「in Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(978ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for forming the film includes a process for applying the coating liquid containing a melamine derivative, a resin having a functional group capable of reacting with the melamine derivative, a material having a hydrophobic group, and a solvent, onto the surface of the object and a process for reacting the melamine derivative with the resin contained in the coating liquid coated on the surface of the object.例文帳に追加

膜の形成方法は、メラミン誘導体、メラミン誘導体と反応することが可能な官能基を有する樹脂、疎水性基を有する材料及び溶媒を含む塗布液を物体の表面に塗布する工程と、物体の表面に塗布された塗布液に含まれるメラミン誘導体と樹脂を反応させる工程を有する。 - 特許庁

Here, even when a process for heat treatment is not specially performed additionally after the CeZrO film 125 is formed on the side face of the capacitor having been processed, heating is performed in a CVD process of forming an interlayer insulating film after the CeZrO film 125 is formed to supply oxygen to the PZT film 120 and the electrode of the capacitor.例文帳に追加

但し、加工後のキャパシタ側面にＣｅＺｒＯ膜１２５を形成した後に、熱処理の工程をあえて追加して行わない場合であっても、ＣｅＺｒＯ膜１２５の形成後に層間絶縁膜を形成するＣＶＤ工程において加熱が行われ、ＰＺＴ膜１２０およびキャパシタの電極に酸素供給が行われることとなる。 - 特許庁

The method for forming an inkjet image includes an ink application process to provide on a recording medium an ink composition containing a color material and water in an inkjet method to form an image and a processing solvent application process to provide on the image a processing solvent containing wax, water, and a color material at a content rate of less than 0.1 mass%.例文帳に追加

画像を、色材、および水を含有するインク組成物をインクジェット法で記録媒体上に付与して画像を形成するインク付与工程と、ワックス、および水を含有し、色材の含有率が０．１質量％未満である処理液を、前記画像上に付与する処理液付与工程と、を有するインクジェット画像形成方法で形成する。 - 特許庁

Also, the auxiliary food quality agent 1 harmoniously integrating the globefish skin collagen 2 with the Ume extract component 3 is produced through a collagen agitating and mixing process for agitating and mixing the globefish skin collagen 2 with pure water in a non-boiled and heated state, and an addition process for adding the Ume extract component 3 to the pure water to produce a collagen product 4.例文帳に追加

また、ふぐ皮コラーゲン２と梅抽出液成分３とを渾然一体にする食品品質補助剤１は、純水に対しふぐ皮コラーゲン２を未沸騰加熱状態で撹拌混合するコラーゲン撹拌混合工程と、前記純水に梅抽出液成分３を添加する添加工程とを経てコラーゲン生成物４を生成される。 - 特許庁

To solve a request of fine working of high quality having high pattern superposition accuracy without omission due to deformation of a pattern with a simple process/equipment scale in a reverse printing method for transfer onto a surface of a base material to be printed, which is developed instead of a photolithography method having problems of process complication and an increase of an equipment scale.例文帳に追加

工程の複雑化や設備規模の増加が問題となっているフォトリソグラフィー法に代わりに開発されている被印刷基材表面上へ転写する反転印刷法において、簡便な工程/設備規模で、パターンの変形による抜けが無く、パターン重ね合わせ精度が高く、高品質な微細加工の要求の解決を課題とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a peelable polyimide film laminate includes: a process of subjecting surfaces of polyimide films having benzoxazole skeleton in the molecule to plasma treatment so as to control the surface element ratio O/C to the range of 0.45 to 0.65; and a process of laminating the polyimide films subjected to plasma surface treatment by heating and pressing the films without allowing an adhesive layer to intervene between the films.例文帳に追加

分子中にベンゾオキサゾール骨格を有するポリイミドフィルムの表面をプラズマ処理して、表面元素比率Ｏ／Ｃを０．４５より大きく、０．６５以下に制御し、プラズマ表面処理された当該ポリイミドフィルム同士を、接着剤層を介することなく加熱加圧して積層することを特徴とする剥離性ポリイミドフィルム積層体の製造方法。 - 特許庁

A control unit controlling the actuator 130 in an imprint process controls an adjusting member of the vibration isolation system 150, and adjusts a dynamic characteristic of the vibration isolation system 150 during at least part of the imprint process to reduce a displacement of the support structure 140 relative to the base 160, the displacement being caused by a force acting the support structure 140.例文帳に追加

