「Mask pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(101ページ目) - Weblio英語例文検索

Since the cleaning device 1 can make the suction port 21 correspond to the range of a pattern hole 7 formed on the mask 2 easily by the rotation, attachment/detachment, insertion, and exchange of the adjusting means 19 to the container 18, the removal of the creamy solder C is possible for all the masks 2.例文帳に追加

また、前記クリーニング装置１は、前記調整手段１９を前記吸引用容器１８に対して回動・着脱・挿嵌・交換することで容易に前記マスク２上に形成されたパターン孔７の範囲に前記吸引口２１を合わせることができるので、あらゆるマスク２に対してクリームはんだＣの除去が可能である。 - 特許庁

In this plasma display panel, a top layer of the barrier ribs 8 is constituted of blast remaining layers of a barrier rib material used as a blast mask provided by being printed in a stripe pattern in the plasma display panel constituted by arraying the barrier rib 8 constituted of base layers 8b of bright colors and top layers 8t of dark colors.例文帳に追加

本発明のプラズマディスプレイパネルは、バリアーリブの基部層８ｂが明色で頂部層８ｔが暗色からなるバリアーリブ８が配列してなるプラズマディスプレイパネルにおいて、当該バリアーリブの頂部層が、ストライプパターン状に印刷して設けたブラストマスク兼バリアーリブ材料のブラスト残層からなることを特徴とする。 - 特許庁

An exposure system projects a mask pattern onto a photosensitive substrate using a fluorine excimer laser as a light source, where the beam of the excimer laser whose wavelengths are in a wavelength range of vacuum ultraviolet rays are used as an exposure light, and an optical axis aligning means in which visible light or infrared beams emitted from the fluorine excimer laser at the same time are used is provided.例文帳に追加

フッ素エキシマレーザを光源とし、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、前記フッ素エキシマレーザ光の真空紫外域の波長を露光光とし、前記フッ素エキシマレーザ光が同時に発光する可視光または赤外光を用いた光軸合わせ手段を設ける。 - 特許庁

The CVD film 13, the SOG film 11 and the CVD film 9 are sequentially removed by dry-etching using a resist pattern as a mask, continuously a trimming window opening 15 is formed by etching a top layer portion of the multiplayer film 7 and then a part of an upper surface and a side surface of the thin film resistor 5 is exposed (B).例文帳に追加

レジストパターン１９をマスクとして、ドライエッチングによりＣＶＤ膜１３、ＳＯＧ膜１１、ＣＶＤ膜９を順にエッチング除去し、続けて積層膜７の上層部分をエッチング除去してトリミング窓開口部１５を形成し、薄膜抵抗体５の上面及び側面の一部を露出させる（Ｂ）。 - 特許庁

However, since an extremely low contrast part R114 is produced near the bent part, bias correction is carried out in a part B115 on the mask layout corresponding to the low contrast part to correct thinning of the pattern, so that the transfer accuracy in the bent part and its nearby region (R115) can be increased to much as possible.例文帳に追加

一方、屈曲部近傍に極めて低い光コントラスト部Ｒ１１４が生じる為、マスクレイアウト上この当該部に当たる部位Ｂ１１５にバイアス補正を行いパターンの極細りを修正することで、屈曲部ならびにその近傍の転写精度を最大限に高めることができる（Ｒ１１５）。 - 特許庁

To provide an apparatus for applying a coating agent in which the coating agent is surely and precisely applied with a prescribed pattern on the surface of each material to be coated via a mask by a simple structure even when each material to be coated has uneven height or is deformed or inclined, and a method of applying the same.例文帳に追加

簡単な構成で、各塗布対象が均一な高さでない場合や変形あるいは傾斜している場合であっても、各塗布対象の表面にマスクを介してそれぞれ塗布剤を確実にかつ精度良くそれぞれ所定のパターンで塗布することができる塗布剤の塗布装置およびその方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method to suppress roughening or production of a rugged pattern on the surface of a substrate of a halftone phase shift mask consisting of a single layer film of a translucent light shielding layer comprising one of metal-silicon oxide, metal-silicon nitride and metal-silicon oxynitride or consisting of a multilayer film comprising a transparent layer and a light shielding layer.例文帳に追加

