「first process」に関連した英語例文の一覧と使い方(102ページ目) - Weblio英語例文検索

In the process, a zinc oxide sintered compact is not obtained by blending an Al_2O_3 powder with a ZnO powder and molding the blend, but first, a preliminary calcined powder including a ZnAl_2O_4 phase is produced, and this calcined powder is mixed with a ZnO powder, and compacted and sintered to form the zinc oxide sintered compact.例文帳に追加

ここで、Ａｌ_２Ｏ_３粉末とＺｎＯ粉末とを配合、成形して焼結体を得るのではなく、まずＺｎＡｌ_２Ｏ_４相を含む仮焼粉末を製造し、この仮焼粉末とＺｎＯ粉末とを配合、成形、焼成して酸化亜鉛焼結体を形成する。 - 特許庁

In the first process, the refrigerating machine oil is recovered along with a part of a refrigerant communicated with a gas side port (28) of the refrigerant circuit (20), from the gas side port (28) opening to the gas side connecting pipe (24) at a closed position of a gas side closing valve (26) provided at one end of a heat source side circuit (21).例文帳に追加

第１工程では、熱源側回路（21）の一端に設けられたガス側閉鎖弁（26）の閉鎖位置のガス側連絡配管（24）側に開口するガス側ポート（28）から、冷媒回路（20）のうちガス側ポート（28）に連通する部分の冷媒の一部と共に冷凍機油を回収する。 - 特許庁

In a first process, slaked lime having the molar ratio of quick lime to water of quick lime: water of 1:8 in formation and 1.6 wt.% calcium carbonate content is slurried by using a liquid having pH 6.8 into 30 wt.% concentration to give a milk of slaked lime.例文帳に追加

第１段工程において、生成時の生石灰と水のモル比が、生石灰：水＝１：８の消石灰であり、かつ炭カル含有率が１．６重量％である消石灰に対して、ｐＨ６．８の液を用い、濃度３０重量％になるようにスラリー化させ消石灰乳を得る。 - 特許庁

In the manufacturing process of electronic component, expansion of plating can be prevented, when a second metal electrode layer 34 and a third metal electrode layer 36 are formed, by forming a glass layer 40 at an edge of a first metal electrode layer 32 on the front surface of a ceramic raw material 10.例文帳に追加

この電子部品の製造方法では、セラミック素体１０の表面上に第１の金属電極層３２の縁にガラス層４０を形成することで、第２の金属電極層３４及び第３の金属電極層３６を形成する際のめっき伸びを防止できる。 - 特許庁

To provide a patterning method in which a first drawing pattern and a second drawing pattern are aligned with high accuracy when patterns are drawn as overlapped to form a pattern by using a plurality of patterning steps by use of a photolithographic process on the same substrate.例文帳に追加

同一基板上にフォトリソグラフィー法を用いた複数のパターニング工程を用いてパターンを形成するために重ね合わせ描画する場合、１回目の描画パターンと２回目の描画パターンとが高い精度で位置合わせされて形成されるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In an inspection process, power supply voltage is supplied to a bonding substrate base material 10 through a first C-coupling terminal 26 formed on the bonding substrate base material 10, and an inspection signal is supplied to a drive circuit 14 through a second C-coupling terminal 27 formed on the bonding substrate base material 10.例文帳に追加

検査工程では、貼合せ基板母材１０に形成された第１Ｃカップリング端子２６を介して貼合せ基板母材１０に電源電圧を供給すると共に、貼合せ基板母材１０に形成された第２Ｃカップリング端子２７を介して駆動回路１４に検査信号を供給する。 - 特許庁

The control method comprises procedures: first, an internal mold pressure sensor is installed in a mold; when a measured detection value reaches preset internal mold pressure, control to maintain a screw position at that time is started and then shifted to a dwelling process after the lapse of a preset time.例文帳に追加

金型に型内圧センサを設け、検出された検出値があらかじめ設定した型内圧に到達したら、その時点のスクリュ位置を維持する制御を開始し、このスクリュ位置維持制御は、あらかじめ設定した時間が経過すると解除されて保圧工程に移行する。 - 特許庁

The flow differences between the region near the gas exhaust opening 17 and the region distant therefrom are suppressed in the region of the lower side of the boat 14, owing to the second current plate 19 arranged between the boat 14 and the gas exhaust opening 17, with respect to the process gas 21 which is extended with the first current plate 18.例文帳に追加

