「first process」に関連した英語例文の一覧と使い方(99ページ目) - Weblio英語例文検索

If the variance between the patterns of components of the first element 14a and second element 14b is generated because of a process in a manufacturing stage, patterns of components of the auxiliary capacitors disposed in the same layers with the respective components are considered to have variance at nearly the same ratio.例文帳に追加

製造過程において、プロセス上の理由により、第１素子１４ａ及び第２素子１４ｂの各要素のパターンにバラツキが生じた場合には、各要素と同一層に位置する、各補助容量の構成要素のパターンも略同一の割合でバラツキが生じることになる。 - 特許庁

This structure enables charge the second wiring 11b bears during the manufacturing process to be dispersed to the dummy wiring 11c, thus enabling the alleviation of a potential difference between the first wiring 11a and the second wiring 11b compared with a case that the dummy wiring 11c is not provided.例文帳に追加

このような構造とすることにより、製造工程中に第二配線１１ｂに電荷が帯電した場合、この電荷をダミー配線１１ｃに分散させることができ、ダミー配線１１ｃが無い場合と比較して、第一配線１１ａと第二配線１１ｂの間の電位差を緩和することができる。 - 特許庁

To materialize a metal gate CMOS semiconductor device which suppresses damages to a semiconductor substrate, a gate insulating film, and first and second electroconductive layers (metal gate electrode materials) in a production process as much as possible, prevents an increase of a gate resistance value and a gate leakage current, and is extremely high reliable.例文帳に追加

製造プロセスにおける半導体基板やゲート絶縁膜、第１及び第２の導電層（金属ゲート電極材料）へのダメージを可及的に抑止し、ゲート抵抗値及びゲートリーク電流の増加を防止して、極めて信頼性の高い金属ゲートＣＭＯＳ型の半導体装置を実現する。 - 特許庁

In a first cooking process, at least one of the steam generating heater 52 and the gas heat-up heater 41 is controlled by the control device 80 to supply the superheated steam to the heating chamber 20 and to heat the foodstuff F to reduce salt content in the foodstuff F.例文帳に追加

第１の調理過程では、蒸気発生ヒータ５２または気体昇温ヒータ４１の少なくともいずれかを制御装置８０が制御することによって過熱水蒸気を加熱室２０内に供給して食材Ｆ中の塩分を減少させるように食材Ｆを加熱する。 - 特許庁

A face image list display process part 301 classifies face images, which are extracted from the video content data, into a first face image group belonging to a predetermined attribute section (CM section, music section or talk section or the like) and a second face image group belonging to sections other than the predetermined attribute section.例文帳に追加

顔画像一覧表示処理部３０１は、映像コンテンツデータから抽出された顔画像を所定属性区間（ＣＭ区間、音楽区間、またはトーク区間等）内に属する第１の顔画像グループと特定属性区間以外に属する第２の顔画像グループとに分類する。 - 特許庁

The sequence of images is combined in a temporal integration process to create a long exposure image that simulates the output from a still camera, steadied by a tripod, whose light-sensitive material has been exposed to the same scene from the time of the beginning of the first input image of the sequence to the last image of the input sequence.例文帳に追加

画像のシーケンスは、時間積分プロセスで結合され、三脚によって固定されたスチールカメラからの出力をシミュレートする長時間露光画像を生成し、この感光材料は、シーケンスの最初の入力画像の開始時から入力シーケンスの最後の画像まで、同じシーンに露光される。 - 特許庁

The method for producing flavor extract comprises the process for adding liquid polyhydric alcohol or aqueous solution of polyhydric alcohol to the raw material, subjecting the mixture to heat extraction as a first stage extraction, and thereafter adding ethanol to the mixture to carry out a second stage extraction.例文帳に追加

本発明は、第１段階の抽出として原料に液状の多価アルコール、もしくは多価アルコールの水溶液を加え加熱抽出をした後、さらにエタノールを加えて第２段階の抽出をする工程を有することを特徴とする香味抽出物の製造方法である。 - 特許庁

Then, they are combined in a composition processing part 109, and an output control part 104 instructs a print output part 105 to print and output the first background image by a black print material and the second background image by a process black print material on which CMY colors are superimposed.例文帳に追加