インプリント過程中にアクチュエータ１３０を制御する制御ユニットは、振動絶縁システム１５０の調節部材を制御して、インプリント過程の少なくとも一部の間、振動絶縁システム１５０の動特性を調節し、支持構造１４０に作用する力による、基部１６０に対する支持構造１４０の変位を低減させる。 - 特許庁

A predetermined position is calculated based on movement information of a mobile body when a predetermined condition for causing an effect to generate within an object space is satisfied, a process is performed for disposing the effect object toward the predetermined position from a position where the effect is generated in the object space, and a process for producing an image which can be viewed from the virtual camera is performed.例文帳に追加

オブジェクト空間内でエフェクトを発生させるための所定条件を満たした場合に、移動体の移動情報に基づいて、特定位置を算出し、オブジェクト空間において、エフェクト発生位置から特定位置に向かって、エフェクトオブジェクトを配置する処理を行い、仮想カメラから見える画像を生成する処理を行う。 - 特許庁

There is disclosed a method for producing a cell comprising a passage process in which passage of a cell adhered to a cell culture carrier is produced as a cell adhered to a new cell culture carrier, wherein the cell culture carrier and a new cell culture carrier contain a microcarrier (A) with a specific polypeptide (P), and the passage process is as follows.例文帳に追加

細胞培養担体に付着した細胞を新たな細胞培養担体に付着した細胞として継代させる継代工程を含む細胞の生産方法であって、細胞培養担体及び新たな細胞培養担体が特定のポリペプチド（Ｐ）を有するマイクロキャリア（Ａ）を含む細胞培養担体であり、継代工程が下記の工程である細胞の生産方法。 - 特許庁

In the mandrel with the composite material structure formed closely attached to an outer peripheral face, a rotation process of rotating a pair of support rings to position one segment to be removed to the highest part; and a segment removing process of removing the segment to be removed set on the highest part from the pair of the rings are performed.例文帳に追加

外周面に密着して複合材料構造物が形成されている状態のマンドレルにおいて、取外し対象である１個のセグメントを最上部に位置させるように、一対のサポートリングを回転させる回転工程と、最上部に位置した取外し対象の前記セグメントを、一対のサポートリングから取り外すセグメント取外し工程とが行われる。 - 特許庁

In the hydrogen generation material generating hydrogen by contact with water and generating water by contact with hydrogen, a hydrogen storage metal storing-releasing hydrogen by oxidation-reduction is used as a matrix, and at least one of substances selected from metals and metal oxides is added to the surface of the hydrogen storage metal by an ALD (Atomic Layer Deposition) process or an LPD (Liquid Phase Deposition) process.例文帳に追加

水の接触により水素を発生し、水素の接触により水を発生する水素発生材において、酸化還元によって水素を吸蔵・放出できる水素吸蔵金属を母材とし、前記水素吸蔵金属の表面に、金属又は金属酸化物の少なくとも一方の物質がＡＬＤ法又はＬＰＤ法を用いて添加されている。 - 特許庁

The method and apparatus for monitoring during a dynamic process determine when effective measurements of thermal effusivity and/or thermal conductivity are made during a part of a cycle during a calibration stage, then measure thermal effusivity and/or thermal conductivity during a subsequent dynamic process in dependence upon a time delay value and a measurement duration value until a desired value is obtained.例文帳に追加

動的プロセス中にモニタする方法及び装置は、熱浸透率及び／又は熱伝導率の効率的な測定が較正段階のサイクルの一部でいつ行われたかを判定し、所望の値が獲得されるまで時間遅延値及び測定持続値に基づいて次の動的プロセス中に熱透過率及び／又は熱伝導率を測定する。 - 特許庁

The method for manufacturing the epitaxial wafer includes an epitaxial layer forming step of forming an epitaxial layer on a silicon wafer and a polishing step of polishing the main surface of the epitaxial wafer, and further includes a storing step of storing the wafer in a liquid up to just before the start of the polishing process after the epitaxial layer forming process.例文帳に追加

シリコンウェーハ上にエピタキシャル層を形成するエピタキシャル層形成工程と、エピタキシャルウェーハの主面を研磨する研磨工程とを含むエピタキシャルウェーハの製造方法であって、エピタキシャル層形成工程後、研磨工程を行う直前まで、ウェーハを液体中で保管する保管工程を更に含むことを特徴とする、エピタキシャルウェーハの製造方法である。 - 特許庁