第１整流板１８によって広げられたプロセスガス２１は、ボート１４とガス排気口１７との間に設けられた第２整流板１９によって、ボート１４下側の領域における、ガス排気口１７側に近い領域と遠い領域との流れ方の差が抑えられる。 - 特許庁

In a process in which dielectrics constituting the charge storage films CHS are formed on the bottom dielectric film BTM, the dielectric (the first film CHS1) brought into contact with a boundary with at least the bottom dielectric film BTM in the dielectrics is formed by using atomic-layer deposition(ALD).例文帳に追加

電荷蓄積膜ＣＨＳを構成する誘電体をボトム誘電体膜ＢＴＭ上に形成する工程において、その誘電体のうち、少なくとも、ボトム誘電体膜ＢＴＭとの境界に接する誘電体（第１の膜ＣＨＳ１）を原子層堆積（ＡＬＤ）を用いて形成する。 - 特許庁

The boron nitride powder surface is first treated, by a calcination process or by coating the surface with at least an inorganic compound, so as to have a plurality of reactive sites containing at least a functional group that is reactive to at least one functional group of the final coating layer.例文帳に追加

窒化ホウ素粉末表面は、最初に、焼成工程により、或いは表面が最終的なコーティング層の少なくとも１つの官能基に反応する少なくとも官能基を含む複数の反応部位を有するように少なくとも無機化合物でコーティングすることにより処理される。 - 特許庁

This method for producing a polyamide-epihalohydrin resin aqueous solution comprises the following process: a polyamide-polyamine is first prepared by condensation reaction under heating between an aliphatic dibasic carboxylic acid and/or a derivative thereof and a polyalkylene polyamine in the molar ratio of 1:(0.8-0.89), in the presence of a basic compound, and is incorporated with an epihalohydrin, which is then reacted.例文帳に追加

脂肪族二塩基性カルボン酸及び／又はその誘導体とポリアルキレンポリアミンとのモル比が１：０．８〜０．８９で加熱縮合させて得られるポリアミドポリアミンとエピハロヒドリン、又は該ポリアミドポリアミンに塩基性化合物を加えて、エピハロヒドリンを反応させることによって得られる。 - 特許庁

In the second discharge process, the uncontaminated liquid crystal material F newly supplied (replenished) to the discharge head is arranged to each of the arranging region S and the contaminated liquid crystal material F arranged at the first time is diluted by the uncontaminated liquid crystal material F arranged at the second time.例文帳に追加

２回目の吐出行程では、各配置領域Ｓは、吐出ヘッドに新たに供給（補給）された汚染されてない液晶材料Ｆを配置して、１回目に配置された汚染された液晶材料Ｆを、２回目に配置される汚染されてない液晶材料Ｆによって希釈化する。 - 特許庁

The super-depth desulfurization process of a gas oil fraction is such that the gas oil fraction is contacted with the first catalyst along with hydrogen into such a hydrodesulfurization that a sulfur content may become 100 ppm-5,000 ppm, and a dibenzothiophene content may become 10 ppm or less, and then is contacted with the second catalyst along with hydrogen.例文帳に追加

軽油留分の超深度脱硫方法は、軽油留分を、水素とともに第１触媒に接触させて１００〜５０００ｐｐｍの硫黄分及び１０ｐｐｍの以下のジベンゾチオフェンとなるように水素化脱硫し、次いで、第２触媒に水素と共に接触させる。 - 特許庁

As compared with the case of forming the fluorescent surface as one lot by one transfer film, correction of only one process can do, even if either one of the forming processes of the first and the second fluorescent substance parts produce failures, thus the yield of manufacture can be improved.例文帳に追加

また、１つの転写用フィルムのみで一括して蛍光面を形成する場合と異なり、第１の蛍光体部および第２の蛍光体部のいずれか一方の形成工程に不良が生じたとしても、いずれか一方の工程のみをやり直すだけで良く、歩留まりの向上を図ることができる。 - 特許庁

An FBI generator 131 executes a calculating process, based on the phase difference and the amplitude difference, generates an amplitude control bit and first and second phase control bits, adds a third phase control bit generated by the generator 150 to the bits and generates the FBI data.例文帳に追加

