「line pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(65ページ目) - Weblio英語例文検索

A difference |L1-L2| between dimensions L1 and L2 on both sides by sandwiching the center line C of the dynamic pressure grooves 3a and 3b is set to 1% or less of the total length (L1+L2), so as to restrain generation of the shaft directional flow of the lubricating fluid caused by shaft directional asymmetry of herringbone pattern.例文帳に追加

動圧溝３ａ（３ｂ）の中心線Ｃを挟んでその両側の寸法Ｌ_1とＬ_2 の差｜Ｌ_1 −Ｌ_2 ｜を、その全長（Ｌ_1 ＋Ｌ_2 ）の１％以下とすることにより、ヘリングボーンパターンの軸方向への非対称性に起因する潤滑流体の軸方向への流れの発生を抑制する。 - 特許庁

The pattern length of a gate line GL formed in the upper layer of a diffusion layer RS of a wafer SI is grasped, and sub-field division is carried out by arranging connecting parts DP1 and DP3 in an NRS outside the region of the diffusion layer RS so that the number of sub-field connecting parts DP2 on the diffusion layer RS can be minimized.例文帳に追加

ウエーハＳＩの拡散層ＲＳの上層に形成されるゲートラインＧＬのパターン長さを把握し、例えば拡散層の領域外ＮＲＳに接続部ＤＰ１，ＤＰ３を配置し、拡散層ＲＳ上での接続数ＤＰ２を最小となるように配置したサブフィールド分割とする。 - 特許庁

In the game at the second stage executed after ending in failure at the first stage, a success appears even when a predetermined pattern is stopped and displayed at a position on the outer variable display portion 32 corresponding to the extension of a line where the game ends in failure via the reach state at the first stage.例文帳に追加

第１段階で外れになって実行された第２段階のゲームで、外枠可変表示部３２のうち第１段階でリーチ状態を経由して外れになったラインの延長上に該当する箇所に所定の図柄が停止表示されたときにも当たりが出現する。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative development excellent in line width roughness (LWR), exposure latitude (EL) and depth of focus (DOF) and a pattering process using the same, in order to more stably form a high-accuracy fine pattern for manufacturing a highly-integrated and high-accuracy electronic device.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ（ＬＷＲ）、露光ラチチュード（ＥＬ）及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This building is at least two-storied or higher, the exterior walls of the building are divided into a plurality of regions 1, 2 and 3 from the upper to lower stories with the longitudinal direction as a boundary line, and each of the regions 1, 2 and 3 has a different color, pattern or both of them.例文帳に追加

少なくとも２階建て以上の建物であって、前記建物の外壁が上下階に亘って縦方向を境界線として複数の部位１、２、３に区画され、これら区画した部位１、２、３ごとに色もしくは模様、又はその両方が異なるようになされている。 - 特許庁

The tool 3 or the substrate 1 is rotatively controlled so that the blade surface direction defined by the projection line of the normal of the cutting surface of the tool 3 to the surface of the substrate 1 and the optical axis direction of the optical waveguide pattern 2 conform each other at all times and, at the same time, the recessed groove is cut.例文帳に追加

工具３の切削すくい面の法線を、基板１の表面に射影した線で定義される刃面方向と、光導波路パターン２の光軸方向とが、常に一致するように工具３又は基板１を回転制御しつつ、凹溝が切削加工される。 - 特許庁

The fashion article selection and coordinate proposal are repeatedly performed, a fashion article sale is carried out, when the selection of all fashion articles is finished (step S106), thereby a general on-line commerce is implemented, and the data of a customer DB 306 are updated based on this behavior pattern of the customer.例文帳に追加

服飾品選択、コーディネート提案は繰り返し実行され、総ての服飾品の選択を終了したとき服飾品販売（ステップＳ１０６）を実行し、一般的なオンライン商取引の実行と、今回の顧客の行動パターンに基づいた顧客ＤＢ３０６のデータ更新とを行う。 - 特許庁

