「S process」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

(3) Subsection (1) does not apply where the representation is made in respect of a product after the patent for that product or, as the case may be, the process in question has expired or been invalidated and before the end of a period which is reasonably sufficient to enable that person to take steps to ensure that the representation is not made or does not continue to be made. [Am. Act A863: s.33]例文帳に追加

(3)(1)は，表示が，その製品に関する又は場合により問題の方法に関する特許が期間満了するか又は無効とされた後で，かつ，前記の者がその表示をしない又はその表示の継続をしないようにするための措置をとることを可能にする合理的に十分な期間が終了する前に行われている場合は，適用しないものとする。［法律A863:s.33による改正］ - 特許庁

In the measurement of an error rate performed in the process to optimize the signal channel parameter of the disk device, the error rate is deteriorated by means of deteriorating the S/N ratio of an input signal, thereby the decision of the optimized parameter value is attained by the error rate test of less transfer bits.例文帳に追加

ディスク装置の信号チャンネルパラメータの最適化の過程で行われるエラーレートの測定において、入力信号のＳ／Ｎ比を劣化させることにより、エラーレートを劣化させ、より少ない転送ビットのエラーレート試験で最適化パラメータ値を決定することを可能にする。 - 特許庁

Such a functional food is obtained, for example, by the following process: fruit rind is subjected to blanching treatment and/or soaking treatment with a trehalose solution followed by addition of a 3rd ingredient such as ginger or Momordica grosvenori and, as necessary, other treatment(s) such as cooking, seasoning, processing and/or drying.例文帳に追加

この機能性食品は、例えば、果実外皮にトレハロース溶液によるブランチング処理及び／または浸漬処理を施した後、生姜、羅漢果その他の第三成分を添加し、さらに必要に応じて調理、調味、加工、乾燥等の処理を施すことにより製造することができる。 - 特許庁

Further, this apparatus is equipped with a shutter 46 capable of opening/closing the feeding port 42, a shutter-driving unit 50 for opening/closing the shutter 46, and a microcomputer 68 as a control unit functioning to process signals from the sensor 30 and control the shutter 46's opening/closing by the shutter-driving unit 50.例文帳に追加

餌箱４０の給餌窓４２を開閉可能なシャッタ４６と、シャッタ４６を開閉駆動するシャッタ駆動部５０と、餌用重量センサ３０からの信号を処理するとともに、シャッタ駆動部５０によりシャッタ４６の開閉を制御する制御装置であるマイコン６８とを備える。 - 特許庁

In the manufacturing method of the semiconductor chip, a sheet 41 sticking to a rear surface 21b and an extended member 43 sticking to a substrate surface 21a near a predetermined cutting line are extended by a cutting process, and a closed cross sectional space S is formed by the extended sheet 41, the extended member 43, and each cutting surface 21d.例文帳に追加

割断工程により、裏面２１ｂに貼着されたシート４１と割断予定ライン近傍の基板面２１ａに貼着された延伸部材４３とが延伸し、このように延伸したシート４１および延伸部材４３と各割断面２１ｄとにより閉断面空間Ｓが形成される。 - 特許庁

A process for forming the coating film on the glass body comprises steps wherein (a) the glass body is soaked into a volatile solution containing H_3PO_4 and SiO_2, (b) the glass body is drawn out of the solution at a speed of 1-20 mm/s, and (c) the glass body is tempered at ≤Tg of the glass.例文帳に追加

ガラス体上に被膜を形成する方法は、（ａ）ガラス体をＨ_3ＰＯ_4及びＳｉＯ_2を含有する揮発性の溶液中に浸漬し、（ｂ）溶液からガラス体を１ｍｍ／ｓ〜２０ｍｍ／ｓの速度で引き抜き、そして（ｃ）ガラスのＴｇ以下の温度でガラス体を調質することを含む。 - 特許庁

The process for production of a polyfunctional polyphenylene ether is carried out by the polymerization of (A) a univalent phenol compound shown by general formula (1) and (B) a bivalent phenol compound shown by general formula (2) in which at least one of R_4's is a hydrogen atom, in the presence of a catalyst.例文帳に追加