ＦＢＩ生成部１３１は、上記位相差および振幅差に基づく演算処理を実施して、振幅制御ビット、および第１と第２の位相制御ビットを生成し、これにランダムビット生成部１５０にて生成した第３の位相制御ビットを加えてＦＢＩデータを生成するようにしたものである。 - 特許庁

Based on a request from a management terminal device 13, a management server 12 displays a usage condition of each knowledge object and that of each processing process of the knowledge object on a display screen of the management terminal device 13 based on the first selection information and the second selection information.例文帳に追加

管理端末装置１３からの要求に基づいて、管理サーバ１２は、第１選択情報と第２選択情報に基づいて同管理端末装置１３の表示画面に各知識オブジェクトの利用状況、前記知識オブジェクトの各処理工程の利用状況を表示させる。 - 特許庁

Next, the control command Pr for gradually raising the displacements (z) of at least the three actuators 11, 12, 13 is imparted to the actuators so that the vibration resistant stand 1 is made to gradually reach up to the final target height position (zs) from the first height position (a floating process 2: Step 109, 110, 111).例文帳に追加

つぎに少なくとも３つのアクチュエータ１１、１２、１３の変位ｚを徐々に上昇させる制御指令Ｐrが当該アクチュエータに与えられ除振台１が第１の高さ位置から最終目標高さ位置ｚsまで徐々に到達される（浮上過程２：ステップ１０９、１１０、１１１）。 - 特許庁

In the manufacturing process, first, the liquid wax 4 is oozed through a coating pad 7 by a pressure of a non-reactive gas, the holding substrate 3 is contacted with the coating pad 7, and the wax 4 is applied to one side of the holding substrate, then, the holding substrate 3 is tempolarily adhered to the work.例文帳に追加

この貼り合わせ部材は、非反応性ガスの圧力により液状のワックス４を塗布パッド７から滲出させ、保持基板３を塗布パッド７に接触させて保持基板３の片面にワックス４を塗布した後、加工対象物に保持基板３を仮接着することにより製造できる。 - 特許庁

In a first process, a pipe member 26 is inserted into a through-hole 18A in the lowest stage filling block 10A arranged in the lowest stage among filling blocks 10, and the lowest stage filling block 10A is put in a spitting state by two pipe members 26 in a plan view.例文帳に追加

第一工程では、充填ブロック１０のうち最下段に配置された最下段充填ブロック１０Ａにおける貫通孔１８Ａ内に管部材２６が挿入され、平面視にて最下段充填ブロック１０Ａが二本の管部材２６によって串刺し状態にされる。 - 特許庁

The method of manufacturing optical film comprises a surface straightening process of pushing a smoothing roller 2 against the first surface 10 of a polymer film 1 of which the surface temperature is in the range of Tg-10°C to Tg+50°C, wherein the glass transition temperature of the film is defined as Tg.例文帳に追加

ポリマーフィルム１の第１表面１０に対して、表面温度が、該フィルムのガラス転移温度をＴｇとしたとき、Ｔｇ−１０℃以上、Ｔｇ＋５０℃以下の範囲にある平滑ローラ２を押し当てる表面矯正処理工程を有することを特徴とする光学フィルムの製造方法。 - 特許庁

The method used for the network of wireless communication system comprises a step (S302) for using a first function which assigns a dedicated H-RNTI to UE without using a second function which does not assigns a dedicated H-RNTI to UE when an RRC establishment process is started by UE.例文帳に追加

無線通信システムのネットワークに用いられる方法は、ＵＥでＲＲＣ確立プロセスを起動した場合に、専用Ｈ−ＲＮＴＩをＵＥに割り当てない第二機能を使用せずに、専用のＨ−ＲＮＴＩをＵＥに割り当てる第一機能を使用する段階を含む。 - 特許庁

In this process, an enzyme composition including the first heat- resistant DNA polymerase originating from Thermus thermophilus and a small amount of the second heat-resistant DNA polymerase originating from Thermococcus litoralis, Pyrococcus strain GB-D or Thermotoga maritima and having 3' to 5' exonuclease activity are used in the PCR procedure.例文帳に追加

本法は、テルムス・テルモフィラスからの第一の耐熱性ＤＮＡポリメラーゼと、テルモコッカス・リトラリス、ピロコッカス種ＧＢ−Ｄまたはテルモトガ・マリチマからの３′→５′エキソヌクレアーゼ活性を有する少量の第二の耐熱性ＤＮＡポリメラーゼとの組合せから成る組成物を使用する。 - 特許庁

