「process device」に関連した英語例文の一覧と使い方(349ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a polishing composition which has high selectivity, in which the polishing rate for copper is large but the polishing rate for a tantalum compound is small and is superior in giving smoothness of surface to a copper- film in a CMP work process for a semiconductor device, having a copper film and a tantalum compound.例文帳に追加

銅膜とタンタル化合物を有する半導体デバイスのＣＭＰ加工プロセスにおいて、銅の研磨レートは大きいがタンタル化合物の研磨レートが小さいという選択性の高い研磨用組成物であり、銅膜表面の平滑性にも優れたＣＭＰ加工用の研磨用組成物を提供する。 - 特許庁

When an inquiry of the number of printable sheets by a device to the user of a client is received from a publication server, an achievement collection server notifies the publication server of a response based on a value shown by an acquired publication policy flag and a value shown by a job in-process flag.例文帳に追加

実績収集サーバは、クライアントのユーザに対する、デバイスでの印刷可能枚数の問い合わせを発行サーバから受信した場合、取得した発行ポリシーフラグが示す値と、ジョブ処理中フラグが示す値とに基づいて、それに対する返答を発行サーバへ通知する。 - 特許庁

When the peripheral edge of the screen in the image display device is formed by edging at the black shield layer, it is not necessary separately to add a printing process, etc., and the number of processes and a material cost are not increased, and the unevenness of a light shield property which tends to occur in the case of printing does not occur.例文帳に追加

画像表示装置における画面の周縁部に黒色遮光層で縁取を形成するに際し、別途印刷工程等を追加する必要がなく、また工程数や材料費が増えることもなく、しかも印刷の場合に発生しがちな遮光性のムラもない。 - 特許庁

To provide an electrophotographic image forming device and a process cartridge, capable of forming a stable image over a long term by restraining the increase/decrease of a discharge current between an electrifying means and an electrophotographic photoreceptor caused due to soiling of the electrifying means and the wear and tear of the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

帯電手段の汚れや電子写真感光体の消耗による、帯電手段と電子写真感光体の間における放電電流の増減を抑え、長期にわたり安定した画像を形成することのできる電子写真画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the discharge lamp device includes a melting process in which a projection part 57 or the like of a rear end side of the discharge lamp DL having a socket part 5 on a rear end part of which lead wire drawing-out parts 55, 56 are formed is melted by a hot board HB and is integrally connected with the starter IG.例文帳に追加

本発明の放電ランプ装置の製造方法は、後端側にリード線引出部５５、５６が形成されたソケット５を有する放電ランプＤＬの後端側の凸部５７等を熱板ＨＢで溶融する溶融工程を経て、始動器ＩＧと一体接続される。 - 特許庁

A nozzle plate 10 connected to a pressurized chamber and where a through portion for discharging droplets is formed and a droplet guiding portion 13 located in the inside of the through portion of the nozzle plate 10 and manufactured by the process of press or others are mounted on a droplet discharge device.例文帳に追加

圧力室に接続され、液滴を吐出する貫通部が形成されるノズルプレート１０と、ノズルプレート１０の貫通部の内側に位置する、プレスなどの工程で製造された液滴誘導部１３を備える液滴吐出ヘッドを、液滴吐出装置に搭載する。 - 特許庁

At this time of reduction process, the control device stops the inversion by the mechanism 40 temporarily, and admits inversion made thereby 40 on the condition that the SOx concentration sensed by an SOx sensor 53 is judged as below the specified level.例文帳に追加

更に、排気浄化装置は、この還元処理に際して、反転機構４０による反転を一旦停止させるとともに、ＳＯｘセンサ５３により検出されるＳＯｘの濃度が所定値以下である旨判断されるのを条件に反転機構４０による反転を許可する。 - 特許庁

In the film thickness measuring device for measuring the thickness of a thin film formed on the surface of a specimen and displaying measured results on the display screen of a data processor, the measured results and a processing state in the manufacturing process of the thin film can be simultaneously displayed on the display screen.例文帳に追加

