「formation pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, a base plating layer 4 is formed so as to cover the resistor 2 and the insulator layer 3, a resist pattern is formed in the non-electrode forming region of the base plating layer 4, and the surface of the base plating layer 4 exposed from the resist is electroplated with an electrode material for the formation of a pair of electrodes 5.例文帳に追加

次いで、抵抗体２と絶縁体層３を覆うように下地めっき層４を形成し、この下地めっき層４の非電極形成領域にレジストパターンを形成した後、このレジストから露出する下地めっき層４の表面に電極材料を電解めっきして一対の電極５を形成する。 - 特許庁

To provide a resist composition that can be preferably used in an ultra-micro lithography process such as manufacture of an ultra LSI and a high-capacity microchip and the other photo-fabrication and is superior in line width roughness, and further in resolution and defocusing latitude in contact hole pattern formation and superior in exposure margin.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

After a lower columnar electrode 10 is formed by electrolytic plating on an upper surface of a connection pad part of an upper metal layer 9 for wiring, a plating resist film 27 for upper columnar electrode formation made of negative dry film resist is pattern-formed on an upper surface of a base metal layer 8 including the upper metal layer 9.例文帳に追加

配線用の上部金属層９の接続パッド部上面に電解メッキにより下部柱状電極１０を形成した後、上部金属層９を含む下地金属層８の上面にネガ型のドライフィルムレジストからなる上部柱状電極形成用メッキレジスト膜２７をパターン形成する。 - 特許庁

Intensity of light reaching a resist film on a solid sample has a value suitable even to an upper part and a bottom part of the solid by imparting a function of attenuating light to a liquid for immersion exposure, and a suitable exposure intensity distribution is then formed over the entire sample surface, thereby surely reducing formation of an abnormal pattern due to reflected light.例文帳に追加

液浸露光の液体に、光減衰の機能を加えることにより、立体サンプル上のレジスト膜に到達する光強度を、立体の上部にも底部にも適正な値にでき、サンプル表面上の全体に適正な露光強度分布を形成できるので、反射光による異常パターンの発生を確実に低減できる。 - 特許庁

To provide black photopolymer composition which is superior to adhesion with a substrate and storage stability and hard to arise in optical density gap with position at the time of minute pattern formation because it reduce heat flow characteristics in the post-bake while maintaining sensibility, a black matrix prepared using the black photopolymer composition, and a color filter with the black matrix.例文帳に追加

基板との密着性及び貯蔵安定性に優れ、感度を維持しつつポストベークの際の熱流れ性を低減することで、微細パターン形成時、位置による光学密度差を生じにくい黒色感光性樹脂組成物、これを用いて製造されたブラックマトリクス及び上記ブラックマトリクスを備えるカラーフィルターの提供。 - 特許庁

To provide a conductive ink composition which in the formation of a copper-based electrically conducting portion, enables the electrically conducting portion to be formed at a temperature at which a resin can be used as a substrate, and which enables a pattern to be formed by screen printing; and to provide a method for producing an electrically conducting portion using the conductive ink composition, and its applications.例文帳に追加

銅を主成分とする電気的導通部位の形成において、基材として樹脂を利用できる温度で電気的導通部位の形成が可能であり、且つスクリーン印刷法によるパターン形成が可能な導電性インク組成物、それを用いた電気的導通部位の製造方法、及びその用途を提供する。 - 特許庁

To provide an optical waveguide structure and an electronic device which have a high degree of freedom for designing a pattern shape, which enable the formation of a core portion (optical path) having high dimensional accuracy by a simple method, and which include an optical waveguide having high optical coupling efficiency with light-emitting and light-receiving elements and is excellent in durability.例文帳に追加

パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができ、また、発光素子や受光素子との光結合効率および耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体および電子機器を提供すること。 - 特許庁

Moreover, a reaction product formed in a pattern sidewall part in self-alignment in dry etching of a metal film or a sidewall insulation film formed in self-alignment in an isotropic etching of a thick insulation film is used as a doping mask in the formation of an offset region or an LDD region.例文帳に追加

また、オフセット領域或いはＬＤＤ領域を形成する際のドーピングマスクとして、金属膜のドライエッチング時にパターン側壁部に自己整合的に形成される反応生成物、或いは厚い絶縁膜の異方性エッチングを行った時に自己整合的に形成される側壁絶縁膜を用いる。 - 特許庁