Alternatively, an interrupt controller is set to an interruption inhibition state as a first process of processes to restore the data of the main memory until the check point time, and the data of the main memory and the data of the register of the CPU are restored until the check point time, and the interrupt inhibition state of the interrupt controller is released.例文帳に追加

又は、チェックポイント時点までメインメモリのデータを回復させる処理の最初の処理として、割込コントローラを割り込み禁止状態に設定し、チェックポイント時点までメインメモリのデータ及びＣＰＵのレジスタのデータを回復させた後に、割込コントローラの割り込み禁止状態を解除する。 - 特許庁

Regarding the cleaning device 30, the black toner as the undefined toner is cleaned first among plural kinds of toner, and the method of rotating the cleaning roller 32 at the cleaning operation is selected by the control means 60, then, the toner remaining on the surface of the photoreceptor drum 21 after the toner transfer process is cleaned.例文帳に追加

クリーニング装置３０は、複数のトナーのうち不定形トナーであるブラックトナーを最初にクリーニングするものであり、制御手段６０がクリーニング動作時のクリーニングローラ３２の回転方法を選択して、トナー転写後に感光体ドラム２１表面に残留するトナーをクリーニングする。 - 特許庁

A vaporizer for supplying water vapor into a heating furnace 1 performs a two-step vaporization process as follows: the water vapor partially including pure water mist with a small droplet size is supplied in a first vaporizing section 6, and then the water vapor is passed through a thin film of a network structure to capture the pure water mist in a second vaporizing section 7.例文帳に追加

加熱炉１に水蒸気を供給する気化装置は、第一の気化部６で一部小径の純水ミストを含む水蒸気を供給した後、第二の気化部７で水蒸気を網状構造体からなる薄膜に通して純水ミストを捕捉するという２段の気化工程を行う。 - 特許庁

When management assesses the effectiveness of internal controls, it shall first assess company-level controls on a consolidated basis, and then, considering the result of these assessments, assess the process-level controls to the extent necessary, focusing on the risks that could create material misstatements in financial reporting. 例文帳に追加

経営者は、内部統制の有効性の評価に当たって、まず、連結ベースでの全社的な内部統制の評価を行い、その結果を踏まえて、財務報告に係る重大な虚偽記載につながるリスクに着眼して、必要な範囲で業務プロセスに係る内部統制を評価することとした。 - 金融庁

The relationship between Korea and Japan was destroyed by the Bunroku-Keicho War in the Hideyoshi TOYOTOMI era, but Ieyasu TOKUGAWA began the process of repairing the relationship through the So clan in Tsushima Province and the first Korean delegacy named Chosen Tsushinshi was sent to Japan in 1636. 例文帳に追加

日朝関係は豊臣秀吉の文禄・慶長の役によって破壊され、関係の復旧に意欲を示した徳川家康は対馬国の宗氏を通じて国交回復の交渉を行い、結果寛永13年（1636年）に朝鮮通信使という名の使節の最初の者が送られてきた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The process for bromination of the vinyl aromatic monomer contains supply of a first flow containing a brominating agent, a second flow containing the vinyl aromatic polymer and a third flow containing a brominating catalyst in a reaction vessel.例文帳に追加

ビニル芳香族単量体の重合体を臭素化する方法であって、臭素化剤を含んで成る第一流れ、ビニル芳香族重合体を含んで成る第二流れおよび臭素化用触媒を含んで成る反応槽から出る第三流れを反応槽に供給することを含む方法。 - 特許庁

To provide a method capable of stably reducing the dust producing quantity in a high carbon concentration region at the first half period of the refining, and also stably suppressing the chromium oxidizing quantity at the ending period of the refining when producing a chromium-based stainless steel by a decarbonization refining process.例文帳に追加

クロム系ステンレス鋼を脱炭精錬して製造する場合において、精錬前半の炭素濃度が高い領域でのダスト発生量を安定して低減すると同時に、精錬末期のクロム酸化量を安定して抑制する方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

A coherent fiber preform made of carbon fibers has holes formed from at least a first face of the preform, and the preform has high density by depositing therein a material constituting a matrix by means of a chemical vapor infiltration type process.例文帳に追加

炭素繊維で作製された密着した繊維予備成形体は、その予備成形体の少なくとも第１面から形成された孔を呈し、その予備成形体は、その中に化学的蒸気浸透型プロセスにより、マトリックスを構成する材料を付着させることにより高密度化される。 - 特許庁