The sterilizing cleaning method of the indoor unit of the air conditioner includes a process of forming a thin film of hydrogen peroxide water by spraying mist of hydrogen peroxide water to the indoor unit of the air conditioner, and a process of exposing the indoor unit of the air conditioner with the thin film of the hydrogen peroxide water to ozone containing gas in this order.例文帳に追加

空気調和機室内機に過酸化水素水ミストを噴霧して過酸化水素水の薄膜を形成する工程と、前記過酸化水素水の薄膜が形成された空気調和機室内機をオゾン含有気体に曝す工程とをこの順序で含むことを特徴とする空気調和機室内機の殺菌洗浄方法とする。 - 特許庁

A CPU 56 executes, in a common processing routine (special symbol processing): a process from the start of variation of a first special symbol based on winning into a first start pocket 13 to the stop of a stopping symbol; and a process from the start of variation of a second special symbol based on winning into a second start pocket 14 to the stop of a stopping symbol.例文帳に追加

ＣＰＵ５６が、第１始動入賞口１３への入賞にもとづく第１特別図柄の変動開始から停止図柄の停止までの処理と第２始動入賞口１４への入賞にもとづく第２特別図柄の変動開始から停止図柄を停止するまでの処理とを共通の処理ルーチン（特別図柄プロセス処理）で実行する。 - 特許庁

In response to the movement of the process cartridge which occurs when the process cartridge is removed from the body of the electrophotographic image forming device, a coupling member, which is capable of inclined and parallel movement relative to the rotational axis of a flange member, enters a concave section of the body-side engaging section provided on the body of the device and receives rotational force from the body-side engaging section.例文帳に追加

電子写真画像形成装置本体からプロセスカートリッジを取り外す際のプロセスカートリッジの移動に応じて、フランジ部材の回転軸線に対し傾斜移動且つ平行移動が可能なカップリング部材が、前記装置本体に設けた本体側係合部の凹部の内側に進入し、本体側係合部から回転力を受ける。 - 特許庁

In the manufacturing method of a lithium ion secondary battery comprising a process for forming a laminate by laminating a cathode green sheet and an anode green sheet with an electrolyte green sheet pinched between, and a process for calcining the laminate, at least either the cathode green sheet or the anode green sheet contains an oxide crystal with lithium ion conductivity.例文帳に追加

電解質グリーンシートを挟んで、正極グリーンシート及び負極グリーンシートを積層して積層体を作製する工程と、前記積層体を焼成する工程と、を含むリチウムイオン二次電池の製造方法において、前記正極グリーンシート又は前記負極グリーンシートの少なくとも一方は、リチウムイオン伝導性の酸化物結晶を含む。 - 特許庁

The forming method of the carbon nanotube structure consisting of a carbon nanotube 3 and an insulating film covering the surface of the carbon nanotube comprises a first process for growing the carbon nanotube in a growing device and a second process for coating the surface of carbon nanotube with the insulating film before taking the carbon nanotube out of the growing device.例文帳に追加

カーボンナノチューブ３と、前記カーボンナノチューブの表面を被覆する絶縁膜とからなるカーボンナノチューブ構造体の形成方法において、前記カーボンナノチューブを成長装置内で成長する第１の工程と、前記カーボンナノチューブを前記成長装置から取り出す前に、前記カーボンナノチューブの表面を絶縁膜で被覆する第２の工程とからなる。 - 特許庁

To provide a waste water treatment method for treating waste water containing fluoride ions discharged from a semiconductor manufacturing process or a liquid crystal display manufacturing process without using a chemical agent or using a minimum amount of the chemical agent to obtain waste water free from fluoride ions and capable of recovering fluoride ions as hydrofluoric acid in a factory.例文帳に追加

半導体製造工程や液晶ディスプレイ製造工程等から排出されるフッ化物イオンを含有する排水を薬剤を使用することなく、あるいは最小限の使用により処理して、フッ化物イオンが除去された排水を得ると共に、フッ化物イオンをフッ化水素酸として工場内回収できる排水処理方法を提供すること。 - 特許庁

This method of processing a sample for inspection in inspecting the quality of the semiconductor crystal includes at least an automatic cleaning process 400 for automatically cleaning the sample for inspection, and an automatic heat treatment process 500 for automatically performing the heat treatment to the cleaned sample for inspection.例文帳に追加

