「W-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(203ページ目) - Weblio英語例文検索

Consequently, the heat pipes 3 which are respectively connected to the laminated heating elements 22 on one end sides can be connected in parallel to a common heat radiating body on the other end sides without causing them to overlap each other by securing their widths W.例文帳に追加

この結果、積み重ね配置の各発熱体２２に一端部をそれぞれ接続した各平板型ヒートパイプ３は、その幅Ｗを保持しつつかつ互いに重複させることなく並行させて、他端部において放熱体に共通接続させることができる。 - 特許庁

The method of drying dewatered cake of sludge, is characterized in that a W/O type emulsion polymer or an aqueous dispersion polymer which contains a high molecular flocculating agent of 5wt.% or more is added to the dewatered cake when the dewatered cake of sludge is dried by the drier.例文帳に追加

汚泥の脱水ケーキを乾燥機で乾燥するに際し、脱水ケーキに高分子凝集剤を５重量％以上含有するＷ／Ｏ型エマルジョンポリマー又は水分散型ディスパージョンポリマーを添加することを特徴とする汚泥の脱水ケーキの乾燥方法。 - 特許庁

In the housing 2 of the wafer processing apparatus 1, a plating-liquid supply means 19 that supplies plating liquid to a surface of the wafer W, a slurry supply means 20 that supplies slurry, and a cleaning liquid supply means 21 that supplies cleaning liquid, are installed.例文帳に追加

さらに、ウエハ処理装置１のハウジング２には、ウエハＷの被メッキ面にメッキ液を供給するメッキ液供給手段１９と、スラリを供給するスラリ供給手段２０と、洗浄液を供給する洗浄液供給手段２１とが配設されている。 - 特許庁

The work defective attitude detecting means 19 has a forward and backward member 20 freely moving forward and backward in the workpiece delivery direction, and detects the workpiece defective attitude from the forward and backward position of the forward and backward member 20 caused when the attitude is different from a predetermined workpiece W attitude.例文帳に追加

このワーク姿勢不良検出手段１９はワーク受渡し方向に進退自在な進退部材２０を有し、所定のワークＷの姿勢とは異なる場合に生じる前記進退部材２０の進退位置によりワーク姿勢不良を検出する。 - 特許庁

A pressing device comprises an upper die 7 fixed to an elevating/lowering side part of a press machine 1 and a lower die 8 fixed to a fixed side part of the press machine 1, and further comprises a pressing unit to press a work W in cooperation with the upper die 7 and the lower die 8.例文帳に追加

プレス成形装置は、プレス機１の昇降側部位に固定される上型７と、プレス機１の固定側部位に固定される下型８を備えると共に、上型７と下型８との協働によりワークＷをプレス加工する加工部がそれぞれ形成されてなる。 - 特許庁

The base-like part 19 is disposed between the harness fixing piece 18 and the nearest mounting hole 17 and the wire harness W defines the extending direction so as to extend along almost in parallel to the lower face 25a of the terminal fixing plate 15.例文帳に追加

台状部１９は、ハーネス固定片１８と最も近い位置にある装着孔１７との間に設けられ、ハーネス固定片１８から延出するワイヤハーネスＷが、端子固定板１５の下面１５ａにほぼ平行に延びるように延出方向を規制するものとする。 - 特許庁

In the workpiece clamp position detection means 72, the value obtained when the detected value of the tailstock spindle position detection means 39 has ceased to change with the tailstock spindle 19 brought near the end of the workpiece W by the tailstock spindle drive means 38 is taken as the workpiece clamp position Z3.例文帳に追加

このワーククランプ位置検出手段７２は、心押軸駆動手段３８により心押軸１９をワークＷの端部に向かって近づかせたときに、心押軸位置検出手段３９の検出値に変化が無くなったときの値をワーククランプ位置Ｚ３とする。 - 特許庁

In a method for molding the optical disk substrate or the like, a part of a stamper to be used, that is, an interior and/or a rear surface is constituted of a heat insulation layer made of a heat insulation material having a thermal conductivity of 94 W/m.K of a polyimide, a polyamideimide, ceramics, bismuth or the like.例文帳に追加

