「alignment position」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an alignment apparatus which can automatically perform alignment of inkjet heads with high accuracy by a function independent of an application apparatus and can sharply reduce arrangement time when performing application while improving precision stability by external force to eliminate head exchanging time and position adjusting time after head exchange.例文帳に追加

本発明は、塗工装置とは独立した機能によってインクジェットヘッドのアライメントを高精度に自動で行うとともに外力による精度安定性を向上させつつ、塗工の際の段取り時間を大幅に減らすことができることで、ヘッド交換時間および交換後の位置調整時間をなくす、アライメント装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A center mark FMc is formed on the connection electrode part 21 of the flexible board 20 connected to the panel terminal part 11 of the liquid crystal panel 10 in addition to existing end marks for alignment FMa and FMb arranged at both ends of the electrode part 21, and alignment is performed to align the mark FMc with the panel center position Pc of the terminal part 11.例文帳に追加

液晶パネル１０のパネル端子部１１に接続されるフレキシブル基板２０の接続電極部２１に、その両端に配置される既存の位置合わせ用の端部マークＦＭａ，ＦＭｂに加えて中心マークＦＭｃを形成し、この中心マークＦＭｃをパネル端子部１１のパネル中心位置Ｐｃに合わせ込むようにして位置合わせする。 - 特許庁

That is, in an image processing step for acquiring an amount of position correction in lamination by image processing the alignment marks 34, 35, it is determined whether or not an abnormality in areas, positions or shapes of the alignment marks 34, 35 is present, and when determined as an abnormality, conditions in a corresponding step are altered so as to be normalized.例文帳に追加

すなわち、アライメントマーク３４および３５を画像処理することによって積層時の位置補正量を求めるための画像処理工程において、アライメントマーク３４および３５の面積、位置、形状等についての異常の有無をも判定するようにし、異常と判定されたとき、対応の工程での条件を正常化するように変更する。 - 特許庁

The element can be manufactured by aligning the Er atoms to the position among the lattices of the GaAs crystal through the epitaxial growth with simultaneous control of the evaporation velocity of the molecular beam source and expitaxial growth temperature on the GaAs substrate 2 of the (001) alignment or on the epitaxial growth layer of the (001) alignment using the Ga atoms, As atoms and Er atoms as the molecular beam sources.例文帳に追加

Ｇａ原子、Ａｓ原子及びＥｒ原子を分子線源とし、（００１）面方位ＧａＡｓ基板２上、または（００１）面方位エピタキシャル成長層上に、分子線源の蒸発速度と、エピタキシャル成長温度とを同時に制御してエピタキシャル成長し、Ｅｒ原子をＧａＡｓ結晶の格子間位置に配位させることにより製作できる。 - 特許庁

The apparatus comprises a projection optical system PL for projecting a transfer pattern image of a reticle R on a wafer W, an alignment system 22 for measuring the position of either the reticle R or the wafer W to relatively align the reticle R with the wafer W, and an instrument 31 for measuring the wave front aberration of the alignment system 22.例文帳に追加

レチクルＲに形成された転写パターン像をウエハＷに投影する投影光学系ＰＬと、レチクルＲとウエハＷとの相対的な位置合わせを行うためにレチクルＲとウエハＷとの少なくとも一方の位置を計測するアライメント系２２と、アライメント系２２の波面収差を計測する波面収差計測装置３１とを備える。 - 特許庁

For a substrate W transported to a substrate stage 2 from a prealignment device 50 and retained on the substrate stage 2, a deviated quantity from the center of a field in an alignment camera 30 of an alignment mark 40 printed by a first exposure on the substrate W is found to compensate the position of a next substrate W on the prealignment 50 side based on the deviated quantity.例文帳に追加

プリアライメント装置５０から基板ステージ２に搬送されて該基板ステージ２上に保持された基板Ｗについて、該基板Ｗに一層目の露光で焼き付けられたアライメントマーク４０のアライメントカメラ３０の視野中心からのずれ量を求め、該ずれ量に基づいてプリアライメント装置５０側で次回の基板Ｗの位置を補正する。 - 特許庁

