「First Step」に関連した英語例文の一覧と使い方(131ページ目) - Weblio英語例文検索

Ground is improved by a first step for compacting ground by forming many blasting holes 1, 1... at prescribed intervals in ground, inserting and installing explosives at prescribed depth positions of the blasting holes 1, 1... and exploding the explosives and a second step for improving quaggy regions around the blasting holes 1 by a columnar ground improvement construction method such as a sand compaction pile construction method.例文帳に追加

地盤中に所定間隔で多数の発破孔１，１…を形成し、この発破孔１，１…の所定深さ位置に爆薬を挿入設置し、前記爆薬を爆発させることにより地盤の締固めを行う第１ステップと、少なくとも前記発破孔１周辺の緩み領域をサンドコンパクションパイル工法などの柱状型地盤改良工法によって改良を行う第２ステップとにより、地盤の改良を行う。 - 特許庁

The image processor performs, to input image data, image reproduction processing by using a first parameter, corresponding to the image data (step S1003), determines the pixel used for calculating the characteristic quantity of the image data from pixels of the reproduced image data, and calculates, based on the image data corresponding to the determined pixel, the feature quantity of the image data (step S1004).例文帳に追加

画像処理装置は、入力される画像データに対して、当該画像データに対応する第１のパラメータを用いた画像再現処理を行い（ステップＳ１００３）、当該画像データの特徴量を算出するために用いられる画素を再現画像データの画素のうちから判定し、判定した画素に対応する当該画像データに基づいて、当該画像データの特徴量を算出する（ステップＳ１００４）。 - 特許庁

The method for producing glycyrrhizic acid nanoparticles coated with a polyvalent metal inorganic salt includes: a first step of preparing an aqueous dispersion containing mixed micelle of glycyrrhizic acid and a nonionic surfactant; and a second step of mixing the aqueous dispersion with a polyvalent metal salt, then, mixing the mixture with an alkali metal carbonate or an alkali metal phosphate to prepare glycyrrhizic acid nanoparticles.例文帳に追加

多価金属無機塩で被覆したグリチルリチン酸ナノ粒子の製造方法であって、グリチルリチン酸と非イオン性界面活性剤との混合ミセルを含む水性分散液を調製する第１のステップ；及び該水性分散液に多価金属塩を混合し、その後、アルカリ金属炭酸化物又はアルカリ金属リン酸化物を混合して、グリチルリチン酸ナノ粒子を調製する第２のステップを含む、前記方法。 - 特許庁

The method for removing hydroxy groups and adsorbed water on an oxide fine structure is a method for removing hydroxy groups and adsorbed water existing on the surface of an oxide fine structure and includes a first step of modifying the surface of the oxide fine structure with a surface treating agent, and a second step of subjecting the oxide fine structure modified with the surface treating agent to microwave irradiation.例文帳に追加

酸化物微小構造体の表面に存在する水酸基及び吸着水を除去する方法であって、当該酸化物微小構造体の表面に表面処理剤を修飾する第１工程と、当該表面処理剤により修飾された酸化物微小構造体にマイクロ波を照射する第２工程と、を含む酸化物微小構造体の水酸基及び吸着水の除去方法である。 - 特許庁

The synthesizing method includes: a step (1) for preparing for a reaction mixed solution comprising a first substrate selected from a group comprising amino acids, peptides comprising least two amino acids and derivatives thereof, a second substrate selected from a group comprising peptides including at least two amino acids, and derivatives thereof, and an aminoacyl-tRNA synthetase; and a step (2) for incubating the reaction mixed solution.例文帳に追加

本発明の合成方法は、（１）アミノ酸と、少なくとも２個のアミノ酸からなるペプチドと、これらの誘導体とからなるグループから選択される第１の基質と、少なくとも２個のアミノ酸からなるペプチドと、その誘導体とからなるグループから選択される第２の基質と、アミノアシルｔＲＮＡシンセターゼとを含む反応混合液を用意するステップと、（２）前記反応混合液をインキュベーションするステップとを含む。 - 特許庁

A step in which a deposition gas containing silicon or germanium is introduced at a first flow rate and a step in which the deposition gas containing silicon or germanium is introduced at a second flow rate are repeated while hydrogen is introduced at a fixed rate, to mix the hydrogen and the deposition gas containing silicon or germanium, and a high-frequency power is supplied, whereby the microcrystalline semiconductor film is formed over a substrate.例文帳に追加