A zero-order moment computing unit and a first-order moment computing unit find a zero-order moment and a first-order moment in a direction perpendicular to a direction in which the line pattern light is extended in respective positions in the direction, in such a way that digital signals corresponding to the output signals obtained in nearly the same time by the photodetector array are integrated.例文帳に追加

０次モーメント演算器と１次モーメント演算器とが、ラインパターン光が延びる方向における各位置での該方向に対して垂直の方向での０次、１次モーメントを、受光素子アレイにて略同時刻に得られた出力信号に相当するデジタル信号を積分して求める。 - 特許庁

Further, the angle of inclination (precise angle) in a straight line connecting the temporary center and the point at the position of the edge part separated by the integer multiple of the unit element to an x axis from the temporary center is obtained, and the inclination is corrected with the precise angle, thus the inclination of the repeated pattern is perfectly compensated.例文帳に追加

さらに、仮中心と、仮中心からｘ軸方向に単位要素の整数倍離れた端部位置の点とを結ぶ直線の傾き角度（精密角度）を求め、精密角度で傾きを補正することで繰り返しパターンの傾きが完全にうち消される。 - 特許庁

When the pattern variable display device 13 is stopped to make a display, if the combination of stop figures to be shown on a valid line is as specified, a bonus game is executed in which large amounts of game balls are paid out together with prize balls from a game ball pay-out device for a short period of time.例文帳に追加

そして、図柄変動表示装置１３が停止表示されたときに、有効ラインに表示される停止図柄の組み合わせが特定の組み合わせであると、遊技球払出装置により短期間に大量の遊技球が賞球と払出されるボーナスゲームが実行される。 - 特許庁

And also, temperature/ stress/distortion are estimated from the inputted on-line measurement data by using temperature/stress distribution pattern matching, the lifetime is evaluated from the estimated temperature/stress/distortion and the characteristics of materials constituting the prime mover and the operation limit of the prime mover is judged/displayed on the basis of the evaluated lifetime.例文帳に追加

また、入力されたオンライン計測データから温度・応力分布パターンマッチングを用いて温度・応力・ひずみを推定し、これと原動機を構成する材料の特性とから寿命を評価し、これに基づき原動機の運転制限について判定・表示する。 - 特許庁

To provide a variable rigidity type dynamic vibration absorbing device, capable of solving the problem of a pattern formation phenomenon if any generated due to vibration of a contact roll system, for example, to which there is no fundamental measure of prevention at site, giving fatal damage to the product, or causing a situation of setting an upper limit of line speed.例文帳に追加

例えば、接触ロール系の振動により発生するパターン形成現象に対する現場の根本的な対策方法はなく、このパターン形成現象が発生した場合、製品に致命的なダメージを与たり、ライン速度の上限を設定せざるを得ない状況に陥る。 - 特許庁

Further, each manufacturing-error correcting pattern has such a deformed shape that its conductive line portion has adjacent portions to each other, and the spaces between the adjacent portions are so varied gradually that the rate of the adjacent portions being contacted with each other is controlled correspondingly to the manufacturing accuracy of the element.例文帳に追加

そして製造誤差補正パターンの形状は、導電ライン部が隣り合う部分を有するように変形したパターンであって、その隣り合う部分の間隔が暫時変化しており、製造精度に応じて隣り合う部分の接触割合が制御されるようにしている。 - 特許庁

The plurality of lines constituting the detection object color pattern extend in the main scanning direction with one virtual straight line running in the sub scanning direction defined as a reference position, and the length dimension of the respective lines in the main scanning direction are formed stepwise long or short at uniform length dimensions.例文帳に追加

検出対象色パターンを構成する複数本のラインは、副走査方向に走る一つの仮想直線を基準位置として主走査方向に伸びており、各ラインの主走査方向の長さ寸法は、均等な長さ寸法で段階的に長くまたは短く形成されるようになっている。 - 特許庁

To determine steps or unevenness formed on a sample by a simple technique or obtain three-dimensional information by using a charge particle beam device such as a scanning electron microscope, and particularly to provide a determination method or its device suitable for unevenness determination of a line and space pattern formed on a sample.例文帳に追加