To provide an image recording system, an image recording method, a program and an image forming method by which manual calculation, manual input work or the like by an operator is made unnecessary, a theoretical position of an alignment mark can be accurately and easily designated, thereby, the time required for alignment and human errors can be reduced, and the time required for image exposure can be reduced.例文帳に追加

オペレータによる手計算、手入力等を不要にして、アライメントマークの理論位置を、確実かつ簡単に指定することができ、これにより、アライメントに要する時間および人為的ミスを低減し、画像露光に要する時間を短縮することができる画像記録システム、画像記録方法、プログラムおよび画像形成方法を提供することにある。 - 特許庁

As long as the incident surface of the optical fiber 130 is aligned while being positioned in the space 150, light having stable intensity is guided into the optical fiber 130 even if an alignment position on the incident surface of the optical fiber 130 is shifted in a crosswise direction for orthogonally crossing an axial direction, thus relieving the alignment tolerance.例文帳に追加

光ファイバ１３０の入射面が、この空間１５０の中に位置するようにアライメントされる限り、光ファイバ１３０の入射面のアライメント位置が軸方向にずれていても、軸方向と直交する横方向にずれていても、安定した強度の光が光ファイバ１３０の中に導かれるので、アライメント公差が緩和される。 - 特許庁

The inclination of the imaging element against the one-dimensional pixels alignment direction, and the displacement of the element in the up-down direction orthogonally crossing the pixels alignment, are calculated from the width obtained from the output of the position detecting marks focused on the and its width focused on the imaging surface.例文帳に追加

位置調整用チャート上の幅、及び撮像素子の撮像面に結像させて得られる位置検出マークの出力信号から計測された撮像面上の幅を用いて、撮像素子の画素の一次元配列方向に対する傾きと一次元配列方向に直交する上下方向への位置ずれを演算により求めて調整する。 - 特許庁

Recognition coordinates, being the coordinates of first and second alignment marks 14A, 14B recognized by recognizing devices 26, 28, and reference coordinates 14A, 14B, being the coordinates of the first and second alignment marks recognized by recognizing devices 26, 28 when a board 11 is arranged on the nondisplacing position on a XY table 15 previously measured, are compared.例文帳に追加

認識装置２６，２８により認識した第１及び第２のアラインメントマーク１４Ａ，１４Ｂの座標である認識座標と、予め計測したＸＹテーブル１５上に基板１１をずれのない位置に配置したときに認識装置２６，２８により認識した第１及び第２のアラインメントマークの座標である基準座標１４Ａ，１４Ｂとを比較する。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of accurately adjusting the position of a mask with respect to an exposure object member by changing an alignment mark for mask position adjustment corresponding to the meandering of the exposure object member even when the exposure object member is continuously supplied, and capable of highly accurately and stably performing exposure.例文帳に追加

露光対象部材が連続的に供給される場合においても、マスク位置調整用のアライメントマークを露光対象部材の蛇行に応じて変化させ露光対象部材に対するマスクの位置を精度よく調整することができ、高精度で安定的な露光が可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

When a file, having a structure in which a header region A1, data region A2, and resource region A3 are arranged sequentially, is recorded on an HDD, the area from the end position of thumbnail data as real data forming a data region A2 to the end of a cluster, including the end position, is filled with an alignment region A2-1.例文帳に追加

ヘッダ領域Ａ１、データ領域Ａ２、及びリソース領域Ａ３が順次配置されて成る構造のファイルをＨＤＤに記録するときに、データ領域Ａ２を形成する実データであるサムネイルデータの終端位置から、その終端位置を含むクラスタの終端までをアライメント領域Ａ２−１により埋める。 - 特許庁

This ultrasonic imaging apparatus changes the focal depth position (indicated by a lozenge symbol) of a B mode image 117 in the alignment direction of a probe array 10 along the position of an M mode line 109 set on the B mode image 117 so as to improve the resolution of the M mode image while securing the real-time property of acquiring image information.例文帳に追加