一定流量の水素を導入しつつ、第１の流量のシリコンまたはゲルマニウムを含む堆積性気体を導入する工程と、第２の流量のシリコンまたはゲルマニウムを含む堆積性気体を導入する工程とを繰り返して、水素及びシリコンまたはゲルマニウムを含む堆積性気体を混合し、高周波電力を供給して、基板上に微結晶半導体膜を作製する。 - 特許庁

The carbon material made by a first step to fill a mixed powder of a carbon aggregate and a binder in a mold and a second step to sinter the mixed powder by the spark plasma sintering method while pressing the mixed powder is characterized by having an HSD value in Shore hardness of 60 or more and an anisotropic ratio of coefficient of thermal expansion, electric resistivity or thermal conductivity of 1.5 or more.例文帳に追加

型内に炭素骨材及びバインダーを混合した混合粉を充填する第１ステップと、上記混合粉を加圧しつつ、放電プラズマ焼結法にて焼結する第２ステップと、により作製される炭素材料であって、ショア硬さのＨＳＤ値が６０以上で、熱膨張率の異方比、電気抵抗率の異方比、又は熱伝導率の異方比が１．５以上であることを特徴とする。 - 特許庁

The method for producing the sulfonium salt comprises: a first step of adding a compound represented by formula 2: HO-(R_3)_m-X to a compound represented by formula 1 so as to induce a transesterification reaction and producing the reaction intermediate; and a second step of adding an inorganic salt to the reaction intermediate so as to induce a substitution reaction and produce a compound represented by formula 3.例文帳に追加

本発明は、スルホニウム塩の製造方法およびそれによって製造されたスルホニウム塩に関し、明細書中の化学式１で示される化合物に化学式２で示される化合物を加えてトランスエステル化反応させ、反応中間体を生成する第１ステップ、および前記反応中間体に無機塩を加えて置換反応させ、下記化学式３で示される化合物を生成する第２ステップを含む。 - 特許庁

For a semi-finished cathode ray tube provided with an electrode in a cylindrical glass tube, the cathode ray tube is completed through a first step of coating at least the electrode with a masking material and a second step of bringing a chemical polishing liquid in contact with the cathode ray tube coated with the masking material to polish the glass tube to 10 μm or larger in a thickness direction to reduce its thickness to 190 to 50 μm.例文帳に追加

円筒状のガラス管に電極部を設けた半完成状態の陰極線管について、少なくとも前記電極部をマスキング材で被覆する第１工程と、マスキング材で被覆された陰極線管に、化学研磨液を接触させてガラス管を肉厚方向に１０μｍ以上研磨することで、その肉厚を１９０μｍ〜５０μｍに薄肉化する第２工程と、を有して陰極線管を完成させる。 - 特許庁

A functional liquid arrangement method includes: a step B1 of discharging liquid drops into each storage part from two nozzle groups by using the same number of nozzles respectively within a first scanning period; and a step B2 of discharging liquid drops from one nozzle group by using nozzles to the number smaller than the same number, and discharging liquid drops from the other nozzle group by using nozzles to the number larger than the same number.例文帳に追加

機能液配置方法が、第１の走査期間内に、それぞれ同数のノズルを用いて２つのノズル群からそれぞれの収容部へ液滴を吐出する工程Ｂ１と、第２の走査期間内に、上記同数より少ない数のノズルを用いて一方のノズル群から液滴を吐出して、上記同数以上のノズルを用いて他方のノズル群から液滴を吐出する工程Ｂ２と、を含んでいる。 - 特許庁

A method for manufacturing an electronic paper 100 comprising a pair of substrates 10, 20 opposing to each other and a barrier wall layer 31 having barrier walls 30 disposed between the pair of substrates is provided, the method including a step of applying a paste material 32 on the first substrate 10 and a step of forming the barrier wall layer 31 including barrier walls 30 by generating cells 35 in the paste material 32.例文帳に追加

また、互いに対向する一対の基板１０、２０と、一対の基板の間に配置される隔壁３０を含む隔壁層３１とを備える電子ペーパー１００の製造方法であり、第１基板１０の上に、ペースト材料３２を付与する工程と、ペースト材料３２の内部に気泡３５を生じさせることによって、隔壁３０を含む隔壁層３１を形成する工程とを含む。 - 特許庁

