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element patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3332件
In the manufacturing method, the resist layer of a desired color is formed on an ultraviolet ray absorption layer 16 on the element of the substrate, pattern exposure 22 is then performed on a surface of the layer so as to form the slopes on the opposite side of the substrate with respect to a lateral side of the layer, and film hardening treatment is performed after developing the layer.例文帳に追加
製造方法は、上記基板の上記素子上の紫外線吸収層16の上に所望の色の上記レジスト層を形成後、この層の表面に現像後にこの層の側面に対し上記基板の反対側に上記斜面が形成されるようパターン露光22し、この層を現像後に硬膜処理を行なう。 - 特許庁
To provide the manufacturing method of an electric circuit for easily forming a high-precision pattern, and further to provide the manufacturing method of an organic thin film transistor capable of simply and effectively preparing a highly precise organic TFT element without the use of a vacuum system and a photolithographic technique and of suppressing variations in the elements to improve manufacturing stability.例文帳に追加
高精細なパターンを容易に形成する電気回路の製造方法、真空系やフォトリソグラフ技術を用いなくとも、精度の高い有機TFT素子を簡易かつ効率的に作成でき、素子のバラツキを抑制し、製造安定性を高めることができる有機薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁
A vapor deposition mask 12 is positioned between a vapor source 16 and a plastic substrate 10 and a vaporizing material from the vapor source 16 is selectively passed through an opening matching the pattern of a vapor deposition layer of an EL element formed on the mask 12, to form the vapor deposition layer on the plastic substrate 10.例文帳に追加
蒸着マスク12を蒸発源16とプラスチック基板10との間に配置し、蒸着マスク12に形成されているEL素子の蒸着層のパターンに応じた開口部によって選択的に蒸発源16からの蒸発物質を選択的に通過させてプラスチック基板10上に蒸着層を形成する。 - 特許庁
To provide a surface treatment method for changing the charge injection efficiency of a transparent conductive film and, in turn, granting a desired luminescent pattern thereto, the transparent conductive film with a surface modified by using the same having selectively high-luminance luminescent regions and non-luminescent regions, and a charge injection luminescence element.例文帳に追加
透明導電性膜の電荷注入効率を選択的に変化させ、もって所望の発光パターンを付与する表面処理方法、かかる方法により表面改質され、高輝度の発光領域と非発光領域とを選択的に有する透明導電性膜及び電荷注入型発光素子を提供する。 - 特許庁
In the manufacturing method of the plane heating element in which an aluminum foil laminated on the insulating board is etched in a given pattern, carbon paste is printed, current input terminals are coupled in parallel, and the aluminum foil laminated on the insulating board is etched by tempering step by step.例文帳に追加
絶縁基板に積層されたアルミニウムホイルを所定のパターンでエッチングし、カーボンペーストをプリンティングした後、電流入力端子を並列に連結する面状発熱体の製造方法において、絶縁基板に積層されたアルミニウムホイルを段階的にテンパリングしてエッチングすることを特徴とする面状発熱体の製造方法。 - 特許庁
When the government accounting slip is issued from an operator's terminal, the classification server 2 searches and extracts the record 16 having the string attaching element part 17 agreed with or approximating to the procedure description contents including the budget item from the conversion table 9 and issues the account item classification slip based on data in the classification pattern part 18.例文帳に追加
仕訳サーバ2は操作者端末から官庁会計伝票が発行されるとその予算科目を含む手続き記載内容と一致又は近似の紐付け要素部17を有するレコード16を変換テーブル9から検索して抽出し、仕訳パターン部18のデータに基づいて勘定科目仕訳伝票を発行する。 - 特許庁
To provide a heterojunction bipolar transistor that can be selectively etched, can adopt an HBT layer structure containing a semiconductor material with improved adhesion with a mask pattern, forms a guard ring with improved reproducibility without losing the easiness of a guard ring formation process, and has the improved reproducibility of HBT element characteristics, and its manufacturing method.例文帳に追加
選択エッチング可能であり、マスクパターンとの密着性の良好な半導体材料を含むHBT層構造を採用し、ガードリング形成工程の容易さを損なうことなくガードリングを再現性よく形成し、HBT素子特性の再現性が良好なヘテロ接合バイポーラトランジスタおよびその作製方法を提供すること。 - 特許庁