光ディスク基板等の成形方法において使用するスタンパの一部、すなわち内部及び／または裏面が、ポリイミド、ポリアミドイミド、セラミクス、ビスマス等の熱伝導率が９４Ｗ／ｍ・Ｋより小さい断熱材料からなる断熱層で構成されている。 - 特許庁

Respective supporters 3 to 6 are arranged in terms of linear symmetry against a line E orthogonal to an insertion direction of the wafer W, and a plurality of wafer supporting bodies 8 to 11 are protrusively formed so that they face an insertion center point O of the wafer from respective sides of the supports.例文帳に追加

ウエハＷの挿入方向に直交する線Ｅを線対称にして各支柱３〜６が配置されると共に、各支柱の側面よりウエハの挿入中心点Ｏに向くように複数のウエハ支持体８〜１１が突出して形成されている。 - 特許庁

This handrail device is provided with a fitting base material 1 fastened and fixed on the wall face W, a plurality of brackets 2 capable of fitting to an arbitrary longitudinal position of the fitting base material 1, and the handrail body 3 fixedly supported to handrail fixing portions 23 provided in the respective brackets 2.例文帳に追加

壁面Ｗ上に締着固定される取付基材１と該取付基材１に対してその長手方向の任意の位置に取付け可能とされた複数個のブラケット２と、該各ブラケット２に設けた手摺固定部２３に固定支持される手摺体３とを備える。 - 特許庁

The plurality of operation pedals P1 to P4 juxtaposed in the lateral direction on a front floor 20 of an operation seat 16 of the pedal operation device 22, include operation pedals P1 and P2 having an expanding-contracting part K capable of freely expanding and contracting a lateral width W of a pedal tread T.例文帳に追加

ペダル操縦装置（２２）の、運転席（１６）前方の床（２０）上の左右方向に並設された複数個の操作ペダル（Ｐ１〜Ｐ４）が、ペダル踏面（Ｔ）の左右幅（Ｗ）を自在に拡縮可能な拡縮部（Ｋ）を有した操作ペダル（Ｐ１、Ｐ２）を含んでいる。 - 特許庁

In the case the X-ray detected dose of the observed reference channel is larger than the specified rate of the reference X-ray dose determined by a scanning condition (step S106), the present aperture width W is narrowed by a prescribed micro width ΔW (step S107).例文帳に追加

そして、注目リファレンスチャネルのＸ線検出量がスキャン条件によって定まる基準Ｘ線量の所定の割合より大きい場合には（ステップＳ１０６）、現在の開口幅Ｗを所定の微小幅Δｗだけ狭める（ステップＳ１０７）。 - 特許庁

A carriage 23 is controlled to move in a direction containing a Y-axis component so that a turning tool mounted to a tool spindle 25 moves along a horizontal direction Yt which is orthogonal to a Z-axis so as to turn a processed work W attached on a work spindle.例文帳に追加

工具主軸２５に取付けされた旋削加工工具が、Ｚ軸と直交する水平方向Ｙｔに沿って移動するように、キャレッジ２３をＹ軸方向成分を含む方向に移動制御して、ワーク主軸に取着された加工ワークＷに対して旋削加工する。 - 特許庁

The optical disk device 1 generates the pull-in signal PI1 by eliminating the influence of stray light pattern W formed by interlayer stray light beam LN from a plurality of recording layers Y, and accurately performs focus jump and focus control.例文帳に追加

これにより光ディスク装置１は、複数の記録層Ｙからの層間迷光ビームＬＮによりそれぞれ形成される迷光パターンＷの影響を排除したプルイン信号ＰＩ１を生成でき、精度良くフォーカスジャンプ及びフォーカス制御を行うことができる。 - 特許庁

Evaporated particles are deposited on a surface of a substrate while turning the substrate W in the plane, and changing the angle of inclination of the substrate with respect to the evaporation source so that the angle of incidence of the evaporated particles with respect to the surface of the substrate is continuously changed.例文帳に追加

そして、基板Ｗを面内で回転させるとともに、基板の表面に対する蒸発粒子の入射角が連続的に変化するように基板の傾斜角を蒸発源に対して変化させながら、基板の表面に蒸発粒子を堆積させる。 - 特許庁

The elastic switch member 72 has a pressure receiving projected part 75 which is in contact with a fitting plate 3 and deforms elastically to push the member 73 when it receives pressure from the fitting plate 3 while the PIR sensor 1 is fixed onto a wall W.例文帳に追加