金属−シリコンの酸化物、金属−シリコンの窒化物、金属−シリコンの酸化窒化膜のいずれかからなる半透明遮光層の単層膜、もしくは透明層と遮光層からなる多層膜で構成するハーフトーン型位相シフトマスクの基板表面の荒れや凹凸の発生を抑制した製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a semiconductor thin film forming method comprising a light irradiating process, a first process of projecting the image of a pattern formed on an optical mask onto the semiconductor thin film for exposing the thin film so as to modify the prescribed region of the semiconductor thin film and a second process of continuously forming insulating films on the semiconductor thin film are provided.例文帳に追加

光の照射工程を有する半導体薄膜の形成方法において、光が光マスク上に形成したパターンを半導体薄膜上に投影露光して、半導体薄膜上の所定の領域を改質する工程と、上記半導体薄膜上に絶縁膜を連続的に形成する工程とを含ませる。 - 特許庁

Thereafter, after the photoresist residue 14 adhered to the bottom of the opening 12 of the photoresist pattern1 1a is removed by a light ashing process, a through hole is bored through the insulating film 7b by a dry etching process using an etching gas, etc. containing C_5F_8, O_2 and Ar gas with the photoresist pattern 11a used as an etching mask.例文帳に追加

その後、フォトレジストパターン１１ａの開口部１２の底に付着したフォトレジスト残渣１４を軽いアッシング処理により除去した後、フォトレジストパターン１１ａをエッチングマスクとして、Ｃ_５Ｆ_８、Ｏ_２およびＡｒガスを有するエッチングガス等を用いたドライエッチング処理により絶縁膜７ｂにスルーホールを穿孔する。 - 特許庁

The top and bottom of the intermediate body 55 is reversed and pasted to a main substrate 60 in which a heating part 57-1, wiring electrodes 58, 59 and an ink supply groove 61 or the like are previously formed and an orifice 64 is formed in accordance with the mask pattern 63-1 of the metal film 63 formed on top of the main substrate to complete the ink jet printer head 65.例文帳に追加

この中間体５５の天地を逆して、発熱部５７−１、配線電極５８、５９、インク供給溝６１等が予め形成されているメイン基板６０に貼り付けて、その上面に形成したメタル膜６３のマスクパターン６３−１に従ってオリフィス６４を形成して、 インクジェットプリンタヘッド６５が完成する。 - 特許庁

When a transfer starting point T is set in the setting section H 2 according to the target accuracy of the pattern to be formed, the exposure can be performed efficiently, in such a way that the exposing area on the substrate P can be expanded, and so on, in the case where the mask M and substrate P are moved by prescribe number of strokes.例文帳に追加

このとき、形成するパターンの目標精度に応じて、転写開始点Ｔを整定区間Ｈ２に設定することにより、マスクＭ及び基板Ｐが所定のストロークで移動する場合、基板Ｐ上における露光領域を拡大することができるなど、露光処理を効率良く行うことができる。 - 特許庁

An inversion means for inverting both sides of a stencil mask 4 wherein an opening pattern 10 passing through the thickness direction is formed is provided for performing position change for a surface 4a irradiated with charged particles to the side opposite a treatment substrate 5, and for facing the treatment substrate 5 to the side subjected to incidence of charged particles.例文帳に追加

厚さ方向を貫通する開口パターン１０が形成されたステンシルマスク４の表裏を反転させる反転手段を設け、荷電粒子の照射を受けた面４ａを被処理基板５に対向する側に、被処理基板５に対向していた面を荷電粒子の入射を受ける側に位置変換できるようにした。 - 特許庁

The exposing device comprises a projection optical system 3 projecting the pattern of a mask 2 to a substrate 5, and a liquid feeder 6 feeding liquid to between the projection optical system 3 and the substrate 5, and the liquid feeder 6 has an injector 19 for injecting a carbon dioxide to the liquid.例文帳に追加