半導体結晶の品質を検査する際の検査用サンプルを処理する方法であって、少なくとも、前記検査用サンプルを自動的に洗浄する自動洗浄工程４００と、該洗浄された検査用サンプルを自動的に熱処理する自動熱処理工程５００とを含むことを特徴とする半導体結晶検査用サンプルの自動処理方法。 - 特許庁

The method for producing the thermosetting resin having a benzoxazine ring structure includes (1) a process for reacting a bifunctional phenol compound, a diamine compound, and an aldehyde compound in a mixed solvent of an aromatic nonpolar solvent and a 1-4C alcohol and (2) a process for cleaning the reaction solution with a basic aqueous solution after the reaction is completed.例文帳に追加

本発明は、（１）二官能フェノール化合物と、ジアミン化合物と、アルデヒド化合物とを、芳香族系の非極性溶媒と炭素数が１〜４であるアルコールとの混合溶媒中で反応させる工程と、（２）反応終了後、反応溶液を塩基性水溶液で洗浄する工程とを含む、ベンゾオキサジン環構造を有する熱硬化性樹脂の製造方法、に係る。 - 特許庁

At the mastering process 1, two key reading flags are recorded on a straight line passing a rotational center of the optical disk, and at the key information detecting process 2, each information in the preset track range is taken out among informations of each track positioned on the straight line connecting these flags and detected as reproduction permitting intrinsic information to the optical disk.例文帳に追加

マスタリング工程１では光ディスクの回転中心を通る直線上に、２つのキー読み取りフラグを記録し、キー情報の検出工程２では、これらのフラグを結んだ直線上の位置にある各トラックの情報のうち、予め設定したトラック範囲の各情報を取り出して、光ディスクの固有の再生許可情報として検出する。 - 特許庁

In the former process, a still image hold identifier for notifying a receiver of holding of a still image of the identifier is transmitted to a still image identifier transmission section 13, and a still image reception process is ended.例文帳に追加

ここで、静止画識別子管理エリア１４に保持している識別子と比較し、識別子が一致した場合、静止画識別子を、不一致の場合、静止画不一致識別子を静止画受信制御部２２へ渡し、一方の処理は、その識別子の静止画の保持を受信相手へ知らせるため静止画保持識別子を静止画識別子送信部１３へ渡し静止画の受信処理を終了する。 - 特許庁

This method for adjusting a timing in a semiconductor integrated circuit comprise a process for retrieving a part where it is possible to facilitate countermeasures to a hold error to be generated between flop flops and a hold error countermeasures part retrieving process for preventing any hold error to be generated between flop flops by applying a delay value for the hold error value to the optimal hold error countermeasures part.例文帳に追加

半導体集積回路におけるタイミング調整方法であって、フリップフロップ間に発生しているホールドエラー対策が適用可能な箇所を検索する工程と、最適なホールドエラー対策箇所に対してホールドエラー値分のディレイ値を与えて、フリップフロップ間に発生しているホールドエラーを解消するホールドエラー対策箇所検索工程とを含む。 - 特許庁

In the surface wave excitation plasma CVD device 100, a material gas comprising silicon element is introduced into a chamber 1 by at least one of an upper surface side introduction tube and a side surface side introduction tube 7, and a process gas which makes material gas cause chemical reaction by activation by surface wave excitation plasma P is introduced into the chamber 1 by a process gas introduction tube 5.例文帳に追加

表面波励起プラズマＣＶＤ装置１００は、シリコン元素を含む材料ガスを上面側導入管および側面側導入管７の少なくとも一方によりチャンバー１内に導入し、表面波励起プラズマＰにより活性化して材料ガスに化学反応を起こさせるプロセスガスをプロセスガス導入管５によりチャンバー１内に導入する。 - 特許庁

The dishwasher/dryer 1 for executing a washing process by jetting washing water to dishes by a washing pump 12 is provided with a current detection means 15 for the washing pump 12 and the dish stain detection means 21a for judging the the stain degree of the dishes on the basis of the current value change amount or current value of the washing pump 12 in the washing process.例文帳に追加

洗浄ポンプ１２により洗浄水を食器に噴射して洗浄工程を実行する食器洗い乾燥機１において、洗浄ポンプ１２の電流検出手段１５と、洗浄工程における洗浄ポンプ１２の電流値変化量または電流値に基づいて食器の汚れ具合を判断する食器汚れ検出手段２１ａを備えた。 - 特許庁