この弾性スイッチ部材７２は、取付プレート３に当接する受圧突起部７５を備えており、このＰＩＲセンサ１を壁面Ｗに固定した状態で受圧突起部７５が取付プレート３からの押圧力を受けて弾性変形してスイッチ作動部材７３を押し込む。 - 特許庁

When the limit W is larger than the amount (X+U+V) in which the account receivable balance U and the order reception balance V of the corresponding customer at this point are added to the amount X (X_1 or X_2) of an article, the system allows the order reception or the shipment of the article.例文帳に追加

そして、この与信限度額Ｗが、商品の金額Ｘ（Ｘ_1又はＸ_2）にこの時点における当該取引先の売掛残高Ｕと受注残高Ｖとを加算した金額（Ｘ＋Ｕ＋Ｖ）を超えるとき、受注又は出荷を許可している。 - 特許庁

Since the p-type surface diffusion part 206 has a depth d of 4μm and a width w of 2μm, a relatively wide crosstalk width is provided even against the incident light of short wavelength to allow detection of deviation in incident light across a relatively wide range.例文帳に追加

Ｐ型表面拡散部２０６は、４μｍの深さｄを有すると共に２μｍの幅ｗを有するので、短波長の入射光に対しても比較的広いクロストーク幅が得られて、比較的広い範囲に亘る入射光のずれを検出できる。 - 特許庁

In a measuring error removing step, a forecasted characteristic value wherein only the measuring error ν among the process errors w and measuring errors ν is removed from the measuring characteristic value can be computed with a measuring error removing unit 14, on the basis of the computed characteristic value and the measured characteristic value.例文帳に追加

計測誤差除去工程では、計測誤差除去部１４によって、演算特性値と計測特性値とに基づいて、プロセス誤差ｗおよび計測誤差νのうち計測誤差νだけを計測特性値から除去した予測特性値を演算することができる。 - 特許庁

And also, an insertion-coupling part 11 which is shaped so as to insertion-couple with the mounting part 21 fitted on the connector W is formed on the top surface 10a, and a rod-like part 13 extended in a direction substantially parallel to the side face 10b is formed on a tip of the side face 10b.例文帳に追加

また、上面部１０ａには、コネクタＷに設けられた取付部２１と嵌合する形状になされた嵌合部１１が形成され、側面部１０ｂの先端には、側面部ｂと略平行する方向に延びる棒状部１３が形成されている。 - 特許庁

This deposition method consists in forming the film of the copper by depositing the copper particles sputtered from a target 16 made of the copper arranged in a vacuum treatment chamber 12 onto a semiconductor wafer W supported by a substrate supporting means 18 in this vacuum treatment chamber 12, in which gaseous hydrogen is supplied from a gaseous hydrogen supply source 32 to the vacuum treatment chamber 12 during the deposition of the copper particles.例文帳に追加

本発明は、真空処理チャンバ１２に配置された銅製のターゲット１６からスパッタリングされた銅粒子を、この真空処理チャンバ１２内の基板支持手段１８により支持された半導体ウェハＷ上に堆積させ銅の膜を形成する成膜方法において、銅粒子の堆積中に水素ガスを水素ガス供給源３２から真空処理チャンバ１２に供給することを特徴としている。 - 特許庁

In the delivery route of the substrate product W which is subjected to plating treatment while being delivered in the plating liquid A, the diameter of each nozzle hole 7 and intervals between the nozzle holes 7 are relatively smaller for those formed on plating liquid-ejecting nozzle pipes 6 located in the second half of the delivery route than for those formed on the nozzle pipes 6 located in the first half.例文帳に追加

メッキ液Ａ中を搬送されながらメッキ処理される基板製品Ｗの搬送経路中、前半の搬送経路に配置されたメッキ液噴出ノズル管６の各噴出口７の口径及び形成間隔に対して、後半の搬送経路に配置されたメッキ液噴出ノズル管６の各噴出口７の口径を相対的に小さく形成すると共に各噴出口の形成間隔を相対的に狭く形成した。 - 特許庁

In the micro projection assembly 1A, a number of micro projections 11A are arranged in contact with each other so as to form a common contour, and a maximum width W of the micro projections 11A and a separation distance d between the adjacent micro projections 11A satisfy the following conditions 1 and 2: d≤40, and 2:0≤d/W≤0.8.例文帳に追加

