1016万例文収録!

「high-beam」に関連した英語例文の一覧と使い方(75ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > high-beamの意味・解説 > high-beamに関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

high-beamの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 3852



例文

To provide an optical memory device having a large capacity and high-density memory as well as a recording/reproducing speed equivalent to or faster than present phase-change optical disks by making it possible to reproduce recorded information consisting of microrecording marks recorded by irradiating a recording medium with a condensed laser beam by utilizing a near-field write probe when reproducing.例文帳に追加

近接場光プローブを再生時に利用することにより、集光したレーザ光の照射によって記録媒体上に記録された微小記録マークからなる記録情報を再生できるようにして、現状の相変化型光ディスクと同等以上の記録・再生速度でありながら、これより高密度で大容量の光メモリ装置を実現する。 - 特許庁

To form a variable light distributing pattern that can enhance the front visibility of a driver in an own vehicle without giving a glare to a driver in a front running vehicle or an oncoming vehicle, without giving a sense of discomfort to the driver in the own vehicle, in a simple lamp construction, in a vehicle lighting fixture which is constructed to form a variable light distributing pattern for a high beam.例文帳に追加

ハイビーム用の可変配光パターンを形成するように構成された車両用照明灯具において、簡易な灯具構成で、前走車や対向車のドライバにグレアを与えてしまうことなく自車ドライバの前方視認性を高めることができる可変配光パターンを、自車ドライバに違和感を与えてしまうことなく形成可能とする。 - 特許庁

By these respectively additional reflectors 20, when the mirror member 18 is at a second position (illustrated position), one part of light heading toward a reflecting face 16a of the reflector 16 from the light-emitting element 14 is shielded, and reflected forward toward an optical axis Ax side, and brightness increase of a hot zone of the light distribution pattern for the high beam is realized.例文帳に追加

そして、これら各付加リフレクタ20により、ミラー部材18が第2位置(図示の位置)にあるとき、発光素子14からリフレクタ16の反射面16aへ向かう光の一部を遮蔽して、これを前方へ向けて光軸Ax寄りに反射させ、ハイビーム用配光パターンのホットゾーンの明るさ増大を図る。 - 特許庁

In the laser beam welding method of a high-tensile steel plate with Ceq exceeding 0.35, a heating means is provided which locally heats a portion including a weld metal in a period of ≥ 0.1 second and ≤ 10 minutes to a temperature immediately below the Ac_1 transformation point and ≥ 400°C after at least one second is elapsed after the welding laser beams have passed.例文帳に追加

Ceq値が0.35を超える高張力鋼板のレーザ溶接において、溶接レーザビームが通過して1秒以上経過した後に、Ac1点直下かつ400℃以上の温度に0.1秒以上10分以内の時間で溶接金属を含む部分を局所加熱する加熱手段を用いることを特徴とする高張力鋼板レーザ溶接部の熱処理方法。 - 特許庁

例文

When superposing and joining a first metal panel 1 comprising an aluminum alloy which generates a dense oxide film on the surface thereof and a second metal panel 2 comprising a galvanized steel plate, both first and second metal panels 1 and 2 are pressurized to each other while irradiating both joining surfaces of the panels 1 and 2 with a defocused high-energy beam B to join them in the form of a continuous or intermittent line.例文帳に追加

表面に強固な酸化皮膜が生成されているアルミニウム合金から成る第1の金属パネル1と亜鉛めっき鋼板から成る第2の金属パネル2とを重ね合わせて接合するに際して、デフォーカスした高エネルギービームBを第1及び第2の金属パネル双方の接合面に照射しながら、両パネル1,2を相対加圧し、これらを連続的又は断続的な線状に接合する。 - 特許庁


例文

The deflection circuit 10 is provided with nonlinear amplifiers 11, 12 that amplify an ABL(automatic beam limiter) voltage so that a change in the ABL voltage is proportional to a change in a high voltage and horizontal and vertical deflection currents flowing through a horizontal deflection yoke 6 and a vertical deflection yoke 7 respectively are corrected on the basis of output signals from the nonlinear amplifiers 11, 12.例文帳に追加

