「pattern system」に関連した英語例文の一覧と使い方(71ページ目) - Weblio英語例文検索

Either tow kinds of driving voltages Va and Vb having different amplitudes or a GND is applied to pattern electrodes 30 to 38 of the electrode 22A through an amplitude modulator 106 and a selection switch 108, a desired phase difference is given to light beams and as a result, astigmatism caused by an optical system is compensated.例文帳に追加

透明電極２２Ａに対して、振幅変調器１０６、選択スイッチ１０８等を介して振幅の異なる２種の駆動電圧Ｖａ、ＶｂあるいはＧＮＤの何れかが各パターン電極３０乃至３８に印加され、光ビームに所望の位相差を与える結果、光学系に起因する非点収差が補正される。 - 特許庁

In the deposition system for a transparent conductive film, the use of masks of arbitrary thickness can be facilitated by providing a spacer 5 between a mask 2 and a main plate 1, in a method for selectively depositing a transparent conductive film on the prescribed part alone of a color pattern 3 by using the mask 2.例文帳に追加

カラーパターン３の表面にマスク２を用いて選択的に所定の部分にのみ透明導電膜パターンを形成する方法において、前記マスク２と主プレート１との間にスペーサ５を設置することで、任意厚みのマスクを容易に使用できることを特徴とする透明導電膜の成膜装置。 - 特許庁

The MODEM is characterized in that a transmission section includes: a noise transmission section 110 capable of outputting white noise; a quality detection circuit 9 for measuring a reception quality level; and a circuit 11 for switching between a modulation section 2 and the noise transmission section 10 so as to prevent the MODEM from malfunctioning caused by the particular pattern in the multipoint system.例文帳に追加

送信部に白色ノイズを出力することの出来るノイズ発信部１０と、受信の品質レベルを測る品質検出回路９、及び変調部２とノイズ発信部１０と切り換える回路１１を有することにより、マルチポイントシステムにおける特定パターンによる誤動作を防ぐことを特徴とする。 - 特許庁

The waste heat utilization promoting system is equipped with a stop predicting function to predict an operation stop by comparing a current operating state with a reference pattern and computing operation sustainable time, and a stop warning function to give a user a warning of the operation stop with an image or sound according to stop prediction information obtained.例文帳に追加

排熱利用促進系は、基準パターンと現在の運転状態とを比較し運転継続可能時間を算出することにより運転停止の予測を行う停止予測機能と、得られた停止予測情報に応じて運転停止を画像や音によりユーザに予告する停止予告機能とを備えている。 - 特許庁

This optical information recording is provided with a recording optical system which irradiates an information recording layer from the same surface side with object light and recording reference light so that the information is recorded on the information recording layer with an interference pattern formed by the interference of the object light and the recording reference light.例文帳に追加

本発明による光情報記録装置は、情報記録層に物体光と記録用参照光との干渉による干渉パターンによって情報が記録されるように、物体光と記録用参照光とを、情報記録層に対して同一面側より照射する記録光学系を備える。 - 特許庁

The aligner exposes a pattern formed in a negative plate on a substrate, such as a wafer and a plate, while irradiating the negative plate, such as a reticle and a mask via a lighting optical system by exposing light from an exposure light source, including at least respectively one air supply port and one exhaust port in the stage space so as to control air current distribution in the space.例文帳に追加

露光光源からの露光光により照明光学系を介してレチクル、マスク等の原板を照明し、前記原板に形成されたパターンをウエハ、プレート等の基板上に露光する露光装置であって、ステージ空間に少なくとも１個づつの給気ポートと排気ポートを備え、その空間内の気流分布を制御する。 - 特許庁

A light-receiving optical system 4 for adjusting the aspect ratio of the image through the use of at least either refraction or reflection is arranged in front of the imaging element 2 so that an image of a light-projected pattern formed in the surface of an object by the slit light is projected, according to the size of a light-receiving surface of the imaging element 2.例文帳に追加

