「the Microscope」に関連した英語例文の一覧と使い方(71ページ目) - Weblio英語例文検索

This stereoscopic microscope inspection system has an objective system having an object plane to be arranged with the object to be observed or the intermediate image, a left side eyepiece system to which an incident beam flux on the left side of the objective lens is supplied and a right side eyepiece system to which the incident beam flux on the right side of the objective lens is supplied.例文帳に追加

この立体顕微鏡検査システムは、観察されるべき物体又は中間像を配置する物体平面を有する対物システムと、対物レンズの左側に入射するビーム束が供給される左側接眼システムと、対物レンズの右側に入射するビーム束が供給される右側接眼システムとを備えている。 - 特許庁

When negative voltage or pulse voltage is applied to a probe of scanning probe microscope which is provided with a conductive probe 7 in the air, chromium 3 which is exposed on the surface just under the probe is anodized and generates the chromium oxide 6, therefore, the region in which the antireflection coating is stripped off is scanned and anodized, and the antireflection coating is repaired.例文帳に追加

導電性探針7を備えた走査プローブ顕微鏡の探針に大気中で負電圧もしくはパルス電圧をかけると、探針直下の表面に露出したクロム3が陽極酸化され酸化クロム6を生成するので、反射防止膜が剥れた領域を走査・陽極酸化し反射防止膜を修復する。 - 特許庁

In this measuring microscope apparatus, the interior of a support part 25, as a main body provided on the right side of the column 30, is provided with a signal operation display part 36 for operating a signal from a detecting part for detecting the travel of the XY stage 27 and the Z stage 28 and displaying the operational result.例文帳に追加

そして、この測定顕微鏡装置に於いて、コラム３０の右側に設けられた本体としての支持部３５の内部には、上記ＸＹステージ２７及びＺステージ２８の移動量を検出する検出部からの信号を演算して、この演算結果を表示する信号演算表示部３６を有している。 - 特許庁

The central part of a support device 8 is detachably attached to an outer peripheral part of the lens barrel 5 of an operation microscope supported by suspending from the above by a hook and loop fastener, and protruding four bars 8a-8d are respectively provided on the right and the left of the support device 8 by opening at right angles in the horizontal direction.例文帳に追加

上方から吊り下げ支持された手術用顕微鏡の鏡筒部５の外周部に、支持具８の中央部分を面ファスナーにより着脱自在に取り付けるとともに、支持具８の左右それぞれに水平方向に９０度開いた角度で突出する４本のバー８ａ〜８ｄを設ける。 - 特許庁

A condensing lens 32 is accommodated in a vacuum chamber 5, by using the vacuum chamber 5 in which a sample 7 is installed and the condensing lens 32 in which irradiation light is condensed on the surface of the sample 7 in the photoelectron microscope, having the light source system for excitation for irradiating the sample with irradiation light from a light source 1.例文帳に追加

光源１からの照射光を試料に照射する励起用光源システムを備えた光電子顕微鏡を、試料７が設置される真空チャンバ５と、照射光を試料７の表面に集光する集光レンズ３２とを用い、集光レンズ３２を真空チャンバ５内に収容した構成とする。 - 特許庁

Fluorescence generated from the sample is transmitted through the dichroic mirror 8 through the microscope 4, passes through an analyzer (polarizer) 12 set in the same polarization direction as the polarizing plate 10, and then is guided to a streak scope 16 through a cut-off filter 14 for removing excitation light components.例文帳に追加

試料から発生した蛍光は、顕微鏡４を通ってダイクロイックミラー８を透過し、偏光板１０と同一の偏光方向に設定された検光子（偏光子）１２を通過した後、励起光成分を除去するカットオフフィルタ１４を経てストリークスコープ１６に導かれて検出される。 - 特許庁

An eyepiece 1 of a measurement microscope is provided with a frame 2, a rotor 3 placed freely rotatably on the frame 2 and a reticle 6 placed on the rotor 3 and is constituted by providing a capacitance type encoder 10 for measuring the rotation displacement of the rotor 3 in the frame 2.例文帳に追加

測定顕微鏡の接眼レンズ１を、フレーム２と、このフレーム２に回転自在に設けられたロータ３と、このロータ３に設けられたレチクル６とを備えたものとするとともに、フレーム２内にロータ３の回転変位量を測定する静電容量型エンコーダ１０を設けて構成した。 - 特許庁

