「9去法」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

膜モジュール（４）に配置された複数の多孔性膜（９）の表面からファウリング物質を除去する方法および装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and apparatus for removing fouling materials from the surface of a plurality of porous membranes 9 arranged in a membrane module 4. - 特許庁

次いで、ＣＭＰ法を用いて余分な銅膜９およびバリアメタル膜８を除去した後、希アンモニア水溶液を用いて洗浄し、乾燥する。例文帳に追加

After the copper film 9 and the barrier metal film 8 have been removed by using a CMP method, it is cleaned by using rare ammonia water solution and dried. - 特許庁

非晶質シリコン膜１０を形成し、ＲＩＥ法でスペーサ１０ａを形成した後、芯材パターン９を除去する。例文帳に追加

After an amorphous silicon film 10 is formed and a spacer 10a is formed by an RIE method, the core material pattern 9 is removed. - 特許庁

続いて、開口部３３ａをメッキ法によりＮｉで埋めた後、レジスト膜３３を除去してミラー９を形成する。例文帳に追加

In succession, the apertures 33a are filled with Ni by a plating process and thereafter the mirrors 9 are formed by removing the resist film 33. - 特許庁

密閉型ボックス内で切削刃物を回転させバリ部を削り、さらに、該密閉型ボックスに設けられた削り屑吸引口から該バリ部削り屑を吸引除去することを特徴とする、バリ部除去・後加工方法によって、解決する。例文帳に追加

In this processing method of the resin magnet molded product, a cutting edge tool 11 is rotated in a hermetically closed box 9 to shave a burr part and burr part shaving refuse is sucked and removed from the shaving refuse suction port 8 provided to the hermetically closed box 9. - 特許庁

整流子の製造方法は、平行に複数並設された凸部９を有する板材１２を、凸部９の凸設方向と逆方向に第１のパンチ１４を移動させることで並設方向に長く打ち抜き除去する打ち抜き除去工程を含む。例文帳に追加

The commutator manufacturing method comprises a punching/ removing process for punching and removing a board material 12 having a plurality of protrusions 9 formed side by side in parallel, long in the direction of the side by side formation, by moving a first punch 14 in a direction reverse to that of protrusion of the protrusions 9. - 特許庁

審査の結果，明らかになった第9条 (1)又は第10条に定める法的保護を妨げる事情を出願人が除去しなかった場合は，商標の登録を拒絶する決定を行うものとする。例文帳に追加

The decision to refuse to register a trade mark shall be made if circumstances specified in subsection 9 (1) or § 10 of this Act which were revealed by the examination and which preclude legal protection are not eliminated by the applicant.  - 特許庁

このＣｕ膜３の表面にＣｒ膜９をスパッタ法によって５０ｎｍ程度の膜厚に薄く形成した後、このＣｒ膜９をエッチングして除去部９ａを形成する。例文帳に追加

A Cr film 9 is formed thinly on the surface of the CU film 3 in film thickness of approximately 50 nm by a sputtering method, the Cr film 9 is etched, and a removing section 9a is formed. - 特許庁

バリ除去はショットブラスト等の簡易な方法で行うだけ済み、フェルール本体９と鍔部７との境界部分に残るバリを手作業で除去することは不要となる。例文帳に追加

The deburring is executed only by a simple method such as a shot blast, etc., and burrs left at the border parts between the ferrule main body 9 and collar parts 7 need not be removed by manual operation. - 特許庁

上下１対の揺動機構５に接続されたスクレーパ４を有し、スクレーパ４を揺動させることによって熱交換用プレート１に付着するダスト９を除去するプレート式熱交換器用ダスト除去装置において、排ガス通路側端部２１へのダスト堆積を防止することのできる、ダスト除去装置及びダスト除去方法を提供する。例文帳に追加

To provide a dust removing device and a method of removing dust capable of preventing accumulation of dust on an exhaust gas passage-side end section 21, in the dust removing device for a plate-type heat exchanger having a scraper 4 connected with a pair of upper and lower oscillating mechanisms 5, and removing the dust 9 attached to a heat exchange plate 1 by oscillating the scraper 4. - 特許庁

