「high-beam」に関連した英語例文の一覧と使い方(72ページ目) - Weblio英語例文検索

A circuit board 449 is provided with a transmission window 459 through which an incident/emitting light beam passes, and a cover 467 being a sealing member formed of a high heat insulation material is fitted from top to seal the mounting part of the oscillating mirror 460.例文帳に追加

回路基板４４９には、入出射する光ビームを透過する透過窓４５９を備え、断熱性が高い部材で成形された封止部材としてのカバー４６７を上部から嵌め込み、振動ミラー４６０の装着部を封止する。 - 特許庁

To solve a problem that durability is deteriorated due to generation of high stress at an outer circumference side of a flange rubber part from repetition of torsional deformation in a suspension bushing used in a torsion beam type suspension which has the flange rubber part extending in a radial direction.例文帳に追加

トーションビーム式サスペンションに用いられるサスペンションブッシュで、径方向に延出した鍔ゴム部を有するものにおいて、捩り変形の繰返しによって鍔ゴム部の外周側に大きな応力が発生し、耐久性が低下する問題を解決する。 - 特許庁

Since the propagation beam going toward the incident side mirror 4 and the light receiving element 10 is converged by the refractive index of the high refractive index propagation control layer 6 and the lens effect of the recessed surface part, the connection efficiency is improved, and reliability in signal transmission is improved.例文帳に追加

高屈折率伝搬制御層６の屈折率と凹面部のレンズ効果により入射側ミラー４および受光素子１０へ向かう伝搬光が収束されるので、結合効率が改善され、信号伝送の信頼性が向上する。 - 特許庁

The heat generating part is matched with an optical axis of the optical microscope 7 and found within a high magnification visual field based on the located position of the heat generating part, and irradiated by a laser beam in the same optical axis as the optical microscope 7 to segmentize the short part which is the heat generating part.例文帳に追加

求められた発熱箇所の位置に基づき発熱箇所を光学顕微鏡７の光軸に一致させて高倍率視野内に捉えるとともに、光学顕微鏡７と同一の光軸でレーザを照射して発熱箇所であるショート箇所を分断する。 - 特許庁

The pre-bunching mechanism for the electron beam irradiation device, wherein a pre-buncher 11 is connected between an electron gun 10 and an accelerating tube 13 for bunching electron beams with high frequencies, includes a drift distance adjusting mechanism 12 provided between the pre-buncher 11 and the accelerating tube 13 for adjusting a drift distance.例文帳に追加

電子銃１０と加速管１３の間に、電子ビームを高周波によりバンチングするプリバンチャー１１を接続した電子線照射装置のプリバンチング機構において、プリバンチャー１１と加速管１３の間に、ドリフト距離を調整するドリフト距離調整機構１２を設けたものである。 - 特許庁

To provide an active energy beam-curable composition capable of forming an anti-fogging coated film bonding well with the surface of a formed article made from an acrylic film, acrylic sheet or the like, and also capable of maintaining its initial bonding property even on being left under a high temperature environment for a long period.例文帳に追加

アクリルフイルム或いはアクリルシート等のアクリル樹脂製の成形体の表面に良好に接着する防曇性の塗膜を形成でき、且つ高温環境下に長期間放置された場合であっても、初期の接着性を維持することができる活性エネルギー線硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide polymerization sensitizer having excellent responsiveness to active energy beam and excellent efficiency for starting the generation of many radicals and to provide a liquid composition being quickly polymerized by active energy beams, having excellent adhesiveness to a basic material, and capable of achieving high degree of crosslinking of a substance to be cured.例文帳に追加

活性エネルギー線に対する応答性がく、多くのラジカルを生成する開始効率に優れた重合増感剤、活性エネルギー線により速やかに重合し、硬化物の架橋度が高く、基材に対する接着性にも優れる液体組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a surface-emitting semiconductor laser which can be easily manufactured inexpensively, can stabilize a polarization direction of a laser beam in one direction, and can control an oscillation of high-order transverse mode without reducing a light output of a fundamental transverse mode.例文帳に追加