（Ａ）一般式（１）で表される一価フェノール化合物及び（Ｂ）一般式（２）で表され式中のＲ_４の少なくとも一つが水素原子である二価フェノール化合物を触媒の存在下で重合することを特徴とする多官能性ポリフェニレンエーテルの製造方法。 - 特許庁

To provide a superconducting element in which its manufacturing cost is low and a miniaturization of a junction area S of a Josephson junction is easy without increasing the number of processes and complicating any manufacturing process, and also to provide a superconducting integrated circuit using this superconducting element and a method of manufacturing the superconducting element.例文帳に追加

工程数の増大や製造プロセスの複雑化を伴わず、製造コストが低く、且つジョセフソン接合の接合面積Ｓの微小化が容易な超伝導素子、この超伝導素子を用いた超伝導集積回路及び超伝導素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The urethane raw material U is foamed and expanded in a process wherein the cylindrical part 32 is moved through the cylindrical guide member 20 and a long rod-shaped urethane foam material S is continuously molded on the inner surface of the cylindrical part 32 brought into close contact with the inner wall surface of the guide member 20.例文帳に追加

そして、筒状部３２が筒状ガイド部材２０の内部を移動する過程で前記ウレタン原料Ｕを発泡・膨張させ、該ガイド部材２０の内壁面に密着する筒状部３２の内側に長尺で棒状をなすウレタンフォーム材Ｓを連続的に成形する。 - 特許庁

In this parking technology evaluating system 1, a parking state of a vehicle S to a target parking area A where to park and the parking operation process from the start of parking operation to the end of parking are evaluated, and the evaluation result is digitized and displayed.例文帳に追加

この発明の駐車技術評価システム１では、駐車可能な目標駐車領域Ａに対する車両Ｓの駐車状態と、駐車操作を開始してから駐車するまでの駐車作業過程とを評価し、この評価結果を数値化して表示している。 - 特許庁

The method of manufacturing a unidirectional solidified silicon ingot C has a process for dipping a polycrystalline silicon seed crystal S into a silicon molten liquid L stored in a crucible 1 and pulling up the silicon ingot with the seed crystal, wherein the seed crystal is planar.例文帳に追加

一方向凝固させたシリコンインゴットＣを作製する方法であって、ルツボ１内に貯留させたシリコン融液Ｌに多結晶シリコンの種結晶Ｓを浸した後、該種結晶と共に前記シリコンインゴットを引き上げて作製する工程を有し、前記種結晶は、平板状である。 - 特許庁

The process for preparing the composite carbon black comprises subjecting carbon black to adsorption treatment with an organic dyestuff derivative or triazine derivative having a basic functional group(s), and then treating this with an inorganic particle in such a pH range that the particle has a negative surface charge.例文帳に追加

カーボンブラックに塩基性官能基を有する有機色素誘導体または塩基性官能基を有するトリアジン誘導体を吸着処理し、次いで無機粒子がマイナスの表面電荷を持つｐＨ領域において上記無機粒子で処理することを特徴とする複合化カーボンブラックの製造方法。 - 特許庁

In the process for producing coated sheets for printing, the coating solution is treated within 1-300 s with a continuous foaming apparatus so that the volume of the coating solution may include gas components more than 10 % in volume fraction.例文帳に追加

印刷用塗工シートの製造過程において、塗工液を連続式発泡装置により体積率で１０％以上が気体成分となるように調製したのちに該塗工液を１〜３００秒以内にシート状基材に塗工することを特徴とする印刷用塗工シートの製造方法。 - 特許庁

Fine chitosan particles are characterized by being produced from a living thing without passing through a dissolution process and having a deacetylation degree of ≥60%, 1 mass% solution viscosity of 1.5 to 1,000 mPa s, and a ≤100 μm diameter particle content of ≥90%.例文帳に追加