審査の結果，第9条 (1)及び第10条に定める法的保護を妨げる如何なる事情も明らかにならなかった場合又は審査の結果明らかになった法的保護を妨げる事情を出願人が除去した場合は，商標を登録する決定を行うものとする。例文帳に追加

The decision to register a trade mark shall be made if examination reveals none of the circumstances specified in subsection 9 (1) and § 10 of this Act which preclude legal protection or if the applicant eliminated circumstances which were revealed by the examination and which preclude legal protection.  - 特許庁

さらに、本発明の製造方法は、基板１および樹脂層８の上にノズル形成部材してのノズル層９を形成する工程と、ノズル層９に各インク流路に連通する複数のインク吐出口１１を形成する工程と、樹脂層８を除去する工程と、を有する。例文帳に追加

The method further includes the step of forming a nozzle layer 9 on the substrate 1 and the resin layer 8, as a nozzle forming member, the step of forming a plurality of ink ejection ports 11 communicating with the respective ink channels in the nozzle layer 9, and the step of removing the resin layer 8. - 特許庁

線材９を、一本、もしくは複数本を母型に使用して、電鋳した後、当該線材９を除去する各種金管の製造方法に於いて、補助フック部材１７の取り付けに手間取ることや、金属管１９の費用がかさむことや有効電鋳長さが短い問題を解決すること。例文帳に追加

To solve the problems, such as the need for labor in mounting of auxiliary hook members 17, the expenses required for metallic tubes 19 and the short length of effective electroforming in a method of manufacturing various kinds of metallic tubes by using one or a plurality of wires 9 as a matrix and removing the wires 9 after performing the electroforming. - 特許庁

雨滴検知方法は、晴れ判定時に、発光素子８及び光電変換素子９を取巻く環境温度の上昇割合が所定値以上のとき、雨判定のために用いられる光電変換素子９の過去の出力値の更新時間間隔をＢからＡへと短縮する。例文帳に追加

This raindrop detecting method shortens the time interval of updating past output values of a photoelectric conversion element 9 used for judging rain from B to A, if, when judged as fair weather, the rate of rising of environment temperature surrounding a light emitting element 8 and the photoelectric conversion element 9 is equal to or higher than a prescribed value. - 特許庁

スクリーン３の印刷パターン形成部４ａと重なる部分を除去するようにしたコンビネーション印刷用版の製造方法において、上記スクリーン３の印刷パターン形成部４ａと重なる部分３′を、所定の温度に熱せられた熱線９を押し当てることにより溶断除去する。例文帳に追加

In the method for manufacturing the combination printing plate in which an overlapped part with a printing pattern forming part 4a of the screen 3 is eliminated, the overlapped part 3' with the printing pattern forming part 4a of the screen 3 is cut by fusion and eliminated by pressing a hot wire 9 heated at a specified temperature thereon. - 特許庁

被処理水中に含まれる溶存フッ素イオンを除去する方法において、（ｉ）アルミニウムイオンと（ii）カルボキシル基含有親水性高分子物質及び／又はその加水分解生成物の存在下で、ｐＨを５〜９に調整することによって、該溶存フッ素イオンを難溶性物質として沈殿させることを特徴とするフッ素イオンの除去方法及びそれに用いる除去剤。例文帳に追加

The method of removing the dissolved fluoride ions included in the water to be treated is characterized in that (i) the dissolved fluoride ions are precipitated in the form of hardly soluble materials by regulating their pH to 5 to 9 in the presence of (i) aluminum ions and (ii) a carboxy group- containing hydrophilic polymer material and/or its hydrolysis product and the removing agent used for the same. - 特許庁

「安土殿（または御局）」が彼女であった場合、慶長17年7月9日(旧暦)（1612年7月26日）に78歳で逝去、「養華院殿要津妙玄大姉」という法名で大徳寺総見院に埋葬されている事となる。例文帳に追加

And if 'Azuchi-dono (or Mitsubone)' were Nohime, it would mean that she died on July 26, 1612, at age of 78 and was buried at Soken-in Temple, which stands in the compound of Daitoku-ji Temple, under the Buddhist posthumous name of 'Yokainden Yoshinmyo Daishi.'  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