また、撮像素子２の前方には、スリット光により物体表面に形成される投光パターンの像が撮像素子２の受光面のサイズに合わせて投影されるように屈折と反射との少なくとも一方を利用して当該像のアスペクト比を調節する受光光学系４が配置される。 - 特許庁

A reinforcing layer for a pneumatic tire is produced by drawing out a plurality of cords 52 for the reinforcing layer to arrange them in a desired distribution pattern and the cords are simultaneously coated with an unvulcanized rubber by an insulation system and the contour of the reinforcing layer to which coating is applied is molded into a desired shape.例文帳に追加

本発明による空気入りタイヤ用補強層の製造方法は、複数本の補強層用コードを引き出し、これらのコードを所望の分布パターンに配列した後、インシュレーション方式により未加硫ゴムで同時にコーティングし、そのコーティングが施された補強層の外郭形状を所望の形状に成形するものである。 - 特許庁

An optical system PL and first and second alignment optical systems AA1a, AA1b, AA2a, and AA2b are so provided that detection of alignment information for one wafer W2 (W1) is performed in parallel, when the other wafer W1 (W2) which is held side by side on a wafer stage ST is exposed with a mask pattern.例文帳に追加

基板ステージＳＴに並べて保持された一方の基板Ｗ１（Ｗ２）にマスクパターンを露光するときに、他方の基板Ｗ２（Ｗ１）のアライメント情報の検出を並行して行なうように、光学系ＰＬと第１および第２のアライメント光学系ＡＡ１ａ，ＡＡ１ｂ、ＡＡ２ａ，ＡＡ２ｂを配置する。 - 特許庁

Even when we assess the same products, there would be a case that products are made w ith materials from different countries, having different transportation processes and recycling system etc. So it would not accurate to adapt only one or average pattern for the same products, therefore it would be difficult to make a comparison using the results of such assessment. 例文帳に追加

同じ製品でも、原料の生産国が異なったり、輸送経路が異なったり、リサイクルシステムが異なったりする場合があるが、そのような場合に、ある一つのパターンや平均的なパターンを適応して評価しても正確ではないし、そのようにして評価した結果を比較に使用するのは難しいのではないか。 - 経済産業省

To provide a rhythm feature determining system and a storage medium which variously changes a rhythm pattern only by simple setting, easily extracts musical features of the existing music and further generates rhythm patterns even for music in which a peculiar bar such as a pickup bar is included.例文帳に追加

簡単な設定のみでリズムパターンを様々に変化させることができ、既存曲の音楽的特徴を簡単に抽出することができ、さらに、ピックアップ小節等の特異な小節が含まれている曲に対してもリズムパターンを生成することができるリズム特徴決定装置および記憶媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a distribution analysis method and system for evaluating whether or not analysis target data having such a characteristic as distributed along a plane are similar to a specific distribution shape pattern, which can always provide a good accurate evaluation even when the analysis target data are varied by various factors.例文帳に追加

平面に沿って分布した特性をもつ解析対象データが特定の分布形状パターンに類似しているかどうかを評価する分布解析方法および装置であって、様々な要因によって解析対象データが変動したとしても、常に精度良く評価を行えるものを提供すること。 - 特許庁

The exposure apparatus projects and exposes a pattern formed on a reticle using EUV light on an object to be processed through a projection optical system, illuminates the mark with second light whose wavelength differs from that of the EUV light, and comprises a detection means to detect the information about the position of the mark by receiving the second light from the mark through the projection optical system.例文帳に追加

ＥＵＶ光を用いてレチクルに形成されたパターンを投影光学系を介して被処理体上に投影露光する露光装置であって、 前記露光装置は、前記ＥＵＶ光とは異なる波長の第２の光でマークを照明し、該マークからの前記第２の光を前記投影光学系を介して受光することにより該マークの位置に関する情報を検出する検出手段を有することを特徴とする露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a powder coating which can be applied to arbitrary known powder coatings without being limited to a specific base resin/curing agent system, can easily and inexpensively be obtained without changing a production process, and forms wrinkle-like uneven pattern coating films having a high designing property.例文帳に追加