The target substance detecting element is used for detecting a target substance in a specimen using a plasmon resonance method and has a substrate, the metal thin film formed on the substrate, the dielectric layer formed on the metal thin film and the metal pattern layer formed on the dielectric layer.例文帳に追加
検体中の標的物質をプラズモン共鳴法を利用して検出するために用いられる素子であって、基板と、該基板上に形成された金属薄膜と、該金属薄膜上に形成された誘電体層と、該誘電体層上に形成された金属パターン層とを有する標的物質検出素子。 - 特許庁
The piezoelectric device 1 comprises a package 3 for containing a piezoelectric element 2, a TAB tape 5 contained in the package 3 and formed with a wiring pattern 8 on the lower surface 6A of an insulating tape 6, and an electrode 10 provided in a partial region of the upper surface 3Aa facing the lower surface 6A of the package 3.例文帳に追加
圧電デバイス1は、圧電素子2を収容するパッケージ3と、そのパッケージ3に収容され、絶縁テープ6の下面6Aに配線パターン8が設けられたTABテープ5と、パッケージ3のうち、下面6Aに対向する上面3Aaの一部の領域に設けられた電極部10とを備えている。 - 特許庁
To provide a fine vehicular lighting fixture structured so as to form a prescribed light distribution pattern by light radiation from a lighting fixture unit having a semiconductor light emitting element as a light source, and so as not to produce glare even if its surface shape goes around toward the rear side of a vehicle.例文帳に追加
半導体発光素子を光源とする灯具ユニットからの光照射により、所定の配光パターンを形成するように構成された車両用灯具において、その表面形状が後方へ回り込んでいる場合においても、グレアを生じることがない良好な車両用灯具を提供する。 - 特許庁
Because the value of the overcurrent counter corresponds to a remaining time before starting overload protection, the remaining time before activating overload protection is informed to a user (S140 to S230) by setting a lighting pattern of four display elements (LEDs) constituting a display section and controlling lighting of each display element, according to the value of the overcurrent counter.例文帳に追加
過電流カウンタの値は、過負荷保護を開始するまでの残り時間に対応するので、過電流カウンタの値に応じて、表示部を構成する4つの表示素子(LED)の点灯パターンを設定して、各表示素子を点灯制御することで、過負荷保護作動までの残り時間を使用者に通知する(S140〜S230)。 - 特許庁
This manufacturing method of the organic EL element at least has a process to form a barrier rib pattern on a transparent substrate, and a process to form a layer by transferring hole transport ink to an region surrounded by the barrier rib by a letterpress printing method, and the surface tension of the hole transport ink is 40 mN/m or less.例文帳に追加
透明基板上に隔壁パターンを形成する工程と、上記隔壁で囲まれた領域に凸版印刷法により正孔輸送インキを転写して層を形成する工程とを少なくとも有し、該正孔輸送インキの表面張力が40mN/m以下である有機EL素子の製造方法。 - 特許庁
A light, reflected from a finger as the subject irradiated with the light source 21 and pressed against a reading part, is transmitted through the transparent rotating roller 29, focused by the Selfoc lens 22 and subjected to photoelectric conversion by the one-dimensional image pickup element 24, and is further converted into image data representing a fingerprint pattern by an A/D conversion circuit.例文帳に追加
光源21から照射され読み取り部に圧接される被検体である指先において反射した光は、透明回転ローラ29を透過してセルフォックレンズ22により集光されて1次元撮像素子24により光電変換され、さらにA/D変換回路により指紋パターンを表す画像データとして変換される。 - 特許庁
To provide a highly precise mask structure, capable of obtaining a deposition pattern having high dimensional precision and in which a mask is fixed to a mask frame in a state with the tension being applied to the mask, while preventing deformation of the mask frame, and to provide a depositing method using the mask structure and a method of manufacturing an organic light-emitting element.例文帳に追加
本発明の目的は、高寸法精度の蒸着パターンを得ることができ、マスクフレームの変形を防止しつつマスクを張力が加えられた状態でマスクフレームに固定した高精度なマスク構造体およびそれを用いた蒸着方法、並びに有機発光素子の製造方法を提供することにある。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition which enhances resolution/adhesion by high-speed developability (of an unexposed portion) and excellent developer resistance (of an exposed portion), improves dispersibility in a developer, and suppresses foaming of an etching solution, a photosensitive element using the same, a method for producing a resist pattern and a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加
