing force or uneven washing due to a drop in mechanical force at rated load.例文帳に追加

また、洗濯工程において、洗濯ステップ１の後に洗濯ステップ２の工程を実行して洗濯を行うことにより、洗剤の化学力を十分に活用して洗浄し、定格負荷時における機械力の低下による洗浄力の低下や洗いむらを防止する。 - 特許庁

To rapidly detect printing defects such as doubled image and thin spot and also a printing defect due to the abnormal balance of ink and water and an unstable factor in a platemaking process during the quality inspection and control of printed matter and thus prevent wasteful printing from being carried out.例文帳に追加

印刷物の品質を検査あるいは管理する際に、ダブリやスラーといった印刷不良、インキ・水バランス異常による印刷不良、さらに版作成工程の不安定要因に起因する印刷不良を速やかに検知し、無駄な印刷を防ぐことを目的とする。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus carrying out plasma-assisted vapor deposition using a hollow cathode plasma gun 3, the apparatus giving a transparent and dense oxide film or the like while solving a problem such as degradation in the quality of a vapor deposition film due to increase in the pressure in a vapor deposition process chamber.例文帳に追加

ホローカソード型プラズマガン３を使用してプラズマアシスト蒸着を行う装置において、蒸着プロセス室の圧力上昇による蒸着膜の膜質劣化等の問題を解消し、透明で緻密な酸化物膜等が得られる蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate for an electronic device, the electronic device, and a manufacturing method of the electronic device and an electronic equipment, wherein improvement of yield and quality can be achieved by preventing an adverse effect due to static electricity in a manufacturing process, and furthermore wherein EMC countermeasures can be applied simply.例文帳に追加

製造工程での静電気による弊害を防止して歩留まりおよび品質の向上が図れ、また、簡単にＥＭＣ対策を施すことができる電子デバイス用基板、電子デバイス、電子デバイスの製造方法および電子機器を提供すること。 - 特許庁

To provide a process for producing a multilayer ceramic body in which a level difference due to a conductor pattern formed on a ceramic green sheet can be eliminated and variance in the area of the conductor pattern can be suppressed by suppressing a blur even when a low viscosity conductor paste is used.例文帳に追加

セラミックグリーンシート上に形成された導体パターンによる段差を解消できるとともに、低粘度の導体ペーストを用いてもにじみを抑制して導体パターンの面積のばらつきを抑えることのできるセラミック積層体の製法を提供する。 - 特許庁

By protecting the back face of the substrate with the transparent hard thin film to suppress production of scratches on the back face of the transparent substrate 2 caused in the production process, polishing to remove scratches is not required, which avoids fracture of the panel or display failure due to polishing.例文帳に追加

このように透明硬質薄膜で基板裏面を保護して、製造過程において発生する透明基板２の裏面の傷の発生を抑制したため、傷の除去のための研磨を行なう必要がなく、研磨によるパネルの破損や表示不良を起こすことがない。 - 特許庁

To judge the time limit at a glance by displaying the time limit for best of perishable foods and the effective limit of medicines not only by small characters and symbols, but by change of color or change of density due to chemical change or the process of progressing reaction by distance or area.例文帳に追加

生鮮食料品の賞味期限や医薬品などの有効期限を、小さな文字や記号のみではなく、化学変化による色の変化や濃度の変化、或いは反応の進行する過程を距離や面積で表示し、期限を一目で判断できることを得る。 - 特許庁

To solve the problem that the life becomes short for a chip that is most heavily stressed by the electric field in a nonvolatile memory cell and the memory reliability deteriorates because the electric field stress changes on the capacitor insulation film or the tunneling insulation film due to the variations in the process even if the power source voltage is kept constant.例文帳に追加

不揮発性メモリセルにおける電源電圧が一定であっても、プロセスばらつきのために、容量絶縁膜あるいはトンネル絶縁膜にかかる電界ストレスがばらつき、最大の電界ストレスがかかるチップは寿命が短く、信頼性低下を招く。 - 特許庁

To provide an image protective film excellent in image protective and image quality improving performance, capable of smoothly performing thermal transfer process, furthermore preventing occurrence of obstacles due to static electricity and excellent in handleability, and to provide an image protective method and over-coating recorded matter using the same.例文帳に追加

画像保護性能、画質向上能などに優れ、熱転写処理をスムーズに行うことができ、且つ、静電気による障害が発生しにくく、取扱性に優れる画像保護フィルム並びにこれを用いた画像保護方法及びオーバーコート記録物を提供すること。 - 特許庁