「large pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

To simultaneously satisfy a trend of selecting a color close to a color of an original signal depending on the color of the original signal among 8 colors of CMYKRGBW and a trend of producing a large pattern, and to suppress stochastics moire.例文帳に追加

元の信号の色に応じて元の信号の色に近い色をＣＭＹＫＲＧＢＷの８色の中から選択する傾向と、大きなパターンを作らせようとする傾向と、を同時に満たし、かつ、ストキャスティックモアレを抑制する。 - 特許庁

Meanwhile, a stripe part S3 of the light-shielding pattern having a large window width is largely affected by flare light, side surface 13A of a protrusion part 13 has no hollow; and thereby, the canceling due to interference of oblique incident light is increased.例文帳に追加

一方、フレア光の影響が大きくなる窓幅の大きな遮光パターンのストライプ部Ｓ３では、凸部１３の側面１３Ａを窪ませていないことで、斜め入射光の干渉による打ち消し合いを多くしている。 - 特許庁

Mounting lands 2 on the printed wiring board 10, on which a grid array package is mounted are formed so as to be in ellipse in which the dimension is large in the pulling out wiring direction (usually in the direction of turning the inside toward the outside of the grid array) of a pattern.例文帳に追加

グリッドアレイパッケージが搭載されるプリント配線基板１０上の実装ランド２をパターンの引き出し配線方向（通常の場合はグリッドアレイの内側から外側に向かう方向）に沿って長尺な形状にする。 - 特許庁

Further in another embodiment, even when the pressure of the fluid arranged on the surface is relatively large, by using a characteristic part pattern of the closed-cell structure, permeation to the surface of the nanostructure or the microstructure is prevented.例文帳に追加

さらに別の実施形態において、表面上に配設される流体の圧力が比較的に大きい時でさえも、クローズドセル構造の特徴部パターンを用いて、ナノ構造またはマイクロ構造の表面の浸透が防止される。 - 特許庁

To obtain an alkali development type photocurable glass paste composition capable of stably forming a high-definition partition wall pattern onto a substrate for large-area plasma display panels in good yield and productivity without causing problems such as worsening of working environment.例文帳に追加

大面積のプラズマディスプレイパネル用基板上に、高精細の隔壁パターンを、作業環境の悪化等の問題もなく、歩留り良く、かつ生産性良く、安定して形成できるアルカリ現像型光硬化性を提供する。 - 特許庁

The optical waveguide having a square core part with a flat upper face of the core is produced by forming a groove pattern deeper than the core depth by a glass molding method and then filling the groove with a resin material having large cure shrinkage.例文帳に追加

ガラス成形工法によりコア部深さよりも深い溝形状を形成し、硬化収縮の大きい樹脂材料を充填することによって、コア部上面の平坦な矩形のコア部を有する光導波路を作製する。 - 特許庁

To provide a coloring composition which is high in dye content or high in sensitivity and excellent in pattern form even if a film thickness is large in an excimer laser exposing system for specific wavelengths, and a color filter using the composition.例文帳に追加

特定の波長のエキシマレーザ露光方式において、色素含有量が高い、あるいは膜厚が厚くとも、高感度であると共に、パターン形状に優れた着色組成物、およびそれを用いたカラーフィルタの提供を目的とする。 - 特許庁

In each of the pattern, the number of black pixels increases as the pixel value of the multi-level image becomes large, and further in some cases, although the pixels temporarily become black pixels, they may become white pixels when the pixel value further increases.例文帳に追加

このパターンは、多値画像の画素値が大きくなるにつれて黒画素が増えるものであり、さらに、多値画像の画素値の増加に従って一旦黒画素になっても、さらに画素値が増加したときに白画素となる場合がある。 - 特許庁

On the upper surface part of a third piezoelectric layer 23, a large number of inner electrodes 23A of the substantially same shape as that of the drive electrode 20A and the land pattern 20B are formed.例文帳に追加

また、第３圧電層２３の上面部には、前記各駆動電極２０Ａ及びランドパターン２０Ｂに対応する位置に、該駆動電極２０Ａ及びランドパターン２０Ｂとほぼ同じ形状の内部電極２３Ａが多数形成されている。 - 特許庁

To achieve an area sufficient for a large current by utilizing a nozzle plate as an electrode section of a side of a common electrode without complicating a structure of a wiring pattern.例文帳に追加

共通電極側の電極部分としてノズルプレートを利用することで、配線の構造を複雑にすることなく、大容量の電流を流すのに十分な面積を確保することができるノインクジェットプリンタ用ヘッドを提供する。 - 特許庁

