| 意味 | 例文 |
pattern afterの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3623件
To provide a pattern control device for a game machine, for which the variable configurations of patterns of a pattern display means can be easily and inexpensively changed, and at the same time, the inspection can be easily performed at the time of an inspection after a change at a testing organization or the like.例文帳に追加
図柄表示手段の図柄の変動態様を容易且つ安価に変更できると共に、検定機関等での変更後の検査に際してもその検査を容易にできる遊技機の図柄制御装置を提供する。 - 特許庁
To provide a surface-finishing method by which an arbitrary pattern can be provided on the surface of the woven fabric after weaving; and to provide a surface-finished woven fabric having the arbitrary pattern provided by the surface-finishing method.例文帳に追加
製織した後の織物表面に任意の模様を容易に現出可能な表面加工方法を提供し、さらに前記表面加工方法により任意の模様が現出された表面加工織物を提供することである。 - 特許庁
Furthermore, the loss figures are stopped and displayed on the variable display part for decoration corresponding to the other special pattern display device after the start of the variable display by a particular variation pattern specified at the start of the variation.例文帳に追加
さらに、前記他方の特別図柄表示器に対応する装飾用変動表示部においては、変動開始時に特定された特殊変動パターンによる変動表示を開始した後にはずれ図柄を停止表示する制御を行なう。 - 特許庁
Each the pattern is variably displayed, the main patterns are re-displayed after display of matched sub patterns, the main patterns are finally displayed such that all the main patterns coincide with the same pattern, and a big hit process is executed (steps 316, 318, 324).例文帳に追加
続いて、各図柄を変動表示し、副図柄を揃えて表示後に主図柄を再表示して、最終的に主図柄を全て同種図柄に揃えて表示し、大当たり処理を実行する(ステップ316、318、324)。 - 特許庁
When an image is present on the image formation allowable surface (Yes in S5), the image pattern is formed (S6); and when the image is not present (No in S5), the recording material P is made to pass through the image forming part, and after flipping over the material P (S7), the image pattern is formed (S6).例文帳に追加
画像形成可能面に画像がある場合(S5のYes)は画像パターンを形成し(S6)、ない場合(A5のNo)は画像形成部を通過させて表裏反転した後(S7)、画像パターンを形成する(S6)。 - 特許庁
A digital plate inspection device 1 specifies a pattern area in the rasterized data, after RIP expansion which is to be an object of plate inspection, and extracts identification information embedded in the specified pattern area.例文帳に追加
デジタル検版装置1は、検版の対象となるRIP展開後のラスタライズデータに関して、そのラスタライズデータ内における絵柄領域を特定し、特定された絵柄領域の中に埋め込まれた識別情報を抽出する。 - 特許庁
The paper sheet for the paper jacket made in a size according to JIS is used, and a break for punching a pattern paper sheet for fabricating the jacket are made on the paper sheet, and after an original printing and designing are performed in the range of the pattern paper sheet, it can be simply fabricated.例文帳に追加
紙ジャケットの用紙サイズを日本工業規格とし、その用紙にジャケット組み立て型紙が抜き取れる切れ目を入れ、型紙の範囲にオリジナルの印刷装丁をした後、簡単に組み立てが出来るようにした。 - 特許庁
When the resist film 102 is developed with an alkaline developing solution after post-baking is performed on the resist film 102 exposed to the pattern, a resist pattern 106 composed of the unexposed sections 102b of the film 102 and having an excellent shape is obtained.例文帳に追加
パターン露光が行なわれたレジスト膜102に対して、ポストベークを行なった後、アルカリ性現像液により現像を行なうと、レジスト膜102の未露光部102bよりなり良好な形状を持つレジストパターン106が得られる。 - 特許庁
After the tracing writing is ended, the pattern paper 1 is stripped and decoration is carried out according to the instructions, such as codes 0, 1, 3, 4 and 5, of the color level for coloration stated on the pattern paper 1 when the decoration is carried out by coloring the designs drawn on the stock.例文帳に追加