試料表面に形成された薄膜の厚みを測定し、測定結果をデータ処理装置の表示画面に表示するようにした膜厚測定装置において、前記表示画面に、薄膜の測定結果と薄膜の製造プロセスにおける処理状況とを同時に表示できるようにした。 - 特許庁

The electrically conductive hollow glass fiber 50 is obtained by performing the cooling and solidifying of the hollow glass fiber and the successive sputter film formation of the electrically conductive substance such as aluminum on the outer surface of the hollow glass fiber in the process of spinning out the hollow glass fiber from the hollow spinneret and winding the fiber by the winding device.例文帳に追加

中空紡糸口金から中空ガラス繊維を紡出し、巻取装置で巻き取る過程で、この中空ガラス繊維の冷却固化と、これにつづく中空ガラス繊維外周面へのＡｌ等の導電性物質のスパッタ成膜とを行うことで、導電性中空ガラス繊維５０を得る。 - 特許庁

To provide an X-ray fluorescence analytical device enabling fluctuation of a focal position of an irradiation X-ray (primary X-ray) to agree with fluctuation of the surface position of an irradiation object, in order to monitor the metal element concentration in various liquids, the composition or thickness of a membrane or the like by an inline process.例文帳に追加

各種液体中の金属元素濃度、薄膜の組成若しくは膜厚等を、インラインプロセスにてモニタするために、被照射物の表面位置の変動に合わせた照射Ｘ線（１次Ｘ線）の焦点位置の変動を可能とする蛍光Ｘ線分析装置を実現する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a lower layer film for lithography and a composition for forming a planarizing film, both being used for a lithography process for manufacturing a semiconductor device, and to provide a lower layer film and a planarizing film that exhibit an etching rate greater than that of a photoresist and does not cause the intermixing with a photoresist.例文帳に追加

半導体装置製造のリソグラフィープロセスに使用される、リソグラフィー用下層膜形成組成物並びに平坦化膜形成組成物、及びフォトレジストに比べて大きなドライエッチング速度を有し、そして、フォトレジストとのインターミキシングを起こさない下層膜並びに平坦化膜を提供すること。 - 特許庁

This test control device sets a debug count including a flow count for expressing a redoing frequency of the test flow and a process count for expressing a redoing frequency of the test processes, and executes the respective test processes of the test flow including redoing while selecting the test condition in response to this debug count.例文帳に追加

テスト管理装置において、テストフローのやり直し回数を表すフローカウントと各テスト工程のやり直し回数を表す工程カウントとを含むデバッグカウントを設定し、このデバッグカウントに対応してテスト条件を選択しながら、やり直しを含むテストフローの各テスト工程を実行させる。 - 特許庁

The process cartridge 100 is provided with a display part 200 displaying individual information, and a device main body is provided with a reading means 21 reading information displayed on the display part 20 and a storing means 31 storing at least two or more individual information of the processing cartridge used.例文帳に追加

プロセスカートリッジ１００にその個体情報を表示する表示部２００を設け、装置本体に表示部２０に表示されている情報を読み取る読み取り手段２１と、少なくとも二つ以上の使用されたプロセスカートリッジの個体情報を記憶する記憶手段３１とを設ける。 - 特許庁

A manufacturing method for a semiconductor device including a channel-etched inverted-staggered thin film transistor includes a process of etching an oxide semiconductor film and a conductive film with a mask layer formed using a multi-gradation mask, which is an exposure mask allowing transmitted light to have a plurality of intensities.例文帳に追加

チャネルエッチ構造の逆スタガ型薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法において、透過した光が複数の強度となる露光マスクである多階調マスクによって形成されたマスク層を用いて酸化物半導体膜及び導電膜のエッチング工程を行う。 - 特許庁

To provide a soundproofing wall device capable of structuring a soundproofing partition wall and a soundproofing chamber capable of insulating or blocking produced noise without any sanitary hindrance in a manufacturing process in which, specially, much liquid is used, and a soundproofing chamber structured by using the same.例文帳に追加

特に液体を多量に使用する製造工程において衛生面での支障が生じることなしに発生騒音を効果的に防音または遮音することができる防音間仕切り壁や防音室の構築が可能な吸音壁装置とこれを用いて構築した防音室を提供する。 - 特許庁