簡易かつ安価に製造可能であり、レーザ光の偏光方向を一方向に安定化することが可能であり、かつ基本横モードの光出力を低減することなく高次横モード発振を抑制することが可能な面発光型半導体レーザを提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming an exposure pattern capable of detecting the connection failure of an exposure pattern unique to electron beam exposure technology with high accuracy in a Die to Die defect inspection just like a pattern failure caused by a process other than an exposure process.例文帳に追加

Die to Dieの欠陥検査において、電子線露光技術特有の露光パターンの接続不良を、露光プロセス以外のプロセスに起因するパターン不良と同様に精度良く検出することができる露光パターンの形成方法及び電子線露光装置の提供。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser, an optical head, an optical disk device and a method for manufacturing the semiconductor laser which permit high recording density of a recording medium, reduce the size and improve a data transfer rate by increasing the intensity of a laser beam radiated from a very small opening.例文帳に追加

微小開口から放射されるレーザ光の強度を増大させることにより、記録媒体の高記録密度化が可能となり、小型化およびデータ転送レートの向上を図った半導体レーザ、光ヘッド、光ディスク装置、および半導体レーザの製造方法を提供する。 - 特許庁

Introduction of the multi- dimensional beam pattern establishes the base of a 3D ultrasound imaging system comprising a small multi-dimensional sensor layout and a device to be arranged at site, and a three-dimensional image with high resolution is generated in real time.例文帳に追加

本発明に従った多次元ビームパターンを導入すると、小型多次元センサ配列と現場に配備できる小型処理装置とからなる本発明に従った３Ｄ超音波映像システムの基盤となり、リアルタイムで高解像度の３次元映像を生成する。 - 特許庁

When the objective forward vehicle is detected via an image sensor unit 3, the follow-up swivel control unit 30 sets a partial high beam having a shading portion according to the direction of the forward vehicle, and performs the control so that the headlamp is turned by the target swivel calculated by a target calculation unit 40.例文帳に追加

また、画像センサユニット３を介して対象前方車が検出されると、追従スイブル制御部３０が、前方車の方向に応じた遮光部分を有する部分ハイビームを設定し、目標算出部４０にて算出された目標スイブルだけヘッドランプが回動するように制御する。 - 特許庁

The linearly polarized light with high extinction ratio is condensed by a condenser lens 14, and is made to come into a polarization retention type optical fiber 15 while the polarization axis of the linearly polarized light beam is matched with the optical axis of the polarization retention type optical fiber 15.例文帳に追加

この消光比の高い直線偏光を集光レンズ１４によって集光し、かつ直線偏光ビームの偏波軸を、偏波保持タイプの光ファイバ１５の光学軸に合わせて偏波保持タイプの光ファイバ１５に入射する。 - 特許庁

The accelerometer contains a movable section incorporating an axial beam 102 which bears laterally extending released fingers 110-117, 120-127 with high aspect ratio overhung on the floor of a gap formed within the substrate during manufacturing process.例文帳に追加

該加速度計は、製造工程中に基板内に形成される空隙の床の上で片もちされた、横向きに伸びる高アスペクト比の解放されたフィンガ１１０〜１１７、１２０〜１２７を担っている軸方向のビーム１０２を組み込んでいる移動可能な部分を含んでいる。 - 特許庁

To provide an optical scanner which outputs an image at a high speed while suppressing the increase in the number of light sources and scans with a beam having homogeneous intensity while enhancing effective efficiency of a light source without incurring the increase in the intensity of the beams emitted from the light sources.例文帳に追加

光源数の増加を抑制しつつ高速な画像出力を可能なものとするとともに、光源から出射させるビームの強度の増大を招くことなく光源の実質効率を高めつつ均一な強度のビームで走査することができる光走査装置を提供する。 - 特許庁

When black defects are corrected, assist gas or etching gas is introduced through an etching gas introduction system 6, and only a black defect region 3 is selectively irradiated with an charged particle beam 4 and etched as high as the height of a recess of the original plate for correction.例文帳に追加