輪郭等を線接触して共有するように多数のマイクロ突起１１Ａが配列されてなり、マイクロ突起１１Ａの最大幅Ｗ及び隣接するマイクロ突起１１Ａ同士の離間距離ｄが条件１及び２を満足するマイクロ突起集合体１Ａ、並びに、マイクロ突起１１Ａを、隣接するマイクロ突起１１Ａ同士が互いに異なる種類となるように分類したときに、同じ種類に分類される複数のマイクロ突起群それぞれを個別にマイクロ突起形成用樹脂組成物を塗布して形成するマイクロ突起群形成工程を有するマイクロ突起集合体１Ａ等の製造方法。 - 特許庁

The placing table structure is used to place the workpiece W and support it in the processing container 44 in order to supply a processing gas into the processing container 44 constituted to be vacuumed and apply processing to the workpiece W.例文帳に追加

真空引き可能になされた処理容器４４内に処理ガスを供給して被処理体Ｗに対して処理を施すために前記処理容器４４内で前記被処理体を載置して支持するための載置台構造において、前記被処理体を載置する載置面を有する載置台本体５０と、前記被処理体の移載時に前記被処理体を突き上げるために昇降可能になされた昇降ピン機構１０６と、前記被処理体を前記載置台本体上に載置している時に前記被処理体の周辺のエッジ部３８の下面を前記処理ガスに晒すために前記載置面に形成されたエッジ露出用段部１２２とを有する。 - 特許庁

To improve separating performances of a threshing apparatus by a simple structure by suppressing vortexes in separating wind W and by optimizing an air flow distribution and wind direction of the separating wind W in a separating wind supplyer of the threshing apparatus.例文帳に追加

グレンシーブ１２の下方に漏下する穀粒を回収する一番物回収部７を設け、その一番物回収部７とグレンシーブ１２との間で、グレンシーブ１２の下方前方に開口させた唐箕１の空気送出口３またはその近傍に、唐箕ファン２からの選別風Ｗを上下に分ける風向板４を、空気送出口３のほぼ全幅にわたって設けた脱穀装置の選別風供給装置における選別風Ｗの風量配分並びに風向きの最適化を図りつつ、簡単な構造で選別風Ｗに生ずる渦を抑制し、選別性能を向上する。 - 特許庁

In the strong adhesive gas barrier transparent film in which at least a transparent inorganic thin film layer is laminated via a transparent primer layer onto at least one side of a thermoplastic polymer film, the transparent primer layer is characterized in that existence of C, N, O, and Si is confirmed by ESCA analysis (analysis conditions: X-ray source monochrome AlKα, X-ray output 30 W).例文帳に追加

熱可塑性高分子フィルムの少なくとも片面に、透明プライマー層を介して透明無機薄膜層が少なくとも積層されている強密着ガスバリア透明フィルムであって、透明プライマー層は、ＥＳＣＡ分析（分析条件：Ｘ線源モノクロＡｌＫα、Ｘ線出力３０Ｗ）により、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｓｉの存在が確認されるものであることを特徴とする。 - 特許庁

A method for producing chlorine includes reaction which oxidizes hydrogen chloride in a hydrogen chloride-containing gas with an oxygen-containing gas in a fixed bed reactor having a reaction zone comprising a catalyst layer, wherein the catalyst layer shows an effective thermal conductivity on the basis of a catalyst packed bed of ≥0.30 W/(K m) as measured in an air atmosphere at 350°C.例文帳に追加

本発明の塩素の製造方法は触媒層からなる反応域を有する固定床反応器で、塩化水素を含むガス中の塩化水素を酸素を含むガスを用いて酸化する反応を含み、上記触媒層は、３５０℃、空気雰囲気下で測定される触媒充填層基準の有効熱伝導度が０．３０Ｗ／（Ｋ・ｍ）以上であることを特徴とする。 - 特許庁

In the press brake 1 to bend a work W by reciprocating either one of an upper table 5 mounted with a punch P and a lower table 9 mounted with a die D, details in bending is discriminated by detecting a displacement quantity of the reciprocating table 5 or table 9, based on the details in bending, a minute vibration start point is derived.例文帳に追加