なぞり書きを終えた後パターン紙1を剥がし、素材に描いた図柄に着色して絵付けを行う際に、パターン紙1に記入されている着色する色レベルの符号0、1、2、4、5等の指示に従って絵付けを行う。 - 特許庁
A character pattern for presenting a ready-to-win condition and the like is varied in display, and according to the display mode of the character pattern at timing when a variation display is stopped in display areas 3a, 3b, and 3c, a game state after big winning is determined.例文帳に追加
リーチ等を演出しているキャラクタ図柄を変動表示させて、表示領域3a,3b,3cの変動表示の停止したタイミングのキャラクタ図柄の表示態様に応じて大当たり終了後の遊技状態を決定させる。 - 特許庁
After a resist pattern is formed by using a photosensitive resin composition containing a polyurethane prepolymer having a propylene oxide group, an alkali-soluble polymer, an ethylenically unsaturated addition polymerizable monomer and a photopolymerization initiator, the pattern is subjected to sandblasting.例文帳に追加
プロピレンオキシド基を有するポリウレタンプレポリマーとアルカリ可溶性高分子とエチレン性不飽和付加重合性モノマーと光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物を用いて、レジストパターンを形成した後サンドブラスト処理を行う。 - 特許庁
Since the ultraviolet curing resin paste contains a volatile matter, catalyst particles are exposed on the surface of the resin pattern 3 by volatilizing the volatile matter after the pattern 3 is cured by projecting ultraviolet rays.例文帳に追加
紫外線硬化性樹脂ペーストは揮発性物質を含有し、樹脂パターン3を紫外線の照射により硬化させた後、この揮発性物質を揮発させることにより、樹脂パターン3の表面に触媒粒子を露出させる。 - 特許庁
To solve the problem that a player has to borrow game balls in a mad rush because pattern fluctuation is stopped and jackpot patterns are arranged after all the game balls are used up even during the pattern fluctuation.例文帳に追加
図柄変動中であるにもかかわらず遊技球をすべて発射し尽くした後、当該図柄変動が停止して大当たり図柄が揃ったことによる、慌てて遊技球を借りる事態に陥る等といった問題の解消。 - 特許庁
When variation of output (voltage) is removed, as synchronizing is obtained, after that, a frequency dividing ratio of the frequency divider 17 is changed and a frequency is multiplied, and pre-format information patterns except a servo information pattern are recorded as a fine pattern.例文帳に追加
出力(電圧)の変動がなくなった場合には、同期が取れたことになるので、以降、分周器17の分周比を変更し周波数を逓倍してサーボ情報パターン以外のプリフォーマット情報パターンを細密パターンとして記録する。 - 特許庁
To provide a game machine capable of giving the unexpectedness of a pattern re-fluctuation by making the condition that the pattern re- fluctuation is started after patterns are temporarily stopped difficult to grasp at a glance for a player.例文帳に追加
一旦図柄が停止されて図柄の再変動が開始される条件を遊技者が一見して把握することが困難なようにすることによって、図柄再変動の意外性を遊技者に与えることができる遊技機を提供する。 - 特許庁
After removing a resist pattern 121, a chemical-mechanical polishing(CMP) method is used to grind and polish a part of a metallic pattern 105 projecting over the surface of an interlayer insulation film 102 and to planarize the interlayer insulation film 102.例文帳に追加
レジストパターン121を除去した後、化学的機械的研磨(CMP)法により、金属パターン105の層間絶縁膜102表面上に突出している部分を研削研磨し、層間絶縁膜102上を平坦化する。 - 特許庁
An image converting means 213 and an image pattern storing means 214 divide the extracted image data one after another into a plurality of reference patterns A-H including a plurality of pixels, store them and compare them with a decision pattern of isolated pixels.例文帳に追加
この抽出画像データから画像変換処理手段213および画像パターン記憶手段214により順次複数の画素を含む複数の参照パタンA〜Hに分割記憶し、孤立画素の判定パターンと比較する。 - 特許庁