そして、これらを合成処理部１０９で合成し、出力制御部１０４では、第一背景画像を黒色の印刷材料で、第二背景画像をＣＭＹ色を重ね合わせたプロセスブラックの印刷材料で印刷出力するように印刷出力部１０５に対して指示を行う。 - 特許庁

To reduce the number of steps in a manufacture process, to prevent the defect of a contact between a substrate and a lower electrode (first electrode) and a cylinder fall and to improve yield by manufacturing a cylindrical capacitor having a support structure without using an adhesion enhanced layer.例文帳に追加

密着性改善層を用いることなくサポート構造を有するシリンダ型キャパシタを作製することで、製造工程の工程数を削減し、基板と下部電極（第１の電極）とのコンタクト不良及びシリンダ倒れを防止し、歩留まりを向上させることを課題とする。 - 特許庁

The signal amplified up to the adequate level is then subjected to the waveform equalization process with the waveform equalizing circuit PHASE EQ 220, COS EQ230 and is limited in the bandwidth with LPF 240 and is then inputted to the AGC-1 (130) as the first AGC circuit for amplification again up to the adequate level.例文帳に追加

適性レベルまで増幅された信号は、波形等化回路であるＰＨＡＳＥ ＥＱ２２０、ＣＯＳ ＥＱ２３０により波形等化処理され、ＬＰＦ２４０で帯域を制限され、第１のＡＧＣ回路であるＡＧＣ−１（１３０）に入力し、再び適正レベルまで増幅される。 - 特許庁

A processing circuit 170 is configured to process an executable instruction for registering the 3D model with the fluoroscopy image in response to a discriminable parameter related to the catheter in the common reference system and both of the first and second image acquisition systems.例文帳に追加

処理回路１７０が、共通の参照系、並びに第一及び第二の画像取得システムの両方におけるカテーテルに関連する識別可能なパラメータに応じて、３Ｄモデルとフルオロスコピィ画像とを位置揃えするための実行可能な命令を処理するように構成されている。 - 特許庁

The management server 13 accumulates information sent from an information manager terminal 11, and when the information manager terminal 11 or a merchandise seller terminal 12 is accessing, access is allowed with priority on a WEB page displayed first after execution of a log-in process.例文帳に追加

また、管理サーバー１３は、情報管理者端末１１から送られたお知らせ情報を蓄積し、情報管理者端末１１や商品販売者端末１２からのアクセスがあると、ログイン処理を実行後に最初に表示するＷＥＢページにて、優先的に閲覧可能とする。 - 特許庁

In a process/where potting resin is cured, the potting resin shrinks in volume, by which the gap S is decreased also in volume, but the second filler of low elasticity filled into the potting resin is present in the gap S, so that stresses developed on the primary surface of the semiconductor chip by the first filler can be lessened.例文帳に追加

ポッティング樹脂のキュアの工程で、ポッティング樹脂の体積は縮小し、これによって間隙Ｓも縮小されるが、上記低弾性の第２のフィラーが間隙に存在するので、第１のフィラーによって与えられる半導体チップ主面への応力が低減される。 - 特許庁

A polishing stopper layer 42 with high polishing resistance is formed on a substrate 41, and then is subjected to a dry etching process with a dry etching device by using a photoresist layer as a mask so as to form an opening section 46, and a first coloring layer 56 is formed so as to bury the upper side of the polishing stopper layer 42 and the opening section 46.例文帳に追加

支持体４１上に研磨耐性の高い研磨ストッパー層４２を形成した後、フォトレジスト層をマスクとしてドライエッチング装置でドライエッチング処理し、開口部４６を形成し、研磨ストッパー層４２上及び開口部４６を埋め込むように第１の着色層５６を形成する。 - 特許庁

When receiving a holding number-of-times command (S1007:Yes), when it is determined that the bit corresponding to a first holding ball of a continuous notice flag 223b is 1 (S1009:Yes), since a continuous notice performance is under execution at present, subsequent processings are omitted and the process returns to a main processing.例文帳に追加

保留回数コマンドを受信した場合に（Ｓ１００７：Ｙｅｓ）、連続予告フラグ２２３ｂの第１保留球に対応するビットが１であると判別されると（Ｓ１００９：Ｙｅｓ）、現在連続予告演出が実行中であるので、以降の処理を省略して、メイン処理に戻る。 - 特許庁