ABL電圧の電圧変化が高電圧の電圧変化に比例したものとなるように、ABL電圧を非線形に増幅する非線形増幅器11,12を設け、この非線形増幅器11,12の出力信号に基づいて、水平偏向ヨーク6及び垂直偏向ヨーク7を流れる水平偏向電流及び垂直偏向電流を補正するようにした。 - 特許庁

To surely correct the projection data of high resolution free from the distortion by excluding the influence of the displacement of the effective pass caused by the lag of the correction timing of the projection data while keeping the practical circuit scale of a data acquisition system(DAS) without specially elongating a scanning time when the scanning is executed by a cone beam by using the continuous X-ray.例文帳に追加

連続X線を用いてコーンビームでスキャンを行うときに、DASの実用的な回路規模を維持しつつ、スキャン時間を格別に長期化させないで、投影データの収集タイミングのずれに起因した実効パスのずれの影響を排除して、歪みの少ない、高分解能な投影データを確実に収集する。 - 特許庁

A tuning light source manufacturing technique which generates a short wavelength by a frequency multiplication or sum frequency system by applying three wave hybrid energy and the principle of a momentum preservation rule and making an IR laser act on the inside of a nonlinear optical crystal or generates a high-power laser beam of middle to far IR stages by a difference frequency system and is important for a photoelectric system application in a preset stage is provided.例文帳に追加

三波混成のエネルギーと運動量保存則の原理を応用し、赤外線レーザを非線形光学結晶内に作用させ周波数逓倍或いは和周波方式で短波長を発生させるか、或いは差周波方式で中遠赤外線波段のハイパワーレーザー光を発生させし、現段階において光電システム応用上の重要な同調光源製造技術を提供する。 - 特許庁

In a comparison example, the angle of incidence is large at the wide-angle end and the angle of incidence of the main light beam is small at the telephoto end, but in this embodiment, using a variable-focus lens VL nearly equalizes the angle of incidence between the wide-angle end and telephoto end and an image of high picture quality can be obtained through the imaging of an image sensor CMOS.例文帳に追加

比較例の場合は、広角端では入射角が大きく、望遠端では主光線の入射角が小さくなるのに対し、本実施の形態の場合は、可変焦点レンズVLを用いることで、広角端及び望遠端で主光線の入射角をほぼ等しくでき、イメージセンサCMOSの撮像により高画質な画像を得ることができる。 - 特許庁

例文

Since the protruding part 21 is a rod-shaped protruding part with a smaller cross sectional area than that of a main body part 22 of the male terminal 20 and with a shape of a low heat capacity, the protruding part 21 can be made to be melted with low- powered laser irradiation even if the protruding part is made of materials having low laser beam absorption efficiency and high thermal conductivity.例文帳に追加

突起部21の形状は雄端子20の本体部22よりも断面積の小さい棒状の突起部であり、低熱容量形状であるため、その材質がレーザ光吸収効率の低い材料や熱伝導率の高い材料であったとしても、低出力のレーザ照射で溶融させることが可能である。 - 特許庁

例文

To provide an optical head for preventing destruction of recording data by a side beam and realizing a stable tracking servo in the case of adopting a DPP (Differential Push-Pull) method for a system employing a short wavelength laser light source and a high NA (Numerical Aperture) objective lens as a tracking error detection system and an optical information recording and reproducing apparatus with the optical head mounted on it.例文帳に追加

短波長レーザ光源と高NA対物レンズを使用した系においてトラックエラー信号検出方式としてDPP法を採用した場合、サイドビームによる記録データの破壊を防止するとともに、安定なトラッキングサーボを実現可能な光ヘッドおよび同光ヘッドを搭載した光学的情報記録再生装置を提供することにある。 - 特許庁

The method for manufacturing a rare-earth magnet is used to manufacture a rare-earth magnet having a protection layer formed on its surface, and it includes a step wherein an organic monomer-containing liquid is applied to a magnet base body containing rare-earth elements, and an electron beam is irradiated to cause polymerization reaction, so that a high polymer protection layer may be formed on the surface of the magnet base body.例文帳に追加