To provide a producing method for semiconductor device, with which the deposition of polymerized films on the surface of a wafer is suppressed in the case of etching an insulating film with a resist pattern as a mask and satisfactory alloy reaction can be provided between a metal depositing film and the surface of the wafer while unnecessitating the mask formation of a side in a following lift-off process.例文帳に追加

レジストパターンをマスクとする絶縁膜のエッチングの際に基板表面への重合膜の堆積を抑制し、その後のリフトオフ工程におけるサイドのマスク形成を不要としながら金属蒸着膜と基板表面との間の良好なアロイ反応を得ることができる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a polyester film roll and its package, in particular used for photo-resist, capable of suppressing wrinkles generated in transit and with time likely to degrade the image quality to a great extent when pattern formation is to be made by the photo-resist.例文帳に追加

本発明は、ポリエステルフィルムロール及びその梱包体に関し、特にフォトレジスト用ポリエステルフィルムにおいてフォトレジストによるパターン形成時に著しく画像品質を損ねる原因となる、ポリエステルフィルムロールの輸送時及び経時的な皺の発生の抑制に対して有用なポリエステルフィルムロール及びその包装体を提供する。 - 特許庁

The hologram sheet material comprises: a long transparent hologram substrate 1 which is transparent to UV rays or electron beams; a transparent rugged thin film layer 2 formed on the surface of the hologram substrate 1 and suitable for reproducing a hologram; and a geometrical pattern formation part 3 locally formed on the transparent rugged thin film layer 2.例文帳に追加

本発明によるホログラム生地は、紫外線または電子線に透明な長尺の透明ホログラム基板１と、前記ホログラム基板１の表面に形成されホログラムの再現に適した透明凹凸薄膜層２と、前記透明凹凸薄膜層２の上に局部的に形成された幾何学模様形成部分３から構成されている。 - 特許庁

According to the manufacturing method of the optical disk, formation of the rugged pattern to the sheet shaped substrate member 80 can be performed at a temperature lower than a glass transition point by providing a base member 90 and generation of deformation, distortion and wrinkles can be prevented.例文帳に追加

本発明に係る光ディスクの製造方法によれば、下地部材９０を設けることでシート状基板部材８０への凹凸パターンの形成をガラス転移点未満の温度で行うことが可能となり、シート状基板部材８０及び凹凸パターン２２に対する変形、歪み、シワの発生を防止することができる。 - 特許庁

The method can prevent an inorganic hard mask film from being damaged by the formation of a pattern by forming a multilayer mask layer, including the inorganic hard mask film, an organic mask film, an antireflection film, and a silicon containing photo resist film and dry-etching the antireflection film and the organic mask film using O_2 plasma.例文帳に追加

この方法は無機ハードマスク膜、有機マスク膜、反射防止膜及びシリコン含有フォトレジスト膜が積層された多層のマスク層を形成し、Ｏ_２プラズマで前記反射防止膜及び有機マスク膜を乾式エッチングしてパターンを形成することによって無機ハードマスク膜の損傷を防止することができる。 - 特許庁

Even when the abnormal pattern formation occurs on a boundary part between the transmissive pixel electrode 17 and the transparent pixel electrode adjacent thereto around the flat part 30, because there is less probability of contact of the two neighboring transparent pixel electrodes with each other, the probability of short-circuiting between the electrodes is reduced.例文帳に追加

平坦部分３０の周囲において透明画素電極１７及びこれと隣り合う透明画素電極との境界部分にパターン形成異常が発生していても、隣り合う２つの透明画素電極が互いに接触する可能性が低くなるため、電極間でのショートの発生確率を減らすことができる。 - 特許庁

To provide a heterojunction bipolar transistor that can be selectively etched, can adopt an HBT layer structure containing a semiconductor material with improved adhesion with a mask pattern, forms a guard ring with improved reproducibility without losing the easiness of a guard ring formation process, and has the improved reproducibility of HBT element characteristics, and its manufacturing method.例文帳に追加

選択エッチング可能であり、マスクパターンとの密着性の良好な半導体材料を含むＨＢＴ層構造を採用し、ガードリング形成工程の容易さを損なうことなくガードリングを再現性よく形成し、ＨＢＴ素子特性の再現性が良好なヘテロ接合バイポーラトランジスタおよびその作製方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high sensitivity to radiation, having a development margin allowing formation of a preferable pattern even through development exceeding the optimum developing time in a developing process, and capable of easily forming a patterned thin film having excellent adhesiveness with a substrate.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えて現像処理を行ってもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、且つ基板との密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