本発明は、特定の基体樹脂／硬化剤系に限定されずに任意の公知の粉体塗料に適用可能で、製造工程を何ら変更することなく容易且つ安価に得ることができ、上記のような要望に応えるため、意匠性の高いリンクル調の凹凸模様塗膜を形成する粉体塗料を提供することを目的とする。 - 特許庁

When inputting test tubes into the rack, setting information for controlling a test tube input pattern is output to the rack device based on blood collection instruction information acquired from the terminal of the host system, and the test tubes are input automatically into one rack in the patterned and classified state every patient, and ever hospital ward.例文帳に追加

本発明では、この試験管のラックへの投入に際し、前記上位システムの端末から取得した採血指示情報に基づいて、ラック装置へ試験管投入パターン制御のための設定情報を出力し、一つのラックに、患者ごと又は病棟ごとなどにパターン化して区分けした状態で試験管を自動的に投入するようにしている。 - 特許庁

To calibrate relative relationship of optical axis positions of two opposite imaging optical systems without removing a wafer from a wafer stage and moving a target pattern to an optical axis position of the optical system, and calibrate a size of one pixel of image data of the two optical systems and a mounting angle of a camera collectively.例文帳に追加

対向する2つの撮像光学系に対して、ウエハをウエハステージから取り外したり、ターゲットパターンを光学系の光軸位置に移動したりすることなく、2つの光学系の光軸位置の相対関係を高精度にキャリブレーションすることが可能となると同時に、2つの光学系の画像データ1画素の大きさ、カメラの取り付け角度も一括してキャリブレーションできる。 - 特許庁

The automatic character recognition system 10 has: an image information acquisition means 11 for acquiring image information; an image information acquisition control unit 12; an optical character recognition part 15 for extracting characters by an optical pattern recognition method from a set of image information stored by the image information acquisition means 11; and a character recognition control unit 14.例文帳に追加

自動文字認識システム１０は、画像情報を取得する画像情報取得手段１１と、画像情報取得制御部１２と、画像情報取得手段１１で蓄えられたひとまとまりの画像情報から光学式パターン認識手法で文字を抽出する光学式文字認識部１５と、文字認識制御部１４と、を有する。 - 特許庁

The calibration system provided with an image imaging apparatus and an image forming apparatus capable of directly transceiving image data is characterized in that a correction coefficient for calibration is obtained from correction image data acquired by photographing a color patch pattern outputted from the image forming apparatus by using the image imaging apparatus so as to correct optional print image data.例文帳に追加

ダイレクトに画像データを送受信できる画像撮像装置と画像形成装置とを備えるキャリブレーションシステムにおいて、前記画像形成装置によって出力されるカラーパッチパターンを前記画像撮像装置で撮影した補正用画像データからキャリブレーションのための補正係数を求め、任意の印刷用画像データを補正することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a game AI control system and a program capable of playing game AI in a pattern reflecting a play tendency of a game user in a specific game state.例文帳に追加

本発明は、プレイ済みのゲームモデルまたは無作為にプレイされたゲームモデルの中から特定のゲーム状況に最適であると判断されるゲームモデルを同一のゲーム状況でゲームＡＩがプレイすることができるようにすることで、まるで実際のゲームユーザと対戦ゲームをしているような実感溢れるゲームサービスを提供するゲームＡＩ制御システム及びプログラムに関する。 - 特許庁

In retrieving an object, a pattern matching system is provided to extract characteristics for positioning modeling data on a feature vector space based on a fixed rule so that requested software parts can be easily retrieved from the formal structure based on the type or number, the semantic structure based on designation and inter-class relevancy.例文帳に追加

オブジェクト検索の際に、パターンマッチング方式において、モデリングデータを一定の法則の元に特徴ベクトル空間上に位置付けるための特徴抽出を行うことにより、型や数を元にした形式的な構造、名称を元にした意味的な構造、複数クラス間の関連性から検索が行えることで、要求するソフトウェア部品の検索を容易にする。 - 特許庁