高速現像性(未露光部)と優れた耐現像液性(露光部)により、解像度・密着性を向上させ、また、現像液における分散性を良好にし、且つ、エッチング液の発泡を抑制する感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供する。 - 特許庁
In a method for inspecting the liquid crystal element manufactured by using two pieces of substrates on which electrodes or the like are formed, the two pieces of substrates are provided with an upper substrate and a lower substrate being larger than the upper substrate and a position of the upper substrate is inspected based on a pattern provided on the lower substrate.例文帳に追加
電極などが形成された2枚の基板を用いて製造される液晶素子の検査方法であつて、前記2枚の基板が、上基板と、前記上基板より大きい下基板を備え、前記下基板に設けたパターンにもとづいて、前記上基板の位置を検査する、液晶素子の検査方法。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition excellent in sludge removability while maintaining photosensitive characteristics such as sensitivity, resolution and adhesion, a photosensitive element using the resin composition, a method for forming a resist pattern and a method for producing a printed wiring board by which a printed wiring board of sufficiently high density can be obtained.例文帳に追加
感度、解像性及び密着性といった感光特性を維持したままスラッジ除去性に優れる感光性樹脂組成物、この樹脂組成物を用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び十分に高密度化されたプリント配線板を得ることが可能なプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁
In the EL element comprising a substrate which at least a heat-resistant temperature or a melting point is 800 degrees C or more, and the dielectric layer which is formed by thick-film calcination, the dielectric layer is formed in a rectangle pattern with a side length of 2 times or more and 30 times or less in film thickness.例文帳に追加
少なくとも耐熱温度ないし融点が800℃以上の基板と、厚膜焼成により形成された誘電体層を有するEL素子であって、上記誘電体層が少なくとも膜厚の2倍以上、30倍以下の長さの辺を有する矩形パターンに形成されている構成のEL素子とした。 - 特許庁
Transmission lines 3, 3 for drawing out the input and output signal of the semiconductor element 5 and an uncovered upper face ground metal pattern 4 isolated from the transmission lines 3, 3 and for covering the substantially whole face of the surface of the lower dielectric layer board 6 are provided on the surface of the lower dielectric layer board 6.例文帳に追加
下部誘電体層基板6の表面には、半導体素子5の入力及び出力信号を引き出すための伝送線路3・3と、伝送線路3・3とは絶縁されかつ下部誘電体層基板6の表面の略全面を覆う被覆されない上面グランドメタルパターン4とが設けられる。 - 特許庁
In the method for manufacturing the shielding type MR element provided with a magnetoresistive film comprising a free layer/a non-magnetic layer (barrier layer)/a fixed layer, after a vertical layer is formed on a lower electrode to be patterned and the magnetoresistive film is layered thereon to be patterned, an insulating layer is formed in the periphery of the magnetoresistive film pattern.例文帳に追加
フリー層/非磁性層(バリア層)/固定層を含む磁気抵抗効果膜を備えたシールド型MR素子の製造方法において、下電極上に縦バイアス層を形成してパターン化すると共に、磁気抵抗効果膜を積層してパターン化した後、磁気抵抗効果膜パターンの周囲に絶縁層を形成する。 - 特許庁
To prevent the reliability of electrical connections from lowering and prevent the problem of cost increases from occurring by reducing the number of electrical connection terminals and the number of conductive wires, restrain the size of a recording element board and wiring members from increasing by employing the appropriate structure of a recording head according to the use pattern of an ink used.例文帳に追加
用いるインクの使用形態に応じた適切な記録ヘッドの構成を採用することで、電気的接続端子数および導線数を削減し、記録素子基板および配線部材など各部の寸法増大を抑制し、電気的接続の信頼性が低下することもなく、かつコストアップの問題も生じないようにする。 - 特許庁
To provide an apparatus for forming inkjet pattern capable of manufacturing a color filter and an organic functional element of high quality free from quality deterioration due to density unevenness caused by variation of ink ejection amounts for each nozzle without changing driving voltage for each nozzle and without using inks having a plurality of concentrations.例文帳に追加