The process cartridge uses an electrophotographic photoreceptor containing a polyarylate resin or a polycarbonate resin in a charge transport layer, and a charging member of which the outermost layer consists of composite particles formed by covering first metal oxide particles with carbon black, second metal oxide particles and a binder.例文帳に追加

電荷輸送層にポリアリレート樹脂あるいはポリカーボネート樹脂を含有する電子写真感光体と、最外層が第１の金属酸化物粒子にカーボンブラックを被覆した複合粒子、第２の金属酸化物粒子及び、バインダーから構成された帯電部材を用いる。 - 特許庁

Each of first and second subfields continuously arranged in each field includes a selection write address process of setting a discharge cell in a lighting mode by selectively write-address-discharging the discharge cell in response to an input video signal.例文帳に追加

各フィールド内において連続配置されている第１及び第２のサブフィールド各々は、入力映像信号に応じて放電セルを選択的に書込アドレス放電せしめることにより当該放電セルを点灯モードの状態に設定する選択書込アドレス行程を含む。 - 特許庁

The first half of the collection starts with an incident in 1174, and while praising the empress's auspiciousness and the glory of the Taira family, she places her love affair with a younger noble, TAIRA no Sukemori (the Empress's nephew) at the center of the story, and describes the process by which she also became intimate with a famous poet and a painter, FUJIWARA no Takanobu. 例文帳に追加

家集の前半は承安4年（1174年）の出来事に起筆し、中宮のめでたさや平家の栄華を讃えながら、年下の貴公子平資盛（中宮の甥）との恋愛を主軸に据え、歌人・画家として有名な藤原隆信とも交渉を持った経過を述べる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

At first, it was a project of creating a commentary of The Tale of Genji consisting of two or three volumes, but in the process of collecting necessary materials, Kikan IKEDA felt a necessity to make something that enabled scholars to easily access old annotations, that is to say, 'a collection of old annotations.' 例文帳に追加

この計画は最初は2ないし3冊程度からなる源氏物語の注釈書として計画されたものであるが、池田亀鑑はそのために必要な資料を集めていく中で古注を研究者が容易に利用できるような資料、すなわち「古注集成」を作ることの必要性を感じた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A process used for Homongi that results in a type of kimono that differs greatly from Tsukesage (simpler, less formal kimono), eba is performed by the following steps: first, craftsmen cut the material into panels in accordance with the measurements; next, they sew the panels together to make the initial kimono; after that, they draw a pattern on the initial kimono that continues beyond its seams; next, they remove the stitches from the initial kimono to break it down into the original panels again; after that, they dye each panel; and finally, they sew them together again. 例文帳に追加

これは最初に生地を採寸通りに裁断して仮縫いし、着物として仕立てた時点でおかしくならないよう絵を描いた後、再びほどいて染色作業をするもので、これが付け下げとの最大の違いである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Then, a p-type conductive diffusion preventing layer 31 for preventing the diffusion of a diffusion layer 23a is configured to be formed by CB Halo Ion Implantation process using the second interlayer film 35 as a mask while a first side wall insulation film exposed within the contact hole 25a is separated.例文帳に追加

そして、コンタクト孔２５ａ内に露出する第１の側壁絶縁膜を剥離した状態で、第２の層間膜３５をマスクに、ＣＢハロー・Ｉ／Ｉにより、拡散層２３ａの拡散を防止するためのｐ導電型の拡散防止層３１を形成する構成となっている。 - 特許庁

An anti-reflection film is provided to at least one surface of optical surfaces of the first lens group G1 and the second lens group G2, and the anti-reflection film is configured to include a layer formed by using a wet process.例文帳に追加

また、所定の条件を満足し、第１レンズ群Ｇ１および第２レンズ群Ｇ２における光学面のうち少なくとも１面に反射防止膜が設けられ、当該反射防止膜はウェットプロセスを用いて形成された層を少なくとも１層含むように構成することを特徴とする。 - 特許庁

In this method of manufacturing light receiving the emitting device 4 of an optical head 1, a sub mounting substrate 42 is pasted onto a photodetector substrate 41 where the photodetector 45 is built in a wafer process, and the first and second laser diode chips 43 and 44 are subsequently mounted on the sub mounting substrate 42.例文帳に追加