To provide an image forming device, network system, form pasting method, storage medium and program which enable the addition of a document, image or pattern to a form without directly arranging the form as in the paste or using a form forming and editing program, and also the pasting of a partial form to a form of pasting designation.例文帳に追加

従来のように直接フォームに手を加えることなく、帳票作成編集プログラムを使用しないで新たに文書、画像、図形をフォームに付加することを可能とし、作成した部分フォームを貼り付け先のフォームに貼り付けることを可能とした画像生成装置、ネットワークシステム、フォーム貼り付け方法、記憶媒体、及びプログラムを提供する。 - 特許庁

To prolong the life of a photoreceptor by stably outputting an excellent image in which electrification unevenness is eliminated and whose quality is high even in a halftone image and eliminating the irregularity of the worn amount of the photoreceptor even in the case of continuously printing the same pattern of vertical lines for a long period in an image forming device using an injection electrifying system of a ozoneless whose applied voltage is low.例文帳に追加

低印加電圧でオゾンレスの注入帯電方式を用いた画像形成装置において、連続して縦線の同じパターンを長期に印字した場合においても、中間調画像にも帯電ムラのない、高品位で良好な画像を安定に出力させ、感光体の削れ量のムラをなくし、感光体の寿命を延ばすこと。 - 特許庁

A covariance matrix R of received signals based on a spectrum data of Doppler speeds found by a plurality of initial stage signal processors 7, eigenvalues of the covariance matrix R are found based thereon, the directional spectrum is estimated referring to the eigenvalues, pattern information of a reception antenna 4 or the like, and the incident direction giving a maximum value of the spectrum is detected, in this radar system.例文帳に追加

複数の初段信号処理装置７により求められたドップラー速度のスペクトルデータから受信信号の共分散行列Ｒを求めて、その共分散行列Ｒの固有値を算出し、その固有値と受信アンテナ４のパターン情報等を参照して方位スペクトルを推定し、その方位スペクトルの極大値を与える入射方位を検出する。 - 特許庁

This vehicular lighting fixture system 100 includes a vehicular lighting fixture 70 capable of forming the light distribution pattern for a high beam divided into a plurality of irradiation areas in the vehicle width direction and switching the existence of irradiation of respective irradiation areas, and a control part for controlling the vehicular lighting fixture based on information for indicating a vehicle front state.例文帳に追加

車両用灯具システム１００は、車幅方向で複数の照射領域に分割されそれぞれの照射領域の照射の有無が切り替えられるハイビーム用配光パターンを形成可能な車両用灯具７０と、車両前方状況を示す情報に基づいて車両用灯具を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁

In an immersion exposure apparatus which exposes the substrate 5 by projecting a pattern of an precursor 2 on the substrate 5 through a projection optical system 4 and a liquid 17, a stage 6 which holds the substrate 5 includes: a first liquid holding part 8 disposed surrounding the substrate 5; and a second liquid holding part 23 disposed between the substrate and first liquid holding part.例文帳に追加

原版２のパターンを投影光学系４および液体１７を介して基板５に投影し該基板を露光する液浸露光装置は、基板５を保持するステージ６が、該基板５を取り囲むように配置される第１液体保持部８と、該基板と前記第１液体保持部との間に配置される第２液体保持部２３とを含む。 - 特許庁

Assignment of a decisive value to an operation system prediction type or a presentation pattern to decide a presentation motion of "continuous hits of pushbutton" at a higher rate compared with the presentation motion of "continuous hits of trigger button" drops performance frequency of the presentation motion requiring continuous hits to the trigger button of a stick controller difficult for continuous hits.例文帳に追加

「トリガボタン連打」の演出動作に比べて高い割合で、「プッシュボタン連打」の演出動作を実行する旨の決定がなされるように、操作系予告種別や演出パターンに対して決定値を割り当てることにより、連打操作が困難なスティックコントローラのトリガボタンに対する連打操作が要求される演出動作の実行頻度を低下させる。 - 特許庁