An image reading device Z which includes a first scanner 1 that reads front side information of a manuscript P and a second scanner 2 that reads back side information of the manuscript P, has a recognition means for recognizing a mark inscribed on the back side of the manuscript P read by the second scanner 2 and determining a content of a process.例文帳に追加

原稿Ｐの表面情報を読み取る第一スキャナ１と、原稿Ｐの裏面情報を読み取る第二スキャナ２と、を備えた画像読取装置Ｚにおいて、第二スキャナ２で読み取られた原稿Ｐの裏面に記されたマークを認識して処理内容を決定する認識手段を設けた。 - 特許庁

The aligning process includes steps of (a) irradiating light at first and second substrates 10 and 30 and measuring the luminance of reflecting light of the luminance measuring area 100, and (b) moving the second substrate 30 in parallel with the Y axis and specifying the position where the luminance becomes smallest.例文帳に追加

位置合わせ工程は、（ａ）第１及び第２の基板１０，３０に光を照射して、輝度測定エリア１００の反射光の輝度を測定すること、及び、（ｂ）第２の基板３０をＹ軸と平行に移動させて、輝度が最も小さくなる位置を特定することを含む。 - 特許庁

An already-existing apparatus which performs only processing of the standard compliant data can perform the processing by applying the first management information, and a new-type apparatus which is capable of performing processing of the standard non-compliant data can reproduce all the data by a process to which the second management information is applied.例文帳に追加

規格対応データに対する処理のみを実行する既存装置は第１管理情報を適用して処理を行い、規格非対応データに対する処理の可能な新型装置は、第２管理情報を適用した処理によってすべてのデータの再生が可能となる。 - 特許庁

The manufacturing process of the encapsuled part 1 includes the steps of depositing layer of polymer material on the upper wall 7 of the first cavity 3, annealing the same to form a projecting sacrifical layer, depositing a thin film on the sacrifical layer, and removing the sacrifical layer to form a projecting second cover 10.例文帳に追加

前記カプセル封じ部品１の製造プロセスは、まず第１の空洞３の上壁７上にポリマー材料の層を堆積しそれをアニールして凸状の犠牲層を作り、その犠牲層上に薄膜を堆積し、犠牲層を除去すると凸状の第２のカバー１０ができる。 - 特許庁

Since the second mask used to adhere a plurality of times by moving does not come into direct touch with the organic light emitting material, a scratch does not occur, mask matching becomes easy, a back face electrode mask by the first mask is fixed to dispense with new mask matching, and a process becomes simple.例文帳に追加

移動して複数回付着するのにもちいる第二のマスクは有機発光材料に直接タッチしないので傷がつかない、またマスク合わせが容易であり、第一のマスクによる背面電極マスクは固定されあらたなマスク合わせは不要であり、工程が簡単になる。 - 特許庁

A selection or changeover process is executed which uses the first reference clocks 62 when the frequency in a laser output command is several Hz to 2 kHz, and uses the second clocks 64 when the frequency in a laser output command is >2 kHz and ≤10 kHz.例文帳に追加

レーザ出力指令における周波数が数Ｈｚ〜２ｋＨｚ以下である場合には第１基準クロック６２を使用し、レーザ出力指令における周波数が２ｋＨｚを超え１０ｋＨｚ以下である場合には第２基準クロック６４を使用する選定又は切替処理が行われる。 - 特許庁

The device has a first tubular body 110 used as an evaporator and a separator of impurities of the refrigerant sent from a refrigerant circuit 50 through ducts 51 and 52, and a second tubular body 104 used for separating the refrigerant 130 from oil 131 contained during a compression process.例文帳に追加

装置は、冷媒回路（５０）からダクト（５１、５２）を介して送られる冷媒の蒸発器及び不純物の分離器として使用される第１の管本体（１１０）と、冷媒（１３０）を圧縮工程中に混入された油（１３１）から分離するために使用される第２の管本体（１０４）とを有する。 - 特許庁