マスク２のパターンを基板５に投影する投影光学系３と前記投影光学系３と前記基板５との間に液体を供給する液体供給装置６とを備え、前記液体供給装置６は前記液体に二酸化炭素を注入する注入装置１９を有することを特徴とする構成とした。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of performing high accuracy exposure while preventing variance in the distance from a substrate end face to a pattern by directly measuring the position of the end face of a substrate mounted on a substrate stage with a laser length measuring device so as to determine a relative position of the substrate with respect to the mask with high accuracy.例文帳に追加

基板ステージに搭載される基板の端面の位置をレーザー測長器で直接計測することにより、マスクに対する基板の相対位置を高精度で位置決めできるようにして、基板端面からパターンまでの距離のバラつきを防止して高精度の露光を行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

The mask for exposure has physical developing nuclei on the transparent substrate, forms a circuit pattern using a silver film obtd. by dissolving a silver halide and receiving an image by the physical developing nuclei in development as a light shielding film and has a protective coat contg. at least a metal oxide component on the light shielding film.例文帳に追加

透明基板上に物理現像核を有し、ハロゲン化銀が溶解され、現像時に該物理現像核によって受像して得られる銀膜を遮光膜として、回路パターンを形成する露光用マスクにおいて、該遮光膜の上部に少なくとも金属酸化物成分を含む保護膜を有する事を特徴とする露光用マスク。 - 特許庁

A transparent glass substrate 7 formed with a transparent conductive membrane is placed and set on a stage, and a laser beam is irradiated on the transparent conductive membrane formed on the transparent glass substrate 7 corresponding to an electrode pattern for one cell through a mask 5 with a hole formed having a part corresponding to a discharge gap 11 formed at a center.例文帳に追加

透明導電性膜が形成された透明ガラス基板７をステージ上に載置し、１セル分の電極パターンに対応し、放電ギャップ部１１に対応する部分が中央部に設けられた孔が形成されているマスク５を介して、透明ガラス基板７上に形成された透明導電性膜にレーザ光を照射する。 - 特許庁

To keep an interlayer insulating film as wide as possible while performing a damascene process by the use of an existing metal wiring pattern mask and to make a space between pieces of metal wiring wide enough for preventing them from interfering with each other so as to provide a method of forming the metal wiring of a semiconductor device and capable of preventing it from malfunctioning.例文帳に追加

既存の金属配線パターンマスクを用いてダマシン工程を実施しながら層間絶縁膜の幅を最大限確保し、金属配線間の間隔を広めて相互干渉を防止することにより、半導体素子の誤動作を防止することが可能な半導体素子の金属配線形成方法を提供する。 - 特許庁

After a light-shielding layer and a resist layer to produce an exposure mask are formed in this order, a pattern is drawn in the resist layer by scanning with electron beams EB relatively in the Y direction with specified scanning width while relatively moving the scanning region EA in the X direction for every scanning period.例文帳に追加

露光用マスクを製造するための遮光層およびレジスト層をこの順に積層した後、所定の走査幅をもってＹ方向に相対的に走査される電子ビームＥＢの走査領域ＥＡを１走査毎にＸ方向に相対移動させながらレジスト層に描画する際に、前記走査を２サイクル以上繰り返す。 - 特許庁

A certain information, for example, a character string code like a URL is divided, arranged and embedded by intentionally setting types of image classes calculated on the basis of a ratio of colors in a mask area in each deformed pattern generated in a procedure manner or by image processing, combination, conversion, or the like and arranged regularly.例文帳に追加

手続き的に、あるいは画像処理・合成・変換等によって生成され、規則的に配置される各変形図柄に対して、マスク領域における色の割合から計算される画像クラスの種類を意図的に設定することにより、ある特定の情報、例えばＵＲＬなどの文字列コードを分割、配置して埋め込む。 - 特許庁

More specifically, at first, the ball arrangement mask is pasted to the rectangular frame by tension via a flexible sheet, and has a mount region where a through hole for inserting balls is provided according to the mounted part of an object to be mounted formed in a prescribed arrangement pattern and a non-mount region for surrounding the mount region.例文帳に追加