走査電子顕微鏡等の荷電粒子線装置で、簡単な手法で試料上に形成された段差及び凹凸の判定、或いは３次元情報を得ることにあり、特に試料上に形成されたライン＆スペースパターンの凹凸判定に好適な判定方法、及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which simultaneously satisfies sufficiently high sensitivity, high definition, successful pattern geometry and good invacuo PED and line edge roughness under irradiation with electron beams or X-rays, further has high sensitivity and high contrast in characteristic evaluation by irradiation with EUV light.例文帳に追加

電子線又はＸ線照射下で十分な高感度、高解像性、良好なパターン形状と、良好な真空中ＰＥＤとラインエッジラフネスを同時に満足し、さらにＥＵＶ光の照射による特性評価においても高感度で高コントラストなポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To see to it that a low-beam light distribution pattern with a clear cutoff line at a top end part is formed, so as not to trouble an oncoming vehicle driver with big glare, in case a projector-type lamp tool unit with a light-emitting element as a light source is adopted for a vehicle headlight.例文帳に追加

車両用前照灯の灯具ユニットとして、発光素子を光源とするプロジェクタ型の灯具ユニットを採用した場合において、上端部に鮮明なカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成するようにした上で、対向車ドライバに大きなグレアを与えてしまわないようにする。 - 特許庁

To provide a pleated skirt performing the most natural and stable pleats while comprising straight line pleats not causing a decline in a mass production property, and designed in view of the lady's body shape; to provide a method for making the skirt; and to provide a paper pattern of the pleated skirt suitable for making the pleated skirt.例文帳に追加

女性の体型の特徴に着目し、量産性を低下させることがない直線プリーツでありながら、最も自然で安定したプリーツを得ることができるプリーツスカート、及び、その製造方法、並びに、同プリーツスカートの製造に適するプリーツスカート用型紙の提供を図る。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method, capable of surely connecting the divided patterns together, lessening a width change in a line at a joint between the transferred patterns, when the divided patterns are formed on a mask and then transferred to a resist for the formation of the pattern of a semiconductor device.例文帳に追加

分割されたパターンをマスク上に形成し、レジストに転写して半導体装置のパターンを形成する際に、転写されたパターンの接続部の線幅変化を小さくし、分割されたパターンを確実に接続できるような半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the method for forming the refractive index pattern, a hybrid material comprising a polysilane compound and an inorganic compound is irradiated with an active energy line via a mask, a polysilane decomposition product of the irradiated part is removed, and then the whole hybrid material is hardened by heating.例文帳に追加

ポリシラン化合物と無機化合物からなるハイブリッド材料にマスクを介して活性エネルギー線を照射し、この照射部分のポリシラン分解物を除去した後に、ハイブリッド材料全体を加熱して硬化させることを特徴とする屈折率パターンの形成方法。 - 特許庁

To provide a substrate processing method that reduces variance in line widths of resist patterns between substrates without increasing a processing time when the resist pattern is formed on each substrate having a resist film formed by performing exposure a plurality of times and also carrying out heating processing and developing processing.例文帳に追加

レジスト膜が形成された各基板に、露光を複数回行い、加熱処理及び現像処理を行うことによってレジストパターンを形成する際に、処理時間を増大させず、基板間のレジストパターンの線幅のばらつきを低減できる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The plural number of polyhedron patterns are positioned on each of the plural number of lines arbitrary formed in vertical direction, horizontal direction and diagonal direction and when the identification pattern display is stopped at the predetermined combination on one of the line the winning of a special game is announced.例文帳に追加

複数の多面体図柄は、縦方向、横方向及び斜め方向のうちの任意の方向に形成される複数のライン上に夫々複数配置され、ライン上の何れかにおいて識別図柄が所定の組合せで停止表示した場合、特別遊技への当選が報知される。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition prevented from occurrence of change of the line width of a resist pattern by PED and that of T forms and that of stationary waves even on a substrate high in reflectance and high in resolution and useful as a chemically sensitizable resist.例文帳に追加