An installation program makes a computer 10 perform an OS version acquisition process for acquiring version information of the OS used for the computer 10 to be an installation target, and a correspondence check process for determining whether or not the OS of the computer 10 is a corresponding OS based on corresponding OS information recorded in a CDROM 1 and the acquired version information.例文帳に追加

インストールプログラムは、インストール対象のコンピュータ１０に用いられているＯＳのバージョン情報を取得するＯＳバージョン取得処理と、ＣＤＲＯＭ１に記録された対応ＯＳ情報、及び取得されたバージョン情報に基づき、コンピュータ１０のＯＳが対応ＯＳであるか否かを判断する対応チェック処理とをコンピュータ１０に実行させる。 - 特許庁

The small size liquid process equipment can secure the process safety by supplying liquids for processing in accordance with the sequence of the less damage liquid processes to a wafer W, pure water, H2O2, and NH4OH when the wafer W is processed by supplying the liquid mixed with a plurality of liquids (NH4OH, H2O2, pure water).例文帳に追加

ウエハＷに複数の処理液（ＮＨ4ＯＨ，Ｈ2Ｏ2，純水）を混合した混合液を供給して処理するに当たって、混合液を供給する際、ウエハＷに与えるダメージの少ない処理液順、純水，Ｈ2Ｏ2，ＮＨ4ＯＨに供給することことにより、ウエハＷにダメージを与えることなく、処理の安全性を図ることができる。 - 特許庁

Further, since an end of the terminal connection part 35 is open-ended, a process of conducting between the center electrodes 2, 12 or between outer electrodes 4, 14, or even a process of securing insulation between the center electrodes 2, 12 and the outer electrodes 4, 14 are easily carried out, so that automatization is easy and rationalization of works is easier than in a conventional structure.例文帳に追加

また、端末接続部３５の一端が開放端となっているので、中心電極２、１２同士や外側電極４、１４同士を導通させる加工や、中心電極２、１２と外側電極４、１４との絶縁を確保する加工等がやり易く、機械化も容易に可能で、従来の構成よりも作業の合理化ができる。 - 特許庁

The method of manufacturing the optical recording medium provided with a recording layer containing organic dyestuffs on a substrate includes a recording layer forming process step of forming the recording layer containing the organic dyestuffs on the substrate and a pressurizing process step of holding the substrate provided with the recording layer for ≥0.5 second in a gaseous atmosphere pressurized by pressure above 19.6×10^4 Pa.例文帳に追加

基板上に有機色素を含む記録層が設けられた光学式記録媒体の製造方法であって、有機色素を含む記録層を基板上に形成する記録層形成工程と、記録層が設けられた基板を、１９．６×１０^4Ｐａ以上の圧力で加圧された気体雰囲気で０．５秒以上保持する加圧工程と、を含む。 - 特許庁

The production method for sodalite waste solid includes a process for collecting radioactive iodine gas with pellet-type or powder-type zeolite carrying silver and a process for obtaining sodalite type waste solid by putting the zeolite in a baking furnace and baking it under an atmospheric pressure at a temperature of 600 to 1,000°C for 1 to 8 hours.例文帳に追加

本発明のソーダライト廃棄物固化体の製造方法は、銀が担持されたペレット状又は粉末状のゼオライトで放射性ヨウ素ガスを捕集する工程と、ヨウ素ガスを捕集したゼオライトを焼成炉に入れてゼオライトを大気圧下、６００〜１０００℃の温度で１〜８時間焼成することによりソーダライト型廃棄物固化体を得る工程とを含む。 - 特許庁

To provide a T-die casting method for a polybutylene terephthalate (PBT) coextrusion film capable of casting the PBT coextrusion film not blocked at all when taken up and capable of preventing the damage of the PBT coextrusion film positioned on a surface in a printing process and a process for the lamination of a substrate with an article or the like as an additional merit, and a method for utilizing the PBT coextrusion film.例文帳に追加

巻き取られたフィルムは、全くブロッキングしないもので、また、付加的な長所として印刷工程，物品などの基体との貼合工程において、表面に位置するＰＢＴ系共押フィルムの傷防止を行うことができるポリブチレンテレフタレート系共押フィルムのＴダイキャスティング方法およびポリブチレンテレフタレート系共押フィルムの利用方法を提供する。 - 特許庁