Ｂモード画像１１７上に設定されるＭモードライン１０９の位置に沿って、Ｂモード画像１１７の焦点深度位置（◇の記号で示す）を、探触子アレイ１０の配列方向に変化させることとしているので、画像情報取得のリアルタイム性を確保しつつＭモード画像の分解能の向上を実現させる。 - 特許庁

In this method and device for detecting a tray alignment position, the movement of a detection pin to which a tray 7 is butted is detected by an optical sensor 19 arranged at a position opposite to a clamp safety lug 3 of a table 1 so that the clamp error of the clamp safety lug 3 can be covered, and that highly precise clamp can be operated.例文帳に追加

本発明によるトレイ整列位置検出方法及び装置は、テーブル(1)のクランプ爪(3)と対向する対向位置に設けられた光学式センサ(19)によりトレイ(7)が当接する検出ピンの動きを検出することにより、クランプ爪(3)のクランプミスをカバーして、高精度のクランプを行う構成である。 - 特許庁

By similar dicing processing, a V-groove 8 for a position alignment marker is formed at a position a predetermined distance 9 off the upper end 7 of the inclined end face 6 of the optical waveguide 1 upper part, and the optical waveguide 1 is accurately positioned to a supporting body 11 by concavo-convex engagement using the V-groove 8.例文帳に追加

同様のダイサー加工によって、光導波路１の上部の、傾斜端面６の上端７から所定の距離９だけ離れた位置に、位置合わせマーカであるＶ字溝８を形成し、Ｖ字溝８を用いた凹凸嵌合によって、光導波路１を支持体１１に対し正確に位置合わせする。 - 特許庁

In the combination weighing device 1, a flat circular ring-like turntable 21 conveying the article with a rotation and a dispersion device 11, having flaps 42 to 42 which go in and out to a position which crosses the turntable 21, shown by the chained line from a position in alignment with a periphery of the turntable 21, shown with the continuous line are located on a body case 1a.例文帳に追加

組合せ計量装置１において、本体ケース１ａ上に、物品を回転搬送する平面視円環状のターンテーブル２１と、実線で示すターンテーブル２１の外周に沿った位置から鎖線で示すターンテーブル２１上を横断する位置へ出入りするフラップ４２…４２とを有する分散装置１１を配置する。 - 特許庁

In addition, the driving controller 2 drives predetermined switching elements 3U to 3W when the operation of a motor M is finished, performs the alignment of stoppage position of a rotor, and begins to drive the switching elements 3U to 3W corresponding to the preceding stoppage position of the rotor when starting the operation of the motor M and then starts the motor M.例文帳に追加

そして、駆動制御部２が、モータＭの運転終了時にて所定のスイッチング素子３Ｕ〜３Ｗを駆動してロータの停止位置の位置合わせを行うと共に、モータＭの運転開始時にて前回のロータの停止位置に対応するスイッチング素子３Ｕ〜３Ｗから駆動を開始してモータＭを起動することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an intra-vehicle compartment sound field correction method and an intra-vehicle compartment sound field correction apparatus for attaining the compatibility between both functions of time alignment control and position control and forming a more suitable sound field in response to the width in the vehicle compartment, arrangement of loud-speakers, and a listening position through the compatibility.例文帳に追加

タイムアライメントコントロールとポジションコントロールとの両機能を両立させることができ、また、両立させることによって車室内の広さ、スピーカ配置、聴取位置に応じたより一層好適な音場とすることのできる車室内音場補正方法および車室内音場補正装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an X-ray mask body structure, capable of accurately detecting the position deviation of X-ray mask body structure and highly accurately positioning the X-ray mask body structure, when the X-ray mask body structure is irradiated with alignment light for detecting the position of X-ray mask body structure provided with a dust-proof membrane.例文帳に追加