ＰＥＤによりレジストパターンが線幅の変化を生じたりＴ型形状になったりすることがなく、反射率の高い基板上でも定在波を発生することがなく、解像性能に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist polymer capable of obtaining a resist composition which excels in a pattern shape, resistance to dry etching, line width stability against the change in heating temperature after exposure and the like and has sufficient sensitivity and an excellent image resolving degree, and a resist monomer for obtaining the polymer.例文帳に追加

パターン形状、ドライエッチング耐性、露光後の加熱温度の変化に対する線幅安定性等に優れ、十分な感度を有し、解像度にも優れるレジスト組成物を得ることができるレジスト用重合体、および該重合体を得るためのレジスト用単量体を提供する。 - 特許庁

The drum type game machine such as a slot machine is provided with a CB game role for imparting a CB game in which the range of patterns stoppable after a stop operation until reel stoppage is narrowed and opportunities to stop the pattern relating to a winning role on an effective line are made more than usual to the next game.例文帳に追加

スロットマシン等の回胴式遊技機であって、ストップ操作されてからリールを停止するまでに停止可能な図柄の範囲を狭くし、通常よりも入賞役に係る図柄を有効ラインに停止させる機会が増加するＣＢ遊技を次回の遊技に付与するＣＢ遊技役を備える。 - 特許庁

To provide a positive-type photoresist composition, which ensures improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and has an effect of improving the margin for exposure (particularly a margin for exposure of isolated lines), that is, ensures small changes in the line width of isolated lines when light exposure is varied.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に露光マージン（特に孤立ラインの露光マージン）に対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

Second index faces S2.S2, each of which comprises a line pattern where lines in parallel with the main scanning direction are formed with intervals providing roughness and fineness, are provided to areas P2.P2 at both outsides of the area P1 on the upper side of the 2nd reference white board 68 in the main scanning direction.例文帳に追加

第２基準白板６８の上面の領域Ｐ１より主走査方向両外側の領域Ｐ２・Ｐ２に、ライン同士が主走査方向に平行となるラインパターンをライン同士の間隔に疎密を持たせた状態で形成した第２指標面Ｓ２・Ｓ２を設ける。 - 特許庁

That is, when the single character information column is varied, since there is no column to be a comparison object like the plurality of common decorative pattern columns, whether or not the single or the plurality of ready-to-win states are to be stopped on the effective line is not predicted until the single character information column is stopped.例文帳に追加

すなわち、単数の文字情報列が変動する場合には、複数の共通装飾図柄列のように比較対象となる列がないことから、単数の文字情報列が停止するまで、有効ライン上に単数または複数のリーチ状態が停止されるか否かが予測されることがない。 - 特許庁

The water-repelling fabric, water-repelling products and their production method is a fabric including at least synthetic fiber multifilament having a water-repellency of ≥3 according to JIS L1092 method after 20 times washing and fine line design pattern is engraved on the surface of the fabric.例文帳に追加

合成繊維のマルチフィラメントを少なくとも含む布帛であって、該布帛は洗濯２０回後のＪＩＳ Ｌ１０９２法の撥水度が３以上であり、かつ、布帛の表面に細線の柄模様が印刻されていることを特徴とする撥水布帛、撥水製品およびその製造方法。 - 特許庁

To estimate the amount of frequency offset precisely even if the number of repetition fixed patterns in a preamble section is small and CNR is small, when estimating the amount of frequency offset using the repetition fixed pattern under the multipath fading in the radio propagation line of a radio communication system.例文帳に追加

無線通信システムの無線伝搬路のマルチパスフェージング下において繰返し固定パタンを用いて周波数オフセット量の推定を行う際に、プリアンブル区間の繰返し固定パタンの数が少なく、ＣＮＲが小さい場合においても、周波数オフセット量を精度良く推定可能にする。 - 特許庁

The transmitter, having an array antenna first uses a beam- forming network to estimate a transmission line space gain pattern, estimates the number of transmission beams and an angle of each beam, applies the beam space - time block coding processing to an input signal, and transmits the coded signal.例文帳に追加