ノズル毎の駆動電圧を変更することなく、また複数の濃度のインクを用いることなく、ノズル毎のインク吐出量のバラツキによって発生する濃度ムラによる品質低下がなく、高品質なカラーフィルタ及び有機機能性素子を製造することができるインクジェットパターン形成装置を提供する。 - 特許庁
A solid state image sensor comprises a dummy electrode and dummy bumps 8 disposed together with original electrode pads and bumps 116 on a semiconductor substrate 104 for constituting a solid state image sensing element 4 in such a manner that the dummy electrode pads are connected to a corresponding dummy wiring pattern 10 on the substrate 104 via the bumps 8.例文帳に追加
固体撮像素子4を構成する半導体基板104には、本来の電極パッドおよびバンプ116とともにダミー電極パッドおよびダミーバンプ8が配置され、ダミー電極パッドはダミーバンプ8を介して半導体基板104上の対応するダミー配線パターン10に接続されている。 - 特許庁
A second sliding element 21, sliding on the second variable resistance circuit pattern VR2, is formed as to slide on both the annular resistance part 21 and annular current collecting part FR2, while two contacts 23a and 23b use the center between the annular resistance part VR21 and annular current-collecting part FR2 as a center.例文帳に追加
第2の可変抵抗回路パターンVR2を摺動する第2の摺動子21を、二つの接点23a,23bが円弧状の抵抗部VR21と円弧状の集電部FR2との中心を中心にして、円弧状の抵抗部VR21と円弧状の集電部FR2との上を摺動するように構成する。 - 特許庁
To enhance uniformity of film thickness distribution on a plurality of substrate faces in a vacuum vapor-deposition method in which an organic electroluminescent element is fabricated by using a mask for vapor-depositing the substrate and pixel pattern, and using a mask holder and a vapor deposition source provided with alignment mechanism in order to carry out positioning of the substrates and the masks.例文帳に追加
基板と画素パターンを蒸着するためのマスクと、基板とマスクの位置合わせをするためのアライメント機構を備えたマスクホルダと蒸着源とを用いて、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製する真空蒸着方法において、複数個の基板面内上での膜厚分布均一性を高める。 - 特許庁
To provide a board circuit block selecting device, a board circuit block selecting method and a board circuit block selection program which can easily and accurately select a desired function circuit block by easily and accurately selecting an element and a pattern desired by a user with a simple operation and designating an area in a circuit board such as a printed circuit board.例文帳に追加
プリント基板等の回路基板において、ユーザが望む素子、パターンを簡単な操作で容易かつ正確に選択して領域指定を行うことで所望の機能回路ブロックを容易かつ正確に選択する基板回路ブロック選択装置、基板回路ブロック選択方法および基板回路ブロック選択プログラムの提供。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a color conversion filter substrate capable of attaining an accurate pattern at low costs, without exerting adverse effects on the characteristics of a color conversion layer, when forming a transparent protection layer on the surface of the color conversion layer and pasting with an organic EL element substrate mounted with color conversion layer.例文帳に追加
色変換層表面に透明保護層を形成する際と、有機EL素子を搭載した有機EL素子基板と貼り合せる際とに、色変換層の特性に悪影響を及ぼすことなく、高精度なパターンを低コストで得ることができる色変換フィルタ基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁
The hologram lens manufacturing apparatus 1 irradiates the hologram recording element with the reference light beam L1 at a given incident angle as a predetermined irradiation condition to thereby record an interference pattern occurring between the irradiation light beam L2 and the reference light beam as a hologram.例文帳に追加
またホログラムレンズ作製装置1は、ホログラム記録素子15aに対して所定の照射条件である入射角度でホログラム記録素子15aに参照光ビームL1を照射することにより照射光ビームL2及び参照光ビームL1による干渉パターンをホログラムとして記録するようにする。 - 特許庁
The lens includes: a transparent substrate with a lens cavity of a prescribed depth in the surface of the substrate; and a lens element disposed in the lens cavity and having a first surface corresponding to the lens cavity and provided with a refractive surface and a second surface opposite to the first surface and with a diffraction surface formed by a diffraction grating pattern.例文帳に追加
その表面に所定深さの凹レンズ収容溝が設けられている透明基板と、前記レンズ収容溝内に設けられるものであって、前記レンズ収容溝に対応する第1面に屈折面が設けられ、その反対側の第2面に回折格子パターンによる回折面が形成されているレンズ要素とを備える。 - 特許庁