To provide a game machine in which performance is performed for enlarging a display frame on a pattern variation display means when a probability to be ready-to-win or big win is high after specific patterns are stopped at prescribed positions on the pattern variation display means.例文帳に追加
図柄変動表示手段の所定位置に特定図柄を停止させた後、リーチまたは大当りとなる確率が高いときに図柄変動表示手段の表示枠を拡大する演出をする遊技機を提供する。 - 特許庁
After roughening the surface of a board 1 desired to form a circuit pattern thereon to about 5 μm, a fluid 4 into which conductive particles are mixed is stuck to the surface of the board 1 to form a circuit pattern with the conductive particles.例文帳に追加
回路パターンを形成しようとする基板1の表面を5μm程度に粗化した後、導電性粒子を混入させた流動体4を基板1の表面に付着させ、導電性粒子により回路パターンを形成する。 - 特許庁
A character pattern presenting reach (ready-to-win condition) is varied and displayed to determine the game state after the end of a big prize corresponding to the display mode of the character pattern in the timing of stopping the variable displays of display areas 3a, 3b, 3c.例文帳に追加
リーチ等を演出しているキャラクタ図柄を変動表示させて、表示領域3a,3b,3cの変動表示の停止したタイミングのキャラクタ図柄の表示態様に応じて大当たり終了後の遊技状態を決定させる。 - 特許庁
A main CPU sets a short-time variation pattern decision table when the game is controlled to the short-time game state after the end of a jackpot game, and sets a normal variation pattern decision table when it is controlled to a non-short time game state.例文帳に追加
メインCPUは、大当たり遊技終了後に時短遊技状態に制御されるときは時短変動パターン決定テーブルをセットし、非時短遊技状態に制御されるときは通常変動パターン決定テーブルをセットする。 - 特許庁
A reception window is opened for a period T1 (a period including several tens of bits each before and after a start pattern) to detect a start pattern (ST) denoting the start of one frame of an outgoing signal (reception signal).例文帳に追加
下り信号(受信信号)の1フレームの始まりを示すスタートパターン(ST)を検出するために、時間T1(スタートパターンの区間を中心としてその前後、数十ビットの余裕を持った程度の時間)だけ受信窓を開ける。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a fine etching mask which can equalize and thin the residue thickness of a pattern transfer layer after transformation in a transfer layer, and having an equalized thickness after an etching process, in a method of manufacturing a fine etching mask by pattern transfer to a processed material, and to provide an exposure processing apparatus.例文帳に追加
被加工材上へのパターン転写による微細エッチングマスクの製造方法において、転写後のパターン転写層の残渣厚みを転写層内で均一且つ薄膜にすることができ、しかもエッチング処理後の厚さが均一な微細エッチングマスクの製造方法及びそれに用いる露光処理装置を提供する。 - 特許庁
In this case, the variation pattern includes a variation pattern for a pseudo continuation wherein re-variation newly executing the variable display of the performance symbols after temporarily stopping temporary stop symbols except big win symbols once until a display result is derived and displayed after the variable display of the performance symbols is started is executed one or more times.例文帳に追加
この場合、変動パターンには、演出図柄の可変表示が開始されてから表示結果が導出表示されるまでに一旦大当り図柄以外の仮停止図柄を仮停止させた後に演出図柄の可変表示を再度実行する再変動を1回または複数回実行する擬似連用の変動パターンを含む。 - 特許庁
After grooves are formed on a resin layer in accordance with a wiring pattern and a hydrophobic process is performed on the resin layer except the grooves, or after the hydrophobic process is performed on the resin layer and the grooves are formed on the resin layer in accordance with the wiring pattern, fine particle type conductive paste is applied to the surface of the resin layer and sintered.例文帳に追加
樹脂層に配線パターンに応じて溝を形成し、溝以外の部分の樹脂層に対して疎水化処理を施した後、あるいは、樹脂層に対して疎水化処理を施し、樹脂層に配線パターンに応じて溝を形成した後、微粒子型導電ペーストを塗布し、これを焼結する。 - 特許庁