第１に、枠状フレームに可撓性のシートを介して張力をかけて貼り付けられ、所定の配列パターンに形成された被搭載物の搭載箇所に対応してボール挿入用の貫通孔が設けられた搭載領域と、その搭載領域を囲む非搭載領域とを有するボール配列マスクとする。 - 特許庁

As to the oscillation intensity of a laser beam which is emitted from a fluorine laser 1 to irradiate the pattern surface of a mask R in an aligner 100, the ratio of the total intensity of a main oscillation beam having a wavelength of about 157.63 nm to that of an auxiliary oscillation beam having a wavelength of about 157.52 nm is set at 0.3 or below.例文帳に追加

露光装置１００では、フッ素レーザ１からマスクＲのパターン面に照射される、レーザ光の発振線強度のうち、波長が約１５７．６３ｎｍである主発振線の総強度に対する、波長が約１５７．５２ｎｍである副発振線の総強度の比が、０．３％以下に設定されている。 - 特許庁

A cyclic pattern is formed (1-e) on the transparent material by using photoresist, etching processing is carried out (1-f), and an overcoat material is potted (1-g) to eliminate the need to remove the etching mask as compared with use of a metal plate, thereby easily forming a polarizing and diffracting element at low cost while decreasing processes.例文帳に追加

フォトレジストを利用して透明材料に周期的パターンを形成させ（１−ｅ）、エッチング処理を行い（１−ｆ）、オーバーコート材をボッティングする（１−ｇ）ことで、金属板を使用するときと比べて、エッチングマスクを除去する必要性を無くし、工程が少なくなり簡便、低コストで偏光回折素子を作成できる。 - 特許庁

This screen mask comprises: an opening 2 which is identical in shape and dimensions to a design pattern; and a dummy opening 3 which is arranged in the state of close adhesion to a corner part 2CP of the opening 2 and the vicinity of an edge 2EP around the corner part 2CP, and which has dimensions actually disabling independent printing.例文帳に追加

この発明に係るスクリーンマスクは、設計上のパターンと同じ形状・同じ寸法からなる開口部２と、開口部２のコーナー部２ＣＰ及びその周囲のエッジ２ＥＰの近傍に密着して配設されており、実際には単独では印刷されない寸法を有するダミーの開口部３とを有する。 - 特許庁

This projection mask 3 for transmitting a electron ray and selectively exposing the board 1 is provided with a plurality of exposure regions 4a, 4b, 4c, 4d, etc., where the predetermined pattern for exposing the board 1 formed, and marks 6 for dimensional measurement formed in correspondence with the exposure regions 4a, 4b, 4c, 4d, etc.例文帳に追加

電子線を透過させて基板１上を選択的に露光する投影マスク３であって、基板１上を露光するための所定のパターンが形成された複数の露光領域４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ・・・と、複数の露光領域４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ・・・のそれぞれに対応して形成された寸法測定用のマーク６とを備える。 - 特許庁

The aligner has a projection optical system, which uses an optical member showing double refraction and projects a pattern formed in a mask to a workpiece and a polarization direction deciding means for deciding the polarization direction of exposure light so that the exposure light which exposes the workpiece becomes linearly polarized.例文帳に追加

複屈折を示す光学部材を使用し、マスクに形成されたパターンを被処理体に投影する投影光学系と、前記被処理体を露光する露光光が直線偏光になるように、当該露光光の偏光方向を決定する偏光方向決定手段とを有することを特徴とする露光装置を提供する。 - 特許庁

At the time of etching a masking insulation film 3 and an isolation film 2 according to an isolation mask pattern, the reliability of an element can be enhanced by etching the isolation film 2 while leaving the thickness within several hundreds Å from a silicon substrate 1 thereby protecting the silicon substrate 1 against plasma.例文帳に追加