This layer 13 is exposed to light with the specified pattern and developed, and the part corresponding to the part where barrier ribs are to be formed is removed, and thereby grooves for barrier rib formation 13a and cell forming parts 13b are formed, and the surface of the cell forming parts 13b and the inside of the grooves 13a are covered with die releasing films.例文帳に追加

次に感光性材料層１３を所定のパターンで露光した後に現像して隔壁形成予定部に対応する部分を除去することにより、隔壁形成用溝１３ａ及びセル形成部１３ｂを形成し、セル形成部１３ｂの表面及び隔壁形成用溝１３ａの内部を離型膜にて被覆する。 - 特許庁

Since the electron beam shielding region 11 adheres tightly to the pattern formation layer 2 by the effect of the minute adhesiveness of the minute adhesive layer 14, the electron beam does not enter the region that shields the electron beam from an oblique direction even if an inexpensive general-purpose electron beam irradiation device is used, thereby allowing very fine and high-resolution patterning.例文帳に追加

微粘着層１４の微粘着効果により、パターン形成層２に電子線遮蔽領域１１が密着するので、汎用型の安価な電子線照射装置を使用しても、電子線を遮蔽する領域に電子線が斜め方向から入射することがなく、高精細、高解像度のパターニングが期待できる。 - 特許庁

Then the filler 15 is used to form an insulation layer having such thickness as to cover the circuit part 13, on the pattern formation surface of the first substrate 11.例文帳に追加

回路部品１３と、この回路部品１３を設けた第１の基材１１のパターン形成面との間に形成された隙間（ｇ）に充填材料１５を含浸させて、隙間（ｇ）をすべて充填材料１５ａで埋め込み、充填材料１５により、第１の基材１１のパターン形成面上に、回路部品１３を覆う厚みをもつ絶縁層を形成する。 - 特許庁

To provide a laminated tube container having a surface susceptible to the formation of a beautiful printing pattern or the like, having strength, stiffness or the like, excellent in barrier properties against oxygen gas, steam or the like, content resistance or the like and suitable for packaging content, for example, toothpaste, food, cosmetics, medicines and the others.例文帳に追加

表面に美麗な印刷模様等を形成し得ることが可能であり、かつ、強度、腰等を有し、更に、酸素ガス、水蒸気等に対するバリア性、耐内容物性等に優れ、例えば、練り歯磨き、食品、化粧品、医薬品、その他等の内容物の充填包装に適するラミネ−トチュ−ブ容器を提供するものである。 - 特許庁

The pattern formation method includes a step of providing affinity for liquid by means 102 for selectively generating plasma on a liquid-repellent thin film, for example, a semiconductor film, on a substrate having insulating property, for example, a glass substrate, and discharging a drop composition onto the surface having affinity for liquid by drop discharge means 103.例文帳に追加

絶縁性を有する基板、例えばガラス基板上に撥液性の薄膜、例えば半導体膜に選択的にプラズマを発生する手段１０２によって親液性にし、前記親液性表面に、液滴吐出手段１０３により液滴組成物を吐出して、パターンを作製する工程を含む。 - 特許庁

To provide a method of applying a liquid resist ink for uneven pattern formation which can minimize the consumption of the liquid resist ink and apply the liquid resist ink evenly on a substrate, and further, can check the behavior of the liquid resist ink finding its way all around to the back of the substrate which need not be coated.例文帳に追加

本発明は、液状レジストインキの使用量を少量に抑え、基板上に均一に液状レジストインキを塗布することを可能とし、しかも塗布が不要な基板の裏側部分にまで液状レジストインキが回り込むことが無い凹凸パターン形成用液状レジストインキの塗布方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive film package which does not generate unevenness on the surface of a photosensitive adhesive film when the photosensitive adhesive film is conveyed and can maintain a pattern formation property and the adhesion of the photosensitive adhesive film when it is preserved for a long period of time.例文帳に追加

感光性接着フィルムを搬送する場合において、該感光性接着フィルムの表面に凹凸を発生させることなく、かつ、長期間保存する場合において、感光性接着フィルムのパターン形成性及び接着性を維持することが可能な感光性接着フィルム梱包体を提供すること。 - 特許庁

Since the layer 12 is more excellent in solvent resistance than the base layer 11, the solvent at the time of formation of the pattern layer 2 is hard to remain in the substrate sheet 1 and the blocking of the printed substrate sheet 1 at the time of winding and preservation or the blistering of the laminating surface with the transparent thermoplastic resin layer 4 can be effectively prevented.例文帳に追加