To download a common application program via a network only when it is to be used and hereby delete the common application program when it is not used, in an application group control device for operating a plurality of applications on a single process.例文帳に追加

ひとつのプロセス上で複数のアプリケーションを動作させるアプリケーション群制御装置において、該共通アプリケーションプログラムが利用される場合のみネットワークを通してダウンロードする、また、該共通アプリケーションプログラムが利用されない共通アプリケーションプログラムを削除することを目的とする。 - 特許庁

To suppress chemical cost when carrying out the dewatering treatment of sludge generated in a biological treatment process and the like of various kinds of industrial wastewater using an electroosmotic dewatering device, and to carry out efficient electroosmosis dewatering treatment without requiring additional equipment, such as a dissolving tank and heating equipment, and additional energy.例文帳に追加

各種産業排水の生物処理過程等で発生する汚泥を電気浸透脱水装置により脱水処理するに当たり、薬剤コストを抑え、また、溶解槽や加温設備等の付加設備や付加エネルギーを必要とすることなく、効率的な電気浸透脱水処理を行う。 - 特許庁

To reduce the necessary number of irradiating device of soft X-rays when discharging an insulator substrate by irradiating the soft X-rays in a process in which the substrate is conveyed sequentially to processing portions adjacent each other via a partition wall and prescribed processing is sequentially performed at each of the processing portions.例文帳に追加

絶縁体基板が，隔壁を介して隣接した処理部に順次搬送され該処理部毎に所定の処理が順次施されていくプロセスにおいて，軟Ｘ線を照射して絶縁体基板の除電を行う場合に，軟Ｘ線の照射装置の必要台数を低減する。 - 特許庁

In this digital video camera, a flash memory 20 incorporated in the digital video camera 1 is separated into a ROM area 22 and a RAM area 24 and is controlled by a memory controller 40, and the application software with which the information device can process previously picked-up image data is stored in the ROM area 22.例文帳に追加

デジタルビデオカメラ１に内蔵されたフラッシュメモリー２０を、メモリーコントローラー４０によってＲＯＭ領域２２とＲＡＭ領域２４に区画して制御するとともに、ＲＯＭ領域２２には予め撮影した動画データを情報機器側で扱うためのアプリケーションソフトを格納しておく。 - 特許庁

To provide an organic EL display device and its manufacturing method capable of preventing an organic EL element from deteriorating due to the infiltration of moisture from a flattened insulating film into an EL layer, causing no problems by forming of an inorganic insulating film at low temperature, and free from complexifying a manufacturing process.例文帳に追加

平坦化絶縁膜からＥＬ層への水分侵入による有機ＥＬ素子の劣化を防ぐことができ、無機絶縁膜を低温で成膜しても問題が生じず、製造工程が複雑とならない有機ＥＬ表示装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an environment monitoring system that can contract the size of hardware to process transmission information, by reducing an amount of information transmitted from a terminal device to a receiver, and conduct management of the environment corresponding to the environment specification required for each monitoring space.例文帳に追加

この発明は、端末装置から受信機への伝送情報量を低減して、伝送情報を処理するハードウエアの規模を縮小できるとともに、監視空間毎に要求される環境仕様に応じた環境管理を行うことができる環境監視システムを得る。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative development excellent in line width roughness (LWR), exposure latitude (EL) and depth of focus (DOF) and a pattering process using the same, in order to more stably form a high-accuracy fine pattern for manufacturing a highly-integrated and high-accuracy electronic device.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ（ＬＷＲ）、露光ラチチュード（ＥＬ）及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To reduce threading dislocation density and surface roughness, and prevent roughness of a surface and an interface from being deteriorated in the case of heat treatment in a device manufacturing process or the like, in the method for a semiconductor substrate, the method for manufacturing a field effect transistor, a semiconductor substrate and a field effect transistor.例文帳に追加