黒欠陥修正はエッチング用ガス導入系６からアシストガスまたはエッチングガスを導入し、荷電粒子ビーム４を黒欠陥領域３のみに選択照射して原版の凹部の高さまでエッチングし黒欠陥３を修正する。 - 特許庁

To provide a means of forming a fine pattern with high accuracy while suppressing generation of an electric field without degrading the resolution of a resist on forming a pattern by irradiating a substrate having discontinuous electric conductivity with a charged particle beam.例文帳に追加

電気的導通が不連続な被加工基板に対し、荷電粒子線を照射してパターン形成を行う場合、電界の発生を抑止しつつ、かつ、レジストの解像性を損なうことなく、微細なパターンを精度よく形成する手段を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition apparatus which can perform vapor deposition at an always high vapor deposition rate, and nevertheless does not give damage to a semiconductor substrate to be subjected to vapor deposition, and does not give rise to curing of a photoresist, and an electron beam irradiation method of the vacuum vapor deposition apparatus.例文帳に追加

常に高い蒸着レートにより蒸着を行うことができ、しかも蒸着を行う半導体基板に損傷を与えたり、フォトレジストの硬化を引き起こすことのない、真空蒸着装置及びこの装置の電子ビーム照射方法を提供する。 - 特許庁

To provide an oxide sintered compact which does not brake or crack even when struck by electron beams in a large dose to be produced into an oxide transparent electroconductive film by a vacuum vapor deposition method such as an electron beam vapor deposition method, an ion plating method, or a high-density plasma-assisted vapor deposition method.例文帳に追加

電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法、高密度プラズマアシスト蒸着法などの真空蒸着法で酸化物透明導電膜を製造する際に、大量の電子ビームを投入しても、割れやクラックが発生することのない酸化物焼結体を提供する。 - 特許庁

Heating valve 1 from inside and outside and evacuating the inside of the valve 1 allow the temperature rising speed of the valve to be high, so that the time for the frit baking process can be decreased, and the forced elimination of the organic materials can be performed, to keep the electron beam irradiation ability from reducing.例文帳に追加

バルブ１に内部と外部から加熱し、バルブ１内を真空排気することにより、昇温速度を大きくできるので、従来よりフリットベーキング行程に要する時間を短縮でき、有機物質を焼成し強制除去できるので電子線照射能力の低下を防止できる。 - 特許庁

The light distribution pattern for the high beam is formed, by condensing the light from the LED 35 to the spot near the rear-focal point F of the projector 31, on the condition that the leading end edge 39a of the cutoff line forming member 39 be set relatively remote from the rear focal point F of the projector lens 31.例文帳に追加

カットオフライン形成部材３９の先端縁３９ａと投影レンズ３１の後方側焦点Ｆとを相対的に離した状態で、ＬＥＤ３５からの光を投影レンズ３１の後方側焦点Ｆ近傍に集光させることにより、ハイビーム用配光パターンを形成する。 - 特許庁

The relative transfer distance for each pulse of the laser beam to the above semiconductor film becomes mp±w, when defined that the width of the row of the crystal grains is w, that the pitch of the above cyclic energy distribution is p, and that the natural number is m, and position-controlled crystal grains with high throughput can be formed.例文帳に追加

前記半導体膜に対するレーザ光の相対的な１パルス毎の移動距離は、結晶粒の列の幅をｗ、前記周期的なエネルギー分布のピッチｐ、自然数ｍであるとき、ｍｐ±ｗとなり、位置制御された結晶粒を高いスループットで形成することが可能となる。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive radiation-sensitive resin composition that is superior in roughness, etching resistance, sensitivity and resolution, capable of stably forming a fine pattern with high accuracy, and suitable for use as a resin composition for EB or EUV, effectively sensitive to an electron beam or extreme-ultraviolet radiation.例文帳に追加

ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、電子線または極紫外線に有効に感応するＥＢ、ＥＵＶ用として好適な化学増幅型ポジ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Then; a mark equal to or smaller than the diameter of the recording beam is formed, and high-density PWM recording is made possible in photon mode recording.例文帳に追加