層１２は基層１１よりも耐溶剤性に優れているので、絵柄層２の印刷形成時の溶剤が基材シート１中に残留しにくく、印刷済の基材シート１の巻取り保存時のブロッキングや、透明熱可塑性樹脂層４との積層面のフクレ等を、効果的に防止することができる。 - 特許庁

To provide a transfer film for shadow mask formation capable of surely providing a stacked pattern comprising an insulation layer and a conductive layer with high dimensional accuracy without degrading an original function of a shadow mask nor causing trouble such as a pin hole, and capable of manufacturing a predetermined shadow mask with high productivity.例文帳に追加

絶縁層および導電層よりなる積層パターンが、シャドウマスク本来の機能を低下させることなく、しかも、ピンホール等の不具合を発生させることなしに、高い寸法精度で確実に得られ、所定のシャドウマスクを高い生産性で製造することができるシャドウマスク形成用の転写フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a piezoelectric vibration piece in which developer is sufficiently immersed into a fork portion to form a mask pattern with good accuracy and formation failure of an electrode can be prevented, a piezoelectric vibration piece manufactured by the manufacturing method, a piezoelectric vibrator, an oscillator, an electronic apparatus and an electric wave clock using the piezoelectric vibration piece.例文帳に追加

又部に現像液を十分に浸入させてマスクパターンを精度よく形成し、電極の形成不良を防止できる圧電振動片の製造方法と、この製造方法により製造された圧電振動片、この圧電振動片を用いた圧電振動子、発振器、電子機器、および電波時計を提供する。 - 特許庁

To provide a vinyl chloride resin which is useful for pastes and gives a foamed molded article that has excellent surface smoothness, a compact cell structure and a voluminous touch and scarcely reduces its thickness when reheated on the formation of an uneven pattern, without related to the kind and content of a plasticizer and the content of a filler.例文帳に追加

発泡加工する際、配合時の可塑剤種類、量、充填剤量に関わらず、発泡体の表面平滑性に優れ、緻密なセル構造を有し、凹凸模様を施す際の発泡体の再加熱において発泡体の厚み減少が少なく、ボリューム感のある発泡成形体となるペースト用塩化ビニル樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an insulative wiring board, by which the deposition or the formation of bridges on the outside of a pattern can be suppressed by inactivating a substance having a property to trap multiple metals due to an exposed coupling agent and at the same time, inhibiting trapping of metal-nuclei formed in a plating process.例文帳に追加

露出したカップリング剤等の多くの金属を捕捉する性質を持つ物質を不活性な状態にするとともに、めっき工程で生成する金属核を捕捉しないようにし、パターン外の析出やブリッジ発生がない、絶縁性配線基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a curable resin composition which can ensure satisfactory flame retardancy without using any halogen-containing flame retardant and can give a cured product having a sufficient elongation, and to provide a prepreg, a metal-clad laminate, an encapsulant, a photosensitive film, a resist pattern formation method, and a printed wiring board, each of which uses the same.例文帳に追加

ハロゲン系難燃剤を用いずに十分な難燃性を確保することができ、十分な伸び率を有する硬化物を得ることが可能な硬化性樹脂組成物、並びに、それを用いたプリプレグ、金属張積層板、封止材、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板を提供する。 - 特許庁

From the folding screen drawings of battle scenes of the Sengoku Period, in which battle scenes are depicted and the battle formation can be identified to a certain degree, Figure 1 shows the pattern diagram of Shingen TAKEDA's army headquarters sonae (left) from the folding screen drawing of the Kawanakajima Battle, which belongs to the Iwakuni Historical Museum, and that of Ieyasu TOKUGAWA's army headquarters sonae (right) from the folding screen drawing of the Battle of Sekigahara, which belongs to the Fukuoka City Museum. 例文帳に追加

図1は合戦を描いた戦国合戦図屏風より、陣立がある程度確認できる岩国歴史博物館所蔵、川中島合戦図屏風の武田信玄本陣備（左図）と福岡市博物館所蔵、関ヶ原合戦図屏風の徳川家康本陣備（右図）を模式図化したものである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide an excellent photosensitive adhesive composition which enables pattern formation and further which not only has both excellent followability and high adhesivity to fine unevenness but also causes no bedewing in a hollow part when applied to a hollow member, and to provide the hollow member obtained by using the same.例文帳に追加