半導体基板の製造方法及び電界効果型トランジスタの製造方法並びに半導体基板及び電界効果型トランジスタにおいて、貫通転位密度が低く、表面ラフネスが小さいと共に、デバイス製造工程等の熱処理時における表面や界面のラフネスの悪化を防ぐこと。 - 特許庁

To provide an image forming device that prolongs the life of a photoreceptor by making the off-timing of primary transfer output take place faster in predetermined conditions, thereby making the start timing of a post- process for a photoreceptor take place faster, thereby shortening time required for a photoreceptor to rotate per job.例文帳に追加

所定条件下においては１次転写出力のオフタイミングを早めて、感光体の後処理の開始タイミングを早くし、１ジョブあたりの感光体の回転時間を短くすることにより、感光体の寿命を長くすることができる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To shorten processing time until resumption of printing after correction of an error to resumed printing and increase an effective printing speed in connection with a preceding process during a paper ejection tray error in a printing device which regards the closing of a paper ejection tray cover when a start printing command is received as an error and stops printing.例文帳に追加

印刷開始命令受信時に排紙トレイカバーが閉じられていた場合にエラーとし、印刷処理を停止する印刷装置において、排紙トレイエラー中での先行処理に関し、エラー解除後の再開印刷までの処理時間を短縮し、実効印刷速度の向上を図る。 - 特許庁

To provide a voice communication terminal which realizes it that a user feels no incompatibility in sound volume even when the user uses an external device to process an encoded voice signal processed by the voice communication terminal without the need for extending the size of the terminal and increasing the cost thereof.例文帳に追加

音声通信端末装置で扱っている符号化音声信号を外部機器で使用しても、使用者が音量に違和感を感じないようにするとともに、これを装置の大型化やコストの上昇を伴うことなく実現した音声通信端末装置を提供する。 - 特許庁

Then, the information processor collects various pieces of information generated by each module inside a process executed by a computer system showing the device, and monitors a behavior showing any illegal attack or intrusion on the basis of the collected various pieces of information.例文帳に追加

そして、情報処理装置は、当該装置を示すコンピュータシステムで実行されるプロセスの内部のモジュール毎に、当該モジュールにより発生した各種情報を収集し、収集された各種情報に基づいて、不正な攻撃や侵入を示す挙動をモジュール毎に監視する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the semiconductor device, in order to provide a semiconductor substrate (202), to form a dielectrics layer (204) on the semiconductor substrate (202) and to expose part of a surface of the semiconductor substrate (202), a process is contained wherein a trench or a via (206) is formed on the dielectrics layer (204) by etching.例文帳に追加

半導体デバイスを製造する方法は、半導体基板（２０２）を提供し、半導体基板（２０２）の上に誘電体層（２０４）を形成し、半導体基板（２０２）の表面の一部を露出させるため、誘電体層（２０４）にトレンチ又はバイア（２０６）をエッチングする工程を含む。 - 特許庁

The temperature of the external heat load device 7 is measured by either of a temperature sensor 72 installed in a process chamber, a temperature sensor 23 set in a constant temperature circulating liquid supply pipe or a temperature sensor 24 installed in a constant temperature circulating liquid return pipe, and feedback control of the valve opening of the three-way valve 20 is performed.例文帳に追加

外部熱負荷装置７の温度はプロセスチャンバーに設置された温度センサー７２，恒温循環液供給管に設置された温度センサー２３、恒温循環液戻り管に設置された温度センサー２４の何れかで計測されて、三方弁２０の弁開度をフィードバック制御する。 - 特許庁

To provide a device for sticking an anisotropic conductive film capable of sticking an anisotropic conductive film to a plurality of electrode sections of an end section of a substrate in a short period of time, and improving productivity of sticking process of the anisotropic conductive film to the plurality of electrode sections of a large-sized substrate.例文帳に追加

基板の端部の複数の電極部に対して異方導電膜を短時間に貼り付けることができ、大型の基板の複数の電極部に対する異方導電膜の貼付工程の生産性を向上できる異方導電膜貼付装置を提供する。 - 特許庁

An operating means of operating a photographing means, a controlling means for driving/stopping the operating means, and a means for photographing a subject in the process that a photographing means shifts from a starting position of photographing to its ending position, are added to an existing device for printing photo stickers.例文帳に追加