本発明の希土類磁石の製造方法は、磁石素体と、その表面に形成された保護層とを備える希土類磁石を製造するための方法であって、希土類元素を含有する磁石素体に、有機モノマー含有液を塗布した後、電子線を照射することにより重合反応を生じせしめ、磁石素体の表面に高分子保護層を形成する工程を有するものである。 - 特許庁

To provide an image forming device in which ineffective currents flowing through pertinent electron emitting elements are reduced by holding electron emitting elements which are not selected in high resistance states at the time of driving a display panel while successively selecting multiple electron beam sources which are constituted of a plurality of electron emitting elements and to provide a driving method therefor.例文帳に追加

複数の電子放出素子により構成されるマルチ電子ビーム源を順次選択しながら駆動するに際して、選択していない電子放出素子を高抵抗化状態に保持することにより、当該電子放出素子に流れる無効電流を低減する画像形成装置及びその駆動方法の提供。 - 特許庁

Concerning this nonaqueous electrolytic solution secondary battery equipped with the negative electrode capable of doping/dedoping light metal ions, a positive electrode and the nonaqueous electrolytic solution, the negative electrode is constituted from a material acquired by irradiating a graphitization-retardant carbon material with an electron beam accelerated in high vacuum, in a gaseous atmosphere with an exposure dose over 5 kGy and below 3,000 kGy.例文帳に追加

軽金属イオンをドープ・脱ドープ可能な負極と、正極と、非水電解液とを備えた非水電解液二次電池において、難黒鉛化炭素材料に、高真空下で加速した電子線を気体雰囲気中において5kGy以上3000kGy以下の照射線量で照射して得られる材料から負極を構成する。 - 特許庁

To provide an optical head device which detects a signal by using a detecting light beam passing through a half-mirror, which device realizes an information processor with a low cost and high reliability, which excellently detects signal by giving an satigmatism in a direction different from that of the astigmatism arising in the half-mirror.例文帳に追加

ハーフミラーを透過した検出光を用いて信号検出を行う光ヘッド装置において、ハーフミラーで発生する非点収差の方向と異なる方向の非点収差を付与し、低コストで信頼性の高い良好な信号検出を行う情報処理装置を実現するための光ヘッド装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The laser diode module comprises a photodiode carrier 4 for supporting a photodiode 3, a high-frequency power supply line 11 arranged on the surface of the carrier 4 to a laser diode in a large-sized trapezoidal shape so that a reflected light of a rearward emitting beam of the diode 1 is not returned to the diode 1 by the surface of the photodiode 3.例文帳に追加

レーザダイオードモジユールのフオトダイオード3を支持するフオトダイオードキヤリア4の上面にレーザダイオードへの高周波用給電線11を配して大型で台形の形状とすることで、フオトダイオード3の表面がレーザダイオード1の後面出射光の反射光を、レーザダイオード1に戻さないようにした。 - 特許庁

VIPA type wavelength dispersion compensators 11-1 to 11-n for respectively compensating wavelength dispersion of different degrees are connected by optical circulators 10-1 to 10-n, and light in which even high-order wavelength dispersion is compensated is outputted as an outgoing beam by sequentially inputting incident light to the respective VIPA type wavelength dispersion compensators 11-1 to 11-n.例文帳に追加

異なる次数の波長分散をそれぞれ補償するVIPA型波長分散補償器11−1〜11−nを光サーキュレータ10−1〜10−nによって接続し、入射光を各VIPA型波長分散補償器11−1〜11−nに順次入れることによって、高次の波長分散まで補償された光を出射光として出力する。 - 特許庁

To provide a method for forming a focus mark, mainly aiming to accurately and easily carry out standard focusing on a target and to carry out high-accuracy standard focusing on a rotating work so as to form a focus mark on the work, and to provide an apparatus therefor, and an electron beam irradiation type optical master disk exposure apparatus.例文帳に追加