パターン形成が可能で、しかも微細な凹凸に対する優れた追従性と高い接着力を兼ね備えているだけでなく、中空部材に適用した場合に、その中空部に結露を生じることのない、優れた感光性接着剤組成物と、それを用いて得られる中空部材を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor element capable of preventing overlap of a doped region by cell channel ion implantation with a junction region by source/drain ion implantation and damage of a substrate in isotropic etching for formation of a valve pattern of a valve-shaped recess, improving refreshing characteristics of the element, and stabilizing a process.例文帳に追加

セルチャネルイオン注入によるドーピング領域とソース／ドレインイオン注入による接合領域とのオーバーラップ、及び、バルブ型リセスのバルブパターン形成のための等方性エチング時の基板の損傷を防止し、素子のリフレッシュ特性の改善及び工程の安定化が可能な半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a semiconductor capable of effectively preventing occurrence of a pattern formation fault due to defocusing caused by a foreign matter adhered to a rear surface of a semiconductor wafer in an exposure device used when the surface of the wafer is patterned in a step of manufacturing the semiconductor.例文帳に追加

半導体の製造工程において半導体ウエハー表面にパターニングを行う際に用いられる露光装置に関するものであり、半導体ウエハーの裏面に付着した異物に起因するフォーカスずれによるパターン形成不良の発生を有効に防止する事の出来る半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

In a layer wherein bonding pad aluminum 21 is formed, the peripheral removal of an insulating film 17 and an insulating film 18 for pad formation for preventing peeling of the films is performed not over a wiring pattern portion (having residual Cu 16) that becomes a target of Cu removal in the layer of just lower copper wiring 14.例文帳に追加

ボンディングパッドアルミ２１を形成する層において、膜はがれ防止のために行う絶縁膜１７とパッド形成用絶縁膜１８の周辺除去を、すぐ下の銅配線１４の層においてＣｕ除去の対象となった配線パターン部（Ｃｕ残り１６のある箇所）を超えないように行う。 - 特許庁

In this manufacturing method, photosensitive resin layers are formed on both faces of a substrate 1, the photosensitive resin layers are irradiated with light for pattern formation, a developer 3 is sprayed simultaneously on the photosensitive resin layers on both faces of the substrate 1, in a state such that the substrate 1 is held vertically, and is subjected to a developing operation.例文帳に追加

基板１の両面に感光性樹脂層を形成し，感光性樹脂層にパターン形成用の光照射を行い，基板１を垂直に保持した状態で基板１における両面の感光性樹脂層に対し同時に現像液３を吹き付けて現像を行うことにより，多層プリント配線板を製造する方法。 - 特許庁

To provide a variable display structure that can be easily designed/manufactured and displays at least two different images in response to a viewing angle, without annoying the viewing person, and to provide a variable display medium and an image pattern formation medium used for the variable display structure.例文帳に追加

容易に設計・製造をすることができるとともに、見る人に煩わしさを与えずにみる角度に応じて少なくとも２種類の異なる像を表示させる可変表示構造および可変表示媒体を提供すること、およびそのような可変表示構造に用いる像パターン形成媒体を提供することを目的とする。 - 特許庁

The identification marks (for three manufacturers 23a, 23b, and 23c of a Pachinko game machine which uses this main control board 20) of the same kind for specifying a main control board 20 is displayed in an area of the surface of a base board 21, except a wiring pattern formation area, and the main control board 20 is stored in this condition.例文帳に追加

ベース基板２１上における配線パターンの形成領域以外の領域に、メイン制御基板２０を特定するための同種類の識別標識を複数表示（このメイン制御基板２０を使用する弾球遊技機の３つの製造業者２３ａ，２３ｂ，２３ｃ）し、この状態で保管しておく。 - 特許庁

In this fine pattern formation method, the process of covering the substrate having the photoresist with a cover molding agent, the process of shrinking the cover molding agent in question by heat treatment and narrowing the intervals between the photoresist patterns by its shrinkage action, and the process of removing the cover molding agent are performed several times.例文帳に追加

ホトレジストパターンを有する基板上に、被覆形成剤を被覆する工程、熱処理により該被覆形成剤を収縮させ、その収縮作用によりホトレジストパターン間の間隔を狭小せしめる工程、および上記被覆形成剤を除去する工程を、複数回に亘って行うことを特徴とする微細パターンの形成方法。 - 特許庁