To provide an alkali-developable photosensitive resin composition which is excellent in compatibility of an ink repellent, ensures good surface appearance and pattern shape after film production, exhibits excellent surface ink repellency, and can retain the surface ink repellency even after usual cleaning and after a lapse of time.例文帳に追加
撥インキ剤の相溶性に優れ、製膜後の表面外観ならびにパターン形状が良好であり、表面撥インキ性に優れる一方で、通常の洗浄や時間が経過しても表面撥インキ性を維持することができるアルカリ現像感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
After filling the molding material 17 onto a wax pattern 11, a mold made by melting out the wax material contains the powder single pulverizing the molding material 17 after being once used or the molding material 17 after being once used and the powder of the new molding material 17'.例文帳に追加
ワックス模型11に鋳型材17を詰めた後、ワックス材を流し出すことによって作られている鋳型は、一度使用した後の前記鋳型材17を粉砕した粉末を単独に、もしくは一度使用した後の前記鋳型材17と新たな鋳型材17′の粉末とを含む。 - 特許庁
After satisfaction of the latency conditions by occurrence of a probability variable jackpot B or a minor jackpot, a variation pattern is decided by a losing variation pattern type determination table C differing from losing variation pattern type determination tables A, B selected before satisfaction of the latency conditions, and a probability of determination of a super ready-to-win condition having high reliability as a variation pattern is increased in the losing variation pattern type determination table C.例文帳に追加
確変大当りBまたは小当りの発生により潜伏条件が成立した後は、該潜伏条件が成立する前に選択されるはずれ用変動パターン種別判定テーブルA,Bとは異なるはずれ用変動パターン種別判定テーブルCを用いて変動パターンを決定するとともに、はずれ用変動パターン種別判定テーブルCにおいては、変動パターンとして信頼度が高いスーパーリーチが決定される確率が高まる。 - 特許庁
After satisfaction of the latency conditions by occurrence of a probability variable jackpot B or a minor jackpot, a variation pattern is decided by a losing variation pattern type determination table C differing from losing variation pattern type determination tables A, B selected before satisfaction of the latency conditions, and a probability of determination of a super ready-to-win condition having high reliability as a variation pattern is increased in the losing variation pattern type determination table C.例文帳に追加
確変大当りBまたは小当りの発生により潜伏条件が成立した後は、該潜伏条件が成立する前に選択されるはずれ用変動パターン種別判定テーブルA,Bとは異なるはずれ用変動パターン種別判定テーブルCを用いて変動パターンを決定するとともに、はずれ用変動パターン種別判定テーブルCにおいては、変動パターンとして信頼度が高いスーパーリーチが決定される確率が高まるようにした。 - 特許庁
After a resist window pattern 3 is formed by adhering photoresist 2 onto a substrate 1 and patterning it by photolithography, the substrate 1 is etched by dry etching to form an overhang 5, a pattern material 6 of metal is vapor-deposited thereupon, and the photoresist 2 is removed to remove an unnecessary pattern material 6a, thereby forming a desired pattern 6b.例文帳に追加
基板1上にフォトレジスト2を被着形成し、これをフォトリソグラフィでパターニングしてレジスト窓パターン3を形成した後、等方性ドライエッチングで基板1をエッチングすることによりオーバーハング5を形成し、その上から金属のパターン材料6を蒸着し、フォトレジスト2を除去することによって不要なパターン材料6aを除去して所望のパターン6bを形成する。 - 特許庁
When a user erroneously performs an operation when the paper jamming occurs, a coping means calculating part calculates a user's coping method after combining a paper jamming pattern and an operation pattern to the paper jamming pattern detected by a paper jamming detecting part and the operation pattern detected by a user's operation detecting part, and a voice guidance generating part outputs a coping procedure by voice.例文帳に追加