本発明は、電子ビームを用いた光ディスク原盤露光装置において、ターゲットでの基準フォーカスを正確及び簡便に行うことを主眼とし、回転状態のワークに対して高精度な基準フォーカス合わせを行い、フォーカスマークをワーク上に形成できるフォーカスマーク形成方法及びその装置並びに電子ビーム照射型光ディスク原盤露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A range of suitable shortest distances X (about 8 to 15 μm) corresponding to a predetermined F value (1.4 in an embodiment) is determined and then light absorbed by a light shield film 203a as to light transmitted through a pixel section can be made less than before, so light beam use efficiency which is correspondingly high can be secured.例文帳に追加

所定のF値(本実施形態ではF値は1.4)に対応する最適な最短距離Xの範囲(約8μm〜15μm)を定めることによって、画素部を透過した光のうち遮光膜203aに吸収される光を従来に比べて減少させることができるため、その分高い光線利用効率を確保することができる。 - 特許庁

To provide a divided exposure device which is made compact by suppressing the number of components increased according to the number of scanning systems by making the components commonly usable when the exposure device has plural scanning systems, executes drawing with high resolution by increasing a beam diameter and is capable of correcting the misalignment of scanning lines in a sub-scanning direction.例文帳に追加

露光装置が複数の走査系を備える場合に、走査系の数に応じて増加する構成部品の数を、構成部品を共通化して抑制することにより、装置をコンパクトにし、且つ、ビーム径を大きくして高解像度の描画を行い、さらに、走査線の副走査方向の位置ずれを補正することのできる分割露光装置を提供する。 - 特許庁

The image forming apparatus detects the difference (Xb-Xa) in the scanning lengths on a photosensitive drum 11 between each of laser beams based on the outputs of each of BD sensors 36 and 37 and changes the number of the high-frequency clocks forming one pixel at a specific point on a line scanned by the corresponding laser beam based on the result of the detection.例文帳に追加

画像形成装置においては、各BDセンサ36,37の出力に基づき各レーザ光による感光ドラム11上の走査長の差(Xb−Xa)を検出し、この検出結果に基づき対応するレーザ光で走査されるライン上の特定箇所で1画素を形成する高周波クロック数を変化させる。 - 特許庁

Among N multi-beams by a main antenna 1 used in a no-jamming environment, a high side lobe angular area of the main antenna 1 is a jamming environment is covered by using M beam signals forming an antenna pattern of the main antenna 1, while a low side lobe wide angular area is covered by using subsidiary beams by L low-gain subsidiary antennas 2.例文帳に追加

妨害が無い環境で使用している主アンテナ1によるN本のマルチビームのうち、妨害環境下では、主アンテナ1のアンテナパターンを成形したM本のビーム信号を用いて、主アンテナ1のサイドローブの高い角度領域を覆い、サイドローブの低い広い角度領域は、利得の低いL個の補助アンテナ2による補助ビームで覆うようにする。 - 特許庁

As the mask mechanism 5, a phase modulation array having cells of ≥4 micrometers is used, and the phase modulation array together with the laser source 1 emitting the laser beams 6 of high beam quality form narrow, clear lines with a width of less than 2 mm, and can drawn shapes on the materials to be worked 9, 10.例文帳に追加

前記マスク機構5として、4マイクロメートルより大きなセルを有する位相変調アレイが用いられ、該位相変調アレイは良好なビーム品質のレーザ光6を発するレーザ源1と共に2mmより狭い幅の鮮明な線を生成して加工材料9、10上に型を描くことを可能とする。 - 特許庁

To provide a scintillator composition, which has excellent light beam output, relatively short decay time, and good energy resolution, can be easily converted into a single crystal substance or another transparent solid, can be generated efficiently with adequate cost in an acceptable crystalline dimension, and can be used in combination with various high-energy radiation detectors.例文帳に追加

優れた光出力、相対的に早い減衰時間、良好なエネルギ分解能特性を有し、単結晶物質又は他の透明な固体中実体に容易に転化可能であり、効率的に、妥当な経費で、且つ許容可能な結晶寸法として生成されることが可能であり、多様な高エネルギ放射線検出器と両立するシンチレータ組成物を提供する。 - 特許庁