The printed wiring board is provided with a surface side radiation pattern 11 formed on the surface of the printed wiring board and consisting of a heat conductive member having the mounting area 11A on which the circuit element is to be mounted, and a plurality of through holes 13 pierced into the surface of the printed wiring board and having an inwall coated with a copper foil 13A.例文帳に追加
プリント配線基板は、当該プリント配線基板の表面に設けられ、回路素子が装着される装着領域11Aを有する熱伝導性部材からなる表面側放熱パターン11と、当該プリント配線基板の表面に穿設され、内壁に銅箔13Aが被覆される複数のスルーホール13とを備える。 - 特許庁
A data line 212x is stretched in a column direction in a folding pattern with four pixels extending from A line to D line as a cycle, is shared by use and surrounds periphery of the pixel electrode 234 which is shared by use at every pixel electrode and is connected with the pixel electrode 234 via a TFD element 220.例文帳に追加
データ線212xは、A〜D行にわたる4個の画素を1周期とする折返しパターンにて列方向に延在して共用されるとともに、共用する画素電極234の周辺を画素電極毎に囲んで、画素電極234に対してTFD素子220を介して接続されている。 - 特許庁
To effectively use the interiors of trench regions for a wiring, to contrive reduction in a chip size, to reduce the size of a cell pattern in the direction intersecting orthogonally a word line in the case where a semiconductor device is applied to the memory cell of a CMOS STRAM, and to enable the speedup of the STRAM in the device using a trench element isolation structure.例文帳に追加
トレンチ型素子分離構造を用いた半導体装置において、トレンチ領域の内部を配線のために有効に活用し、チップサイズの縮小化を図り、CMOS型のSRAMのメモリセルに適用した場合には、ワード線に直交する方向のセルパターン寸法を縮小化し、SRAMの高速化を実現する。 - 特許庁
To constrain deformation of housing frame, equipped with projection for positioning and fixing a circuit board or a circuit board base, even for a wide range of temperature changes inside an engine room, and to reduce the stress influence due to a flow rate measuring element, having a pattern of heating resistor installed on the circuit board.例文帳に追加
本発明の目的は、エンジンルーム内における広範囲な温度変化においても、回路基板を位置決め固定するための突起を備えたハウジング枠体あるいは回路基板支持体の変形を抑制し、回路基板に設けられた発熱抵抗体のパターンを有する流量計測素子への応力影響を低減することである。 - 特許庁
To provide an organic electroluminescent display having a life time of an element secured, without generating unevenness in the luminance by a voltage drop caused by an upper-part translucent electrode even in an enlarged size, and having a high production efficiency capable of forming an organic luminescent layer, without using a deposition mask having a precision open-hole pattern.例文帳に追加
素子の寿命を確保しつつ、上部透明電極に起因する電圧降下による発光輝度むらを大形化しても生じさせず、かつ精密な開孔パターンを持つ蒸着マスクを用いずに有機発光層形成可能な生産効率の高い有機EL表示装置を提供することである。 - 特許庁
An opening part 12a is formed based on a resist pattern formed in such a way that a part of a region where the opening part is formed is flatly overlapped with a part of one gate electrode 5 as the opening part where a surface of an element forming region 21 positioned in a region sandwiched with two gate electrodes 5 is exposed.例文帳に追加
2つのゲート電極5によって挟まれた領域に位置する素子形成領域21の表面を露出する開口部として、開口部が形成される領域の一部が平面的に一のゲート電極5の一部に重なるように形成されたレジストパターンに基づいて開口部12aが形成される。 - 特許庁
The method for press forming the optical element provided with fine pattern with ruggedness of 0.1-50 μm on an optically functional face with a pair of top and bottom mold members, is characterized in that the glass raw material is press formed at a room temperature and the mold members are kept at a temperature corresponding to 10^13-10^8 dPa.s of glass viscosity.例文帳に追加
0.1μm〜50μmの凹凸を持つ微細パターンを光学機能面に備えた光学素子を、上下一対の型部材により、プレス成形する方法において、ガラス素材を室温にて、また、前記型部材をガラスの粘度で10^13〜10^8 dPa・sに相当する温度で、プレス成形することを特徴とする。 - 特許庁
When a first semiconductor light-emitting element 4a of a first light source unit 3 is lit, the emission light is reflected toward a projection lens 2 side by a first reflector 5, then a part of the reflected light is blocked by a shade 6, and a low-beam light distribution pattern PL is formed having a cut-off line CL at an upper end edge.例文帳に追加