To produce high precision zone patterns each having a large diameter, by reducing the effect of aberration in a projecting lens system in an exposure apparatus on each pattern as mush as possible in the case that divided plural patterns are arranged on one reticle.例文帳に追加

レチクル上に複数個に分割したパターンを配置する場合、各パターンが露光装置の投影レンズ系の収差の影響を受けることをできるだけ少なくして、大口径、高精度のゾーンパターンを製作することを可能にする。 - 特許庁

Consequently the 16 serial ball entrances 24 can be arranged in the lower portion of a near circular game area 21, the game area 21 can be expanded and the large pattern display or the special game device can be installed.例文帳に追加

これにより、略円形状の遊技領域２１における下部に１６連入球口２４を配置することができ、遊技領域２１を広くとることができ、大型の図柄表示装置や特別遊技装置等を設置することができる。 - 特許庁

To provide a guide bar drive unit increasing the moving range of a yarn guide, capable of conducting largely curved or meandered knitting and large-scale pattern knitting, also simplified in its own overall structure, thus contributing to weight reduction and space saving as well.例文帳に追加

糸ガイドの移動範囲を大きくでき、大きくカーブあるいは蛇行した編成、大きい柄の編成が可能で、かつ全体構造を簡略化でき、軽量化及び省スペース化にも寄与できるガイドバー駆動装置を提供する。 - 特許庁

A TV telephone manager 11 holds a definition table together with a small-screen update frequency to show the interval of executing small screen frame formation with respect to a user-selectable combination pattern of display data for the large and small screens.例文帳に追加

ＴＶ電話管理部１１は、小画面表示を行う場合に、小画面更新頻度に基づいて、画像変換部４に対し、小画面への画像データ表示に必要となる画像データのＲＧＢ化およびサイズ変換を間引く。 - 特許庁

To take a countermeasure against power supply noise efficiently by forming a capacitor at a desired position with no restriction of interconnection and to fabricate a capacitor of large capacity with a smaller area even in a finer pattern process technology.例文帳に追加

配線等の制約を受けることなく所望の位置にキャパシタを形成して電源ノイズ対策を効率的に行うことができ、微細化の進んだプロセス技術においても、より少ない面積でより大容量のキャパシタを構成する。 - 特許庁

This is because of the following reasons: In an ultraviolet region with a wavelength of 400 nm or less, the difference in reflectivity between a white ground and printed portions of the C, M, and Y colors becomes large, and concentration difference occurs among a plurality of patterns included in the test pattern.例文帳に追加

これは、波長４００ｎｍ以下の紫外域では、ＣＭＹ各色において白下地と印字部分との反射率差が大きくなり、テストパターンに含まれる複数のパターン間で濃度差が発生するためである。 - 特許庁

To provide a game machine capable of preventing the decline of a savor by allowing performance images to be displayed as large as possible, and making both of the pattern of a movable display body and the performance image be enjoyed almost simultaneously.例文帳に追加

可及的に大きな演出画像を表示できるようにすると共に、可動表示体の図柄と演出画像の両方を略同時に楽しませて興趣が低下するのを防止することができる遊技機を提供する。 - 特許庁

To provide a projection type video display device with which the respective characteristic points can be easily detected even in the case in which the number of characteristic points is large and the whole test pattern image cannot be taken by an image taking device.例文帳に追加

テストパターン画像の全体を撮像装置によって撮像することができず、特徴点の数が多いようなケースであっても、各特徴点を簡易に検出することを可能とする投写型映像表示装置を提供する。 - 特許庁

As shown in the diagram 11(C), the almighty pattern indicated by a mark A is inserted to patterns to be stopped at first and second, and in the case that the patterns are arranged at the almighty patterns, large winning is established and is recognized by a player.例文帳に追加

図１１（Ｃ）に示すように、Ａ印にて示すオールマイティー図柄を最初と２番目に停止する図柄中に挿入し、これらの図柄がオールマイティー図柄で揃った場合に大当りを確定し遊技者に認識させる。 - 特許庁

To provide an inspection device that determines reflection in a short time in detecting unevenness defects of an inspected object having a periodic pattern, and reduces the time for inspecting a large-area inspected body, and to provide an inspection method.例文帳に追加

周期性のあるパターンを持つ被検査体のムラ欠陥を検出する場合に、映り込みの判別を短時間に行うことが出来、さらに大面積の被検査体の検査時間を短縮する検査装置及び検査方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that the estimation precision is extremely deteriorated in a case having phase difference between a plurality of wave sources or in an environment having large measurement noise, in an SPM (sampled pattern matching) method which is the technique for estimating the source position of a radio wave leaking out from an electronic device.例文帳に追加