本発明は、分離マスクパターンに従ってマスキング絶縁膜3と分離酸化膜2とを順に蝕刻する時、分離酸化膜2をシリコン基板1から数百Å以内の厚さを残して蝕刻することによって、シリコン基板1がプラズマにより損傷しないようにして素子の信頼性を向上させることができる。 - 特許庁

This manufacturing method for the printed board includes a printing process wherein a paste material 4 is extruded toward one printing matter 5 through a cavity part by scanning a screen mask 1 with the cavity part while pressing it by means of a plurality of squeegees 2 and 3, so that a pattern can be formed on the surface of the printing matter 5.例文帳に追加

印刷基板の製造方法は、空隙部を有するスクリーンマスク１を複数のスキージ２，３で押圧しながら走査することによって、ペースト材料４を上記空隙部を通して一つの被印刷物５に向けて押し出して、被印刷物５の表面にパターンを形成する印刷工程を含む。 - 特許庁

Pattern connection of a soldered surface and a component surface is made excellent by subjecting a metal mask processing only to a component surface side land 3 of a through-hole 2 formed in the board, applying a cream solder 5, and soldering a chip component 6 by melting the cream solder 5 by reflowing and simultaneously solder-plating the through-hole 2.例文帳に追加

基板に形成したスルーホール２の部品面側ランド３のみにメタルマスク処理を施し、クリーム半田５を塗布し、リフローにより前記クリーム半田５を溶解させてチップ部品６を半田付けし、同時に前記スルーホール２にハンダメッキすることで、半田面、部品面のパターン接続を良好なものにする。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device using SiC for the substrate comprises: a process for forming an alignment mark 2 on a {0001} plane in the SiC substrate 1; and a process for forming a prescribed pattern on the SiC substrate 1 by aligning a transfer mask and the SiC substrate 1, based on the alignment mark 2.例文帳に追加

本発明は、ＳｉＣを基板に用いた半導体装置を製造する方法であって、ＳｉＣ基板１の｛０００１｝面に、アライメントマーク２を形成する工程と、アライメントマーク２に基づき、転写マスクとＳｉＣ基板１との位置合わせを行いＳｉＣ基板１上に所定のパターンを形成する工程とを備える。 - 特許庁

In the mask layout pattern verification method of a semiconductor integrated circuit, predetermined rectangular data is selected by examining the number of vertexes and the presence of a long side for data to be verified, the coordinates of four vertexes are extracted for the selected rectangular data, and the long side direction and the coordinate of the center of the rectangular data are calculated.例文帳に追加

半導体集積回路のマスクレイアウトパターン検証方法において、検証対象データに対して頂点数と長辺の存在を調べることにより、所定の矩形データを選別し、選別された矩形データに対して、４頂点の座標を抽出し、矩形データの長辺方向及び中心座標を算出する。 - 特許庁

After an organic film pattern such as photo-resist is formed in the surface layer, impurity ions are implanted, the organic film is carbonized to provide a graphite film which is used as a mask for selective doping by a thermal diffusion method, and a surface roughening is prevented while impurity atoms are suppressed from being desorbed from the surface due to out-diffusion.例文帳に追加

表面層にフォトレジスト等の有機膜パターンを形成後、不純物イオンを注入し、その有機膜を炭化させたグラファイト膜をマスクとして熱拡散法による選択ドーピングをおこなうことにより、表面荒れを防ぐとともに不純物原子の外方拡散による表面からの脱離を抑制する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition free of safety problem to a living body, having good suitability to application even to a large substrate, capable of faithfully reproducing the design size of a mask pattern with high sensitivity, and capable of forming spacers for a display panel excellent in adhesion to the substrate and excellent also in strength, heat resistance, etc.例文帳に追加

生体に対する安全性に問題がなく、しかも大型基板に対しても良好な塗布性を有し、高感度でマスクパターンの設計サイズを忠実に再現でき、かつ基板との密着性に優れ、また強度、耐熱性等にも優れた表示パネル用スペーサーを形成しうる感光性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁

Since white streaks caused by "end kink" in the first recording element array C1 can be interpolated by the recording elements of the second recording element array SC2, streaks caused by "end kink" can be corrected effectively even if the recording rate distribution of mask pattern in multipass recording is not biased.例文帳に追加

これにより、第１の記録素子列Ｃ１で生じる「端部よれ」に起因する白スジを、第２の記録素子列ＳＣ２の記録素子によって補間することができるので、マルチパス記録のマスクパターンの記録率分布に偏りを持たせなくとも、「端部よれ」に起因する白スジを効果的に補正することが可能となる。 - 特許庁

An optical system PL and first and second alignment optical systems AA1a, AA1b, AA2a, and AA2b are arranged so that the detection of the alignment information on the other substrate W2 (W1) can be performed in parallel when exposing a mask pattern on one substrate W1 (W2) out of substrates retained side by side on a substrate stage ST.例文帳に追加

基板ステージＳＴに並べて保持された一方の基板Ｗ１（Ｗ２）にマスクパターンを露光するときに、他方の基板Ｗ２（Ｗ１）のアライメント情報の検出を並行して行なうように、光学系ＰＬと第１および第２のアライメント光学系ＡＡ１ａ，ＡＡ１ｂ、ＡＡ２ａ，ＡＡ２ｂを配置する。 - 特許庁

To provide a heterojunction bipolar transistor that can be selectively etched, can adopt an HBT layer structure containing a semiconductor material with improved adhesion with a mask pattern, forms a guard ring with improved reproducibility without losing the easiness of a guard ring formation process, and has the improved reproducibility of HBT element characteristics, and its manufacturing method.例文帳に追加

選択エッチング可能であり、マスクパターンとの密着性の良好な半導体材料を含むＨＢＴ層構造を採用し、ガードリング形成工程の容易さを損なうことなくガードリングを再現性よく形成し、ＨＢＴ素子特性の再現性が良好なヘテロ接合バイポーラトランジスタおよびその作製方法を提供すること。 - 特許庁

In the plasma etching method, a substrate W having a mask pattern formed on a surface is etched in a plasma chamber wherein a target material 30 for sputtering is installed, and plasma of an oxygen-based gas is generated in the plasma chamber in or after the etching of the substrate to ash a surface of a target material 30.例文帳に追加

本発明に係るプラズマエッチング方法は、スパッタ用のターゲット材３０が設置されたプラズマチャンバ内で、表面にマスクパターンが形成された基板Ｗをエッチングし、基板のエッチングの途中またはエッチング後に、プラズマチャンバ内で酸素系ガスのプラズマを発生させて、ターゲット材３０の表面をアッシングする。 - 特許庁

In the method for forming the organic EL thin film, a screen mask in which a photosensitive agent 3 having a prescribed pattern is formed in a wire mesh 2 is arranged above a substrate 4 to prevent the wire mesh 2 from coming into contact with the substrate 4, and a raw material solution containing an organic EL material is sprayed by a microsprayer 10.例文帳に追加

ワイヤメッシュ２に所定のパターンを有する感光剤３を形成してなるスクリーンマスクを、基板４の上方に、ワイヤメッシュ２が基板４に接触しないように設け、上方からマイクロスプレー１０により有機ＥＬ材料を含む原料液を噴霧する有機ＥＬ薄膜の形成方法である。 - 特許庁

In the method of manufacturing a conductor pattern, a step of printing mask portions on a board by using a printing material containing a solvent-soluble resin as a main component, a step of laminating a conductive member upon the whole surface of the substrate, and a step of removing the printing material with a solvent, are successively performed in this order.例文帳に追加

支持体上に溶剤溶解性の樹脂を主成分とする印刷材料でマスク部分を印刷する工程と、導電性部材を全面に積層する工程と、前記印刷材料を溶剤で除去する工程とをこの順に有することを特徴とする導電性パターン製造方法。 - 特許庁

The design data of an edge in either a portion to be left on a substrate 6 or a portion not to be left on the substrate 6, in a pattern 5 to be formed on the substrate 6 to be processed by using two masks 1, 2 is extracted from the design data of mask patterns 3, 4 formed on masks 1, 2, respectively.例文帳に追加