To provide a scanning probe microscope that has a small wear of a probe, has high measurement reliability, can control the travel of probe scanning easily, and can scan a sample surface quickly when measuring the sidewall, or the like of a minute groove, or the like on the sample surface.例文帳に追加

試料表面の微細な溝等の側壁等を測定するとき、探針の磨耗が小さく、測定信頼性が高く、探針走査の移動制御を簡単に行うことができ、試料表面を短時間に走査できる走査型プローブ顕微鏡およびその測定方法を提供する。 - 特許庁

A second image acquisition control part 63 acquires an image in which only a pixel with the highest luminance is selected among images obtained in respective focal positions of the confocal microscope with light of a light quantity shown by the second light quantity setting data, and records the image in the memory 66.例文帳に追加

続いて、第２の画像取得制御部６３は、第２の光量設定データで表される光量の光により、共焦点顕微鏡の各焦点位置で得られた各画像の中で輝度が最も高い画素のみが選択された画像を取得し、その画像をメモリ６６に記録する。 - 特許庁

The microscope imaging apparatus capable of communicating with the computer includes a communication means receiving imaging interval information transmitted from the computer, and a computer activation means activating the computer on a basis of the imaging interval information.例文帳に追加

計算機と通信可能な顕微鏡撮像装置は、前記計算機から送信される撮像間隔情報を受信する通信手段と、前記撮像間隔情報に基づいて、前記計算機を起動させる計算機起動手段と、を備えることにより、上記課題の解決を図る。 - 特許庁

To provide a microscope for surgery which can store at least one observation focus positions in observing the anterior segment and eyeground segment of the eye to be examined and can automatically execute focusing on the basis of the stored observation focus positions when observing either of the observation parts thereafter.例文帳に追加

本発明は、被検眼の前眼部と眼底部を観察する際に少なくとも一方の観察フォーカス位置を記憶し、その後いずれかの観察部位を観察する場合には記憶した観察フォーカス位置を基にして自動的にフォーカスを行うことが可能な手術用顕微鏡を提供する。 - 特許庁

In this positioning device for circulating nozzle 1 for retaining a circulating nozzle N for injecting a liquid to a vessel (Petri dish or the like) or discharging the liquid from the vessel, a nozzle retaining member 3 for retaining the circulating nozzle N is provided on a base part 2 fixable on a prescribed reference plane (the stage of a microscope).例文帳に追加

容器（シャーレ等）に液体を注入し、又は容器から液体を排出する還流ノズルＮを保持する還流ノズル位置決め装置１であって、所定の基準面（顕微鏡のステージ）に定置可能なベース部２上に、還流ノズルＮを保持するノズル保持部材３を設ける。 - 特許庁

In a hardness tester 1 which measure the hardness of a sample S by pushing an indenter 11 against the sample S and is provided with an optical system which can observe the recess, a probe microscope 17 which can scan the surface of the recess with a probe 18 is provided.例文帳に追加

試料Ｓに圧子１１を押し付けることによって形成されるくぼみから硬さを測定し、前記くぼみを観察可能な光学システムを備える硬さ試験機１において、前記くぼみの表面をプローブ１８によって走査可能であるプローブ顕微鏡１７を備えている。 - 特許庁

The focus stabilization mechanism of the microscope, etc., comprises, constituting the optical machine consisting of optical system sections fabricated to a type symmetrical with the optical axis in both of weights and shapes and peripheral sections having a sample positioning mechanism, by combining respective components which has nearly zero for the dependence on temperature.例文帳に追加

光軸に重量、形状とも対象型につくられた光学系部と試料位置決め機構を有す周辺部とからなる光学機械において、それぞれのコンポーネントを温度依存性がゼロに近いものを組み合わせて構成したことを特徴とする顕微鏡等のフォーカス安定性機構。 - 特許庁

Succeedingly, illumination light from the selected light source among the light sources 62A-62C transmits through the filters 72 combined by the filter changeover means 70A and 70B and an illumination light inputted to a light source changeover means 68 is outputted to the microscope through an optical fiber 56.例文帳に追加