This method for purifying the oils and fats is provided by putting off a degumming process including a first phosphoric acid treatment in a conventional oils and fats-purification flow, performing firstly an acid-removal with an alkali, then performing the phosphoric acid treatment, and performing an activated carbon treatment to remove impurities such as peroxylipids, metals, etc., and the degumming simultaneously.例文帳に追加

従来の油脂精製フローの内、最初のリン酸処理を含む脱ガム工程は後にまわし、まずアルカリによる脱酸を行ってからリン酸処理をし、その後活性炭処理することにより、過酸化脂質と金属などの不純物の除去及び脱ガムを同時に行うこと。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and a process cartridge in which deformation of the tip of a first blade by rolling of the tip in image formation is prevented, and contamination of a charging roller by a lubricant splashed by rolling of the tip of a second blade in reverse rotation of an image carrier is also prevented.例文帳に追加

画像形成時の第１ブレード先端の巻き込みによるブレード先端の変形を防止するとともに、像担持体逆回転時に第２ブレード先端の巻き込んで潤滑剤を弾き飛ばし帯電ローラを汚染させることを防止する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

The information processing unit 5 conveys the sample rack L, by controlling a specimen conveying unit 4 and performs a process to the specimen container T of the sample rack L during taking the specimen container T to the inside so that the first 2 and the second measuring unit 3 suck in the specimens therein.例文帳に追加

第１測定ユニット２又は第２測定ユニット３が検体を吸引するために検体容器Ｔを内部に取り込んでいる間に、情報処理ユニット５は検体搬送ユニット４を制御してサンプルラックＬを搬送し、サンプルラックＬの検体容器Ｔに対して処理を実行する。 - 特許庁

To suppress the remainder after etching in the second insulating film 2 or generation of side etching for a device separating structure comprising the first and second insulating films for suppressing a mixed colors and avoiding short-circuiting in a display of an organic electroluminescence in which a luminescence layer is formed by an ink-jet process.例文帳に追加

インクジェットプロセスにより発光層が形成される有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、混色抑制と短絡回避のために、第１の絶縁膜および第２の絶縁膜を備えた素子分離構造に対して、第２の絶縁膜2のエッチング残さやサイドエッチの発生を、抑制する。 - 特許庁

In the process, a first temporary gate sidewall spacer defines a rising source/drain formation area, a second temporary spacer defines a source/drain injection and source/drain silicification area, and the temporary gate is protected from being silicified by the hard mask.例文帳に追加

その処理において、第１の一時ゲート側壁スペーサは隆起したソースおよびドレインの形成用の領域を定義し、第２の一時スペーサはソースおよびドレインの注入用ならびにソースおよびドレインの珪化用の領域を定義し、一時ゲートはハードマスクによって珪化から保護される。 - 特許庁

The film thickness measuring method includes a process of calculating the film thickness of the second cell layer on the basis of transmissivity at an optional position within the substrate surface where a transparent electrode layer and a photoelectric conversion layer are formed and a transparent electrode layer haze ratio and a first cell layer film thickness measured beforehand.例文帳に追加

透明電極層及び光電変換層が形成された基板面内の任意の位置における透過率と、予め測定された透明電極層ヘイズ率及び第１セル層膜厚とに基づき、第２セル層の膜厚を算出する工程とを含む膜厚計測方法。 - 特許庁

A coating process is added between the first and the second etching processes, and thereby the side-etching can be prevented even when not performing a plurality of etching processes, and consequently the layer 21 having a desired shape can be formed in a small number of processes.例文帳に追加

第１エッチング処理工程および第２エッチング処理工程との間に、被覆処理工程を設けることによって、エッチング処理工程を複数回行わなくても、サイドエッチを防止することができ、所望の形状の被処理層２１を、少ない工程数で形成することができる。 - 特許庁

Consequently, when a plurality of processing schedule lines formed on the work are more inclined than a preset angle, more than a parallel state, the work is processed with only the first spindle 22, and the second spindle 23 moves to the second work table 23 to process the work on the second work table.例文帳に追加

その結果、該ワーク上に形成された複数の加工予定ラインが予め設定された角度以上に平行状態よりも傾斜していた場合は、第１のスピンドル２２のみで該ワークの加工を行い、第２のスピンドル２３が第２のワークテーブル２３に移動し、第２のワークテーブル上のワークを加工する。 - 特許庁