記録光のピークパワー値を最適な値にすること、又は記録光の発光タイミングを最適化すること、又は、記録光だけでなく消去光を併用してマークの長さを制御することで、記録ビームの直径以下のマークが形成でき、フォトンモード記録で高密度ＰＷＭ記録が可能となった。 - 特許庁

To provide a curable composition capable of being polymerized without receiving inhibition by oxygen, used for a coating application, a paint application, an ink application for a flexographic and gravure printing, etc., and curable quickly by the irradiation of an active energy beam even under a high humidity.例文帳に追加

本発明は、酸素阻害を受けることなく重合することができ、コーティング用途、塗料用途、フレキソおよびグラビア等のインク用途等に使用することができ、且つ高湿度下においても活性エネルギー線照射により迅速に硬化可能な硬化性組成物を提供することである。 - 特許庁

Also provided is a manufacturing method of the micro/nano structure comprising manufacturing the nano tube, which is hollow, by self-organizing through irradiating the surface of a metallic copper with a high energy beam in low vacuum so as to bond oxygen atoms remaining in the low vacuum atmosphere to excited copper atoms.例文帳に追加

及び、低真空中で金属銅の表面に高エネルギービームを照射して、励起した銅原子と低真空中に残留する酸素原子とを結合させつつ、自己組織化によって、内部が中空なナノチューブを製造することを特徴とするマイクロ・ナノ構造体の製造方法。 - 特許庁

Also, the identification method of the optical ferrule is by using different colors in the manner that a ferrule for a high output laser beam is formed with a white resin while one for a low output is formed with a black resin.例文帳に追加

また本発明の光フェルールの識別方法は、高出力レーザ光用フェルールを白色の樹脂で形成し、低出力レーザ光用フェルールを黒色の樹脂で形成し、高出力レーザ光用フェルールと低出力レーザ光用フェルールとを色分けしたことを特徴とする。 - 特許庁

To freely draw characters, patterns and bar codes in a good tact time in an actual production by irradiating a sheet glass with a colored film on which an image can be drawn with a laser beam without generating cracks and in such a way that the positioning accuracy is high and the energy loss is low.例文帳に追加

レーザ光照射によって描画可能な着色膜付き板ガラスにクラックなど発生させることなく、位置精度良く、エネルギーロス少なく、実生産においてタクトタイムよく自在に文字、図柄およびバーコードを描画する。 - 特許庁

To provide an optical recording medium of high density having the track pitch, the groove width and the minimum mark length shorter than those of a DVD+R/RW even though a special exposure device using an electron beam or the like is not used, in a multilayered structure type optical recording medium having a plurality of layers for recording and reproducing a signal by using light.例文帳に追加

本発明は、光を用いて信号を再生・記録する層を複数有する多層構造型の光記録媒体において、電子線などの特殊な露光機を使用しなくても、ＤＶＤ＋Ｒ／ＲＷよりトラックピッチ、溝幅、最小マーク長が小さい高密度光記録媒体の提供。 - 特許庁

To provide an inexpensive armature unit, a motor, a stage apparatus, an exposure apparatus, and the method of manufacturing a device wherein the amount of an eddy current in a housing (cooling jacket) for covering the coil of the armature unit can be reduced, and the housing is hard to be deteriorated even when exposing it to a high-energy light beam.例文帳に追加

コイルを覆う筐体(冷却ジャケット)における渦電流の発生量を低減できると共に、高エネルギーの光線に晒されても劣化し難い安価な電機子ユニット、モータ、ステージ装置、露光装置、および、デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an Fe-Co-V soft high magnetic flux-density material which is used, e.g., for a ball piece and a yoke of an electron lens for an electron microscope, an electron beam lithography system, etc., and a ball piece and a yoke of an electromagnet for a magnetic resonance apparatus, a mass spectroscope, etc., and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

電子顕微鏡、電子ビーム描画装置等の電子レンズのボールピース、ヨーク、および磁気共鳴装置、質量分析装置等の電磁石のボールピース、ヨーク等に使用するＦｅ−Ｃｏ−Ｖ軟質性の高磁束密度材料およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The space intensity distribution of the diffracted and scattered light obtained by irradiating the dust collecting electrode 4 with laser beam is measured, whereby the particle size distribution of the floating particulate matter P can be measured with high resolution in a wide particle size range on the basis of laser diffraction and scattering method.例文帳に追加