To provide an electronic endoscope apparatus for carrying out field reading by using a CCD provided with color filters adopting the color difference line sequential system, displaying a whole image on the basis of signals of odd number fields and signals of even number fields, and suppressing production of a stripe pattern when the levels of luminance signals differ between the odd number fields and the even number fields.例文帳に追加

色差線順次方式のカラーフィルタの設けられたＣＣＤを用いてフィールド読出しを行い、奇数フィールドの信号と偶数フィールドの信号とに基づいて全体画像を表示させる電子内視鏡装置において、奇数フィールドと偶数フィールドの輝度信号の大きさが異なる場合における縞模様の発生を抑制する。 - 特許庁

A network service delivery system 11 causes information display devices 2 to operate differently depending on the pattern of overlapping of the information display devices 2 and creates a new service by not only causing a service from one of the information display devices 2 to be directly received (copied) by the other of the information display devices 2, but also synthesizing the service with services already acquired.例文帳に追加

ネットワークサービス提供システム１１は、情報表示装置２の重ね合わせのパターンに応じて情報表示装置２に異なる動作を与え、一方の情報表示装置２のサービスを他方の情報表示装置２がそのまま受け取る（コピー）だけでなく、既に持っているサービスと合成することにより、新たなサービスを生成する。 - 特許庁

To provide a method of applying an even phosphor coating by preventing residual liquid at the lower end of a glass tube or an uneven coating toward the circumferential direction of the glass tube or of a wind ripple pattern, a cold cathode discharge tube made of this glass tube emitting light with stable optical characteristics and also a lighting system using the discharge lamp emitting light with uniform brightness.例文帳に追加

本発明は、ガラス管の下端部の液溜まりや円周方向もしくは風紋模様の膜ムラを防止し、均一な蛍光被膜を塗布する方法、そのガラス管を使用し安定した光特性で発光する冷陰極放電管、及びその放電管を使用した均一な輝度で光放出できる照明装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

The noise canceller 12 previously stores parameters of noises according to vehicle speeds, accelerations and present locations by noise pattern memory means 122 and suppresses or removes the noises based on the data on the vehicle speeds, accelerations and present locations from the vehicle side in noise cancellation means 121 from the data from a vehicle speed sensor 13, acceleration sensor 14 and car navigation system 15.例文帳に追加

ノイズキャンセル装置１２において、ノイズパターン記憶手段１２２で車速・加速度・現在地に応じたノイズのパラメータを記憶しておき、車速センサー１３、加速度センサー１４、カーナビゲーション装置１５からのデータから、ノイズキャンセル手段１２１において、車両側からの車速・加速度・現在地のデータに基づいたノイズを抑圧または除去する。 - 特許庁

In a maskless lithography system having a spatial light modulator (SLM), a method for generating a gray scale on an object comprises: forming a pattern by exposing the object to a light; and forming a gray scale region on the object by modulating an exposure time of the object.例文帳に追加

空間光変調器（ＳＬＭ）を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光してパターンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケールレベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 特許庁

The lithography apparatus includes a substrate table constructed, configured, and arranged so as to hold a plurality of substrates at each of a plurality of positions, where exposures can be made on the substrate, and a projection system constructed, configured, and arranged so as to project pattern-formed radiation beams onto the target portions of the plurality of substrates at positions where exposures can be made.例文帳に追加

本発明は、基板テーブル上の複数の個々の露光可能位置で複数の基板を保持するように構築され、配置構成された基板テーブルと、パターン形成した放射線ビームを露光可能な位置で複数の基板の目標部分に投影するように構築され、配置構成された投影システムとを含むリソグラフィ装置に関する。 - 特許庁

The lighting system 100 comprises a motor 140, a color wheel 120 which has a drum-shaped rotation face rotated by the motor 140 and has a color pattern region 122 formed on the rotation face, a fan part 130 rotated by the motor 140 and a lamp cartridge 110 arranged on the inside of the rotation face of the color wheel 120.例文帳に追加