The first coating layer 14 can be obtained by at least one means of a step of anodizing the surface 16 to be treated to give high corrosion resistance to the surface 16 to be treated, and a step of dipping the machanical component 12 treated by the anode oxidation in dichromate aqueous solution to close an arbitrary hole or a minute crack 20 which might be formed by the anode oxidation.例文帳に追加

第１コーティング層１４は、前記被処理面１６に高腐食耐性を与えるように前記被処理面１６を陽極酸化させるステップと、前記陽極酸化において形成され得る任意の孔又は微小クラック２０を閉じるように、前記陽極酸化で処理される前記機械部品１２を重クロム酸塩水溶液に浸すステップとのうちの少なくとも１つの手段によって得ることができる。 - 特許庁

The authentication is performed by first step authentication (authentication about whether the transmission source address of blank e-mail requested of the cellular phone 6 coincides with the pre-registered portable mail address) and second step authentication (authentication about whether a message including a confirmation keyword is returned after transmitting a mail with an URL including the confirmation keyword to the portable mail address).例文帳に追加

この認証は、第１段階の認証（携帯電話６に対して要求した空メールの送信元アドレスが予め登録されている携帯メールアドレスに一致しているかどうかの認証），及び第２段階の認証（当該携帯メールアドレス宛に確認キーワードを含むＵＲＬを記述したメールを送信した後に、当該確認キーワードを含むメッセージが戻ってくるかどうかの認証）によって行われる。 - 特許庁

The washing method of a porous carbon material is a washing method of a porous carbon material containing alkali metal components, which is characterized by having a first washing step for washing the porous carbon material with a washing liquid which is obtained by supplying carbon dioxide gas into a washing liquid, and a second washing step for washing the washed porous carbon material with a washing liquid containing an organic acid.例文帳に追加

本発明の多孔質炭素材料の洗浄方法は、アルカリ金属成分を含有する多孔質炭素材料の洗浄方法であって、洗浄液に炭酸ガスを供給し、前記洗浄液で多孔質炭素材料を洗浄する第一洗浄工程と、前記洗浄した多孔質炭素材料を、有機酸を含有する洗浄液で洗浄する第二洗浄工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

The growth method is to grow a GaN crystal 20 on a GaN seed crystal substrate 10 and involves a step to prepare a GaN seed crystal substrate 10 containing a first dopant which makes the coefficient of thermal expansion of the GaN seed crystal substrate 10 greater than that of the GaN crystal 20 and a step to grow a ≥1 mm thick GaN crystal 20 on the GaN seed crystal substrate 10.例文帳に追加

ＧａＮ種結晶基板１０上にＧａＮ結晶２０を成長させる方法であって、ＧａＮ種結晶基板１０の熱膨張係数がＧａＮ結晶２０に比べて大きくなるような第１のドーパントを含むＧａＮ種結晶基板１０を準備する工程と、ＧａＮ種結晶基板１０上に厚さ１ｍｍ以上のＧａＮ結晶２０を成長させる工程を含む。 - 特許庁

An imaging method includes an imaging condition determination step of determining an imaging condition of each photosensor pixel 27 at specified intervals of time through first sensing operation by the photosensor pixel 27 with arbitrary external light luminance by using a previously stored coefficient, and an imaging information acquisition step of acquiring imaging information by performing second sensing operation by the each photosensor pixel 27, based upon the determined one imaging condition.例文帳に追加

任意の外光照度において、各ホトセンサ画素２７による第１センシング動作に基づき、各ホトセンサ画素２７による撮像条件を予め記憶した係数を利用して所定時間毎に決定する撮像条件決定ステップと、前記決定された一つの撮像条件に基づき、各ホトセンサ画素２７により第２センシング動作を行い撮像情報を取得する撮像情報取得ステップとを備える。 - 特許庁

This method comprises the steps of a first step for forming a hydrosol containing a semiconductive nano-crystal and/or a precursor thereof, and a second step for bringing the hydrosol into contact with an organic phase containing an oil-soluble surface-modifying molecule having bondability to the semiconductive nano-crystal and/or a precursor thereof to extract the semiconductive nano-crystal and/or a precursor thereof into the organic phase.例文帳に追加