本例の光ヘッド１の受発光装置４の製造方法では、受光素子４５が作り込まれた受光素子基板４１にウェハプロセスにてサブマウント基板４２を貼り合わせた後に、第１および第２のレーザダイオードチップ４３、４４をサブマウント基板４２に搭載している。 - 特許庁

Since the output current error due to the variance in the manufacturing process of the constant current source 11e composed of the first and second MOSFETs 11f, 11g can be averaged by the third resistor 11k, the INL and DNL characteristics of the DA converter can be enhanced.例文帳に追加

このため、第１のＭＯＳＦＥＴ１１ｆと第２のＭＯＳＦＥＴ１１ｇから構成される定電流源１１ｅのプロセスばらつきによる出力電流値誤差を第３の抵抗器１１ｋにより平均化することができるため、ＩＮＬ特性とＤＮＬ特性を向上させることができる。 - 特許庁

In the first process, a paste for an air electrode is produced by mixing a Pt-holding carbon catalyst, a Nafion (R) solution and a highly water-absorbable polymer, and after coating the paste for the air electrode on a conductive substrate, the paste is dried to form an air electrode reactive layer 13a.例文帳に追加

第１工程において、Ｐｔ担持カーボン触媒とナフィオン（登録商標）溶液と高吸水性ポリマーとを混合して空気極用ペーストを作製し、この空気極用ペーストを導電性のある基材に塗布した後、乾燥させて空気極反応層１３ａを形成する。 - 特許庁

In the first supply process, the stator core 2 is held horizontally under such a posture as the coil ends 3a and 3b of the coil 3 by keeping the upper coil end 3a upward become vertical, varnish is injected from the upper surface of the upper coil end 3a and then the impregnation varnish is made to flow downward from the upper coil end 3a.例文帳に追加

次に、第１供給工程で、上側コイルエンド３ａを上に向けて、コイル３のコイルエンド３ａ，３ｂが上下になる姿勢でステータコア２を水平に保持し、上側コイルエンド３ａの上面からワニスを注入し、上側コイルエンド３ａの上から下へワニスを含浸流下させる。 - 特許庁

The machining process is carried out using the heat treated compact 100 as an anode, and using the machining tool 2 for machining the heat treated compact 100 or a first counter electrode 5 made to face the machining tool 2 with a space kept from the tool as a cathode, while energizing the anode and the cathode with a conductive liquid 7L interposed between them.例文帳に追加

この加工工程は、熱処理成形体100を陽極とし、熱処理成形体100を機械加工する加工工具2又は加工工具2と間隔をあけて対向される第一対極5を陰極として、陽極と陰極間に導電性液体7Lを介在させて通電しながら行う。 - 特許庁

The aligning process includes steps of (a) irradiating first and second substrates 10 and 20 with light and measuring the luminance of the reflecting light of the luminance measurement area 100, and (b) moving the second substrate 20 in parallel with an X axis and specifying a position where luminance becomes smallest.例文帳に追加

位置合わせ工程は、（ａ）第１及び第２の基板１０，２０に光を照射して、輝度測定エリア１００の反射光の輝度を測定すること、及び、（ｂ）第２の基板２０をＸ軸と平行に移動させて、輝度が最も小さくなる位置を特定することを含む。 - 特許庁

A specified diffraction grating is formed on the surface of a substrate 2 such as silicon by photolithography or the like to form a second reflection face 6, on which a transparent film 3 is formed flat and formed into a specified diffraction grating by using again a photolithographic process or the like to form a first reflection face 5.例文帳に追加

シリコンなどの基板２の表面にフォトリソグラフィー等により所定の回折格子を形成し第２の反射面６とした後、透明膜３を平坦に形成し再度フォトリソグラフィー等の技術を用いて所定の回折格子を形成することにより第１の反射面５とする。 - 特許庁

In the first time solder paste printing process, a quantity of the solder paste 311 to be printed on the electrode 111 in an opening 213 of a mask 211 for printing laid on top of the substrate 100 is such that, when the paste becomes a molten solder 312, it is brought into contact with the upper surface 113 of the electrode.例文帳に追加

１回目のハンダペーストの印刷工程で、基板１００に重ねた印刷用マスク２１１の開口２１３における電極１１１上に印刷するハンダペースト３１１の量を、溶融ハンダ３１２となったときに電極上面１１３に接触する量とする。 - 特許庁