本発明に係る照明装置１００は、モータ１４０と、モータ１４０によって回転されるドラム状の回転面を有し、当該回転面にカラーパターン領域１２２が形成されたカラーホイール１２０と、モータ１４０によって回転されるファン部１３０と、カラーホイール１２０の回転面の内側に配されたランプカートリッジ１１０とを有する。 - 特許庁

This system includes a discrimination part 118 which discriminates whether a cell connected to a critical path has the voltage drop violation, an improvement method decision part 116 which selects an optimum one of plural relocation patterns prepared for improving the voltage drop violation and a voltage drop improvement part 117 which executes the relocation according to the selected relocation pattern.例文帳に追加

クリティカルパスに接続するセルに電圧降下違反があるか否かを判別する判別部１１８と、電圧降下違反を改善するための複数の再配置パターンの中から最適なものを選択する改善手法決定部１１６と、選択された再配置パターンに基づき再配置を行う電圧降下改善部１１７を備える。 - 特許庁

To provide an optical system manufacturing method by which high optical performance is secured without restraining the accuracy of individual parts or assembling accuracy very strictly, a projection optical device whose extant aberration is easily adjusted and which realizes high optical performance and an aligner capable of excellently projecting and exposing the image of the pattern of a mask on a substrate.例文帳に追加

個々の部品の精度や組立の精度を非常に厳しく抑えることなく，高い光学性能を確保可能な光学系の製造方法，および残存する収差の調整が容易に可能であり，高い光学性能を達成可能な投影光学装置，ならびにマスクのパターンの像を基板に良好に投影露光し得る露光装置を提供すること。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises an illumination system for providing a projection radiation beam, a support structure for supporting a patterned device that functions to give a pattern on the sectional face of the projection beam, a substrate table for holding a substrate, and a projector for projecting a patterned beam on the target of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、投影放射ビームを提供するための照明システムと、投影ビーム中の放射を透過若しくは反射させ、投影ビームの断面にパターンを付与するように機能するパターン化デバイスを支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影装置とを備えている。 - 特許庁

The control method for the sensor system includes the step of determining whether to activate the specific function by the size of a first total pattern to be detected, wherein whether to activate the specific function is determined by the size of the first total image to be detected and the length of the time of detecting the first total image.例文帳に追加

上記課題を解決するために本発明では、検出する第一総画像のサイズにより特殊機能を起動するかないか判断する前記ステップと、検出する第一総画像のサイズと第一総画像を検出する時間の長さにより特殊機能を起動するかないか判断するセンサーシステム用制御方法を提供する。 - 特許庁

A lithographic apparatus is provided which has an array of individually controllable elements to modulate a cross-section of a radiation beam, a substrate table to support a substrate, a projection system to project the modulated radiation beam onto a target portion of the substrate to apply a pattern, and a position encoder having a position sensor and a scale to determine a position of the substrate table.例文帳に追加

放射線ビームの断面を変調する個別制御可能な要素のアレイと、基板を支持する基板テーブルと、変調された放射線ビームを基板のターゲット部分に投影してパターンを適用する投影システムと、基板テーブルの位置を決定する位置センサおよびスケールを備えた位置エンコーダとを有するリソグラフィ装置が提供される。 - 特許庁

For example, the photographing system 1 performs rangefinding operation to measure the distance h2 from the digital camera 10 to its plane based on the image picking up the pattern disposed on the surface apart by the distance h3 from the object surface in the optical axis direction of a photographing lens 101 and performs AF control by calculating the subject distance h1 based on the distances h2 and h3.例文帳に追加

たとえば、撮影システム１は、撮影レンズ１０１の光軸方向において被写体面から距離ｈ３だけ離れた面に設けられたパターンを撮像した画像に基づいて、デジタルカメラ１０からその面までの距離ｈ２を測定する測距動作を行い、これらの距離ｈ２，ｈ３に基づいて被写体距離ｈ１を算出してＡＦ制御を行う。 - 特許庁