半導体ナノ結晶及び／又はその前駆体を含有するヒドロゾルを生成させる第１工程、及び該半導体ナノ結晶及び／又はその前駆体への結合性を有する脂溶性表面修飾分子を含有する有機相と該ヒドロゾルとを接触させて該半導体ナノ結晶及び／又はその前駆体を有機相へ抽出する第２工程を含む半導体ナノ粒子の製造方法。 - 特許庁

To prevent an air-fuel mixture from being discharged from an exhaust valve through the inside of a cylinder when an intake valve and an exhaust valve for the air-fuel mixture are simultaneously opened and overlapped with each other when an engine formed by using a valve (b) in an engine (a) is transferred from the last exhaust step to the first intake step.例文帳に追加

エンジンａに弁ｂを用いたエンジンに於いて、最後の排気工程から１回目の吸気工程に移る時、混合気の吸気弁と排気弁が同時に開いている、オーバー・ラップする時に、混合気が何もされす、シリンダーの中を通り、排気弁から排出される、事が無い様にする（エンジンａと弁ｂは、特許請求の範囲、及び、明細書の中の、段落番号［０００１］と［００２２］を参照の事。）。 - 特許庁

A method for forming spots to be used for realizing half tone includes a step for defining a spot function combining two functions which are selected in order to provide a prescribed spot form to be used in a half tone cell, and a step for scaling the spot function by using a scaling function which changes in accordance with values of a first spot function ordinate and a second spot function ordinate.例文帳に追加

本発明によるハーフトーン化に使用されるスポットを生成する方法には、ハーフトーン・セル内で使用される所定のスポット形状を提供するために選択される２つの関数を組み合わせたスポット関数を定義するステップと、第１スポット関数縦座標および第２スポット関数縦座標の値に従って変化するスケーリング関数を使用してスポット関数をスケーリングするステップが含まれる。 - 特許庁

The manufacturing method comprises forming a resin-made ring on the surface of a cylindrical mold and eliminating the mold and is characterized by having a first step of irradiating the resin-made ring formed on the surface of the mold with a CO_2 laser beam to form a cut groove and a second step of removing unnecessary parts of the resin-made ring along the cut groove.例文帳に追加

本発明は、円柱状金型の表面に樹脂製環状体を形成した後、金型を脱離する樹脂製環状体の製造方法であって、金型の表面に形成した樹脂製環状体にＣＯ_2レーザ光を照射して切込み溝を形成する切込み工程と、切込み溝に沿って、不要な樹脂製環状体を除去する皮剥ぎ工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

The coating method for dropping resist on a wafer while rotating the wafer and spreading the resist includes a stationary step of holding the wafer on which the resist is not dropped in a stationary status, and an accelerated coating step of rotating the stationary wafer while accelerating at a predetermined large acceleration until the wafer becomes a predetermined first rotation speed simultaneously at resist drop on to the wafer.例文帳に追加

ウエハを回転させながら当該ウエハの上にレジストを滴下して拡げる塗布方法において、レジストが滴下されていないウエハを静止状態に保持する静止工程と、静止状態のウエハを、当該ウエハ上にレジストが滴下されると同時に、予め定められた第１の回転速度になるまで予め定められた大きい加速度で加速しながら回転させる加速塗布工程とを含む。 - 特許庁

This method includes a first step for inserting, to an application server, an informing period for defining the upper limit of the time limit of the repeating period of an availability signal to be repeated while the application server is available concerning each application server and a second step for inserting a time stamp corresponding to each availability signal as an availability time concerning each availability signal to an availability database.例文帳に追加

提案された方法は、アプリケーション・サーバの各々について、アプリケーション・サーバが使用可能である間は繰り返されるアベイラビリティ信号の反復期間の時間制限の上限を定義する通知期間を、アベイラビリティ・データベースに挿入する第１のステップを含み、第２のステップにおいて、各アベイラビリティ信号について、その対応するタイム・スタンプを、アベイラビリティ・タイムとして、アベイラビリティ・データベースに挿入する。 - 特許庁