紙詰まりが発生した場合のユーザの操作が間違っていた場合には、紙詰まり検出部によって検出された紙詰まりパタンと、ユーザ操作検出部によって検出された操作パタンに対して、紙詰まりパタンと操作パタンとの組み合わせからユーザの対処方法を対処手段算出部において算出し、対処手順を音声ガイダンス生成部において音声出力する。 - 特許庁
Then, after the metal gate substance layer is etched to form a metal gate pattern, a capping layer is formed on the metal gate pattern, and a selective oxidation process is performed for selectively oxidizing a substance containing silicon while suppressing oxidation of the metal layer included in the metal gate pattern in order to cure any damage occurring upon etching for forming the metal gate pattern.例文帳に追加
次いで、前記金属ゲート物質層をエッチングして金属ゲートパターンを形成した後、前記金属ゲートパターン上にキャッピング層を形成し、前記金属ゲートパターンを形成するためのエッチング時に発生したダメージをキュアリングするために前記金属ゲートパターンに含まれた前記金属層の酸化を抑制しつつ、シリコンを含有した物質を選択的に酸化させる選択的酸化工程を行う。 - 特許庁
Then, when the number of times of executing the big winning game after an episode pattern EP1 is determined is equal to or less than the predetermined number of times (5 times), when an episode pattern EP1-EP2 is determined, the episode performance based on the episode pattern EP2 corresponding to the next stage of the episode performance based on the episode pattern EP1 executed in the previous time is executed.例文帳に追加
そして、統括CPUは、エピソードパターンEP1が決定されてからの大当り遊技の実行回数が予め決められた回数(5回)以下である場合に、エピソードパターンEP1〜EP2が決定されたときには、前回実行されたエピソードパターンEP1に基づくエピソード演出の次の段階に対応するエピソードパターンEP2に基づくエピソード演出を実行させる。 - 特許庁
The operating lever is set into an operation validate status based upon the display of a big win pattern in a temporarily stopped status, and when the operating lever is operated during count-down display after the display of the big win pattern, a competition display pattern is set and displayed on a pattern display device for announcing the acquired result of probability variation in accordance with contents of the operation.例文帳に追加
この操作レバーは、大当り図柄が仮停止状態で表示されることに基づいて操作有効状態に設定されるものであり、大当り図柄の表示後のカウントダウン表示中に操作レバーが操作されると、この操作内容に応じて確率変動の獲得結果を報知するための対戦表示パターンが設定され図柄表示装置に表示される。 - 特許庁
A pattern display device displays an image of a predetermined region 80' including a recognition pattern 74 in a scaled down state, and a display control means is provided to control the display so that a new image including a recognition pattern 82 appears simultaneous with or after the display from the peripheral area around the region 80'.例文帳に追加
図柄表示装置は、認識用図柄74を含む所定領域80’の画像を縮小表示し、その縮小表示と同時又はその後に、前記所定領域80’の周囲から認識用図柄82を含む新たな画像が出現するように表示制御する表示制御手段を備える。 - 特許庁
After forming an electrodeposition lead by removing an unnecessary metallic layer 3 in a state coating a part independent of the pattern 2 with a mask 4, a surface protection layer 8 is formed on the surface of the pattern 2 by an electrodeposition means in a state leaving an aperture necessary for the pattern 2.例文帳に追加
そこで、回路配線パタ−ン2とは無関係な部分をマスク4で被覆した状態で不要な導電性金属層3を除去して電着リ−ド部を形成した後、回路配線パタ−ン2に必要な開口部を残して電着手段で回路配線パタ−ン2の表面に表面保護層8を形成する。 - 特許庁
To select a water-soluble resin which can smoothly effect thermal shrinkage of a photoresist pattern by heat treatment and can easily be removed by washing with water after the heat treatment of the resist pattern as a water- soluble resin for forming a coating film for increasing fineness of resist patterning and to efficiently form a fine resist pattern.例文帳に追加
レジスト微細化用塗膜を形成するための水溶性樹脂として、熱処理により、ホトレジストパターンを円滑に熱収縮させることができ、しかもレジストパターンの熱処理後に水洗により容易に除去しうるものを選択して、効率よく微細レジストパターンを形成させることを目的とする。 - 特許庁