防塵用の薄膜が設けられたＸ線マスク構造体の位置を検出するためにＸ線マスク構造体にアライメント光を照射した際に、Ｘ線マスク構造体の位置ずれを精度よく検出することができ、Ｘ線マスク構造体を高精度に位置決めすることができるＸ線マスク構造体を実現する。 - 特許庁

A conveying position of paper is determined by a partition plate 35 and two side plates 34, and a vertical position is fixed up in the paper conveying direction by each stopper plate to be inset in two partition plate fitting holes 38 and 39, whereby plural lines of paper working parts sorted by a paper sorter are stowable in the specified place successively in a state of alignment.例文帳に追加

仕切板３５と側板３４によって紙の搬送方向の位置を定め、仕切板嵌合穴３８、３９にはめ込むストッパ板により紙の搬送方向に垂直な位置を定めることで、紙仕分装置により仕分けされた複数列の紙実用部を、所定の場所に順次整列状態で積載することができる。 - 特許庁

Teaching of parallelism and substrate accommodation height position of the carrier stage 6 is executed by accommodating the substrate 5 for calibration to the predetermined calibration start position within the wafer flexure check carrier 15 with a robot hand 3 for alignment of distance read from the displacement sensors 10a to 10e of the teaching jig 11.例文帳に追加

ロボットハンド３によって校正用基板５をウェハ撓み量チェックキャリア１５内の所定の校正開始位置に収容し、ティーチング治具１１の変位センサ１０ａ〜１０ｅから読み出される距離を合わせることによって、キャリアステージ６の水平出し及び基板収容高さ位置の教示を実行する。 - 特許庁

To provide an aligner or the like wherein overlay precision can be improved by accurately calculating nonlinear shift of an alignment mark and an exposure shot which are caused by distortion in a substrate surface direction of chucking of a substrate like a wafer, and performing position correction.例文帳に追加

ウエハ等の基板のチャッキングの基板面方向ひずみによるアライメントマークや露光ショットの非線形シフトを正確に算出して位置補正を行ない、オーバーレイ精度の向上を図ることができる露光装置等を提供する。 - 特許庁

By controlling the output of image data and the speed of an image carrying member for every one or more color resolved images based on the measured position and speed of the image carrying member, the deviation of the alignment is eliminated or reduced.例文帳に追加

画像搬送部材の測定された位置および速度に基づいて、１つまたはそれ以上の色分解画像ごとの画像データの出力および画像搬送部材の速度を制御して、位置合わせのずれを除去または減少させる。 - 特許庁

Then, using a circumferential alignment means 14, the position of the membrane sheet 11 in circumferential direction relative to the wiring board 10 is aligned with precision.例文帳に追加

平面方向位置決め手段１３を用いて、メンブレンシート１１の配線基板１０に対する平面方向の位置決めした後、周方向位置決め手段１４を用いて、メンブレンシート１１の配線基板１０に対する周方向の位置決めをする。 - 特許庁

A 0-system frame aligner part 4c and a 1-system frame aligner part 4d in a device on a receiving side 4 has a frame alignment function and respectively read 0-system data and 1-system data to the position of a pointer value '522' which is always to frames behind.例文帳に追加

受信側装置４における０系フレームアライナ部４ｃ及び１系フレームアライナ部４ｄはフレームアライメント機能を有し、固定的に２フレーム後のポインタ値「５２２」の位置へ０系データ及び１系データをそれぞれ読出す。 - 特許庁

A center positioning wafer with an alignment mark drawn thereon is prepared, the center positioning wafer is placed on a wafer mount base in an exposure optical system by using an aligner to align the center position between the center positioning wafer and a glass mask.例文帳に追加

アライメントマークを入れたセンター位置決定用ウエハを用意し、アライナーを用いて、露光用光学系におけるウエハ載置台にセンター位置決定用ウエハを載置するとともに、センター位置決定用ウエハとガラスマスクのセンター位置を合わせる。 - 特許庁

Illumination light is applied to the objective lens 19 to observe an image forming spot, and the position of the image forming spot and the mark 17a for alignment of the diffraction optical element 17 are made to coincide with each other while observing them by an optical microscope, etc.例文帳に追加