This invention is a method for bringing immune responses in the subjects and includes the step (a) of the parenteral administration of a first immunogenic composition including one or more kinds of polypeptide antigens, and the step (b) of the parenteral administration of a second immunogenic composition including one or more kinds of antigens, thereby the immune response of the subject is induced.例文帳に追加

被験体において免疫応答をもたらす方法であって、（ａ）１つ以上のポリペプチド抗原を含む第１の免疫原性組成物を非経口投与する工程、および；（ｂ）１つ以上の抗原を含む第２の免疫原性組成物を経粘膜投与する工程、を包含し、これらによって被験体における免疫応答を誘導する、方法を提供することによって、上記課題が解決された。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device to which etching and deposition are alternately applied includes a step for generating plasma and etching a substrate by a first excitation source which is connected to a processing room and which is for generating plasma, and a second excitation source which is connected to an electrode of a stage where the substrate is placed; and a step for generating plasma and depositing the substrate by the second excitation source.例文帳に追加

エッチングとデポジションとを交互に適用する半導体装置の製造方法において、処理室に接続された、プラズマを生成するための第一励起源と、基板を載置するステージの電極に接続された第二の励起源とによりプラズマを生成して基板のエッチングを行うステップと、前記第二の励起源によりプラズマを生成して基板のデポジションを行うステップと、を含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The production method is characterized in that, when producing strontium carbonate by introducing carbon dioxide gas into an aqueous solution of a water-soluble strontium compound, a first step addition of alkali hydroxide is done after or within 5 minutes before the start of introduction of carbon dioxide gas, and after the pH decreased by 0.5 or more by the introduction of carbon dioxide gas, a second step addition of alkali hydroxide is again done.例文帳に追加

その製造する方法は、水溶性ストロンチウム化合物の水溶液に炭酸ガスを導入することにより炭酸ストロンチウムを製造するにあたり、炭酸ガスの導入開始後又は開始前５分以内に水酸化アルカリの第１段添加を行い、その後炭酸ガスの導入によりｐＨが０．５以上低下した後、再び水酸化アルカリの第２段添加を行うことを特徴とするものである。 - 特許庁

The method includes a step charging the electric wire 6a or 6d by a voltage source 13 through first charging circuits 14, 15, 16, 17; and a step discharging the electric wire 6a or 6b through a diode 5a or 5d without impedance matching in the machining gap after igniting a discharging gap and recharging the electric wire 6a or 6b after predetermined pulse off time.例文帳に追加

本発明は、電圧源（１３）により第１の充電回路（１４、１５、１６、１７）を介して前記電線（６ａないし６ｄ）を充電すること、放電ギャップの点火後に、前記加工ギャップで、インピーダンス整合なしにダイオード（５ａないし５ｄ）を経て前記電線（６ａないし６ｄ）を放電することおよび予め決められたパルスオフ時間の後に、前記電線（６ａないし６ｄ）を再充電することの各ステップを含む。 - 特許庁

The method of manufacturing a coated metal microparticle includes: a first step in which an amine mixture containing an alkylamine having 6 or more carbon atoms and an alkylamine having 5 or less carbon atoms is mixed with a metal compound containing a metal atom, thus producing a complex compound containing the metal compound and an amine; and a second step in which metal microparticles are produced by decomposing the complex compound, by heating the complex compound.例文帳に追加

炭素数が６以上のアルキルアミンと、炭素数が５以下であるアルキルアミンとを含むアミン混合液と、金属原子を含む金属化合物を混合して、当該金属化合物とアミンを含む錯化合物を生成する第１工程と、当該錯化合物を加熱することで分解して金属微粒子を生成する第２工程を含むことを特徴とする被覆金属微粒子の製造方法。 - 特許庁

The image display method includes a first step for moving black particles 10A from among all pixels to the side of a surface substrate 3 and moving white particles 10B to the side of a rear substrate 4 and a second step for moving black particles 10A only in pixels for displaying a white image to the side of the rear substrate 4 and moving white particles 10B to the side of the surface substrate 3.例文帳に追加