パンチＰを装着した上部テーブル５と、ダイＤを装着した下部テーブル９とのいずれか一方を往復動せしめてワークＷに曲げ加工を行うプレスブレーキ１において、往復動するテーブル５又は９の変位量を検出して曲げ加工時の経緯を判断し、この曲げ加工の経緯において予め設定した微小振動開始点を導出する。 - 特許庁

In an ELID system grinding device having this constitution described above, even when a metallic component in a grinding wheel 1 and a metal work W are ionized and eluted in a circulated and fed coolant, the metallic ion is deposited and recovered to the surface of the cathode 31 and a metallic film is prevented from formation on a dressing electrode 15 and lowering of electrolytic capacity is effectively prevented from occurring.例文帳に追加

これにより、このような構成を備えたＥＬＩＤ方式の研削装置において、循環供給されるクーラント中に、砥石車１や金属ワークＷの金属成分がイオン化して溶出しても、この金属イオンは、陰極板３１の表面に析出回収されて、ドレッシング電極１５に金属皮膜を形成することはなく、電解能力の低下が有効に防止される。 - 特許庁

A w/o type emulsion prepared by mixing an aqueous solution containing a metal element capable of being nitrided with an inflammable liquid is sprayed and combusted in an atmosphere containing oxygen in the quantity smaller than oxygen demand necessary for completely combusting the inflammable liquid and forming a most stable oxide of the metal element and nitrogen atom is added in the combustion atmosphere at the time of the spray combustion.例文帳に追加

窒化可能な金属元素を含む水溶液を可燃性液体と混合して形成されたＷ／Ｏ型エマルジョンを、可燃性液体が完全燃焼しかつ金属元素が大気中で最も安定な酸化物を形成するために必要な必要酸素量より少ない酸素量を含む雰囲気中で噴霧燃焼し、噴霧燃焼時には燃焼雰囲気中に窒素原子を含ませる。 - 特許庁

In the method of manufacturing the transparent conductor by irradiating light on a transparent conductive material containing conductive particles, a photo-setting material, and a photo polymerization initiator and hardening the photo-setting material in the transparent conductive material; an irradiance of light in the transparent conductive material is to be 5 W/cm^2 or more.例文帳に追加

本発明は、導電性粒子、光硬化性材料、及び光重合開始剤を含む透明導電材料に光を照射して、透明導電材料中の光硬化性材料を硬化させ透明導電体を得る透明導電体の製造方法において、透明導電材料における光の放射照度を５Ｗ／ｃｍ^２以上とする、透明導電体の製造方法である。 - 特許庁

In a transparent conductive substrate for liquid crystal displays, an electric power of 1 W/cm^2 with a high frequency voltage above 100 kHz is supplied between facing electrodes to excite active gas into a plasma state; and a substrate is exposed in the active gas in plasma state to form a transparent conductive film on it.例文帳に追加

大気圧または大気圧近傍の圧力下において、対向する電極間に、１００ｋＨｚを越える高周波電圧で、かつ、１Ｗ／ｃｍ^２以上の電力を供給し放電させることにより、反応性ガスをプラズマ状態とし、前記プラズマ状態の反応性ガスに基材を晒すことによって透明導電膜を形成し、液晶表示装置用透明導電性基材とする。 - 特許庁

In the imaging apparatus for forming an electrostatic latent image on an image carrier using a charged writing unit 3 comprising a plurality of write electrodes 3b disposed along the axial direction of the image carrier 2 in contact with the image carrier or in the vicinity thereof, a basic material 3a being arranged with the write electrodes 3b is brought into resilient contact with the image carrier 2 over a nip width W.例文帳に追加

像担持体２の軸方向に沿って像担持体と接触または近接配置される複数の書込電極３ｂを備えた帯電書込装置を用いて像担持体上に静電潜像を形成する画像形成装置において、前記書込電極３ｂが配設される基材３ａを、像担持体２にニップ幅Ｗをもって弾性接触させる構成。 - 特許庁

For plasma cleaning in the processing container 10 in which a semiconductor wafer W is absent, a control unit 68 controls the first high-frequency power source 32 so that a first high frequency contributing to plasma generation alternates between a first period having a first amplitude for generating plasma and a second period having a second amplitude for substantially not generating the plasma in predetermined cycles.例文帳に追加