To provide an original plate for letterpress printing with which the problems with the use of the conventional negative film and its alternative and the problems with formation of a mask pattern by an ink composition directly on the surface of a photosensitive resin layer can be simultaneously solved and a method for manufacturing a letterpress printing plate using the original plate for letterpress printing.例文帳に追加

凸版印刷において、従来のネガフィルムおよびその代替品を用いた場合の問題点と、感光性樹脂層表面に直接インク組成物によりマスクパターンを形成する場合の問題点とを同時に解決することのできる凸版印刷用原版と、該凸版印刷用原版を用い凸版印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the magnetic recording medium using the imprint method for pattern formation, as the preprocessing of an imprint process, an exposure process is performed for exposing a substrate having the resist film formed on the surface thereof to an atmosphere of a temperature higher than a temperature upon imprint and environmental pressure lower than environmental pressure upon imprint.例文帳に追加

パターン形成にインプリント法を用いる磁気記録媒体の製造方法において、インプリント工程の前処理として、表面にレジスト膜を形成した基板を、インプリント時の温度より高い温度、かつ、インプリント時の環境圧力より低い環境圧力の雰囲気に暴露させる暴露処理を行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁

The formation method for a film pattern includes steps of forming a self-organizing film on a substrate surface which has fluid repellency, providing a fluid material on the self-organizing film and drying it, giving energy to the back side of the substrate, and sintering the dried fluid material.例文帳に追加

本発明は、基板の表面に、撥液性を有する自己組織化膜を形成する工程と、前記自己組織化膜上に液体材料を供与し、これを乾燥する工程と、前記基板の裏面側にエネルギーを付与する工程と、乾燥した前記液体材料を焼結させる工程と、を含むことを特徴とする膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

A manufacturing method for the circuit board comprises a process of sticking a reinforcing plate on one metal layer formation surface through a peelable organic body layer after forming the metal layer of <5 μm in thickness on at least one surface of the flexible film, and a process of peeling the flexible film off the reinforcing plate after forming a circuit pattern on the surface where the reinforcing plate is not stuck.例文帳に追加

可撓性フィルムの少なくとも一方の面に厚さ５μｍ未満の金属層を形成した後、該金属層形成面側の一表面に補強板を剥離可能な有機物層を介して貼り合わせ、次いで補強板が貼り合わされていない面に回路パターンを形成してから、該可撓性フィルムを該補強板から剥離する回路基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a luminous material compounded molding in which occupied time or working time of a molding die in molding is short, in which formation of a local luminous pattern is easy while generation of pinhole defects hardly occurs, and in which durability against wear is superior, and to provide a method of manufacturing a luminous material compounded resin sheet and a luminous material compounded molding.例文帳に追加

成形における成形型の占有時間や作業時間が短く、局所的な蓄光模様の形成が容易で、ピンホール不良が発生し難い、摩耗への耐久性に優れた蓄光材配合成形品を製造できる方法、及び蓄光材配合樹脂シートの製造方法、並びに蓄光材配合成形品の提供を目的とする。 - 特許庁

The alignment mask D of the head unit 1 carrying a plurality of the droplet delivery heads 3 on the single carriage 2 is provided with a master plate 161 being a pattern formation of a reference position 164 of each droplet delivery head 3 in a planar surface parallel to the nozzle formative surface 52 of the droplet delivery head 3 and a reference position 165 of the carriage 2.例文帳に追加

単一のキャリッジ２に複数の液滴吐出ヘッド３を搭載したヘッドユニット１のアライメントマスクＤであって、液滴吐出ヘッド３のノズル形成面５２に平行な平面内における各液滴吐出ヘッド３の基準位置１６４およびキャリッジ２の基準位置１６５をパターン形成したマスタプレート１６１を備えたものである。 - 特許庁

As a barrier rib formation process to form the barrier rib 110 on a rear substrate of the PDP, a first process to form a barrier rib forming material layer 120, a second process to pattern the barrier rib forming material layer 120, and a third process to form the barrier rib 110 by calcining the patterned barrier rib forming material layer 120 are implemented.例文帳に追加

ＰＤＰの背面基板１０３に隔壁１１０を形成する隔壁形成工程として、隔壁形成材料層１２０を形成する第１工程と、隔壁形成材料層１２０をパターニングする第２工程と、パターニングされた隔壁形成材料層１２０を焼成して隔壁１１０を形成する第３工程と、を実施する。 - 特許庁