この画像表示方法は、全ての画素について、黒粒子１０Ａを表面基板３側に移動させるとともに、白色粒子１０Ｂを背面基板４側に移動させる第１のステップと、画像データに基づいて、白画像を表示すべき画素のみについて、黒色粒子１０Ａを背面基板４側に移動させるとともに、白色粒子１０Ｂを表面基板３側に移動させる第２のステップとを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing a carbon nanotube consists of a first step which provides any one kind among nickel, cobalt and iron or plural catalytic metals M and carbon C on the substrate W, and a second step which manufactures the carbon nanotube CNT which applies plasma CVD method, provides the plasma decomposed carbon to the substrate W, and develops this plasma decomposed carbon on the substrate W by using the catalytic metal M as a starting point.例文帳に追加

基板Ｗ上にニッケル、コバルト、鉄のいずれか一種もしくは複数の触媒金属ＭとカーボンＣを提供する第１のステップ、プラズマＣＶＤ法を適用して、プラズマ分解されたカーボンを基板Ｗに提供し、該プラズマ分解されたカーボンを触媒金属Ｍを起点として基板Ｗ上で成長させてカーボンナノチューブＣＮＴを製造する第２のステップからなるカーボンナノチューブの製造方法である。 - 特許庁

The plating method comprises the first step of wetting the concave 80 shaped on the surface to be plated of the workpiece W with deionized water 82 by contacting the surface with the deionized water 82, and the second step of forming a copper film on the surface to be plated of the workpiece in wetting condition with an electroplating after immersing the workpiece in a plating solution 14.例文帳に追加

本発明のめっき方法は、被処理体Ｗの被成膜面に純水８２等を付着させ、被処理体の成膜面に形成された凹部８０の内面を純水８２により濡らす第１ステップと、この第１ステップの後、被処理体の被成膜面が濡れた状態にて、被処理体をめっき液１４に浸漬し電解めっき法により被処理体の被成膜面に銅膜を成膜する第２ステップとを含むことを特徴とする。 - 特許庁

A method for discriminating the converter constitution comprises a step of receiving functional operation characteristics, regarding the converter in a first party and optimized information from a second party, and a step of accessing to a power converter generator for discriminating the converter constitution for satisfying functional operating characteristic information, and discriminating and storing information regarding the respective constitutions for the optimizing reference in a computer.例文帳に追加

第１パーティで、電力コンバータに関する機能的動作特性情報と第２パーティからの最適化情報とを受け取る行程と、コンピュータにおいて、機能的動作特性情報を満たす電力コンバータ構成を判別するとともに最適化基準についての各構成に関する情報を判別して記憶する電力コンバータジェネレータにアクセスする行程とを含む、電力コンバータ構成判別方法。 - 特許庁

Carbon monoxide concentration can be lowered by oxidizing selectively carbon monoxide in a source gas containing carbon monoxide and hydrogen by at least two-stage oxidizing steps such as the first step to perform an oxidation reaction with a catalyst which supports ruthenium on an inorganic oxide and the second step to perform the oxidation reaction with the catalyst which supports ruthenium and platinum on the inorganic oxide.例文帳に追加

無機酸化物にルテニウムを担持した触媒の存在下に酸化反応を行なう第一工程、および無機酸化物にルテニウムおよび白金を担持した触媒の存在下に酸化反応を行なう第二工程の少なくとも二段階の酸化工程により、一酸化炭素および水素を含有する原料ガス中の一酸化炭素を選択的に酸化して一酸化炭素濃度を低減することができる。 - 特許庁

The coating method for dropping resist on a wafer 20 while rotating the wafer 20 and spreading the resist includes a stationary step of holding the wafer 20 on which the resist is not dropped in a stationary status, and an accelerated coating step of rotating the stationary wafer 20 while accelerating at a predetermined large acceleration until the wafer becomes a predetermined first rotation speed simultaneously at resist drop on to the wafer 20.例文帳に追加

ウエハ２０を回転させながら当該ウエハ２０の上にレジストを滴下して拡げる塗布方法において、レジストが滴下されていないウエハ２０を静止状態に保持する静止工程と、静止状態のウエハ２０を、当該ウエハ２０上にレジストが滴下されると同時に、予め定められた第１の回転速度になるまで予め定められた大きい加速度で加速しながら回転させる加速塗布工程とを含む。 - 特許庁

The initializing step includes a step of finding a first relational expression representing a correlation between the total of driving torque and the pressure reduction determined value when the front and rear torque distribution is discriminated to be equal distribution, and a second relational expression representing a correlation between a difference in the driving torque and the pressure reduction determined value when the front and rear driving torque distribution is not discriminated to be equal distribution.例文帳に追加