The hyper-fine patterns are formed on the substrate by irradiating a high-energy beam on the substrate while changing an irradiating position against the substrate in correspondence with a specified shape of the hyper-fine patterns under a state of arranging a plurality of copper fine particles on the substrate and having nitrogen molecules exist on surfaces of these copper fine particles or in the neighborhood of them.例文帳に追加

基板上に複数個の銅微粒子を配置する一方、この銅微粒子の表面乃至は近傍に窒素分子を存在せしめた状態下、基板に対して、高エネルギービームを、所定の超微細パターンの形状に対応するように基板に対する照射位置を変化させながら照射せしめることにより、基板上に超微細パターンを作製した。 - 特許庁

An infrared microscope system 1 includes an optical unit 50 that narrows down the infrared light flux supplied from an interference unit 22 of an FT-IR 2 to a smaller diameter in a substantially parallel light, so as to generate a high density infrared light flux having a higher light beam density than the supplied infrared light flux and to introduce it.例文帳に追加

本発明の赤外顕微システム1は、FT−IR2の干渉計部22から供給された赤外光線束を実質的に平行光とした状態で小径に絞ることで、当該赤外光線束の光線密度よりも高い光線密度とされた高密度の赤外光線束を形成して導入する光学ユニット50を備えている。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure method of extracting the parameters of an exposure light intensity distribution function optimal for correcting exposure data on a proximity effect so as to form a pattern of high dimensional accuracy, in accordance with exposure data corrected on a proximity effect on the basis of an exposure light intensity distribution function.例文帳に追加

露光強度分布関数に基づいて近接効果補正処理を行った露光データに従って露光を行う荷電粒子ビーム露光方法に関し、露光データの近接効果補正処理に最適な露光強度分布関数のパラメタを抽出し、寸法精度の高いパターンを作成することができるようにする。 - 特許庁

To provide a lithography apparatus for separating a conduit from vacuum without losing the flexibility of the conduit, since the conduit for supplying a utility to an apparatus component in a vacuum chamber has a problem to discharge vacuum contaminated gas although the need for keeping a projection beam path at high vacuum is generated due to the short wavelength of radiation used for the lithography projection apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置に使う放射線の短波長化に伴い、投影ビーム経路を高真空に保つ必要が生じたが、真空室内の装置構成要素にユーティリティを供給する導管に真空汚染ガスを放出する難点があるので、この導管の柔軟性を損うことなく、導管を真空から隔離したリソグラフィ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a laser welding method and a device therefor where a laser head is kept at a fixed distance from a structure to be welded, and a laser beam can be focused on different parts in the structure to be welded without changing the position of the laser head by a process ensuring high welding quality, and simple and effective owing to the remarkable shortening of production time.例文帳に追加

高い溶接品質を保証し、同時に、製造時間を相当短縮することにより簡素で効果的な方法で、レーザヘッドを溶接する構造体から一定の距離に維持し、レーザヘッドの位置を変更することなく溶接する構造体の異なる部分にレーザ光線の焦点を合わせることができる改良されたレーザ溶接方法および装置を提供する。 - 特許庁

Furthermore, a plasma generation method can be applied to an extreme ultraviolet light source device for generating extreme ultraviolet light (EUV) while the laser beam is irradiated to an extreme ultraviolet light emissive species arranged outside a discharge zone and the generated plasma is supplied to the discharge zone, and the plasma can be supplied to the discharge zone while it maintains the high density.例文帳に追加

また、本発明を、放電領域外に配置された極端紫外光放射種にレーザビームを照射し、発生したプラズマを放電領域に供給して、極端紫外光(EUV)を発生させるEUV光源装置にも適用でき、プラズマを高い密度を維持した状態で放電領域に供給することができる。 - 特許庁

A spectral purity filter is formed with an opening with a fixed diameter, and configured to reflect the radiation of a first wavelength, and to transmit at least a portion of the radiation of a second wavelength so that the spectral purity of a radiation beam can be made high by making the first wavelength longer than the second wavelength.例文帳に追加