第1光源ユニット3の第1半導体発光素子4aを点灯すると、その出射光は第1リフレクタ5により投影レンズ2側に向けて反射され、その反射光の一部がシェード6により遮断されて、上端縁にカットオフラインCLを有するロービーム配光パターンPLが形成される。 - 特許庁
On the top surface of a 1st thin film electrode 2 of a capacity element constituted by forming the 1st thin film electrode 2 and a 2nd thin film electrode 3 on both the main surfaces of a dielectric plate 1 whose specific permittivity is 20 or larger, a resin insulating film 4 whose specific permittivity is 5 or less and an inductor pattern 5 formed of a thin film are laminated one after another.例文帳に追加
比誘電率が20以上の誘電体板1の両主面に第一の薄膜電極2と第二の薄膜電極3を形成して成る容量素子の第一の薄膜電極2の表面に、比誘電率が5以下の樹脂絶縁層4と薄膜から成るインダクタパターン5とが順次積層されて成る。 - 特許庁
Color filters of a plurality of colors are arranged basically under a first repetitive pattern in both row and column directions of a photoelectric conversion element array and a color filter is disposed separately from the first repetitive pattern such that color filters of the same color are disposed, respectively, above at least four photoelectric conversion elements which can be handled as one pixel in signal processing by performing vertical addition and horizontal addition of charges.例文帳に追加
光電変換素子列方向および光電変換素子行方向のいずれの方向についても基本的に第1の繰返しパターンの下に複数色の色フィルタを配列する一方で、電荷の垂直加算および水平加算を行って信号処理上1つの画素として扱うことのできる少なくとも4個の光電変換素子それぞれの上方に同色の色フィルタが配置されるように、前記第1の繰返しパターンから外れて配置されたパターン外色フィルタを配置する。 - 特許庁
At least one of the inward member 41, the outward member 43 and the rolling element 42 is made of the titanium material having the new phase 22 that a diffraction spot is present at a position deviating from that on a virtual line connecting together almost the centers of diffraction spots of adjacent parent phases on an electron diffraction pattern obtained by electron microscopy.例文帳に追加
そして、内方部材41、外方部材43及び転動体42のうちの少なくとも1つが、電子顕微鏡法によって得られた電子回折図形上で、隣り合う母相の回折斑点の略中心を結ぶ仮想線上から逸れた位置に回折斑点が存在する新相22を有するチタン材料から成っている。 - 特許庁
To provide a signal line and a cable for high speed transmission wherein attenuation of a signal of a low-frequency-component is enhanced, a waveform required for transmission of a high-speed transmission signal is maintained, and an additional element having the same function is not necessary so that the length of the signal line or the cable itself can be extended and a large eye pattern can be attained.例文帳に追加
信号線またはケーブル自身の長尺を可能にし、大きなアイパタンが得られるようにすべく、低周波成分の信号の減衰を大きくし、高速伝送信号の伝送に必要な波形を維持し、別に同様な機能を持った素子を不要にした高速伝送用信号線および高速伝送用ケーブルを提供することにある。 - 特許庁
In a radial tire having a tread pattern formed by arranging five kinds of pitch elements different in pitch length on the tread-circumference in the prescribed order, the ratio of a minimum pitch length P1 to a maximum pitch length P5 is set than 0.6, while a special element 5 with a pitch length P6 shorter than the minimum pitch length P1 is arranged at several places on the circumference.例文帳に追加
ピッチ長さの異なる五種類のピッチ要素をトレッド周上に所定の順序で配設してなるトレッドパターンを有するものにおいて、最大ピッチ長さP__5 に対する最小ピッチ長さP_1 の比を0.6以上とするとともに、最小ピッチ長さP_1 より短いピッチ長さP_6 の特異ピッチ要素5を周上の複数個所に配設する。 - 特許庁
An oxide semiconductor element includes: a gate electrode disposed on a substrate; a gate insulation layer including a recess structure; a source electrode disposed on one side of the gate insulation layer; a drain electrode disposed on the other side of the gate insulation layer; and an active pattern disposed on the gate insulation layer, the source electrode, and the drain electrode.例文帳に追加
酸化物半導体素子は、基板上に配置されるゲート電極と、リセス構造を含むゲート絶縁層と、ゲート絶縁層の一側上に配置されるソース電極と、ゲート絶縁層の他側上に配置されるドレーン電極と、ゲート絶縁層、ソース電極、及びドレーン電極上に配置されるアクティブパターンとを含むようにすることができる。 - 特許庁
To provide an image reader with which destruction of an element or peripheral circuit can be avoided by sufficiently removing static electricity on an object to be detected placed on a detection plane and the read operation of an image pattern on the object to be detected can be surely started (activated) without malfunction by satisfactorily detecting placing of the object to be detected on the detection plane.例文帳に追加