前記初期化工程は、前後駆動トルク配分が等配分であると判別したときは、前記駆動トルクの合計と前記減圧判定値との相関関係を表す第１関係式を求める工程、及び、前後駆動トルク配分が等配分でないと判別したときは、前記駆動トルクの差と前記減圧判定値との相関関係を表す第２関係式を求める工程を含んでいる。 - 特許庁

The method of polishing a semiconductor wafer W pressed to and slid along a polishing surface comprises a first polish step of planarizing a surface of the wafer W and a second polishing step of finish-polishing the wafer surface with feeding an abrasives liquid Q, containing elastic grains 3 to the polishing surface at the start or the midway of the polishing process.例文帳に追加

半導体ウェハＷを研磨面に押圧しつつ摺動することで半導体ウェハＷの研磨を行なう研磨方法において、半導体ウェハＷの被研磨面を平坦化する第１の研磨工程と、弾性体粒子３を含有する研磨液Ｑを研磨処理の開始時から又は研磨処理の途中から研磨面に供給しつつ仕上げ研磨を行なう第２の研磨工程とを有する。 - 特許庁

The method of manufacturing the positive electrode for the alkaline storage battery includes the first step of heating a cobalt oxide and a sodium peroxide, or the cobalt oxide, the sodium peroxide and a compound serving as a nickel source at 600°C or more and then dipping them in water to form the cobalt acid sodium hydrate and the second step of forming an electrode using the cobalt acid sodium hydrate.例文帳に追加

本発明のアルカリ蓄電池用正極の製造方法は、コバルト酸化物および過酸化ナトリウム、もしくは、コバルト酸化物、過酸化ナトリウム及びニッケル源となる化合物を、６００℃以上で加熱処理した後に、水中に浸漬することによりコバルト酸ナトリウム水和物を作製する第１の工程と、コバルト酸ナトリウム水和物を用いて電極を作製する第２の工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

A method for manufacturing the electrophotographic silver toner comprises: a first step of melting and kneading at least a binder resin and a black colorant and pulverizing and classifying the kneaded material to produce toner base particles; and a second step of melting and kneading the above toner base particles and the pearl pigment prepared by coating the flake-like inorganic crystal substrate with the thin layer of titanium dioxide and pulverizing and classifying the kneaded material.例文帳に追加

本発明の電子写真用銀色トナーの製造方法は、少なくとも結着樹脂と黒色着色剤とを溶融混練、粉砕分級してトナー母体粒子を製造する第１工程と、少なくとも前記トナー母体粒子と薄片状無機結晶基質上に二酸化チタンから成る薄層を被覆させたパール顔料とをを溶融混練、粉砕分級する第２工程と、からなることを特徴とする。 - 特許庁

To prevent replacement display from being generated even when a loaded battery voltage value V drops to a first threshold level YV1 during forcible out-of-step control; and, if the loaded battery voltage value V drops to a second threshold level YV2 which is set lower than the first threshold level YV1 during forcible out-of-step control, to disable operation of a stepping motor thereafter.例文帳に追加

ステッピングモータで駆動される可動体を有する電動品と、電子制御ユニットと、ステッピングモータ及び電子制御ユニットの電源となる乾電池とを備え、可動体の移動を電動品に設けたストッパにより阻止した状態でステッピングモータの駆動パルスを出力する強制脱調制御を行う機器における電池電圧の監視方法であって、電池電圧の読み込み値が所定の第１閾値に低下したときに、乾電池の交換を促す交換表示を行うものにおいて、強制脱調制御中に不必要に交換表示が行われて使用者に違和感を与えることを防止できるようにする。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device has a protective film forming step of forming the protective film on a plurality of first resist patterns formed on a substrate, forming a second resist pattern on this protective film between the plurality of first resist patterns, and forming the protective film by dividing into at least two layers by using the different methods, respectively.例文帳に追加

半導体デバイスの製造方法は、基板上に形成された複数の第１のレジストパターンの上に保護膜を形成し、この保護膜の上であって複数の第１のレジストパターンの間に第２のレジストパターンが形成され、夫々異なる方法を用いて少なくとも２層に分けて保護膜を形成する保護膜形成工程を有する半導体デバイスの製造方法を有する。 - 特許庁