スペクトル純度フィルタは、一定の直径を有する開口を備えており、第1の波長の放射を反射し、且つ、第2の波長の放射の少なくとも一部を開口を通して透過させ、第1の波長が第2の波長より長いことによって放射ビームのスペクトル純度を高くするように構成されている。 - 特許庁

To provide a device and a method where, in a technique of melting a titanium ingot by electron beam melting with titanium scrap as a melting raw material, titanium scrap with variation in feeding quantity and dimensions can be stably utilized as a melting raw material, and a titanium ingot having excellent quality can be stably melted at a high yield.例文帳に追加

チタンスクラップを溶解原料として電子ビーム溶解によりチタンインゴットを溶製する技術において、供給量や寸法に大小ばらつきのあるチタンスクラップを溶解原料として安定して利用でき、品質の優れたチタンインゴットを歩留まり良くしかも安定的に金属を溶製できる装置および方法を提供する - 特許庁

To provide a chip manufacturing method which uses a laser dicing device that irradiates the surface of a wafer with a laser beam so as to form modified regions inside the wafer, is capable of dividing the thick wafer well even when the layers of the modified regions formed inside the wafer are small in number, and high in efficiency.例文帳に追加

ウェーハの表面からレーザー光を入射させ、ウェーハ内部に改質領域を形成するレーザーダイシング装置を用い、厚いウェーハに対し、ウェーハ内部に形成される改質領域の層の数が少なくても、良好にウェーハを割断することのできる効率的なチップ製造方法を提供すること。 - 特許庁

To offer a constitution of a micro electron source using a laser emitting element capable of integration equal to that of a NEA(negative electron affinity) photo-cathode and capable of obtaining electron beams having high- brightness and a low energy dispersion characteristic, and to provide an electron beam device capable of downsizing device constitution and improving the throughput.例文帳に追加

本発明は、NEAフォトカソードと同等の集積化が可能なレーザ発光素子を使用し、高輝度かつ低エネルギー分散特性を有する電子ビームを得ることができる微小電子源の構成を提案し、装置構成を小型化して、スループットの向上を図ることができる電子ビーム装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

In the optical recording medium having a recording layer on which a recording mark is formed by irradiation with an energy beam on a substrate, the recording layer is composed of an alloy consisting essentially of In and a wettability controlling layer consisting essentially of an element having a high melting point is provided adjacently to the recording layer.例文帳に追加

エネルギービームの照射により記録マークが形成される記録層を基板上に有する光情報記録媒体であって、この記録層はInを主成分とする合金からなり、この記録層に隣接して、高融点の元素を主成分としたぬれ性制御層を有することを特徴とする光情報記録媒体。 - 特許庁

According to the arrangement, directivity control characteristics for low frequency bandwidth is secured by extending an array width L even the number of microphones is small so as to hold down the cost, while directivity control characteristics for high frequency bandwidth is secured without generating another sound pickup beam since many microphone units are disposed at an equal interval by distance (d) in a dense array of the inner array.例文帳に追加

これにより、コストを抑えた少ないマイク個数でありながらアレイ幅Lを大きくして低周波数帯域の指向制御特性を確保することができるとともに、配列内側の密配列区間では多数のマイクユニットが距離dで等間隔に配列されるため、別の収音ビームを発生させずに高周波数帯域の指向制御特性を確保することができる。 - 特許庁

To provide an optical recording medium suitable for a high packing density optical disk system (DVD-R) using a semiconductor laser having an oscillation wavelength in a shorter wavelength and having excellent light resistance and storage stability in an information recording medium capable of recording, reproducing and writing once information by bringing about an optical change of a transmittance, a reflectivity or the like of a recording material by emitting an optical beam.例文帳に追加

光ビームを照射することにより、記録材料の透過率、反射率等の光学的な変化を生じさせ、情報の記録、再生を行ない、かつ追記が可能な情報記録媒体であって、より短波長に発振波長を有する半導体レーザーを用いる高密度光ディスクシステム(DVD−R)に好適な耐光性及び保存安定性に優れた光記録媒体を提供すること。 - 特許庁