続いて、選択された光源６２Ａ〜６２Ｃからの照明光は、固定円板６６を介して、フィルタ切換え手段７０Ａ、７０Ｂにより組合わせたフィルタ７２を透過することにより、光源切換え手段６８に入力した照明光は、光ファイバ５６を介して顕微鏡に出力される。 - 特許庁

In this scanning electron microscope, the acceleration voltage of an electron beam EB irradiated on a sample 2 is set to 4 kV, and a voltage of -3 kV is applied to the sample 2 from a power source 11, so that the electron beam EB is decelerated immediately in front of the sample and is irradiated on the sample 2 with an energy of 1 kV.例文帳に追加

試料２に照射される電子ビームＥＢの加速電圧は、４ｋＶとされており、試料２には電源１１より−３ｋＶの電圧が印加されていることから、電子ビームＥＢは試料の直前で減速され、１ｋＶのエネルギーで試料２に照射される。 - 特許庁

The method for evaluating the fatigue of a solder junction containing Sn as a main component includes the steps of enlarging a cut section of the junction by an electron microscope, measuring a phase size (d) of an Sn phase 20 and an Ag_3Sn phase 22, and biquadrating the measured value (d) to a phase growth evaluating parameter S.例文帳に追加

Ｓｎを主成分とするはんだの接合部の疲労評価方法において、はんだ接合部の切断面を電子顕微鏡により拡大して、Ｓｎ相２０やＡｇ_３Ｓｎ相２２の相寸法ｄを測定し、この測定値ｄを４乗して相成長評価パラメータＳとする。 - 特許庁

The confocal optical microscope 100 also has a caged-state release optical system for irradiating the sample with light for releasing the caged compound, and the system is constituted of the objective lens 107, a light source 131 for caged-state release, a dichroic mirror 132 and a shutter 133.例文帳に追加

共焦点光学顕微鏡１００は更にＣａｇｅｄ化合物を解除する光を試料に照射するＣａｇｅｄ解除光学系を有し、それは、対物レンズ１０７と共に、Ｃａｇｅｄ解除用光源１３１とダイクロイックミラー１３２とシャッター１３３とから構成される。 - 特許庁

When the surface form of the substrate 21 is measured in the measurement range of four quarters whose one side is 5μm by using an atomic force microscope, the number of ridges of textures which are observed at a position higher than the average line of measured roughness curve by 1.5nm is 200 or less.例文帳に追加

同情報記録媒体用ガラス基板２１の表面形状を、原子間力顕微鏡を使用し、１辺が５μｍ四方の測定範囲内で測定したとき、測定された粗さ曲線の平均線よりも１．５ｎｍ高い位置で観測されるテクスチャーの尾根の数は２００個以下である。 - 特許庁

To provide an objective lens which is made to so as to have high resolution when the resolution of a stereomicroscope is high when used in the stereomicroscope having magnification converters and whose resolution is larger than that of the well-known steromicroscope and moreover which can use the whole magnification area of the microscope without vignetting.例文帳に追加

倍率変換器を有する立体顕微鏡に使用する際に、倍率が高い場合には高い分解能を有するようにし、この分解能は公知の立体顕微鏡よりも大きく、さらに顕微鏡の倍率領域全体を、口径食なしで使用できる対物レンズを提供する。 - 特許庁

The electron microscope includes a signal processing part which calculates a deterioration function of images based on the detection signal obtained by scanning charged particle beams with two kinds of scanning speeds of a scanning speed in the band width of a detector and its amplifying circuit and a scanning speed exceeding the upper limit of the band width.例文帳に追加

検出器およびその増幅回路の帯域幅内の走査速度と、上記帯域幅の上限を超える走査速度の２種の走査速度で荷電粒子線を走査して得られる検出信号に基づき、画像の劣化関数を算出する信号処理部を設ける。 - 特許庁

In this detector suitable for a scanning electron microscope or the like, which is a PIN photodiode having a thin layer of pure boron connected to the p^+-diffusion layer, the boron layer is connected to an electrode having an aluminum grid to form a path of low electrical resistance on each position between the boron layer and the electrode.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡等に適した検出器は、p^＋‐拡散層に接続された純ホウ素の薄い層をもつPINフォトダイオードで、そのホウ素層は、アルミニウム・グリッドをもつ電極に接続され、そのホウ素層と電極との間の各々の位置において低い電気抵抗の経路を形成する。 - 特許庁