A manufacturing method of organic electroluminescent element, which includes a first electrode 3, a second electrode 7, and an organic layer 6 provided between the first electrode 3 and the second electrode 7, includes the step of forming the organic layer 6 by forming a thin film containing an organic compound, and then, by calcining the thin film under an atmosphere containing reductive gas.例文帳に追加

第１の電極３と、第２の電極７と、該第１の電極３及び該第２の電極７の間に設けられた有機層６とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、該有機層６は、有機化合物を含む薄膜を形成し、還元性の気体を含む雰囲気下で該薄膜を焼成して形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 特許庁

In the step of forming the second conductor layer 109 on the first conductive layer 107, one of a chlorine/titanium-containing titanium source substance and a nitrogen source substance is supplied as first supplies 113a, 113b, and 113c, and then the other of the source substances is supplied as second supplies 115a, 115b, and 115c.例文帳に追加

第２の導電層１０９を形成する工程は、塩素およびチタンを含むチタン源物質および窒素源物質の一方を供給する第１の供給１１３ａ、１１３ｂ、１１３ｃを行った後にチタン源および窒素源物質の他方を供給する第２の供給１１５ａ、１１５ｂ、１１５ｃを行って、第１の導電層１０７上に第２の導電層１０９を形成する。 - 特許庁

Mechanical processing of a surface of a first electrode provided to a semiconductor element is performed to provide a microcrystal first layer having a smaller particle diameter than that before the mechanical processing, and mechanical processing of a surface of a second electrode provided to a mounting member for mounting the semiconductor element is performed to provide a microcrystal second layer having a smaller particle diameter than that before the mechanical processing (step S1).例文帳に追加

半導体素子に設けられた第１の電極の表面の機械加工を行って、当該機械加工前よりも粒径が小さい微結晶の第１の層を設け、前記半導体素子が搭載される搭載部材に設けられた第２の電極の表面の機械加工を行って、当該機械加工前よりも粒径が小さい微結晶の第２の層を設ける（ステップＳ１）。 - 特許庁

A method of operating a memory cell, having a first biasing device for reducing a negative charge in a charge capture structure, and a second biasing device which has the tendency of inducing a balanced charge tunneling between a gate and the charge capture structure and between the charge capture structure and a channel, and comprising the step of applying a first procedure (normally elimination) for establishing a low threshold state.例文帳に追加

電荷捕獲構造内の負の電荷を低減する第１のバイアス装置と、ゲートと電荷捕獲構造との間、および電荷捕獲構造とチャネルとの間に、平衡電荷トンネリングを誘起する傾向がある第２のバイアス装置を含む、低しきい値状態を確立するために第１の手順（通常は消去である）を適用するステップを含むメモリ・セルを動作させるための方法。 - 特許庁

The constant-current charging which is performed in the first charging step is performed with a current smaller than an actually used current, and/or the first charging is performed in such a way that constant-current charging is performed until a relaxation current becomes sufficiently small after constant-current charging is performed until the voltage of the capacitor becomes a prescribed voltage higher than an actually used voltage and lower than a decomposition voltage.例文帳に追加

最初の充電における定電流充電を、実使用時に使用する電流よりも低い電流で行い、及び／又は、最初の充電を、実使用電圧以上電解液の分解電圧以下の所定電圧となるまで定電流充電を行った後、所定電圧において緩和電流が十分に小さくなるまで定電圧充電を行う。 - 特許庁

In the resin molding step, the wiring board 10 mounting the plurality of semiconductor chips 9 is arranged in a mold cavity of a transfer molding device, and then the resin of a first resin tablet 12 to which filler is added, and the resin of second resin tablet 13 to which filler is added more than that added to the first resin tablet 12 are injected continuously into the cavity 3.例文帳に追加

そして、樹脂をモールドする工程が、トランスファーモールド装置の金型キャビティ３内に、複数の半導体チップ９が搭載された配線基板１０を配置し、該金型キャビティ３内に、フィラーが添加された第１のレジンタブレット１２の樹脂と、該第１のレジンタブレット１２のフィラー添加量よりも多い量のフィラーが添加された第２のレジンタブレット１３の樹脂とを連続して注入する。 - 特許庁