While rotating a substrate holder 30 and a transfer table 40, the joining face of plural thin films 12a on a substrate 10 and the transfer table 40 is irradiated with an argon high speed atom beam 5, plural thin films 12a are peeled from the substrate 10, plural thin films 12a are laminated/joined on the transfer table 40, a micro structure is formed.例文帳に追加

基板ホルダ30および転写台40を回転させながら、基板10上の複数の薄膜12aおよび転写台40の接合面にアルゴンの高速原子ビーム5を照射し、基板10から複数の薄膜12aを剥離し、転写台40上に複数の薄膜12aを積層して接合することにより微小構造体を形成する。 - 特許庁

To provide a negative photopolymerizable original plate for a planographic printing plate having higher sensitivity because of high adhesive strength of a photosensitive layer to the substrate, excellent also in printing resistance and staining property, free of the jumping of thin lines and highlight even when ink on the plate surface is removed with a plate cleaner or printing is carried out in large quantities and capable of attaining direct laser beam writing.例文帳に追加

強固な感光層と支持体の密着力により、より高感度でかつ、耐刷性および汚れ性にも優れ、プレートクリーナーで版面のインキを除去しても又多量の印刷を行っても細線やハイライトが飛ばず、直接レーザー書き込みも可能なネガ型光重合性の平版印刷版用原版を提供する。 - 特許庁

To provide a method for a high speed welding by which an allowable range of gap is increased and the variance of joint strength is decreased in a lap welding and a lap fillet welding or a butt welding of a thin metallic plate having a gap or a structural body formed of the metallic plate having a gap by combining a laser beam welding and a gas metal arc welding.例文帳に追加

レーザー溶接とガスメタルアーク溶接を複合化することにより、隙間を有する金属薄板、或いはそれによって形成された構造物の重ねおよび重ね隅肉溶接或いは突き合せ溶接において隙間許容量を増大し、継手強度のばらつきのない高速溶接法を提供する - 特許庁

To provide an electron gun assembly device capable of accurately arranging grids by solving such problems in an existing electron gun assembly device that although a projecting surface fitting to an electron beam passing hole is installed in a spacer, after the grids are united, since the spacer is removed, the thickness of the spacer containing the projecting surface is restricted, and accuracy of the assembled grids is not so high.例文帳に追加

電子銃組立装置において、スペーサにこの電子ビーム通過孔に嵌合する突面を設けていたが、各グリッドの一体化を行った後に、このスペーサを取除くために、突面を含めたスペーサの厚さが規制され、組立てられたグリッドの精度的な問題が発生していたが、これを改善して精度良くグリッドを配置することが可能な電子銃組立装置を提供する。 - 特許庁

The compensated color management system and method achieve high-quality images in a projection system using a reflection panel by correction of skew rays using a skew-ray correction structure 100 or the like including a first PBS (polarizing beam splitter) 102, a second PBS 108 and a CCSPF (compensating color selective polarization filter) 114 functioning as a half-wave retarder.例文帳に追加

第1のPBS102、第2のPBS108、及び、半波長リターダとして作用するCCSPF114を有するスキュー光線補正構造100等を用いて、スキュー光線を補正することにより、反射パネルを用いるプロジェクションシステムにおいて、高質のイメージを実現する補償カラーマネージメントシステムおよび方法。 - 特許庁

Further, the main controller 7 sends a proper command signal to a lens driving device 25 and makes a condenser lens (described in detail later) held on a fine moving stage device 23 turn in X-Y plane by properly operating the fine moving stage device 23 and makes the incident position of a spot laser beam rotate at high speed on a work W.例文帳に追加

また、主制御装置7は、レンズ駆動装置25に適当な指令信号を送信して微動ステージ装置23を適宜動作させることにより、微動ステージ装置23に保持された集光レンズ(後に詳述)をXY面内で回転運動させることができ、スポット状のレーザ光の入射位置をワークW上で高速回転させることができる。 - 特許庁