The ruthenium tetroxide reducing material according to this invention effectively reduces the ruthenium tetroxide having high degree of risk, occurring from atomic power plants, in utilization of radioactive rays or from the catalysts for organic synthetic reactions and in dyed samples for electron microscope or the like to ruthenium dioxide that is made insoluble with the risk reduced.例文帳に追加

本発明の四酸化ルテニウム還元材は、原子力、放射線利用、有機合成反応に用いる触媒、電子顕微鏡用の染色等で発生する、危険度の高い四酸化ルテニウムを危険度の低い二酸化ルテニウムに還元し、不溶化するのに有効である。 - 特許庁

Besides, by using an optical observation apparatus utilizing the interference and refraction of light, without shrinking the resist pattern like the conventional case of recognizing the resist pattern by using an electron microscope, the line width can be precisely measured in a nondestructive manner.例文帳に追加

また、光の干渉、回折を利用した光学観察装置を用いることにより、従来において電子顕微鏡を用いてレジストパターンの認識を行った場合のようにレジストパターンの収縮を発生させることはなく、非破壊で精密に線幅を測定することができる。 - 特許庁

A mask mark M (MX, MY) on the mask and a pallet mark MP (MPX, MPY) on the wafer pallet are simultaneously imaged with the microscope imaging apparatus including two pairs of focusing optical systems from the direction orthogonal to the mask and wafer surface to measure two-dimensional position displacement between these marks.例文帳に追加

マスク及びウエハの面と直交する方向からマスク上のマスクマークＭ（Ｍ_X 、Ｍ_Y ）とウエハパレット上のパレットマークＭＰ（ＭＰ_X 、ＭＰ_Y）とを２組の結像光学系を有する顕微鏡撮像装置によって同時に撮像し、これらのマーク間の二次元の位置ずれ量を測定する。 - 特許庁

To form the cross section of an ink transfer part by a focusing ion beam device, in the observation of the transfer and penetration of the ink transferred to a printed matter wherein ink is printed on paper or a written matter written by using a ball point pen or a marking pen, to observe the same by an electron microscope or an electron probe microanalyser.例文帳に追加

紙に印刷された印刷物や、ボールペンやマジックなどを用いて筆記された筆記物に転移したインキ等の転移及び浸透状態を、集束イオンビーム装置等により断面を作製し、該断面を電子顕微鏡或いはエレクトロンプローブマイクロアナライザーにより観察する。 - 特許庁

The microscope unit 100 has, in its housing 101: an observing optical system 300 for observing a specimen; a support/drive system 400 supporting the specimen and the observing optical system and electrically driven; and a temperature adjustment device 500 keeping the inside of the unit at a specified temperature.例文帳に追加

顕微鏡ユニット１００は、試料を観察する観察光学系３００と、試料および観察光学系を支持すると共に、電動駆動する支持・駆動系４００と、当該ユニット内部を、指示された温度に維持する温度調整装置５００とを、筐体内１０１に有する。 - 特許庁

In the optical microscope 6, some spots 2 on an object 1 are observed by using an optical transmission screen 3 with modifiable lighting arranged on the path 9 of an optical beam and capable of forming a screen picture substantially coincident with the spots on the object in the object surface 7.例文帳に追加

光学顕微鏡６は、光学ビームの通路９に配置されて物体のスポットと実質的に一致したスクリーン映像を物体面７の中に発生する事のできる照射変更自在型光学伝送スクリーン３を使用して物体１の数スポット２を観察する事のできる顕微鏡である。 - 特許庁

An electromagnetic brake 15 is attached to a Z-axis motor 10 which causes the Z-axis stage 5 provided with an objective lens 7 to be raised and lowered and an eyepiece 8 or the like, and the brake 15 is made to act, when the main body power source 25 of the measurement microscope is turned off by a Z-axis control part 16.例文帳に追加

対物レンズ７及び接眼レンズ８などが設けたＺ軸ステージ５を昇降させるＺ軸モータ１０に電磁ブレーキ１５を取り付け、Ｚ軸制御部１６によって測定顕微鏡の本体電源２５が遮断したときに電磁ブレーキ１５を働かせる。 - 特許庁