Thus because the MOD layer 31 is formed at first and subsequently the vapor phase synthesized layer 32 is formed, this can prevent the deterioration in properties of the vapor phase synthesized layer 32 due to heat treatment in the process of forming the MOD layer 31 (heat treatment in the MOD method).例文帳に追加

このように、ＭＯＤ層３１を先に形成してから、その後に気相合成層３２を形成することになるので、ＭＯＤ層３１を形成する工程での熱処理（ＭＯＤ法における熱処理）により気相合成層３２の特性が劣化することを防止できる。 - 特許庁

In a die 31 at the lower side in an intermediate forming process, since the width W1 of the interval at the upper opening end of an inclining restricted surface 311 is largely formed a little rather than the outer diameter size D of the outer periphery 11 of a first rack blank 1, the upper half part of the rack blank 1 has no binding force at the forming time.例文帳に追加

中間成形工程の下側のダイ３１は、傾斜拘束面３１１の上方開口端間の幅Ｗ１が、第１のラック素材１の外周１１の外径寸法Ｄよりも若干大きく形成されているため、ラック素材１の上半分は、成形時の拘束力が無い。 - 特許庁

An overall control part is composed so as analyze a transfer process, by comprising: a first electric field calculation part 12; a discharge determination pre-processing part 13; a discharge start determination part 14; a moving charge amount calculation part 15; a discharge charge arrangement part 16, a second electric field calculation part 17, and a toner behavior analysis part 18.例文帳に追加

全体制御部は、転写プロセスの解析を行うために、第１電界計算部１２、放電判定前処理部１３、放電開始判定部１４、移動電荷量算出部１５、放電電荷配置部１６、第２電界計算部１７、トナー挙動解析部１８を備えて構成されている。 - 特許庁

In addition, a second vertical hole 36 with a larger diameter than the first vertical hole 30 is excavated through a second excavation process where the second vertical hole 36 is excavated from an upper side of the boundary surface 34 between the contaminated layer 20 and an upper layer 18 thereof to the lower side of the boundary surface 28 between the contaminated layer 20 and the impermeable layer 22.例文帳に追加

次に、第２掘削工程により、汚染層２０と汚染層２０の上層１８との境界面３４の上方から、汚染層２０と不透水層２２との境界面２８の下方まで、第１縦穴３０より大径の第２縦穴３６が掘削される。 - 特許庁

Thereafter, the main etching process is terminated before the silicon oxide film 102 is exposed as shown in Fig. 1 (b) and overetching is performed using a gas including at least HBr under a second pressure ranging 13 Pa to 27 Pa, which is higher than the first pressure.例文帳に追加

この後、図１（ｂ）に示すように、シリコン酸化膜層１０２が露出する前に、上記メインエッチング工程を終了し、少なくともＨＢｒを含むガスを用い、第１の圧力より高い１３Ｐａ以上、２７Ｐａ以下の第２の圧力で、オーバーエッチング工程を行う。 - 特許庁

When testing software, at first in a correct answer registration process, output data of a target program 18 are obtained on the basis of a test scenario held in a test scenario holding device 11, and output data matched with predetermined specifications are registered in a correct answer holding device 13 as correct answer data.例文帳に追加

ソフトウェアの試験を行うとき、初めに、正解登録工程において、試験シナリオ保持装置１１に保持される試験シナリオに基づいて、対象プログラム１８の出力データを取得し、予め定める仕様に合致する出力データを正解データとして正解保持装置１３に登録しておく。 - 特許庁

During the soft programming process, the system identifies the number of programming pulses needed for a first set of the nonvolatile storage elements to complete the software programming, and the number of programming pulses needed for all but a last set of the nonvolatile storage elements to complete software programming.例文帳に追加

ソフト書き込みの間、システムは、不揮発性記憶素子の第１セットに対してソフト書き込みを終了するための書き込みパルスの数と、不揮発性記憶素子の最後のセット以外の全てのセットに対してソフト書き込みを終了するための書き込みパルスの数を特定する。 - 特許庁