This program execution system 10 is provided with a process map 16 in which a correspondence between a plurality of values as a branch condition and processing to be executed after branching is defined, a processing content determining part 12 for specifying concrete processing with reference to the process map 16 when branch conditions x, y and z are inputted, and a processing executing part 14 for executing the specified processing.例文帳に追加

分岐条件となる複数の値と、分岐後に実行されるべき処理との対応関係が定義されたプロセスマップ16と、分岐条件x,y,zが入力された場合にプロセスマップ16を参照し、具体的な処理を特定する処理内容決定部12と、特定された処理を実行する処理実行部14とを備えたプログラム実行システム10。 - 特許庁

In a radiant ray curing process and a baking process, the hardness distribution within a plane for the liquid crystal layer 12 is homogenized within a fixed range by homogenizing the distribution on the surface of the liquid crystal layer 12 related to each kind of manufacturing conditions (exoposure of radiantion, lighting intensity of radiant ray, oxygen density and hardening/baking temperatures) within a fixed range.例文帳に追加

なお、放射線硬化工程および焼成工程においては、各種の製造条件（放射線の照射量、放射線の照度、酸素濃度、硬化温度および焼成温度）の液晶層１２の表面での分布を所定の範囲で均一にすることにより、液晶層１２の硬度の面内分布を所定の範囲で均一にする。 - 特許庁

To provide a display device and an electronic appliance, which can realize a long service life of the display device, by preventing water from coming into organic EL layers and the organic EL layers from degenerating, and can form barrier layers in an organic EL element, by using not only a dry process but also a wet process, and a method of manufacturing the display device.例文帳に追加

バリア層を有機ＥＬ素子に形成する場合にドライプロセスだけではなく湿式法を用いても形成することができ、水分が有機ＥＬ層に侵入することを防いで、有機ＥＬ層の劣化を防いで、ディスプレイ装置の高寿命化を図ることができるディスプレイ装置、電子機器およびディスプレイ装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing the urethane foam molded article includes: a raw material casting process of injecting a raw material containing a foam urethane resin raw material, oil, the magnetic material particles, and the thermally-conductive particles into a cavity of a foaming mold; and a foam-molding process of foam-molding it while applying a magnetic field such that a magnetic flux density in the cavity be substantially uniform.例文帳に追加

また、ウレタン発泡成形体の製造方法を、発泡ウレタン樹脂原料と、オイルと、磁性体粒子と、熱伝導性粒子と、を含む原料を、発泡型のキャビティ内に注入する原料注型工程と、該キャビティ内の磁束密度が略均一になるように磁場をかけながら発泡成形する発泡成形工程と、を有するように構成する。 - 特許庁

The method of coating an outer peripheral material has the process of applying slurry for the outer peripheral material to the circumferential outer peripheral surface of a nearly cylindrical honeycomb substrate having two or more cells extending in the axial direction and a process of causing the honeycomb substrate to pass through an annular shaping member having a predetermined inner peripheral shape so as to shape an outer peripheral shape.例文帳に追加

本発明の外周材の塗布方法は、軸方向にのびる複数のセルをもつ略円柱状のハニカム基材の周方向の外周面に外周材スラリーを塗布する工程と、所定の内周形状を持つ環状の成形部材にハニカム基材を通過させて外周形状を成形する工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

A tomosynthesis X-ray imaging method includes a process for mechanically moving the X-ray source 3 in a stepped motion on an arc shaped path around an object using the tracks 5, 35, 45, and a process for irradiating the object with an X-ray dose from the X-ray source located at a plurality of steps along the arc shaped path.例文帳に追加

また、トモシンセシスＸ線撮像方法が、軌道（５、３５、４５）を用いて物体を中心とした円弧形経路上で段階的運動でＸ線源（３）を機械的に移動させる工程と、円弧形経路に沿った複数の段階に位置するＸ線源から一定のＸ線量で物体を照射する工程とを含んでいる。 - 特許庁

A RAM controller 2124 generates a data packet to be transferred, corresponding to an image process from image data stored in a RAM 2002 for the unit of a block, the generated same data packet is read out multiple number of times, according to the image process, and DMA transfer of the data packet is performed to an image output interface 2113 of an image processing part 2162.例文帳に追加