By paying attention to the fact that film reduction of the resist pattern is accompanied by surface roughening (roughness) of a resist upper surface, a film reduction index value is calculated by quantifying the degree of roughness of a portion corresponding to the resist upper surface, on an electron microscope image of the resist pattern used in conventional line width measurement.例文帳に追加

レジストパターンの膜減りがレジスト上面の面荒れ（ラフネス）を伴うことに着目し，従来の線幅計測に用いているレジストパターンの電子顕微鏡像上で，レジスト上面に相当する部位のラフネスの程度を定量化することによって膜減り指標値を算出する。 - 特許庁

On measuring length of the resist film having the above pattern formed thereon by using a CD-SEM (critical dimension scanning electron microscope), first an objective chip region 11a for length measurement is designated among a plurality of chip regions, and the position of the length measurement pattern 13a placed in the left side is identified.例文帳に追加

このようなパターンの形成が行われたレジスト膜に対して、ＣＤ−ＳＥＭを用いて測長を行う場合には、複数のチップ領域のうちから測長対象チップ領域１１ａを指定した後、その左方に位置する測長パターン１３ａの位置を特定する。 - 特許庁

To provide a cassette for medical examination which can improve the productivity and the reliability in preparing a microscope specimen, in which a lid of the cassette can be easily and stably taken away with a single action, and in which the lid can be taken away while confirming the recording contents of a recording part.例文帳に追加

カセットの蓋をワンタッチで容易且つ安定的に取り去ることができるとともに、記録部の記録内容を確認しながら蓋を取り去ることができるので、顕微鏡標本作成の生産性及び信頼性を向上させる医療検査用カセットを提供する。 - 特許庁

To provide a confocal microscope capable of compensating the lowering of light quantity caused in the periphery area of the observed image of a sample, capable of successively and easily changing the light quantity of a light source and capable of changing the wavelength of illuminating light.例文帳に追加

試料の観察像の周辺領域で生じる光量の低下を補うことが可能な共焦点顕微鏡、光源光量を逐次容易に変化させることが可能な共焦点顕微鏡、及び照明光の波長を変化させることが可能な共焦点顕微鏡を提供する。 - 特許庁

In the microscope system equipped with a first objective lens 14 and a second objective lens 16 at positions facing each other across a sample 4, the first objective lens 14 is an objective lens transmitting the deep ultraviolet and the second objective lens 16 is configured to collect observation light from the sample 4.例文帳に追加

試料４を挟んで対向する位置に第一対物レンズ１４と第二対物レンズ１６を備える顕微鏡システムにおいて、第一対物レンズ１４は深紫外線を透過する対物レンズであり、第二対物レンズ１６は試料４からの観察光を収集する構成とした。 - 特許庁

The imaging apparatus for the microscope having an interlace system CCD has a mechanical shutter 804, and performs exposure by controlling the operation of the shutter 804 and a shutter in the CCD 801 being an electronic shutter in accordance with a photographing condition.例文帳に追加

インターレース方式のＣＣＤを有する顕微鏡用撮像装置であって、メカシャッター８０４を有し、撮影条件に応じて、メカシャッター８０４と電子シャッターであるＣＣＤ８０１の素子内シャッターの動作を制御して露光を行うようにした顕微鏡用撮像装置である。 - 特許庁

In a pulse exciting type ultrasonic microscope 2, a transducer 13 is provided to a Z-axis stage 15 and the interval between a glass substrate 20, and the transducer 13 is adjusted by moving the Z-axis stage 15 so as to match the focal distance of the transducer 13.例文帳に追加

パルス励起型超音波顕微鏡２において、Ｚ軸ステージ１５にトランスデューサ１３が設けられており、そのＺ軸ステージ１５を移動させることにより、ガラス基板２０とトランスデューサ１３との間隔がトランスデューサ１３の焦点距離と一致するよう調整される。 - 特許庁

The method of evaluating the vapor deposition film measures a phase change by scanning vibratingly a probe of an atomic force microscope on a vapor deposition film surface of an optical member having the vapor deposition film on a base material, and evaluates the vapor deposition film, based on the measured phase change.例文帳に追加