Further, the automatic equalization system includes: a microphone; an acoustic measuring circuit for supplying a frequency signal denoting responses at a plurality of places; a memory for storing the signals representing the frequency responses at a plurality of the places; and an equalizing calculation circuit for supplying the equalization pattern signal in response to the signal representing the frequency response.例文帳に追加

また、自動等化システムは、マイクロホンを含み、複数の場所での応答を表す周波数信号を供給する音響測定回路と、上記複数の場所での周波数応答を表す上記信号を格納するメモリと、周波数応答を表す上記信号に応じて等化パターン信号を供給する等化計算回路とを備える。 - 特許庁

This vehicular headlamp is structured to form the light distribution pattern having the horizontal cutoff line by a first light source 16 comprising a light emitting diode, wherein a rectangular light emitting chip 22 is covered with a hemispherical mold lens 24, and the first catoptric system 20 provided with a first reflector 18 to reflect light toward the front of a lamp from the first light source 16.例文帳に追加

矩形状の発光チップ２２が半球状のモールドレンズ２４で覆われてなる発光ダイオードからなる第１光源１６と、この第１光源１６からの光を灯具前方へ向けて反射させる第１リフレクタ１８とを備えてなる第１反射光学系２０により、水平カットオフラインを有する配光パターンを形成する構成とする。 - 特許庁

Time and effort of input are saved by assuming a large rectangle area including all the cells for conversion and a small rectangle area including a cell group which becomes a repetition pattern in the large rectangle area and specifying cell groups of the large rectangle area and the small rectangle area as arguments of a two-dimensional bar code conversion function on a table input/output picture of the spreadsheet system.例文帳に追加

表計算システムの表入出力画面上で変換対象となるセルを全て含む大矩形領域と大矩形領域内で繰り返しパターンになるセル群を包含する小矩形領域を想定し、大矩形領域と小矩形領域のセル群を２次元バーコード変換関数の引数に指定することにより入力の手間を省く。 - 特許庁

Since only the measurement points whose irradiation region is within partition regions of the substrate are selected by the controller, a multi-point focusing position detection system (40, 42) uses only the selected measurement points to make accurate measurement of the position (and the slope) in the optical axis direction of the partition regions, where a mask pattern is to be transferred.例文帳に追加

この場合、制御装置では、計測点の照射領域が区画領域からはみ出さない計測点のみを選択することができるので、多点焦点位置検出系（４０，４２）では選択された計測点のみを使用して、マスクパターンの転写対象の区画領域の光軸方向の位置（及び傾斜）を高精度に計測する。 - 特許庁

To maintain a preset temperature of supply hot water even if hot water supply capacity reduces by switching an operation pattern in hot water supply operation when allowing the hot water supply operation of a plurality of patterns using both or one of a heat accumulator 20 and a heat pump device 30 in a hot water supply system having the heat accumulator 20 and the heat pump device 30.例文帳に追加

蓄熱装置（２０）とヒートポンプ装置（３０）とを備えた給湯システムにおいて、蓄熱装置（２０）とヒートポンプ装置（３０）の両方または一方を用いる複数パターンの給湯運転を可能にした場合に、給湯運転中に運転パターンが切り換わって給湯能力が低下しても給湯の設定温度を維持できるようにする。 - 特許庁

To provide an incoming radio wave direction estimating antenna system with which the real time processing of incoming direction estimation and antenna directivity pattern control to a moving object moving near a base station at high speed is enabled, high-reliability data transmission is performed and reduction of interference to the other base stations or mobile stations or transmission power drop reduction is enabled.例文帳に追加

基地局の近傍を高速に移動する移動体に対し、到来方向推定及びアンテナ指向性パターン制御の実時間処理を可能とし、高信頼性のデータ伝送を行い且つ他の基地局や移動局への干渉や送信電力の低減が可能な電波到来方向推定アンテナ装置の提供を目的とする。 - 特許庁