また、その集塵電極４に対してレーザ光を照射して得られる回折・散乱光の空間強度分布を測定することにより、レーザ回折・散乱法に基づいて浮遊粒子状物質Ｐの粒度分布を広い粒径範囲で高分解能のもとに測定することを可能とする。 - 特許庁

This significantly reduces the reflection of the i-beam radiated at exposure on the substrate backside 10b, and hence an electrode pattern 20 having a high size accuracy is formed without forming an antireflective film on the substrate surface 10a at the exposure side of the substrate 10.例文帳に追加

それにより、露光時に照射されるｉ線の基板裏面１０ｂにおける反射が有意に抑制されるため、基板１０によって露光される側の基板面１０ａに反射防止膜を成膜することなく、高い寸法精度を有する電極パターン２０を形成することができる。 - 特許庁

To form an image of a high quality by suppressing harmful effects to a latent image by an amplitude jitter in an image forming device which forms the latent image on a latent image carrier by moving an optical beam in the main scanning direction for scanning by an oscillating deflection mirror surface.例文帳に追加

振動する偏向ミラー面により光ビームを主走査方向に走査させて潜像担持体上に潜像を形成する画像形成装置において、振幅ジッタによる潜像への悪影響を抑制して高品質な画像を形成する。 - 特許庁

Thus, since the part having the good uniformity of the period of the inversion layer is enlarged about twice around the axis C, a beam alignment is facilitated, and even when the position is slightly deviated, high conversion efficiency is obtained and hence its output can be increased.例文帳に追加

これにより、光軸Ｃの周りで分極反転層の周期の均一性が良好である部分は約２倍に拡大されるため、ビームの位置合わせが容易になり、その位置が多少ずれても高い変換効率が得られるので出力を大きくすることができる。 - 特許庁

To provide a polarizing beam splitter film capable of reflecting s polarized light with high wave front accuracy while holding excellent polarized light separation characteristic having small incidence angle dependence, and to provide a phase shift adjustment method for easily manufacturing the film.例文帳に追加

入射角依存性の低い良好な偏光分離特性を保持しつつ、ｓ偏光を高い波面精度で反射させることができる偏光ビームスプリッター膜と、それを簡単に製造するための位相シフト調整方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a high output and high directional pulse laser device for equally setting the pulse waveform of the light beam of each amplifier in a short time by using a pulse waveform signal display device for displaying a plurality of pulse waveforms or a synthetic pulse waveform synthesized based on a plurality of pulse waveform signals.例文帳に追加

複数のパルス波形ないしは複数のパルス波形信号を基に合成した合成パルス波形を表示するパルス波形信号表示装置を用いることにより、短時間にて各増幅器の光ビームのパルス波形を等しく設定できる高出力かつ高指向性なパルスレーザ装置を得ることを目的する。 - 特許庁

To provide a solid-state laser which can superimpose two laser beams, resulting from a continuous oscillation and a pulse oscillation and is capable of laser-oscillation at a high efficiency, with the laser beam quality kept at a high level, capable of changing the output ratio of the continuous oscillation to the pulse oscillation.例文帳に追加

連続発振とパルス発振による２つのレーザー光を重ね合わせることができる固体レーザー装置において、高効率でレーザー発振することができるとともに、レーザー光のビーム品質を高品質に維持しつつ、連続発振とパルス発振の出力比率を変化させることができる固体レーザー装置を提供する。 - 特許庁

To provide a solar cell having a dielectric reflector with high reflectivity, having both characteristics of small layer thickness and of the diffusion lobe of an inversely-diffused radioactive beam by the absorber as widely as possible compared with conventional techniques, and therefore having a superior light-trapping characteristic and high efficiency.例文帳に追加