従来の写真シールプリント装置に対して、撮影手段を動作させるための動作手段、動作手段を駆動・停止させる制御手段、撮影手段が撮影開始位置から撮影終了位置まで移動する過程において被写体を撮影する手段を追加した。 - 特許庁

To prevent a recording sheet from being wet and from running of an image formed on the recording sheet, and to maintain that effect for a long time without complicating structure of a device even in the case of forming an image on the recording sheet through a heat fixing process.例文帳に追加

加熱定着処理を経て記録シート上への画像形成を行う場合であっても、装置構成の複雑化等を招くことなく、記録シートの濡れやその記録シート上の形成画像の滲み等を防止することができ、しかもその効果の持続性を高く保てるようにする。 - 特許庁

To provide a metal polishing liquid capable of obtaining a high polishing speed when polishing a polishing target (wafer) in a semiconductor device manufacturing process and capable of suppressing variation in the polishing speed of the metal polishing liquid resulting from the lapse of time and to provide a chemical mechanical polishing method using the metal polishing liquid.例文帳に追加

半導体デバイスの製造工程において、被研磨体（ウエハ）を研磨する際に、高い研磨速度が得られ、且つ、金属用研磨液の経時による研磨速度の変動が抑制された金属用研磨液、及びそれを用いた化学的機械的研磨方法を提供する。 - 特許庁

After a thin film magnetic head element 1 and a dummy resistance film 7 are formed in numbers on a wafer in a thin film process, the wafer is cut to form a bar containing plural magnetic head sliders 2; then, a surface to be polished of the bar is polished by a RLG polishing device to accurately form the dimension of the thin film magnetic head element 1.例文帳に追加

薄膜プロセスでウエハ上に薄膜磁気ヘッド素子１およびダミー抵抗膜７を多数形成後、ウエハを切断し、複数の磁気ヘッドスライダ２を含むバーを形成、バーの被研磨面をＲＬＧ研磨装置で研磨し、薄膜磁気ヘッド素子１の寸法を正確に形成する。 - 特許庁

An operator places data carriers 2341 to 2343 related with the operation performance of the manufacturing process on a reader/writer 100, and when the operator depresses the "operation start" button of an operation screen 215, an operation start processing part 211 of a controller 210 of an information collection device 200 detects this, and starts data carrier read/determination processing.例文帳に追加

作業者はリーダライタ100に当該製造工程の作業実施に関係するデータキャリア2341〜2343を置き、操作画面215の「作業開始」ボタンを押下すると、情報収集装置200のコントローラ210の作業開始処理部211はこれを検出して、データキャリア読取り・判定処理を開始する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a planographic printing original plate, by which a coating liquid can continuously be appled for a long period of time by preventing clogging and extending the service life of a filter in the process of manufacturing the planographic printing original plate by applying the coating liquid containing a filler from which foreign matters are removed by a filtering device.例文帳に追加

フィラーを含む塗布液を濾過装置により異物を除去した塗布液を塗布し平版印刷用原版を製造する際、目詰まりを防止し、濾材の寿命を延ばすことで長時間の連続塗布が可能な平版印刷用原版の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a safety device with a simple constitution, in a press machine where a ram having the upper die at the lower end is made vertically movable, and the upper die and the lower die are engaged, so as to process a workpiece, which prevents the fingers of an operator from being pinched between the upper die and the lower die during the operating time.例文帳に追加

下端に上型を有するラムを上下動自在にして上型と下型とが噛み合うことによりワークを加工するプレス装置において、その作業時に手指が上型と下型とに挟まれないようにする安全装置を簡単な構成で提供する。 - 特許庁

Further, the surface of the model prototype is finely finished by a prime coating and a face coating process with the help of a finishing device and a correct three-dimensional actual shape is completed as a neatly finished product based on a photographed image.例文帳に追加

形状データ作成装置で立体実形状の被写体をカメラで取り、原板集積装置およびモデル作成装置でモデル原形を作成し、仕上げ装置で下塗、上塗により表面を細やかに仕上げて、映像から正確な立体実形状を綺麗な製品として完成させる。 - 特許庁