アレイアンテナを有する送信機において、まずビームフォーミングネットワークを用いて、伝送路空間利得パターンを推定し、そして送信用ビーム数及び各ビームの角度を推定し、入力信号に対してビーム空間−時間ブロック符号化処理を行い、符号化した信号を送信する。 - 特許庁

In a CMOS image sensor wherein an imaging section 10A includes a valid pixel part 1 and invalid pixel parts 2-5 and signal processing is performed by reading signals of pixels for the unit of a pixel line, an optical black part (OB part) 2 for fixed pattern noise correction is provided in a part of the invalid pixel parts 2-4.例文帳に追加

撮像部１０Ａに有効画素部１と無効画素部２〜５を有し、各画素の信号を画素列単位で読み出して信号処理を行うＣＭＯＳイメージセンサにおいて、無効画素部２〜４の一部に固定パターン雑音補正用のオプティカルブラック部（ＯＢ部）２を設ける。 - 特許庁

In the game at the second stage executed after ending in failure at the first stage, a success appears even when a predetermined pattern is stopped and displayed at a position on the outer frame variable display portion 32 corresponding to the extension of a line where the game ends in failure via the reach state at the first stage.例文帳に追加

第１段階で外れになって実行された第２段階のゲームで、外枠可変表示部３２のうち第１段階でリーチ状態を経由して外れになったラインの延長上に該当する箇所に所定の図柄が停止表示されたときにも当たりが出現する。 - 特許庁

Consequently, the capacitor microphone 11 can ensure steady conduction by a ground-side conductive line formed by electrically connecting the calking portion 47 and the ground pattern 63 on the side of the circuit board 62 even if the calking force of the calking portion 47 decreases, and therefore the generation of hum noise can be avoided.例文帳に追加

これにより、コンデンサマイクロホン１１は、かしめ部４７のかしめ力が緩和しても、かしめ部４７と回路基板６２側のグランドパターン６３とを導通接続させて形成したグランド側導電路が強固な導通を確保できるので、ハム雑音の発生を回避させることができる。 - 特許庁

Figures are front views showing a conductor pattern 1d1 in a conductor film 1d, Figure (A) shows a front face (contacting face, namely, an outer face when the conductor film is folded along the center line defined in the vertical direction), and the figure (B) shows a back face (non-contacting face, namely the inner face).例文帳に追加

図は、導体フィルム１ｄにおける導体パターン１ｄ１を示す正面図であり、（Ａ）は、表面（接触面、すなわち、上下方向に引かれた中央線により導体フィルムが２つ折りされたときの外面）を示し、（Ｂ）は、裏面（反接触面、すなわち内面）を示す。 - 特許庁

When symbols designated for display on an LCD 3 by a command 52 for designating stopped symbols coincide with a preset pattern of a small win (in the present embodiment, symbols '7' appear or three losing symbols appear on one line), a predetermined number of prize balls are dispensed from a dispensing control board H.例文帳に追加

停止図柄指定コマンド５２により指定されてＬＣＤ３に表示される図柄が、予め定められた小役のパターンと一致する場合（本実施例では「７」の図柄の現出、又は、１ライン上に３つのはずれ図柄の現出）に、払出制御基板Ｈから所定数の賞球が払い出される。 - 特許庁

This vehicular headlamp is so structured as to be provided, between a projection lens 28 and a reflector 24, with a first shade 32 for forming the cut-off line as a shade for shading a part of reflected light from a reflector 24, and a second shade 34 for forming a dark part at a lower end center part of the light distribution pattern.例文帳に追加

投影レンズ２８とリフレクタ２４との間に、該リフレクタ２４からの反射光の一部を遮蔽するシェードとして、カットオフラインを形成するための第１シェード３２と、配光パターンの下端中央部に暗部を形成するための第２シェード３４とを備えた構成とする。 - 特許庁