An encoding process selector 420 determines which of the reversible model or the irreversible model is used to generate code data with higher encoding efficiency, based on feature information of image data inputted from a first conversion selector 300 (Fig.3), or an irreversible part 304.例文帳に追加

また、符号化処理選択部４２０は、第１の変換選択部３００（図３）または非可逆部３０４から入力された画像データの特徴情報に基づいて、可逆モデルおよび非可逆モデルのいずれを用いることで符号化効率のより高い符号データを生成することができるかを判断する。 - 特許庁

An input device 100 is configured to identify an operation (a first, second or third operation) that has been performed to a touch panel 102 and that relates to the selection of a region, identifies any one of the processes selected by a user according to the identified operation, and carries out the process.例文帳に追加

タッチパネル１０２に対しておこなわれた、領域の選択にかかる操作（第１の操作、第２の操作または第３の操作）を特定し、特定された操作にしたがって、ユーザに選択された処理のいずれか一つを特定し、特定された処理を実行する入力装置１００を構成した。 - 特許庁

An internal pressure is imparted to a preform 1a in a mold body section 16 in an expansion/swelling process under a state wherein a mold bottom section 17 is positioned at a second specified position which is lower than a first specified position, and an intermediate molded body 1b having a bottom swollen section 1c for which the lower section is made to swell downward is formed.例文帳に追加

底部金型１７を第１の所定位置よりも下方の第２の所定位置に位置させた状態で、延伸膨出工程により、胴部金型１６内のプリフォーム１ａに内圧を付与し、下部を下方に膨出させた底部膨出部１ｃを有する中間成形体１ｂを形成させる。 - 特許庁

In displaying a process of creating a picturesque image through drafting and coloring, as shown in (a), a draft drawing Z2 drawn with a pencil-like drawing line L obtained by extracting the outline of the photographed image is first displayed on a liquid crystal monitor to display the step of drafting.例文帳に追加

下描き、色付けを経て絵画風画像が作成されるまでの過程を表示するにあたり、（ａ）に示すように、最初に、撮影画像の輪郭を抽出することにより得られた鉛筆風画線Ｌからなる下図Ｚ２を液晶モニタに表示させ、下描きの工程を表示する。 - 特許庁

A guidance output unit 514 outputs the first guidance on the next operation for configuring settings (functions) of process items when there is no operation for a predetermined time period t1 since an operation screen is displayed on a display part 410.例文帳に追加

ガイダンス出力部５１４は、当該操作画面が表示部４１０に表示されてから所定時間ｔ１の間何らの操作も行われなかったとき、前記処理項目についての設定値（機能）の設定を進めるための次の操作を誘導するガイダンスを第１回目のガイダンスとして出力する。 - 特許庁

To provide a developing device, a process cartridge, and an image forming apparatus that eliminate failure that a partition member separating a first conveyance path from a second conveyance path and opposed to a developer carrier bumps into the developer carrier during transportation, storage, etc. before starting the use of the developing device.例文帳に追加

現像装置の使用が開始される前の輸送時や保管時等に、現像剤担持体に対向する第１搬送経路と第２搬送経路とを仕切る仕切り部材が、現像剤担持体にぶつかってしまう不具合が生じることのない、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In this etching process, for the first region, the insulating layer 30 is etched to form a through hole 34 for electrical connection with the metal pattern 18, and for the second region, the insulating layer 30 and the semiconductor pattern 16 are etched to remove the second portion 28 of the semiconductor pattern 16.例文帳に追加

エッチング工程で、第１領域では絶縁層３０をエッチングして金属パターン１８との電気的接続のための貫通穴３４を形成し、第２領域では絶縁層３０及び半導体パターン１６をエッチングして、半導体パターン１６の第２部分２８を除去する。 - 特許庁

A color conversion coefficient group for converting image information of a first color space to image information of a second color space is determined in accordance with the obtained image information related to the yellow reflecting plate Ref_Y, and a color conversion process related to the irradiation object is executed using the determined color conversion coefficient group.例文帳に追加

そして、取得した黄色反射板Ｒｅｆ_Ｙに関する画像情報に応じて、第１の色空間の画像情報を第２の色空間の画像情報に変換する色変換係数群を決定し、決定した色変換係数群を用いて、被照射体に関する色変換処理を行う。 - 特許庁