This manufacturing method of the plasma display panel is provided with a step of elongating a fork 11, a step of changing the position of a contact site so that the contact site of the fork 11 will be overlapped on one horizontal plane, and a step of contacting the plasma display panel 36 arranged at the previous process device to the contact part and scooping up the panel.例文帳に追加

フォーク１１を伸長するステップと、フォーク１１の接触部位が１つの水平面に重なるように、接触部位の位置を変えるステップと、前工程装置に配置されるプラズマディスプレイパネル３６を接触部位に接触させて掬うステップとを備えている。 - 特許庁

A generating device for surname data regarding the style of this implementation is composed roughly of an input means 5, a random number generating means 10, a storage means 20, a surname generating means 30, a process dividing means 40, an inhibition rule check means 50, and an output means 60 as shown in Fig.1.例文帳に追加

図１に示すように、本実施の形態に係る姓データの生成装置は、入力手段５と乱数発生手段１０と記憶手段２０と姓生成手段３０と処理振分け手段４０と禁則チェック手段５０と出力手段６０とで概略構成される。 - 特許庁

Furthermore, a fixing process of fixing the lead to the bonding region of the front surface of the semiconductor device comprises the steps of arranging solder material in the bonding region, melting the solder material in the state that the lead is made to stand independently so that the lead may touch with the solder material, and fixing the lead in the bonding region.例文帳に追加

また、半導体素子の表面の接合領域にリードを固定する固定工程が、接合領域に半田材を配置し、半田材にリードが接するようにリードを自立させた状態で半田材を溶かし、接合領域にリードを固定する工程からなる。 - 特許庁

The device can be constituted of images to be measured in a minute image by calculating an amount of reduction of paper from before and after fixation, based on the relation of the image position after fixation and the write-in position prior to fixation, calculating the position of the image to be measured after fixing, reading the concentration, and executing a process control to it.例文帳に追加

定着後の画像位置と定着前の書込位置の関係から定着前後の紙の縮量を計算して、定着後の測定対象画像の位置を演算し、その濃度を読み込みプロセス制御することで、測定対象画像を微少画像で構成できるようにする。 - 特許庁

Accordingly, the quantity of the external additive adhered to the base grain (C) and the grain size are limited, and the liberation of the external additive (SiO2) from the base grain (C) is reduced at the contact development step with a latent image carrier or the contact transfer step with a transfer device in image forming process.例文帳に追加

これにより、母粒子（Ｃ）に付着する外添剤（ＳｉＯ_2）の量および粒径が制限され、画像形成プロセス中の、潜像担持体との接触現像工程時や転写器との接触転写工程時などにおいて、母粒子（Ｃ）からの外添剤（ＳｉＯ_2）の遊離が低減する。 - 特許庁

In this manufacturing method of a semiconductor device, another silicon oxide film 14 is formed on a second transistor 12, and a silicon oxide film 18 of a predetermined thickness is formed on the second transistor 12 in a prior stage of a process of forming a stress imparting layer 16 covering a first transistors 11, the second transistor 12 and a gate structure 13.例文帳に追加

第一のトランジスタ１１、第二のトランジスタ１２、ゲート構造１３を被覆する応力付与層１６を設ける工程の前段で、第二のトランジスタ１２上に他のシリコン酸化膜１４を形成し第二のトランジスタ１２上に所定の厚みのシリコン酸化膜１８を形成する。 - 特許庁

To provide an image forming material, by which a highly sensitive image having high resolution and high sharpness can be obtained through exposure to light or heating without employing a complicated process and a valuable device and, at the same time, on which a direct image formation can be possible based on digital data with infrared laser or the like, and an image forming method.例文帳に追加

複雑な工程や高価な装置を必要とせず、露光或いは加熱により高感度で、高解像度で鮮鋭度の高い画像が得られ、且つ、赤外線レーザ等によりデジタルデータに基づき直接画像形成が可能な画像形成材料及び画像形成方法を提供する。 - 特許庁