基材上に蒸着膜を有する光学部材の該蒸着膜表面上で、原子間力顕微鏡の探針を振動させながら走査して位相変化を測定し、測定された位相変化に基づいて前記蒸着膜を評価する蒸着膜評価方法。 - 特許庁

In this method, the creep damage is estimated accurately by observing the metallographic structure of a sample tube extracted from an actual machine by a transmission electron microscope, and by measuring the density of black spots on a strain field generated by deposition of a Cu-enriched phase by the following methods.例文帳に追加

実機から抜管したサンプル管の金属組織を透過型電子顕微鏡で観察し、Ｃｕ富化相の析出によって生じる歪場の黒点の密度を次のような方法で計測することにより、クリープ損傷を精度よく推定する方法。 - 特許庁

In the method for inspecting the compound semiconductor substrate, the surface roughness Rms of the compound semiconductor substrate is measured by using an atomic force microscope at pitches of 0.4 nm or less in a visual field in a square of 0.2 μm or less.例文帳に追加

化合物半導体基板の検査方法は、化合物半導体基板の表面の検査方法であって、０．２μｍ以下四方の視野で、０．４ｎｍ以下のピッチで、原子間力顕微鏡を用いて化合物半導体基板の表面粗さＲｍｓを測定する。 - 特許庁

A microscope device, which is configured to photograph an image for every visual field while horizontally moving the visual field relative to a specimen, includes a focal point-adjusting means for estimating a focal point for every visual field and adjusting the focal point for every visual field based on the result of the estimation.例文帳に追加

標本に対する視野を水平方向に移動しながら視野毎の画像を撮影する顕微鏡装置であって、視野毎の合焦点を予測し、当該予測結果に基づいて視野毎の合焦点を調整する合焦点調整手段を具備する。 - 特許庁

The plate 1 for the microscope specimen is constituted, by providing a plurality of the liquid sample coating parts 4 surrounded by interruption parts 3 to the surface of a plate 2, made of a synthetic resin and where liquid sample coating parts 4 are respectively covered independently with cover films 5.例文帳に追加

合成樹脂製板２の表面に、堰止部３により囲まれた液体試料塗沫部４を複数個設けるとともに、該液体試料塗沫部４の各々を独立にカバーフィルム５で被覆したことを特徴とする顕微鏡標本用プレート１である。 - 特許庁

This scanning probe microscope is equipped with a cantilever 21 having a probe 20, measuring parts 24, 32 for measuring physical quantities generated between the probe and the sample 12, and moving mechanisms 14, 15, 29 for allowing to perform scanning operation by changing relatively positions of the probe and the sample.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡は、探針２０を有するカンチレバー２１と、探針と試料１２の間で生じる物理量を測定する測定部（２４，３２）と、探針と試料の位置を相対的に変化させ走査動作を行わせる移動機構（１４，１５，２９）とを備える。 - 特許庁

To provide a standard sample for a scanning probe microscope and a carrier concentration measurement method, capable of finding the correlations between the carrier concentrations and the local electrical characteristics (including the characteristics of spreading resistance, capacitance and nonlinear dielectric constant) more accurately than conventionally.例文帳に追加

キャリア濃度と局所的電気特性（広がり抵抗、静電容量特性及び非線形誘電率特性を含む）との相関を従来よりも正確に求めることができる走査プローブ顕微鏡用標準試料及びキャリア濃度測定方法を提供する。 - 特許庁

The electron microscope is provided with a sample room for sample placement accommodating a heating system to be able to heat the internal space of the sample room including the samples for observation.例文帳に追加

本発明は上記目的を達成するために、観察対象試料を配置するための試料室を備えた電子顕微鏡において、前記観察対象試料を含む試料室内空間を加熱する加熱機構を備えたことを特徴とする電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁

The laser confocal microscope system using a Nipkow disk type confocal scanner adopting laser light as excitation light is constituted so as to measure a phosphorescent image by a camera for forming the confocal image outputted from the confocal scanner after turning off the laser light.例文帳に追加

レーザ光を励起光としたニポウディスク型の共焦点スキャナを使用したレーザ共焦点顕微鏡システムにおいて、前記レーザ光のオフ後に、前記共焦点スキャナからの共焦点画像を結像するカメラで燐光画像を計測するように構成する。 - 特許庁