Heating with the induction heating furnace 2 has the minimum time for reducing or eliminating skid marks generated in the walking beam type heating furnace, a plurality of coils are controlled with a plurality of controllers so that the temperature of the surface layer dos not ascend too high, and proper distance is provided between the coils for surface heat radiation.例文帳に追加

誘導加熱炉2での加熱は、ウォーキングビーム式加熱炉で発生するスキッドマークを低減若しくは消滅するための最低限の時間を有し、かつ表層の温度が上昇しすぎないよう複数のコイルを複数の制御装置で制御し、表層放熱のためにコイル間に適当な距離を有する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition simultaneously satisfying sensibility, high resolution, a pattern profile, line edge roughness and dry etching resistance, particularly in lithography using an electron beam, an X-ray or EUV light as an exposure light source, as well as a resist film and a patterning method using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、X線又はEUV光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a scanning optical device of high performance, which is a multi-beam scanning optical device using a plurality of light sources having a plurality of light emitting points, by reducing the affection of focusing positional deviation in a main scanning direction between scanning lines in a state accompanied with the disposing error between the scanning optical device and a drum.例文帳に追加

本発明においては複数の発光点を有する光源を複数使用するマルチビーム走査光学装置において、走査光学装置とドラム間の配置誤差を伴った状態においても走査線間の主走査方向の結像位置ずれの影響を低減し、高性能な走査光学装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

This cross beam consists of a pipe molded member 9 flexible and easily twisted, this pipe molded member is formed by cold deformation work of a pipe R consisting of fine amount alloy steel of high strength, so as to have an easily twisted central lengthwise direction division c and not easily twisted end division a provided with a U-shaped cross section 10 of double wall.例文帳に追加

クロスビームが、耐屈撓性であり且つねじれやすい管成形部材(9)から成っており、該管成形部材が、高い強度の微量合金鋼から成る管(R)の冷間変形加工によって形成されており且つ二重壁のU字形横断面(10)を備えたねじれやすい中央長手方向区分(c)並びにねじれ難い端区分(a)を有しているようにした。 - 特許庁

When a high-brightness pixel is projected in the regulation area, the anti-glare control ECU 10 determines that the solar beam is incident, moves the sun visor 14 to the position between the shading position and the releasing position, or the shading position to realize a shaded state for shading the incident light on eyes of the occupant through a windshield 6.例文帳に追加

そして、その規定領域に高輝度画素が写りこんでいる場合には、防眩制御ECU10が、太陽光入射状態であるものと判断して、サンバイザー14を遮光位置と解除位置との間の位置、もしくは遮光位置に移動させ、フロントガラス6を通過して乗員の目に入射する入射光を遮光した遮光状態を実現する。 - 特許庁

To provide an adaptive antenna receiver in which time for converging the antenna weight of an adaptive updating algorithm can be shortened by actualizing the high directivity of a receiving quality just after the start of adaptive updating when a finger is to be newly assigned or when the pass timing of the finger is considerably changed, in an adaptive antenna for forming a beam for each of passes.例文帳に追加

各パス毎にそれぞれビームを形成する適応アンテナにおいて、フィンガーを新たに割り当てるときやフィンガーのパスタイミングが大きく変化したとき、適応更新の開始直後で受信品質の高い指向性を実現でき、適応更新アルゴリズムのアンテナ重みの収束時間を短くすることができる適応アンテナ受信装置を提供する。 - 特許庁

例文

After shaping a secondary electron detecting signal by an input filter, a startup of a voltage of a pattern edge is caught by a Schmidt triggering circuit, time variation from scanning start till edge detection is detected in high sensitivity, by passing the secondary electron detecting signal through an anti-aliasing filter, irradiation position of an electron beam is measured to obtain a signal for stability evaluation.例文帳に追加

2次電子検出信号を入力フィルタで整形した後、パターンエッジの電圧の立ち上がりをシュミット・トリガ回路で捉えることにより、走査開始からエッジ検出までの時間変動を高感度に検出し、アンチ・エイリアシング・フィルタを通過させることによって、電子線の照射位置を計測し、安定性評価のための信号を取得する。 - 特許庁

索引トップ用語の索引



  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2024 GRAS Group, Inc.RSS