ＲＡＭコントローラ２１２４がＲＡＭ２００２に記憶される画像データから画像プロセスに応じた転送すべきデータパケットをブロック単位に生成し、該生成される同一のデータパケットを画像プロセスに応じて複数回読み出して、画像処理部２１６２の画像出力インタフェース２１１３にＤＭＡ転送する構成を特徴とする。 - 特許庁

The picture decoding method including decoding the quantized DCT coefficient, inverse quantizing of the decoded quantized DCT coefficient and the N×N two-dimensional inverse DCT uses an inverse quantizing-inverse DCT method, such that the output of an inverse quantizing process takes a DCT coefficient multiplied by N, and rules are defined for restoring a DCT coefficient at a specified accuracy from the DCT coefficient multiplied by N in the reserve DCT process.例文帳に追加

また、量子化DCT係数の復号と、復号量子化DCT係数の逆量子化と、N×Nの２次元逆DCTとを含む画像復号方法において、逆量子化処理の出力がN倍のDCT係数であり、逆DCT処理にてN倍のDCT係数を規定精度のDCT係数に復元する規則が定義されていることを特徴とする逆量子化・逆DCT方法を用いる。 - 特許庁

This structural body is formed on a substrate 1 by performing at least a process for forming a coating film 21 including the metal layer formed by electroless plating on a surface of a template 11 provided on the substrate 1 and a process for removing a part or all of the template 11 in a state of leaving a part or all of the coating film 21.例文帳に追加

少なくとも、基材１上に設けられた鋳型１１の表面に、無電解めっきにより形成される金属層を含む被覆膜２１を形成する工程と、前記被覆膜２１の一部または全部を残したまま、前記鋳型１１の一部または全部を除去する工程とを行うことにより、前記基材１上に構造体を形成する。 - 特許庁

The manufacturing method of a TFT has a process for forming semiconductor films 3a, 3b on a substrate 1 and has a process for implanting conductive impurities into the semiconductor films, by exposing the substrate to a plasma atmosphere 30 containing the conductive impurities for the semiconductor films in the state wherein at least a channel region of the semiconductor films is exposed to the plasma atmosphere.例文帳に追加

本ＴＦＴの製造方法は、基板１上に半導体膜３ａ，３ｂを形成する工程と、半導体膜の少なくともチャネル領域が露出した状態で、当該半導体膜に対する導電性不純物を含むプラズマ雰囲気３０中に基板を暴露して、導電性不純物を半導体膜に注入する工程を備える。 - 特許庁

In disposing the buffer sealant 6, a putting process is done for putting ceramic slurry, which contains at least ceramic powder and a binder, between the sensor element 2 and the insulator 3 on the end side of an element insertion hole 30, and a baking process for forming the buffer sealant 6 by baking the ceramic slurry.例文帳に追加

緩衝封止材６を配設するに当たっては、少なくともセラミック粉末とバインダとを含有してなるセラミックスラリーを素子挿通孔３０の先端側におけるガスセンサ素子２と絶縁碍子３との間に充填する充填工程と、セラミックスラリーを焼成することにより緩衝封止材６を形成する焼成工程とを行う。 - 特許庁

To provide a heat-resistant display panel applicable to ceramic industry, iron industry, fields requiring high temperature treatment processes like glass industry, a TV cathode-ray tube manufacturing process having processes of, e.g., sealing at 400-600°C or annealing, and to deposition materials exposed to high temperature in metallic product working process after hot rolling and heat molding.例文帳に追加

窯業、製鉄業、ガラス工業等の高温処理工程を必要とする工業分野、例えば４００〜６００℃の封入、焼き鈍し工程を有するテレビジョン用ブラウン管製造工程や熱圧延、熱成形後の金属製品の加工工程などで高温に曝される被着材料に対しても使用可能な耐熱表示ラベルを提供すること。 - 特許庁

The electrophotographic image forming apparatus is equipped with a fixing means to heat and fix a toner image onto a recording material by a heating body disposed as fixed and by a pressing member which is opposing and in contact with the heating body and rotates to press the recording material through a film material to the heating body after completing the developing process and the transfer process.例文帳に追加

現像工程及び転写工程を終了した後、固定設置された加熱体と、該加熱体に対向して圧接回転し、フィルム材を介して記録材を該加熱体に圧着させる加圧部材によりトナー像を該記録材上に加熱定着する定着手段を備えたことを特徴とする電子写真画像形成装置。 - 特許庁