対物レンズ１９に対して照明光を当ててその結像スポットを観察し、結像スポットの位置と回折光学素子１７の芯合わせ用マーク１７ａとを光学顕微鏡などで観察しつつ一致させる。 - 特許庁

To provide a method for aligning a spot light position of an optical displacement detection mechanism enabling easy and secure alignment of the light from a source with an object to be measured or a light receiving surface of a photodetector.例文帳に追加

光源からの光を測定対象や光検出器の受光面へ位置合わせを行う際に、位置合わせを容易に、かつ確実に行うことが可能な光学式変位検出機構のスポット光の位置合わせ方法を提供する。 - 特許庁

A reference position of the mask is computed by adjusting the focus of an imaging device 16 in such a manner that the number of pixels of an alignment mark M2 on the mask observed in the image is equal to a preset reference threshold or larger than the threshold.例文帳に追加

画像でのマスク側のアライメントマークＭ２の画素数が、予め設定した基準閾値と一致若しくは当該基準閾値以上となるように撮像装置１６の焦点を調整してマスク側の基準位置を演算する。 - 特許庁

To improve throughput without increasing the time required for wafer alignment when the data concerning defect position obtained from a plurality of defect inspection devices with different offsets of stage coordinate are used to sense an enlarged image of defect.例文帳に追加

ステージ座標のオフセット量が異なる複数の欠陥検査装置からの欠陥位置データを用いて欠陥の拡大像を撮像する場合に、ウェーハのアライメントに要する時間を増大させることなくスループットを向上させる。 - 特許庁

This insulator 20 is constituted by having almost a V-shaped winding alignment part 22 narrowing as it goes from the outer side toward the inner side of a radial direction of the armature core so as to position the insulator almost in the center between the salient poles.例文帳に追加

このインシュレータ２０は、突極間の略中央に位置するように、電機子コアの半径方向外側から内側へ向かうに従って狭小する概略Ｖ字状の巻線整列部２２を有して構成されている。 - 特許庁

To provide a projection exposure apparatus that can form adjoining conductor patterns in an equidistant layout on a film even when an alignment mark formed on the film is displaced from an originally assumed position.例文帳に追加

フィルム上に形成されたアライメントマークが、本来想定している位置と異なる位置に変位しているような場合であっても、隣接する導体パターンを等間隔にフィルムに形成することができる投影露光装置を提供する。 - 特許庁

An optimizing part 109 further determines an objective function containing the reprojection error and the alignment error in response to a peripheral environment of the robot 1, and optimizes the determined objective function to calculate the own position of the robot 1.例文帳に追加

さらに、最適化部１０９が、これら再投影誤差及び位置合わせ誤差を含む目的関数をロボット１の周囲環境に応じて決定し、決定した目的関数を最適化してロボット１の自己位置を算出する。 - 特許庁

An alignment processing device generates a polynomial for calculating a value corresponding to a distance from the surface of a target object in a first image and acquires a plurality of position coordinates on the surface of the target object in a second image.例文帳に追加

位置合わせ処理装置は、第一の画像における対象物体の表面からの距離に応じた値を算出する多項式を生成し、第二の画像における対象物体の表面上における複数の位置座標を取得する。 - 特許庁

To provide an electrooptic device which is aligned by enabling the position of an alignment mark to be easily specified and which therefore is efficient and high assembly accuracy, and also to provide electronic equipment which uses the electrooptic device, and a method for manufacturing the electrooptic device.例文帳に追加

容易にアライメントマークの位置を特定しアライメントでき、効率的で組み立て精度の高い電気光学装置、その電気光学装置を用いた電子機器及びその電気光学装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The start position and angle of laser patterning are corrected by alignment procedures before laser machining using the power collection hole 67, or the like in the thin-film solar cell 1, thus forming the patterning line of a first electrode layer 62 or a connection electrode 65.例文帳に追加