このため9世紀から10世紀にかけて、従来は祓いで済んでいたケガレ除去の方法が、陰陽道の影響もあり物忌み中心に変わってきていることが確認されている。例文帳に追加

Accordingly, the way of muck removal had been changed; it is confirmed that from the ninth century to the tenth century, purificatory asceticism was mainly applied, under the influence of Onmyodo (way of Yin and Yang; occult divination system based on the Taoist theory of the five elements), instead of former purification.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

層間絶縁膜９の表面位置からキャップ層４が凸状に突き出ている場合には、セリア系スラリーを用いたＣＭＰ法によってキャップ層４は除去される。例文帳に追加

When the cap layer 4 is projecting convexly from the surface position of the interlayer dielectric 9, the cap layer 4 is removed by CMP employing ceria based slurry. - 特許庁

不溶分除去工程後に、ペプチド類を分画する工程を有する下記式（１）〜（９）で表されるＬ−アミノ酸配列からなるいずれか１種のペプチドの製造方法。例文帳に追加

The invention relates to the method for producing either one of peptides with the amino acid sequences represented by formulas (1)-(9) described below, by a process fractionating the peptides after removal of the insoluble components. - 特許庁

バナジウム含有水を架橋度９％以上のカチオン交換樹脂と接触させてバナジウムを除去することを特徴とするバナジウム含有水の処理方法。例文帳に追加

The method is characterized by contacting the vanadium- containing water with the cation exchange resin having the cross-linking degree of 9% or more to remove vanadium. - 特許庁

次いで、このレジストフレーム７内に電極膜４を電極として、フレームメッキ法により金属メッキ膜８を形成し、レジストフレーム７を溶解除去することにより金属パターン層９を形成する。例文帳に追加

A metallic plating film 8 is formed in the resist frame 7 by a frame plating method using the electrode film 4 as an electrode and the resist frame 7 is dissolved and removed to form a metallic pattern layer 9. - 特許庁

その後、絶縁性保護被覆５を除去し、後はセミアディティブ法と同様に、めっきレジストパターン９を利用して、電解銅めっきにより配線パターン10を形成する。例文帳に追加

Afterwards, the insulating protecting coating 5 is removed, and a wiring pattern 10 is formed by electrolytic copper plating by using a plated resist pattern 9 in the same way as a semi-additive method. - 特許庁

次に、第２マスク１０’および第１マスク９’をマスクに用いたエッチングにより、硬化層Ｓを含む第１絶縁膜７を除去することで、接続孔１２を掘り下げることを特徴とする半導体装置の製造方法である。例文帳に追加

Next, by etching with using the second mask 10' and the first mask 9' as masks, the first insulating film 7 containing the hardening layer S is removed, whereby the connection hole 12 is dug down. - 特許庁

さらに、廃水のｐＨを７〜９に調整して油分の一部を圧力浮上法により分離除去後、前記廃水のｐＨを３以下に調整して残部の油分を分離することが好ましい。例文帳に追加

Further, it is preferable that after adjusting the pH of the waste water to 7 to 9 and separating and removing a part of the oil by the pressure floatation method, the oil of the remaining part is separated by adjusting the pH of the waste water to 3 or less. - 特許庁

接続孔８ｃの中及び絶縁膜上に導電膜を形成し、さらに、絶縁膜８ａ上に位置する導電膜をＣＭＰ法で除去することにより、接続孔８ｃに導電体９を埋め込む。例文帳に追加

A conductive film is formed in the contact hole 8c and on the insulating film, and a conductor 9 is buried in the contact hole 8c by removing the conductive film located above an insulating film 8a by CMP. - 特許庁

本発明のもう１つの実施例は、電力レール１０に電力を印加することにより、不良減結合コンデンサ４に接続されたヒューズ９を飛ばし、不良減結合コンデンサ４を除去する方法である。例文帳に追加

Another embodiment of the invention is a method for removing the failed decoupling capacitor 4 by applying power to the power rail 10 thereby blowing out the fuse 9 connected with the failed decoupling capacitor 4. - 特許庁