制御部６８は、半導体ウエハＷの無い処理容器１０内で行われるプラズマクリーニングに際して、プラズマ生成に寄与する第１の高周波が、プラズマを生成させる第１の振幅を有する第１の期間と、プラズマを実質的に生成させない第２の振幅を有する第２の期間とを所定の周期で交互に繰り返すように、第１高周波電源３２を制御する。 - 特許庁

In the anode 32 for electroplating which faces the coating surface of the substrate W and is arranged in a plating solution Q, a first insoluble anode 36 comprising a first insoluble material and a second insoluble anode 38 comprising a second insoluble material having an oxygen generation overvoltage different from that of the first insoluble material are electrically conducted to each other and arranged in a planar state.例文帳に追加

基板Ｗの被めっき面に対向してめっき液Ｑ中に配置される電気めっき用アノード３２であって、第１の不溶性材料から構成される第１の不溶性アノード３６と、第１の不溶性材料と酸素発生過電圧が異なる第２の不溶性材料から構成される第２の不溶性アノード３８とを、互いに導通させて平面状に配置した。 - 特許庁

The unpolished-rice germinating device 2 has the following: a germination tank 5 having airtightness allowing storage of an unpolished rice container having water permeability; a vacuum pump 6 reducing pressure in the germination tank 5; a water pump 7 for spraying hot spring water W to unpolished rice stored in the unpolished rice container; and an air cylinder giving horizontal oscillation to the unpolished rice container housed in the germination tank 5.例文帳に追加

玄米発芽装置２は、透水性を有する玄米容器を収容可能な気密性を有する発芽槽５と、この発芽槽５内を減圧する真空ポンプ６と、玄米容器に収容された玄米に対して温泉水Ｗを噴霧するための送水ポンプ７と、発芽槽５内に収容された玄米容器に水平揺動を与える空気シリンダとを有している。 - 特許庁

When water in the lumber is squeezed out from the lumber by compressing on outer surface of the lumber with liquid by arranging the lumber W in liquid L, the lumber is covered by an elastic component 11 to form water-collecting space 12 between the elastic component and the lumber, the lumber is compressed with the liquid, and the water discharged from the lumber is collected in the water-collecting space.例文帳に追加

液体Ｌ中に木材Ｗを配置して該木材外面を液体で圧縮することにより、木材内の水分を木材から絞り出す際に、前記木材を弾性部材１１で覆い、該弾性部材と木材間に集水空間１２を形成して前記液体により木材を圧縮し、該木材から排出される水分を前記集水空間に集める。 - 特許庁

An eddy current generated in a work W is increased with a magnetic field of a coil and the Joule heat generated in a portion is increased at near a specific portion Wb, by which the discontinuously formed portion 16B of a conducting wire winding shape to a fixed radius cylindrical portion 16A of an induction coil 16, is approached at the nearest position to the surface of the specific portion Wb in the work.例文帳に追加

インダクションコイル１６の、一定半径筒状の部分１６Ａに対し導線の巻き線形状が不連続に形成された部分１６Ｂが、ワークの特定部分Ｗｂの表面に最接近することで、かかる特定部分Ｗｂの近傍において、コイルの磁界によりワークＷに発生する渦電流が増加し、その部分に発生するジュール熱が増大する。 - 特許庁

The product guide 4 of rod which can prevent swinging of a sheet-shaped product W proceeding side-facingly and horizontally in a treatment solution A in a plating treatment tank 3, is arranged to be tilted downward or upward in the proceeding direction of the above sheet-shaped product so as not to shield always the same horizontal position against the sheet-shaped product proceeding between the product guides.例文帳に追加

メッキ処理タンク３内の処理液Ａ中を横向きで水平に進行されるシート状製品Ｗの揺れを防止できるようにした棒状の製品ガイド４を、この製品ガイド間を進行される前記シート状製品に対して常に同じ水平位置を遮蔽しないように前記シート状製品の進行方向に対して下方あるいは上方に傾斜させて配設した。 - 特許庁

High slidable sheet material 10 is arranged over the almost all area in the lateral direction the inclined surface 2d of the shelf board 2 inclined forward, thereby even containers W of a paper which hardly move forward smoothly move forward, and a plurality of partitioning boards partitioning the line of the commodities continuing in a longitudinal direction on the surface of the sheet material are detachably arranged in the shelf board 2.例文帳に追加