原料生物から一回も溶解工程を経ずに製造された脱アセチル化度６０％以上、１質量％溶液粘度が１．５ｍＰａ・ｓ以上１，０００ｍＰａ・ｓ以下かつ粒径１００μｍ以下の粒子が９０％以上であることを特徴とするキトサン微粒子。 - 特許庁

Liquid crystal materials Lr, Lg, and Lb are arranged at the liquid crystal material injection hole parts (r), (g), and (b) of the respective empty cells of the cell S in the pressure-reduced atmosphere successively to the laminated empty cell forming process and injected into the empty cells under a vacuum to obtain the laminated liquid crystal display cell.例文帳に追加

セルＳの各空セルの液晶材料注入口部ｒ、ｇ、ｂに、積層型空セル形成工程に引き続き減圧雰囲気下で、液晶材料Ｌｒ、Ｌｇ、Ｌｂを配置し、その後該液晶材料を空セル内に真空注入して積層型液晶表示セルを得る。 - 特許庁

The method for producing the cyclodextran is characterized by comprising the following process: Microorganisms having the ability to produce the cyclodextran from starch, component(s) thereof or a partially decomposed product thereof are cultured in a medium containing the substance, and the objective cyclodextran is extracted from the resulting cultured product.例文帳に追加

デンプン、デンプンの成分、またはそれらの部分分解物からサイクロデキストラン生産能を有する微生物を、デンプン、デンプンの成分、またはそれらの部分分解物を含む培地で培養し、培養物よりサイクロデキストランを採取することを特徴とする、サイクロデキストランの製造方法。 - 特許庁

In the second discharge process, the uncontaminated liquid crystal material F newly supplied (replenished) to the discharge head is arranged to each of the arranging region S and the contaminated liquid crystal material F arranged at the first time is diluted by the uncontaminated liquid crystal material F arranged at the second time.例文帳に追加

２回目の吐出行程では、各配置領域Ｓは、吐出ヘッドに新たに供給（補給）された汚染されてない液晶材料Ｆを配置して、１回目に配置された汚染された液晶材料Ｆを、２回目に配置される汚染されてない液晶材料Ｆによって希釈化する。 - 特許庁

While the additional folding processing for a paper bundle S by a roller 24 of an additional folding means 22 is conducted, if the occurrence of the abnormality in a system (the device) is detected, the additional folding means 22 is moved to a retreat position faster than a normal additional folding process speed in the normal state of the device.例文帳に追加

折り増し手段２２のコロ２４による用紙束Ｓに対する折り増し処理中に、システム（当該装置）に異常が発生したことが検知されたとき、折り増し手段２２を、装置正常時の通常折り増し処理速度よりも速い速度で、退避位置へ移動させる。 - 特許庁

To provide a process for electrolytic refining of copper where, in an anode comprising a noble metal(s) and Sn at high concentrations, a passivation phenomenon is prevented, and the formation of floating slime to an electrolytic solution is suppressed, thus high purity electrolytic copper is produced, and further, copper sediment with a high noble metal grade is obtained.例文帳に追加

銅電解精製において、貴金属及びＳｎを高濃度に含有したアノードにおいて、不働態化現象を防止し、電解液への浮遊スライムの形成を抑制して、高純度な電気銅を製造するとともに、高貴金属品位の銅殿物を得る方法を提供する。 - 特許庁

As for a claim of a chemical product which cannot be clearly characterized merely by features of structure and/or composition, it is permitted to further use physical /chemical parameter(s)and/or the manufacturing process to characterize the claim. 例文帳に追加

構造及び/又は組成の特徴のみで明確に表現できない化学製品の請求項 構造及び/又は組成の特徴のみでは明瞭に特徴づけることのできない化学製品クレームについて、さらに物理・化学的パラメータ及び/又は製法を用いて特徴付けることが許される。 - 特許庁

A non-penetrating slide hole 2b is formed on the end side of an output shaft 2, and a slide pin 21 is disposed in the slide hole 2b to advance/retreat independently of the output shaft 2 and to abut on a lock pin 31 when the output shaft 2 retreats into an unlocking process S.例文帳に追加