この表面に所要の罫書き画線（９）を印字したのち真空負荷を除去し、脱型してゴム板（２）を収縮・復元させる方法で印刷版下原稿（５）を得る。例文帳に追加

After necessary rule-writing picture lines (9) are printed on the surface, a vacuum load is eliminated, and the printed block copy manuscript (5) is obtained by a method for contracting/restoring the rubber plate (2) by demolding. - 特許庁

層間絶縁膜２から突出したＷ層８の上部のみＴｉ層９、ＴｉＮ層１０をＣＭＰ法で除去し、その後にＡｌ合金層１１を形成して配線パターンを形成する。例文帳に追加

Only in the upper portion of the W layer 8 protruding from an interlayer insulation film 2, a Ti layer 9 and a TiN layer 10 are removed by a CMP method, and then an Al alloy layer 11 is formed to form an interconnection pattern. - 特許庁

本実施の形態のエッチング方法は、被エッチング材である導電箔１１に積層されたマスク材９の表面にレジスト１０を形成する工程と、レジスト１０をパターニングする工程と、レジスト１０をマスクとして用いてマスク材９をエッチングする工程と、レジスト１０を除去する工程と、マスク材９を介して被エッチング材である導電箔１１をエッチングする工程とを含む。例文帳に追加

The etching method comprises the steps of: forming a resist 10 on the surface of a masking material 9 layered on an electroconductive foil 11 of a material to be etched; forming a pattern on the resist 10; etching the masking material 9 by using the resist 10 as a mask; removing the resist 10; and etching the electroconductive foil 11 of the material to be etched, through the masking material 9. - 特許庁

車両洗浄機の水洗浄部１２ｃに後続して設置される仕上水塔１２ｄと、逆浸透膜法によって原水からシリカ等の不純物を除去するシリカ除去装置１と、これから得られるＲＯ処理水を貯留する処理水槽９と、原水等を貯留する原水槽９Ａとを備えるシリカ除去システムである。例文帳に追加

This system is provided with a finishing water tower 12d succeeding to a water washing part 12c of a vehicle washing machine, a silica- removing device 1 which removes impurities such as silica from a raw water by the reverse osmosis membrane method, a treatment water tank 9 storing the RO treated water obtained from the device and a raw water tank 9A storing the raw water. - 特許庁

除去抑制層１５が設けられたグリーン成形体１４の外表面上に、開口１６が形成されたレジスト材１３を形成し、レジスト材１３をマスクとして、サンドブラスト法によって、除去抑制層１５が露出するまで、グリーン成形体１４の所定部分を除去し、得られた構造物１８を焼成して、誘電体ストリップ６，７およびウイング部８，９を有する焼結体１９を得る。例文帳に追加

A sintered body 19 having dielectric strips 6 and 7 and wind parts 8 and 9 is obtained by forming resist material 13 with an opening 16 formed thereon on the outer surface of a green compact 14 provided with an elimination suppression layer 15, eliminating the prescribed part of the compact 14 with the material 13 as a mask by a sand blasting method until the layer 15 is exposed and firing and obtained structure 18. - 特許庁

２　第三十四条第二項の命令により本邦から出国した送出受刑者に対して入管法第四十七条第五項、第四十八条第九項又は第四十九条第六項の規定により退去強制令書が発付されていた場合には、当該送出受刑者は、同法第五条第一項第五号の二、第九号及び第十号の適用については、当該退去強制令書により本邦からの退去を強制された者とみなす。この場合において、同法第五条第一項第九号中「退去した」とあるのは「出国した」と読み替えるものとする。例文帳に追加

(2) When a written deportation order provided for in paragraph (5) of Article 47, paragraph (9) of Article 48 or paragraph (6) of Article 49 of the Immigration Control Act has been issued to an outgoing sentenced person who has left Japan pursuant to an order provided for in paragraph (2) of Article 34, he or she shall be deemed to have been deported from Japan by a written deportation order with regard to the application of items (v-2), (ix) and (x) of paragraph (1) of Article 5 of the Immigration Control Act. In this case, the "deportation" in item (ix) of paragraph (1) of Article 5 of the same act shall be deemed to be replaced with "departure".  - 日本法令外国語訳データベースシステム