In the manufacturing method of a molded component in which the pattern sheet is laid on the surface of a mold, and a decorated molded component is formed by pressurizing after a thermosetting material to be molded is arranged on the pattern sheet, the above mold has projections, and the pattern sheet is laid by striking it against these projections.例文帳に追加
本発明は、型の表面に模様シートを載置し、その模様シートの上に熱硬化性成形材料を配した後加圧し、加飾成形品を形成する成形品の製造方法において、上記型が突起を有し、この突起に模様シートを突き当てて載置する成形品の製造方法である。 - 特許庁
Dust is therefore prevented from sticking onto a pattern surface of the reticle substrate and even after the pattern protection device is fitted to the reticle substrate, the air in the space surrounded with the pattern protection device and reticle substrate can be substituted with specified gas at an arbitrary point of time by opening the opening formed on the frame.例文帳に追加
従って、レチクル基板のパターン面に塵埃が付着するのが防止され、またレチクル基板にパターン保護装置が取り付けられた後であっても、フレームに形成された開口を開状態とすることで、任意の時点でパターン保護装置とレチクル基板とで囲まれる空間内の気体を所定のガスにより置換することができる。 - 特許庁
When the key pressing sounds "C3", "E3" and "G3" are input at time t0 after selection of automatic accompaniment pattern data and command of start of the production of the automatic accompaniment data, the generation of automatic accompaniment data is started from the note of the key pressing sounds and the sound production pattern data included in the selected automatic accompaniment pattern data.例文帳に追加
自動伴奏パターンデータが選択され、自動伴奏データの生成開始が指示された後、時刻t0で、押鍵音“C3”,“E3”および“G3”が入力されると、この押鍵音の音高と選択された自動伴奏パターンデータに含まれる発音パターンデータに基づいた自動伴奏データの生成が開始される。 - 特許庁
Then, when a second probability variable big winning under-variation flag is set, the variation time of the first special pattern is selected so as to end the variable display performance of the first special pattern of this time after ending the variable display performance of a second special pattern under execution at present for which the display result is to be probability variable big winning.例文帳に追加
次いで、第2確変大当り変動中フラグがセットされていれば、表示結果が確変大当りとなる現在実行中の第2特別図柄の可変表示演出が終了したあとに、今回の第1特別図柄の可変表示演出が終了するように第1特別図柄の変動時間が選択される。 - 特許庁
The imprint method performs multiple times: a step of transferring an indented pattern on an imprint material by bringing the indented pattern formed on the template into contact with the imprinted material on a substrate; and a step of imaging the indented pattern formed on the template after the transferring step, or the imprint material.例文帳に追加
実施の形態のインプリント方法によれば、テンプレートに形成された凹凸パターンを基板上のインプリント材料に接触させて凹凸パターンをインプリント材料に転写する工程と、転写する工程の後にテンプレート又はインプリント材料に形成された凹凸パターンを撮像する工程とを複数回行う。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a pattern form by which a pattern can be highly accurately formed, postprocessing after exposure is not necessary, and the manufactured pattern form itself does not deteriorate since it contains no optical catalyst.例文帳に追加
パターン形成体の製造に際して、高精度にパターンを形成することが可能であり、露光後の後処理が不要で、かつ製造されたパターン形成体内に光触媒が含有されていないことから、パターン形成体自体の劣化の心配もないパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁
The control means defines in advance a misoperation pattern which is an operation pattern that could be generated by a user's error, and if a request operation received by the input means corresponds to the misoperation pattern, urges the user to confirm, and executes processing corresponding to the request operation after the input means receives a confirmation operation.例文帳に追加