出力シャフト２の先端部側に非貫通のスライド穴２ｂを形成し、このスライド穴２ｂにスライドピン２１を、出力シャフト２とは独立して進退可能に、かつ、出力シャフト２がアンロック工程Ｓまで後退した時点でロックピン３１と当接するように配設する。 - 特許庁

The coated paper for printing use with base paper borne with coating layer(s) comprising a pigment and an adhesive is produced by the following process: The outermost coating layer is provided by a spray coating system and the PPS roughness of the base paper before providing the spray coating layer is brought to 6.0μm or less.例文帳に追加

原紙上に、顔料及び接着剤を含有する塗工層を有する印刷用塗工紙において、最も外側の塗工層をスプレー塗工方式で設け、且つスプレー塗工層を設ける前の基紙のPPSラフネスが６．０μｍ以下とすることにより、印刷用塗工紙を製造すること。 - 特許庁

In each counter circuit CU, starts and stops of counting actions on S clocks CK_1-CK_s are sequentially propagated, so that in the process of the counting action on the clock CK_n, the counting actions on the clocks CK_1-CK_n-1, CK_n+1-CK_s are stopped.例文帳に追加

各カウンタ回路ＣＵ内において、Ｓ個のクロックＣＫ_１〜ＣＫ_ｓによるカウント動作の起動および停止を順次伝播させることで、クロックＣＫ_ｎによるカウント動作が行われている時は、クロックＣＫ_１〜ＣＫ_１−ｎ、ＣＫ_１＋ｎ〜ＣＫ_ｓによるカウント動作を停止させる。 - 特許庁

The both ends of the shafts 31 and 32 and/or slide contact members 11-14 and 21-24 provided adjacent thereto are provided with covers 4 and water storage tanks 6 or dripping means 7 are provided as particle intrusion preventing means 4, 6, and 7 for preventing the intrusion of the particles P into the process tank S.例文帳に追加

シャフト３１、３２の両端および／またはその近傍に設けられた摺接部材１１〜１４、２１〜２４に対し、処理槽Ｓ内へのパーティクルＰの侵入を防ぐパーティクル侵入防止手段４、６、７として、カバー４、貯水槽６または滴下手段７が設けられている。 - 特許庁

To provide an antireflection film which has an excellent antireflection characteristic for a wide incident-angle light, and achieves an excellent optical performance especially by reducing a reflectance of s-polarized light, to provide an optical system and an exposure apparatus which have the antireflection film, and to provide a manufacturing method of device, having a process where the exposure apparatus is used.例文帳に追加

広い入射角度の光に対して優れた反射防止特性を有し、特に、ｓ偏光の光の反射率を低減して、優れた光学性能を達成可能な反射防止膜、当該反射防止膜を有する光学系、露光装置、並びに、デバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

This feed is obtained by kneading/drying the residue 2 of fish and shellfish put in a sealed space S of vacuum atmosphere made by a pressure reducing means 1 and stirring/crushing the residue 2 which is solidified in the kneading/drying process followed by forming the product in a granular state.例文帳に追加

減圧手段１によって真空雰囲気とした密閉空間Ｓ内で、該空間Ｓに入れた魚介残渣２を練成・乾燥し、さらに、前記練成・乾燥工程により固形物化した前記魚介残渣２を攪拌・粉砕して粉粒状に成形したことを特徴とする飼料。 - 特許庁

To provide delivery of perfume performance from cleansing bar systems, specifically, a process for enhancing perfume performance (measured as perfume enhancement factor or "PEF") and perfume-containing bar compositions in which the effect of the perfume(s) (e.g., longevity) is enhanced as compared to comparative bars.例文帳に追加

クレンジングバー系の香料性能デリバリー、及び、より詳細には香料性能（香料性能増進率即ち“ＰＥＦ”として測定）を増進させる方法であり、香料の効果（例えば、持続性）を比較バーに比べて増進させた香料含有バー組成物を提供する。 - 特許庁