前方に向かって傾斜した棚板２の傾斜面２ｄの左右方向略全域にわたって高滑り性能のシート材１０を配設して、滑りにくい紙製の容器Ｗであっても前方への移動がスムーズに行えるようにし、棚板２にはシート材面上で前後方向に連なる商品列を仕切る仕切板が係脱自在に複数設けられている。 - 特許庁

In a drawing device in which a workpiece W is bent by dies P, D consisting of a punch P and a die D mounted on the upper and lower tables 9, 10, an auxiliary stopper 1 is installed on the side of the main stopper 3 arranged in the rear side of the lower table 10 and is made capable of projecting/retracting against the main stopper 3.例文帳に追加

上記課題を解決するため、上部テーブル９と下部テーブル１０に装着されたパンチＰとダイＤから成る金型Ｐ、ＤによりワークＷに曲げ加工を施す板金加工装置において、上記下部テーブル１０の後方に配置された主突当３の側方に、補助突当１を取り付け、該補助突当１を主突当３に対して突出引き込み可能とした。 - 特許庁

This copper alloy is the one contg. one or ≥ two kinds among Cr, W, Nb and Fe by 5 to 30 wt.% in total, and the balance copper with inevitable impurities, in which the crystallized products of the above elements to be added in the metallic structure are fibrously dispersed into the matrix by rolling, and the thickness of the rolled fibrous crystallized products is ≤1 μm.例文帳に追加

Ｃｒ、Ｗ、Ｎｂ、Ｆｅのうち１種または２種以上を合計で５〜３０重量％含有し、残部が銅および不可避不純物からなる銅合金箔であって、その金属組織における上記添加元素の晶出物が圧延によりマトリックス中にファイバー状に分散し、その圧延されたファイバー状の晶出物の厚さが１μｍ以下である。 - 特許庁

If a master card is taken out of a card holder after radio frequency identification (RFID) communication for verification, an R/W (reader/writer) unit stores identification information, included in an initial reflected wave from a monitoring tag to a call wave from a verification antenna, as third identification information in a RAM in the monitoring RFID communication performed between the monitoring tag and a monitoring antenna later.例文帳に追加

確認用のＲＦＩＤ通信が行われた後、マスターカードがカードホルダから引き抜かれると、Ｒ／Ｗユニットは、その後監視タグと監視アンテナとの間で行われる監視用のＲＦＩＤ通信において、確認アンテナからの呼出波に対する監視タグからの最初の反射波に含まれている識別情報を、第三の識別情報としてＲＡＭに記憶する。 - 特許庁

An approximately horizontal rotary cylinder 10 which melts aluminum Al alone while the small pieces of aluminum-containing waste W which are supplied from one end are moved approximately horizontally and continuously in approximately one direction toward the other end while being rolled and a heating furnace 20 which surrounds the cylinder 10 and transmits heat generated by burning fuel F indirectly to the waste W through the wall K of the cylinder 10 are provided.例文帳に追加

一端から供給された細片状のアルミニウム含有廃棄物Ｗを転動させながら、他端へ向かって略水平方向に連続的に略一方向に移動させる間に、アルミニウムＡＬのみを溶融する略水平の回転円筒体１０と，その回転円筒体１０を囲み、燃料Ｆを燃焼させることによって発生した熱を、前記回転円筒体１０の壁Ｋを介してアルミニウム含有廃棄物Ｗに間接的に伝える加熱炉２０とを備えている。 - 特許庁

Then, the holder secures the versatility even to the articles W having the different sheet thicknesses, as a result of allowing the spring 19 to necessarily compress the article W according to the sheet thickness, through setting in of the clip tool 20.例文帳に追加

被メッキ品Ｗにおける左右の縦辺を縦桟１６と押圧部材１８との間で挟持状にすると共に、押圧部材１８に設けたバネ１９で被メッキ品Ｗを縦桟１６へ押圧付勢させ、この状態のまま断面コ字状をしたクリップ具２０でこれらを肉厚方向両外側から挟持させる構造であるので、クリップ具２０の嵌め込みにより、バネ１９は必然的に被メッキ品Ｗの板厚に応じた圧縮を行うようになり、結果、板厚の異なる被メッキ品Ｗに対しても汎用性が確保できる。 - 特許庁