高い反射性を有する誘電性反射体を有するソーラーセルであって、従来技術と比較して、小さい層厚を有することと、吸収体に逆散乱される放射線の散乱ローブをできる限り広く有することの両方を有し、従って良好な光トラッピング特性と高い効率とを有するソーラーセルを提供する。 - 特許庁

To substantially enhance a cutting performance by a synergetic effect of deep cutting of 2 m or more by means of a high-output collimated (parallel) laser beam of laser diameter 2 mm and length 2 m or more and of pulverizing and scattering-removing of molten matter (dross) generated at the cutting by collision force of high-pressure, large flow-rate compressed air.例文帳に追加

レーザー径２ミリメートル長さ２メートル以上の高出力コリメート（平行）レーザービームによる２メートル以上の深い切断と切断時に生起する溶融物（ドロス）を高圧大流量の圧縮空気の衝突力により粉砕、飛散除去による相乗効果により、切断能率を大幅に向上させる。 - 特許庁

To provide a catalyst specifying method capable of obtaining an EPMA analyzing result of high precision without mapping a ghost signal while permitting the presence of an interface of low intensity between a catalyst coating layer capable of serving as the starting point of cracks with respect to the irradiation with an electron beam of high intensity and an embedded resin layer when EPMA analysis is executed under the conditions while the concentration of a catalyst is extremely low.例文帳に追加

触媒濃度の極めて低い条件下においてＥＰＭＡ分析を実施するに際し、高強度の電子線の照射に対して亀裂の起点となり得る触媒コート層と包埋樹脂層の間の低強度な界面の存在を許容しながら、ゴースト信号がマッピングされることのない、高精度のＥＰＭＡ分析結果を得ることのできる触媒特定方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that can simultaneously satisfy the requirements for high sensitivity, high resolution, desirable pattern configuration, desirable line edge roughness and desirable iso/dense bias in especially lithography using an electron beam, X-rays or EUV light as an exposure radiation source, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a coated product of high quality and masking-less coating, wherein a coated film layer is peeled with high accuracy by abrading only the coated film layer at the predetermined part without damaging a base layer (a base material layer and a chemical-converted layer) at the predetermined part requiring the conductivity or the like, of a coated product corresponding to a casing of a digital camera or the like by using laser beam.例文帳に追加

レーザ光を用いて、デジタルカメラ等の筐体にあたる塗装成形品の、導通性等を必要とする所定部位の下地層（素地層および化成処理層）にダメージを与えることなく、前記所定部位の塗装被膜層のみをアブレーションすることで、高精度に前記塗装被膜層を剥離し、高品質の塗装成形品と塗装マスキングレス化を提供する。 - 特許庁

An ADC 230 included in a signal conversion circuit 20 samples an analog signal 303 which represents the intensity of a laser beam 302 emitted from a laser source 110 driven by a current superimposed with a high-frequency signal 305, and reflected by an optical disk 2 by means of a clock signal 306 whose frequency is substantially the same as that of the high-frequency signal 305 and converts the sampled analog signal into a digital signal 304.例文帳に追加

信号変換回路２０を構成するＡＤＣ２３０は、高周波信号３０５を重畳した電流によって駆動されるレーザ光源１１０から発振され、且つ光ディスク２で反射されたレーザ光３０２の光量を示すアナログ信号３０３を、高周波信号３０５と実質的に同一の周波数を有するクロック信号３０６を用いてサンプリングし、ディジタル信号３０４に変換する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a high-tensile steel plate for ensuring excellent toughness of the steel plate and a joint, suppressing softening of a welded heat affected zone, and also ensuring the tensile strength of the joint of ≥1,100 MPa, in the super-high-tensile steel plate which is welded by the laser beam arc hybrid welding and whose main structure is martensite and which has tensile strength of ≥1,100 MPa.例文帳に追加

レーザ・アークハイブリッド溶接により溶接される、主たる組織がマルテンサイトである引張強さが１１００ＭＰａ以上の超高張力鋼板において、鋼板、継手の良好な靭性を確保し、かつ、溶接熱影響部の軟化を抑制して、継手の引張強さも合わせて１１００ＭＰａ以上を確保できる高張力鋼板の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