As for a claim of a chemical product which cannot be clearly characterized merely by features of structure and/or composition, it is permitted to further use physical /chemical parameter(s)and/or the manufacturing process to characterize the claim. 例文帳に追加

構造及び/又は組成の特徴のみで明確に表現できない化学製品の請求項構造及び/又は組成の特徴のみでは明瞭に特徴づけることのできない化学製品クレームについて、さらに物理・化学的パラメータ及び/又は製法を用いて特徴付けることが許される。 - 特許庁

In this process, an amorphous thin piezoelectric substance film layer is deposited in the state that the crystallization rate R is smaller than the deposition rate S by making the substrate heating temperature lower than the crystallization temperature after the nucleation time C_1 when the sputter deposition is performed by heating to the crystallization temperature of a piezoelectric material.例文帳に追加

この工程で、圧電体材料の結晶化温度に加熱してスパッタ成膜を行う核生成時間Ｃ_1 の後に、基板加熱温度を結晶化温度より下げて結晶化速度Ｒが堆積速度Ｓより小さい状態で非晶質の圧電体薄膜層を成膜する。 - 特許庁

In the process for forming the W/O type emulsion, the W/O type emulsion is formed by extruding out the aqueous liquid containing the inorganic compound into the organic liquid flowing with the flow rate of 0.001-2 m/s under a laminar flow through a flow channel, passing through a diaphragm with micro-pores.例文帳に追加

前記Ｗ／Ｏ型エマルジョンを形成する工程が、流路中を流速０．００１〜２ｍ／ｓで、かつ、層流状態で流れる有機液体中に、微小孔を有する隔壁を通して無機化合物を含む水性液体を押し出してＷ／Ｏ型エマルジョンを形成する。 - 特許庁

The method for producing flash memory cell is provided with steps such as step for sequentially forming a pad oxide film 22 and a pad nitride film 23 on a wafer 21, and step for performing a source ion implantation process after the pad nitride film in the area planned to form a source S is removed.例文帳に追加

本発明に係るフラッシュメモリ素子の製造方法は、半導体基板２１上にパッド酸化膜２２及びパッド窒化膜２３を順次形成し、ソースＳ形成予定領域の前記パッド窒化膜を除去した後、ソースイオン注入工程を行う段階等の段階を含んでなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a heat developing method for a silver salt photothermographic dry imaging material having high sensitivity, low fog, high maximum density, and stable photographic performance in various imager setting environments at the time of performing a heat developing process by rapid processing of ≤10 s for the silver salt photothermographic dry imaging material.例文帳に追加

銀塩光熱写真ドライイメージング材料を１０秒以下の迅速処理で熱現像プロセスを実行する際に、高感度、低カブリで、最高濃度が高く、幅広いイメージャー設置環境で安定した写真性能を有した銀塩光熱写真ドライイメージング材料の熱現像方法を提供。 - 特許庁

A ZnO sintered compact containing 0.1 to 15 mass% rare earth elements is used for a vapor deposition material, and film deposition is performed by a reactive vapor deposition process in an oxygen gas flow rate of 0 to 500 sccm and at a film deposition rate of 0.5 to 5.0 nm/s, so as to deposit a ZnO film having high moisture resistance.例文帳に追加

希土類元素を０．１〜１５質量％含むＺｎＯ焼結体を蒸着材に用い、反応性プラズマ蒸着法により酸素ガス流量０〜５００ｓｃｃｍ、成膜速度０．５〜５．０ｎｍ／秒で成膜を行い、高耐湿性のＺｎＯ膜を成膜する。 - 特許庁

In the electrostatic charge image developing toner manufacturing method comprising a drying process, a loop type pneumatic conveying dryer is used in the drying process in which air flow 7 whose temperature is ≥70°C and line velocity is ≥30 m/s is supplied to the loop 1 of the pneumatic conveying dryer and the air flow temperature at the toner collecting part 5 of the dryer is controlled to ≤60°C.例文帳に追加