制御手段は、ユーザの誤りで生じ得る操作のパターンである誤操作パターンを予め規定しておき、入力手段で受け付けられた要求操作が誤操作パターンに該当したら、ユーザに確認を促し、入力手段で確認操作が受け付けられた後に要求操作に対応する処理を実行する。 - 特許庁
Further an operation pattern can be selected by an operation pattern selecting device, and the necessary duct static pressure of each of ducts 11-16 defined by the selected operation pattern and the static pressure measured by each of the ducts 11-16 are made to agree with each other after reaching the predetermined single intermediate static pressure.例文帳に追加
また、運転パターン選定装置により運転パターンを選定可能とすると共に、選定された運転パターンで規定された各ダクト11〜16の必要ダクト内静圧と、各ダクト11〜16で測定された静圧とを、あらかじめ定められた単数の中間経由静圧に到達させてから一致させるようにした。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition which has high sensitivity, realizes a pattern with a high film remaining rate when developed and after cured, has excellent resolution and a pattern profile of a micro pattern, and has high heat resistance and mechanical performance required for the usage for a surface protective film and an interlayer insulating film of a semiconductor element.例文帳に追加
高感度で現像時及びキュア後において高残膜率のパターンを得られ、同時に微細パターンの解像性及びパターン形状に優れ、さらには、半導体素子の表面保護膜、層間絶縁膜用途として要求される耐熱性と力学的性能をも高レベルで満足する感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
The pattern display belt 5 has three-dimensional properties to improve the decoration effect since the part of a pattern 6 is projected on the side of a player by performing vacuum molding after printing a numeral figure 52a and a circular part 52b constituting the pattern 6 on the rear face 8 of a light transmissive plastic film 51 and performing shrinkable printing to a front face.例文帳に追加
図柄表示ベルト5は、透光性のプラスチックフィルム51の裏面8に図柄6を構成する数字52aや円形部分52bを印刷し表面に縮み印刷を施してから真空成形して、図柄6部分を遊技者側で凸にしているので、立体性があり装飾効果が向上する。 - 特許庁
A detection probe pattern by means of a first solution (nucleic acid probe) is formed on a detection substrate 108, and after the volatile substance in the first solution has been volatilized, a spot pattern due to a second solution (target nucleic acid) is formed on the detection probe pattern, to cause the hybridization reaction of the first and second solution.例文帳に追加
検出用基板108上に第1の溶液(核酸プローブ)による検出用プローブパターンを形成し、第1の溶液における揮発物質の揮発後に、検出用プローブパターン上に第2の溶液(標的核酸)によるスポット状パターンの形成を行い、第1の溶液及び第2の溶液のハイブリダイゼーション反応を起こす。 - 特許庁
A lost foam pattern casting method is executed by forming a lost foam pattern 10 embedding a pipe and connecting cooling pipings 36, 38 with the pipe in the case of embedding this lost foam pattern 10 into molding sand and making flow of coolant into the pipe from these cooling pipings 36, 38, after pouring molten metal.例文帳に追加
本発明に係る消失模型鋳造方法は、パイプ12が埋め込まれた消失模型10を成形し、その消失模型10を鋳砂に埋設する際に、パイプ12に冷却配管36,38を接続し、注湯後、その冷却配管36,38からパイプ12に冷却材を流すことを特徴とする。 - 特許庁
After a non-sensitized part of the negative photoresist film 18 and light blocking photoresist film 16 is removed, a positive photoresist film 14 is sensitized by whole surface exposure with g-rays 38 for forming a resist pattern 42 having a prescribed pattern, and a connection hole 44 is formed in an insulation layer 12 by the use of the resist pattern 42.例文帳に追加
ネガ型レジスト膜18と遮光フォトレジスト膜16との未感光部分を除去したのち、g線38による全面露光によりポジ型フォトレジスト膜14を感光させて所定のパターンを有するレジストパターン42を形成し、レジストパターン42を用いて絶縁層12に接続孔44を形成する。 - 特許庁
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