薄膜太陽電池１の集電孔６７等を用いたレーザ加工前アライメント手順によりレーザパターニングの開始位置補正及び角度補正を行ない、第１電極層６２又は接続電極層６５のパターニングラインを形成する。 - 特許庁

To form support pillars on a support silicon substrate using one alignment mark and to enable the formation of patterns with good accuracy at the prescribed position in small regions constituted of the support pillars on the substrate.例文帳に追加

１つのアライメントマークを用いて支柱を形成し、支柱により形成される小領域内の所定の位置に精度良くパターンを形成することが可能な転写マスクブランクスの製造方法及び転写マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device-height adjusting apparatus that facilitates adjustment of heights of a plurality of adjacent devices without applying a load to the adjacent devices such as when connecting the adjacent devices to each other by a connecting means for position alignment.例文帳に追加

隣接する機器を位置調合用連結手段で連結した場合のように、隣接する機器に負荷を掛けることなく、隣接する複数の機器の高さを容易に調整することが可能な機器の高さ調整装置を提供する。 - 特許庁

The alignment system includes multiple external measurement devices 124 which obtain position measurements of components of radiation therapy devices 100 which are movable and/or are subject to flex or other positional variations.例文帳に追加

位置決めシステムは、放射線治療装置１００の構成要素の位置および方向付けの測定値を取得し、可動でおよび／または屈曲を受けまたは公称から他の位置変化を受ける複数外部測定装置１２４を含む。 - 特許庁

Further, the solder 2 sandwiched between a component electrode 3a and the substrate 1 is fused to flow to the side of the electrode 3a and then spread entirely over the electrode 1a, thereby obtaining self-alignment effect and achieving soldering to the correct position.例文帳に追加

また、部品電極３ａと基板１との間に挟まれた半田２は溶融して電極３ａ側に流動して電極１ａ全体に広がってセルフアライメント効果が得られ正しい位置への半田付けが行われる。 - 特許庁

A square surface exposing pattern 9 is formed on a dielectric separation wafer 100 and a cross-shaped mask-side alignment mark 14 is formed at a position corresponding to the pattern 9.例文帳に追加

誘電体分離ウェハ１００上に四角形状の表面露出パターン９を形成すると共に、この表面露出パターン９の位置に対応するマスク２００上の位置に十字形状のマスク側位置合わせマーク１４を形成する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel in which input sensitivity is improved and a coordinate detecting error due to an alignment error is prevented in order to effectively detect the input position selected by a user.例文帳に追加

本発明は使用者によって選択された入力位置を効果的に検出するために、入力感度を向上させ整列誤差による座標検出不良を防止する液晶表示パネル及びそれの製造方法に関する。 - 特許庁

After canceling the inclination of the repetitive pattern formed on a work by the angular alignment, the intersection of streets in a vicinity of a center of the work is determined as the reference position for setting the machining range by the pattern matching.例文帳に追加

角度アライメントによって被加工物に形成された繰り返しパターンの傾きをうち消した後、パターンマッチングによって、被加工物の中心近傍にあるストリートの交点を、加工範囲設定のための基準位置として定める。 - 特許庁

The control section generates a plurality of sets of sample shot from a plurality of shot regions on the substrate, and makes the measuring instrument measure the position of an alignment mark, respectively, under a plurality of measurement conditions for each of the plurality of sets of sample shot.例文帳に追加

制御部は、基板上の複数のショット領域から、複数のサンプルショットセットを生成し、複数のサンプルショットセットのそれぞれに関し、複数の計測条件のそれぞれで計測器にアライメントマークの位置を計測させる。 - 特許庁

To provide an alignment apparatus capable of continuously maintaining an effect of positioning a plate-like member, a conveying apparatus capable of conveying the plate-like member while maintaining its position, and a sheet pasting apparatus comprising their apparatuses.例文帳に追加

板状部材の位置決めを行った効果を継続的に維持することのできるアライメント装置と、板状部材の位置を保ったまま搬送することのできる搬送装置と、これら各装置を用いたシート貼付装置を提供すること。 - 特許庁