しかし、17日夜に八条院、18日に上西門院・亮子内親王が法住寺殿を去り、北陸宮も逐電、入れ替わるように後鳥羽天皇、守覚法親王、円恵法親王、天台座主・明雲が御所に入っており、義仲への武力攻撃の決意を固めたと思われる。例文帳に追加

However, on the night of January 8, Hachijoin left Hojuji-dono Palace, on January 9, Josaimonin and the Imperial Princess Ryoshi left, Hokuroku no miya ran away, and, as if to replace them, Emperor Gotoba, Cloistered Imperial Prince Shukaku, Cloistered Imperial Prince Ene, and Myoun of Tendai-zasu (head priest of the Tendai sect) entered the Imperial Palace, and judging from the move, it is considered that Goshirakawa had made up his mind to attack Yoshinaka.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

被処理水中に含まれる溶存フッ素イオンを除去する方法において、アルミニウムイオン、リン酸イオン及び必要に応じてカルボキシル基含有親水性高分子物質及び／又はその加水分解生成物の存在下で、ｐＨを６〜９に調整することによって、該溶存フッ素イオンを難溶性物質として沈殿させることを特徴とするフッ素イオンの除去方法。例文帳に追加

In the method of removing the dissolved fluorine ions included in the water to be treated, the pH of the water is regulated to 6 to 9 in the presence of aluminum ions, phosphoric acid ions and, if necessary, a carboxyl group-containing hydrophilic polymer material and/or hydrolysis product, by which the dissolved fluorine ions are precipitated as hardly soluble materials. - 特許庁

第五十一条　第四十七条第五項、第四十八条第九項若しくは第四十九条第六項の規定により、又は第六十三条第一項の規定に基づく退去強制の手続において発付される退去強制令書には、退去強制を受ける者の氏名、年齢及び国籍、退去強制の理由、送還先、発付年月日その他法務省令で定める事項を記載し、かつ、主任審査官がこれに記名押印しなければならない。例文帳に追加

Article 51 A deportation order issued pursuant to the provisions of Article 47, paragraph (5), Article 48, paragraph (9) or Article 49, paragraph (6), or in accordance with the deportation procedures pursuant to the provisions of Article 63, paragraph (1), shall contain the full name, age and nationality of the alien subject to deportation, reason for deportation, destination, date of issuance of the deportation order, and other matters as provided for by a Ministry of Justice ordinance, and the name and seal of a supervising immigration inspector shall be affixed thereto.  - 日本法令外国語訳データベースシステム

(3) 第 9条から第 13条までに違反して特許発明を実施する者に対し，被侵害者は，特許の対象である製品の回収又は販売経路からの確定的除去を請求することができる。第 1文の規定は，製品が特許の対象である方法によって直接に製造されているときにも適用される。例文帳に追加

(3) Any person who uses a patented invention in contravention of Sections 9 through 13 can be sued by the injured party for recall of the products that are a subject matter of the patent or for their definitive removal from the distribution channels. The provision of sentence 1 is also to be applied where products are concerned that have been directly made by a process that is a subject matter of the patent.  - 特許庁

その後ベースより濃度が高くベースとは逆導電型の不純物をイオン注入法等で導入し、不純物が単結晶シリコン領域に入り込むような熱処理工程前にエミッタ領域となる直上部分以外を除去し、熱処理で不純物を単結晶シリコン中に拡散させエミッタ領域を形成する。例文帳に追加

Then, the silicon oxide film and the silicon nitride film are masked and a selective silicon oxide film 9 is grown by thermal oxidation, a base region 10 and a collector compensation region 11 are formed at a part other than the region of the selective silicon oxide film 9, and a second-conductive type emitter region 16 is formed in the base region 10. - 特許庁