乾燥工程を有する静電荷像現像用トナーの製造方法において、該乾燥工程でループタイプの気流乾燥機を使用し、該気流乾燥機のループ部１へ温度が７０℃以上であり、かつ線速度が３０ｍ／ｓ以上の気流７を供給し、該気流乾燥機のトナー回収部５における気流の温度を６０℃以下にすることを特徴とする静電荷像現像用トナーの製造方法である。 - 特許庁

This method for capturing particles into a liquid droplet includes a process of discharging a first liquid droplet D1 composed of a first liquid S from a nozzle 12 by an inkjet technique; and a process of passing the first liquid droplet D1 through a liquid membrane F composed of a second liquid mixed with particles C to make the first droplet into a second liquid droplet D2 in which the particles C are captured into the first liquid droplet D1.例文帳に追加

第一液体Ｓからなる第一液滴Ｄ１をインクジェット法によりノズル１２から吐出する工程と、第一液滴Ｄ１を粒子Ｃが混入されている第二液体からなる液膜Ｆに通過させて、第一液滴中Ｄ１に粒子Ｃを取り込まれた第二液滴Ｄ２にする工程と、を含むことを特徴とする液滴中に粒子を取り込む方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal sealing agent that prevents a liquid crystal from being inserted to the sealing agent, has a low viscosity of ≤100 Pa s, and exhibits excellent effects in dispense coating as well as screen printing coating with respect to the liquid crystal sealing agent to be used in a liquid crystal dispensing process, and to provide a liquid crystal display cell using the same.例文帳に追加

液晶滴下工法に用いる液晶シール剤に関し、液晶のシール剤への差し込み現象を生じることなく、且つ１００Ｐａ・ｓ以下の低粘度で、ディスペンス塗工、スクリーン印刷塗工いずれにおいても塗工性に優れた効果を示す液晶シール剤及びそれを用いた液晶表示セルを提供する。 - 特許庁

The product separated from the sheet material S is fallen down, as it is, into a product collection device 7 and collected at the position of roughly nesting, the sorting device 21 takes up a desired product based on nesting information by control of the controller 39, the product is transferred to a next process machine together with the product information.例文帳に追加

シート材Ｓから分離された製品Ｐはそのまま下方に落下して製品集積装置７に略ネスティングの位置に集積され、仕分け装置２１が制御装置３９の制御によりネスティング情報に基づいて所望の製品Ｐを取り上げて、次工程加工機９に製品情報と共に搬送する。 - 特許庁

This invention relates to a process for preparing emulsions of organopolysiloxanes (O), which includes polymerizing: (1) 100 pts.wt of hydroxyl-terminated organopolysiloxanes and (2) at least 0.01 pt.wt of trialkylsilyl-terminated organopolysiloxanes having a viscosity of at least 55 mm^2/s in the presence of (3) an acidic catalyst and (4) an emulsifier in an aqueous medium until the desired molecular weight is reached.例文帳に追加

（１）ヒドロキシ末端のオルガノポリシロキサン１００質量部、及び（２）粘度が少なくとも５５ｍｍ^2／ｓのトリアルキルシリル末端のオルガノポリシロキサン０．０１質量部を、（３）酸触媒、及び（４）乳化剤の存在下、水性媒体中で所望の分子量に達するまで重合させることを含む、オルガノポリシロキサン（Ｏ）の製造方法。 - 特許庁

It also includes a pulverizing process where the metal powder in slurry 13 is pulverized by passing the slurry 13 containing the metal powder under washing through a clearance 14 between a stator 11 and a rotor 12 which makes the clearance 14 of ≥0.1 mm and ≤1.5 mm against the stator 11 and rotates at a circumferential velocity of ≥4 m/s.例文帳に追加

洗浄中の金属粉末を含有するスラリー１３を、ステータ１１と、該ステータ１１に対して０．１ｍｍ以上１．５ｍｍ以下のクリアランス１４を有し、周速４ｍ／ｓ以上の速度で回転するロータ１２との間の上記クリアランス１４に通過させて、スラリー１３中の金属粉末を解砕する工程を備える。 - 特許庁