To solve problems relating to the techniques for improving the performance in microfabrication of a semiconductor device using high energy rays, X rays, electron beams or EUV light, and to provide a positive resist composition satisfying requirements of high sensitivity, high resolution, a favorable pattern profile and favorable line edge roughness.例文帳に追加

高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

This drum type game machine displays the shift amount 801 of the position of a target pattern and a valid line on which the patterns of a role should be arranged at the time of a reel stopping operation and the technique level 802 of the spot pushing of the player at a variable display device 609 immediately, after a small role is missed.例文帳に追加

回胴式遊技機は、小役の取りこぼしが発生した直後に、リール停止操作時における狙った図柄の位置と役の図柄を揃えるべき有効ラインとの偏移量８０１、および遊技者の目押しの技術レベル８０２を、可変表示装置６０９に表示する。 - 特許庁

An OLT (optical line termination) is provided with a frame scrutinization unit 16 which detects an idle signal which repeats periodical fixed bit pattern from a down signal to an ONU (optical network unit) and a dummy frame producer 17 which inserts the dummy frame filled with scramble data with respect to the idle signal detected by the frame scrutinization unit 16.例文帳に追加

ＯＬＴが、ＯＮＵへの下り信号から周期的な固定ビットパターンを繰り返すアイドル信号を検出するフレーム精査部１６と、フレーム精査部１６により検出されたアイドル信号に対してスクランブルデータを充填したダミーフレームを挿入するダミーフレーム生成部１７とを備える。 - 特許庁

The optical system is simplified because a glass-base substrate 100 is cut by making use of a beam pattern after the ejection of the cooling liquid beam 170, and a large tensile force is applied on the scribe line 210, thus a thick non-metallic substrate is completely cut.例文帳に追加

冷却流体ビーム１７０の噴射後、一つのビームパターンを使用してガラス母基板１００を切断するので光学系を単純化させることができ、スクライブライン２１０に大きい引張力を発生させるので、厚い非メタル基板の完全切断を達成することができる。 - 特許庁

To provide a method for shift control in an automatic transmission for a vehicle improving driveability by separating a shift line by a change in a vehicle speed and that by a change in the amount of throttle opening for shift control, and changing speed in an optimum shift pattern according to operation conditions.例文帳に追加

車速変化によるシフトライン及びスロットル開度量変化によるシフトラインを分離して変速制御を行い、また、運行条件によって最適な変速パターンで変速を行って、運転性を向上させた車両用自動変速機の変速制御方法を提供する。 - 特許庁

A couple of hole lines 157a holding the wiring pattern 52 are formed with a plurality of sprocket holes 157 and the plurality of sprocket holes 157 included in the same hole line 157a are extending in the longitudinal direction of the base material 151 and are surrounded with a reinforcement layer 153 formed of copper.例文帳に追加

複数のスプロケット孔１５７によって、配線パターン５２を挟む２つの孔列１５７ａが形成されており、同一の孔列１５７ａに含まれる複数のスプロケット孔１５７は、ベース材１５１の長手方向に延在しており、銅からなる補強層１５３によって取り囲まれている。 - 特許庁

A clear case formed by bending a transparent plastic sheet is provided with an embossed part (11) with an uneven height difference of ≥0.01 mm and <0.3 mm, and a line pitch of ≥0.01 mm and <0.3 mm on the surface of the plastic sheet (10) in a pattern-like form.例文帳に追加

透明なプラスチックシートを折り曲げ加工して形成されたクリアケースであって、プラスチックシート（１０）の表面に凹凸の高度差が０．０１ｍｍ以上、０．３ｍｍ未満で、線ピッチが０．０１ｍｍ以上、０．３ｍｍ未満の凹凸部（１１）がパターン状に設けられている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter by which a pixel pattern of a color filter can be formed with high definition, in particular, a black image can be efficiently formed with extremely little variance of the line width by improving exposure performance without causing an increase in the cost of an apparatus or decrease in an exposure speed.例文帳に追加

装置のコストアップや、露光速度の低下を招くことなく、露光性能を向上させることにより、カラーフィルタの画素パターンを高精細に、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、かつ効率よく形成可能なカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