２枚のマスク１，２を用いて被処理基板６上に形成されるパターン５のうち、基板６上に残す部位および基板６上に残さない部位のいずれか一方の部位のエッジ部の設計データを各マスク１，２に形成されているそれぞれのマスクパターン３，４の設計データから抽出する。 - 特許庁

A mask 31 includes a membrane layer 37 made of a first material, scattering regions 39 made of a second material which forms a pattern and scatters charged particles more strongly than the membrane layer 37, and a plurality of linear support column groups 37, which are arranged at intervals and support the membrane layer 37 together with the scattering regions 39.例文帳に追加

マスク31は、第１の材料から構成されるメンブレン層37と、パターンを形成し、メンブレン層37よりも荷電粒子を強く散乱させる第２の材料から構成される散乱領域39と、互いに間隔を空けて配置され、散乱領域39とともにメンブレン層37を支持する、複数の直線状に延びる支持支柱群33とを含む。 - 特許庁

A mask 10 having an opening 11 of a fixed thickness is brought into contact with a substrate 30, having a concave portion 32 and a pattern 31 on the top surface, and the opening 11 is filled with solder 50 by squeegee equipment 20, having many segmented squeegees 21, with their vertical and movement directions limited to form a solder junction 51.例文帳に追加

凹部３２を有し、上面にパターン３１を有する基板３０に、厚さが一定の開口部１１を有するマスク１０を当接させ、上下及び移動方向を制限した複数の分割スキージ２１を有するスキージ装置２０により、開口部１１に半田５０を充填し、半田接合部５１を形成する。 - 特許庁

The mask blank is characterized in that chemically amplified resist film 4 is formed on a light shielding film 3 and deactivation suppressing film (not illustrated) having film density at least higher than the film density in the vicinity of the surface of the light shielding film 3 and for suppressing deactivation of the resist film 4 is formed when a resist pattern 4a is formed.例文帳に追加

遮光性膜３上に化学増幅型レジスト膜４を形成し、レジストパターン４ａを形成する際に、少なくとも前記遮光性膜３の表面近傍の膜密度よりも高い膜密度を有し、前記レジスト膜４の失活を抑制する失活抑制膜（図示せず）が形成されていることを特徴とするマスクブランク。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a piezoelectric vibration piece in which developer is sufficiently immersed into a fork portion to form a mask pattern with good accuracy and formation failure of an electrode can be prevented, a piezoelectric vibration piece manufactured by the manufacturing method, a piezoelectric vibrator, an oscillator, an electronic apparatus and an electric wave clock using the piezoelectric vibration piece.例文帳に追加

又部に現像液を十分に浸入させてマスクパターンを精度よく形成し、電極の形成不良を防止できる圧電振動片の製造方法と、この製造方法により製造された圧電振動片、この圧電振動片を用いた圧電振動子、発振器、電子機器、および電波時計を提供する。 - 特許庁

A light projection part 15 receives a print finish detection signal when a squeegee 13 detects the finish of print by a detecting part 14, and emits light toward a cream solder 12 of an inspection object filled in an inspection hole 111a, out of pattern holes 11a formed in a printing mask 11.例文帳に追加

検出部１４によりスキージ１３が印刷を終了したことを検出すると、投光部１５は印刷完了検知信号を受け取り、印刷用マスク１１に形成されたパターン孔１１ａのうち検査孔１１１ａに充填された検査対象のクリーム半田１２に対し光を照射する。 - 特許庁

To provide a tiling method, a tiling exposure mask and a method for producing a multi-layer wiring board by using them in which intra-plane pattern densities on the front side and the rear side of a tiling substrate can be made uniform and the number of the exposure masks to be used can be decreased when producing the multi-layer wiring board by tiling.例文帳に追加

多層配線板を多面付けで作製する際多面付け基板の表裏の面内パターン密度を均一化し、且つ露光マスクの使用枚数を減少できる多面付け方法、多面付け露光マスク及びそれらを用いた多層配線基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