A storage frame into a reference frame memory 18 and coding parameters D, S thereof are determined so that a decoding processing load may be within a permissible range for all the speeds instructable in the double speed/random reproduction in start of coding during an H.264 encoding processing process, and a reference frame memory history table 24 is created and updated.例文帳に追加

Ｈ．２６４エンコード処理過程で、符号化開始時に、倍速／ランダム再生で指示可能とする全速度について、デコード処理負荷が許容範囲内となるように、参照フレームメモリ１８への保存フレームとその符号化パラメータＤ，Ｓを決定し、参照フレームメモリ履歴テーブル２４を作成更新する。 - 特許庁

This production process for (+)-trans chrysanthemic acid I is characterized by allowing (+)-trans chrysanthemic acid I or a (±)-cis/(i)-trans chrysanthemic acid I mixture to react with (S)-1-phenyl-2-methylpropylamine to form their diastereomer salt and treating the resulting diastereomer salt with an acid.例文帳に追加

（±）−トランス第一菊酸または（±）−シス／（±）−トランス混合第一菊酸と（Ｓ）−１−フェニル−２−メチルプロピルアミンを溶媒中で反応させて、（＋）−トランス第一菊酸と（Ｓ）−１−フェニル−２−メチルプロピルアミンとのジアステレオマー塩を得、該ジアステレオマー塩を酸処理することを特徴とする（＋）−トランス第一菊酸の製造方法。 - 特許庁

When heating process is executed in order to activate the film 62 after an anode is bonded, since the barrier metal 61 prevents the metal film 62 from combining with oxygen in the glass lid 60, the metal film 62 can be made to absorb sufficient residual oxygen in the closed space S.例文帳に追加

陽極接合後であって酸素吸収用金属膜６２を活性化させるために加熱処理しても、バリアメタル６１が酸素吸収用金属膜６２とガラス蓋６０の酸素との結合を防ぐために、同金属膜６２に密閉空間Ｓ内に残存する酸素を十分に吸収させることができる。 - 特許庁

Then, the supply of warmed sludge S is stopped and while a warmed fluid F being supplied to the fluid chamber 2D by pressure as to keep the inner pressure of the fluid chamber 2D at a prescribed pressure, the warmed liquid in the fluid chamber 2D is discharged to carry out the pressing process by the diaphragm by the inner pressure of the fluid chamber 2D.例文帳に追加

次に、加温スラッジＳの供給を停止し、加温流体Ｆを流体室２Ｄ内へ加圧供給するとともに、流体室２Ｄ内の内圧を所定圧に維持しつつ流体室２Ｄ内の加温流体を排出させて、その流体室２Ｄの内圧によりダイアフラムによる圧搾を行う。 - 特許庁

The method for producing the ultraviolet absorbing resin includes a process for filtering and purifying an ultraviolet absorbing resin by using an extruder 2 equipped with a polymer filter 4 having a filtering precision of not larger than 20 μm under a condition that the melt viscosity of the resin becomes not higher than 1,000 Pa s at a shear rate of 100/sec.例文帳に追加

本発明の紫外線吸収性樹脂の製造方法は、濾過精度が２０μｍ以下であるポリマーフィルタ４を備えた押出し機２を用い、剪断速度が１００／ｓｅｃにおける樹脂溶融粘度が１０００Ｐａ・ｓｅｃ以下となる条件で、紫外線吸収性樹脂を濾過精製する工程を包含する。 - 特許庁

In a technique support system S, in accordance with a monitoring term determined from a water supply facility 200 for each data, various management data, and history information of an alert which is outputted when getting out of a water quality management criterion or operation/operation history information (process) data are captured into a computer system 100 and stored in a database 10.例文帳に追加

技術支援システムＳは、上水道施設２００からデータ毎に決められている監視周期に合わせ、各種管理データおよび水質管理基準を逸脱した場合に出力される警報の履歴情報や操作／運転履歴情報（プロセス）データを計算機システム１００へ取り込み、データベース１０に格納する。 - 特許庁