マイクロ構造体アレイ9は、基板5の平坦な面上にマスク層6を形成し、マスク層6に複数の開口部7を形成し、開口部7より基板5のエッチングを行うことにより微小突起を有する基板5を形成し、マスク層6を除去し、化学的析出法を用いて基板5上に析出層8を形成するプロセスで作製される。例文帳に追加

The microstructure array 9 is manufactured by forming a mask layer 6 on the flat surface of a substrate 5 and forming a plurality of aperture parts 7 in the mask layer 6, and the substrate 5 in etched through the aperture parts 7 to form the substrate 5 having fine projections and removing the mask layer 6 to form a precipitation layer 6 on the substrate 5 using a chemical precipitation method. - 特許庁

その後、開口部１０を含む犠牲層間絶縁膜９上の全面にストレージノード電極形成用のポリシリコン膜１１を形成した後、犠牲層間絶縁膜９上のポリシリコン膜１１を化学機械研磨法により除去して、開口部１０内のみに凹部形状を有するポリシリコン膜１１ａを残置する。例文帳に追加

Then, after a storage node electrode forming polysilicon film 11 is formed on the whole surface of the interlayer dielectric 9 including the openings 10, polysilicon films 11a having recessed shapes are only left in the openings 10 by removing the polysilicon film 11 formed on the interlayer dielectric 9 by chemical mechanical polishing. - 特許庁

外容器の内部に合成樹脂製の内容器３を収めた複合容器１の容器開口部５を密閉し、密閉容器内にイオン化した空気を噴射する静電気除去エアガン９により空気を送り込むと共に、エアフィルターにて塵や埃を除去しつつ空気を空気排出口１０から外部に取り出す複合容器の清掃方法。例文帳に追加

In this cleaning method, a vessel opening 5 of the composite vessel 1 containing the synthetic resin inner vessel 3 inside the outer vessel, is sealed, air is sent into the sealed vessel by a destaticization air gun 9 jetting ionized air, and dust is eliminated by an air filter to take out air from an air discharge port 10 to the outside. - 特許庁

塩化水素および／または塩素を含有するガス中に含まれる硫黄化合物を、周期律表の８族、９族若しくは１０族の金属および周期律表の８族、９族若しくは１０族化合物の中から選ばれる少なくとも１種類の金属または化合物と接触させる硫黄化合物の除去方法。例文帳に追加

The method comprises contacting sulfur compounds in a gas containing hydrogen chloride and/or chlorine with at least one metal or compound selected from metals of the groups 8, 9 and 10 in the periodic table and their compounds. - 特許庁

開示される光電気配線基板の製造方法は、光導波路５を用いて光電気配線基板９を製造する場合、予め製造した光導波路基板６を電気配線基板７上に貼り合わせた後に、光導波路基板６の支持基板１のみを除去する。例文帳に追加

In the method of manufacturing the photoelectric wiring board, only supporting boards 1 of optical waveguide boards 6 is removed after the optical waveguide boards 6 previously manufactured are bonded to an electric wiring board 7, when the photoelectric wiring board 9 is manufactured by using the optical waveguides 5. - 特許庁

鋼リベット桁の補修方法において、鋼リベット桁のリベット３，６，６を撤去し、そのリベット孔７，８，９に鉄筋１０を設置し、その鉄筋１０の周りにコンクリートを流し込んでコンクリート形成体１１となし、堅牢なジベル化合成桁を構築する。例文帳に追加

The steel rivet girder repairing method is carried out by removing rivets 3, 6, 6 of the steel rivet girder, installing reinforcements in the rivet holes 7, 8, 9 , and pouring concrete around the reinforcements 10 to form a concrete formed body 11, thus constructing the strong doweled composite girder. - 特許庁

また、本不快害虫駆除方法は、発泡機３により安定した泡を発生させて、厨房の床面９に供給、滞留させ、不快害虫の死滅の後、水で洗い流すことで排水溝１０に集まり、効率的に除去することができる。例文帳に追加

In the method for exterminating the unpleasant vermin, stable foams which are generated by a foaming machine 3 are supplied to the floor 9 of the kitchen and allowed to stay thereon, then washed away after the vermin perishes, and finally collected into a drain 10, so that the foams can be efficiently removed. - 特許庁