検知面に載置される被検出体に帯電した静電気を十分に除去して素子や周辺回路の破壊を回避することができるとともに、被検出体が検知面に載置されたことを良好に検出して、該被検出体の画像パターンの読取動作を誤動作なく確実に開始(起動)することができる画像読取装置を提供する。 - 特許庁
In order to optimize the impurity profile of a photodetection pixel of a solid-state image pickup element by colors that respective pixels take charge of, a sensor structure has a profile of multi-stage constitution increased in photoelectric conversion efficiency along the depth of a silicon substrate, by performing ion implantation of n+ impurities of a sensor divisionally a plurality of times while the energy and mask pattern are changed.例文帳に追加
固体撮像素子における受光画素部の不純物プロファイルを各画素が受け持つ色毎に最適化させるために、センサ部のn+不純物を複数回に分けてエネルギやマスクパターンを変えてイオン注入を行い、シリコン基板の深さ方向への光電変換効率を上げた多段構成のプロファイルを持つセンサ構造とする。 - 特許庁
The apparatus for detecting the incentive of the disease developing in the seizure state comprises a comparing and evaluating unit connected to a database dispersed in a patient's electronic chart and/or in a space to detect an unclear multiple factor incentive of the disease developing in the seizure state to execute a correlation analysis to detect a typical pattern in an aging occurrence of a stored data element after a seizure.例文帳に追加
発作状に発現する疾患の不明な多因子性誘因を検出するため、患者の電子カルテおよび/もしくは空間的に分散しているデータベースと接続され、記憶されているデータエレメントの継時的発生における典型的パターンを検出するための相関解析を発作後に行う比較評価装置が設けられる。 - 特許庁
The antenna assembly comprises a controller for controlling the excitation distribution of each sub-array composed of phased array antennas, and a controller for controlling the excitation distribution of each element antenna constituting the phased array antenna, so that a null point of the radiation pattern of the sub-array composed of phased array antennas is aligned with the length of a grating lobe to thereby reduce the grating lobe of all the array antennas.例文帳に追加
フェーズドアレーアンテナからなるサブアレー毎の励振分布を制御する装置に加え、上記フェーズドアレーアンテナを構成する素子アンテナ毎の励振分布を制御する装置を備えることで、フェーズドアレーアンテナからなるサブアレーの放射パターンの零点方向を、グレーティングローブの方向に一致させ、全アレーアンテナのグレーティングローブを低減する。 - 特許庁
A semiconductor element 8 is die-attached to a die pad 12, a bonding pad 20 is connected with a wiring pattern 5 on a substrate with a wire 7, a through-hole 11 is made with the die pad 12, and the die pad 12 is coupled thermally with a heat dissipation plane 3, being sandwiched by interior substrates 2 and a heat dissipation region 4 on the rear surface of the substrate.例文帳に追加
半導体素子8がダイパッド12にダイアタッチされており、ワイヤー7によってボンディングパッド20と基板上の配線パターン5とを結線し、ダイパッド12中にスルーホール11を形成し、内装基板2によって挟まれている放熱プレーン3および基板裏面の放熱領域4とダイパッド12とが熱的に接続されている構造とした。 - 特許庁
Further, an interference fringe forming optical system 70 projecting a prescribed interference fringe pattern onto the inspected surface 80 is disposed on an optical path between a light source 20 and a branching optical element 3 in order to prevent unnecessary light from being reflected from a partial area of the inspected surface 80 and entering an imaging system 4 when the measurement light is applied to the inspected surface 80.例文帳に追加
また、被検面80に測定光が照射されたときに被検面80の一部領域から反射されて撮像系4に入射する不要光の発生を防止するために、所定の干渉縞パターンを被検面80に投影する干渉縞形成光学系70を、光源部20と分岐光学素子3との間の光路上に配置する。 - 特許庁
To provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, satisfactory line width roughness and satisfactory density distribution dependency in microfabrication of a semiconductor element using actinic rays or radiation, particularly KrF excimer laser light, electron beams or EUV light, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加
活性光線又は放射線、特に、KrFエキシマレーザー光、電子線あるいはEUV光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインウィズスラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁
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