電子機器から漏洩する電波の波源位置を推定する技術であるＳＰＭ法は、複数波源に位相差がある場合や、計測ノイズが大きい環境では推定精度が著しく劣化することが知られている。 - 特許庁

A characteristics judging means 303 decides the set of characteristics suitable for pattern identification from a large amount of characteristics candidates generated by a characteristics candidate generating means 302.例文帳に追加

特徴決定手段３０３は、学習パターン記憶手段３０１に記憶されている各学習パターンを用いて、特徴候補生成手段３０２が生成する大量の特徴候補の中から、パターン識別に適した特徴のセットを決定する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional measuring instrument, a three-dimensional measuring method, and a three-dimensional measuring program capable of obtaining a large number of pattern optical information by one projection, and capable of obtaining three-dimensional information quickly and precisely.例文帳に追加

一回の投影で多くのパターン光情報を得ることができ、高速かつ高精度の三次元情報を得ることができる三次元計測装置および三次元計測方法ならびに三次元計測プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a stencil mask and an alignment apparatus used for the alignment of the stencil mask whereby the alignment marks of a wafer can be sensed even when Si is used in its pattern portion for depictions, and the large improvement of the accuracy of the alignment can be achieved.例文帳に追加

描画用のパターン部にＳｉを使用しても、ウエハの位置合わせマークが検出可能であり、位置合わせ精度の大幅な向上が達成できるステンシルマスク、及びその位置合わせに使用されるアライメント装置を提供する。 - 特許庁

To decrease the problems of a plurality of motions by detecting a large motion vector in the unit of one pixel or a small block, without increasing the calculation amount and preventing deterioration in accuracy of motion detection, so as to reduce errors due to repetitive pattern.例文帳に追加

計算量を増大させずに、１画素単位または小ブロック単位で、大きな動きベクトルを検出でき、また、動き検出の精度の低下を防止し、反復パターンによるエラーを低減し、複数動きの問題を低減する。 - 特許庁

When a large win based on a probability fluctuation pattern 333 occurs, the following game is changed into a probability fluctuation game condition, and LEDs 90 of number 1-16 are sequentially turned on and brightened in orange at predetermined intervals in the ascending order.例文帳に追加

確変図柄「３３３」による大当りが発生すると、その大当りが終了した次の遊技が、確変遊技状態に変化し、１番〜１６番のＬＥＤ９０が昇順に所定時間置きにオレンジ色に点灯して行く。 - 特許庁

If a jackpot cannot be easily made, the motion display control by unit of pattern with changed ordinary patterns similar to the probability variable patterns, in which the discrimination information is displayed large while the ornament information is displayed small, is executed to inform the player of the situation.例文帳に追加

なかなか大当りにならないとき、通常図柄の識別情報を大きく装飾情報を小さく表示する、確変図柄に似せた変更通常図柄による、図柄単位での動作表示制御を行ない、その旨を報知する。 - 特許庁

The shadow mask 100 on which a fluorescent pattern 103 is formed by patterning a fluorescent coating material prepared by incorporating fluorescent agent or luminous agent is produced on the side of a large hole opening mask 16a of the shadow mask.例文帳に追加

シャドウマスクの大孔開口マスク１６ａ側の大孔開口マスク１６ａ側に蛍光剤或いは蓄光剤を調合した蛍光体塗料をパターニング処理して蛍光体パターン１０３が形成されたシャドウマスク１００を作製する。 - 特許庁

To provide a laminated common mode choke coil which can secure a large area for patterning and forming a conductor pattern, greatly improve inductance value, and reduce floating capacity, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

導体パターンをパターンニング形成するための領域を大きく確保でき、インダクタンスを大値に向上できると共に、浮遊容量を低減することができる積層コモンモードチョークコイルおよびその製造方法を提供すること - 特許庁

To provide a method for manufacturing semiconductors in which the throughput of semiconductor device manufacturing can be improved by collectively exposing a large part of a signal wiring pattern to resist on a wafer by using only one block mask.例文帳に追加

ウエハ上のレジストに信号配線パターンの大部分を１個のブロックマスクを使用して一括露光できるようにし、半導体装置製造のスループット向上を図ることができるようにした半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a first step of etching a semiconductor substrate 3, anisotropic deep reactive ion etching is performed using a resist mask 59 having a large number of openings 88 of the same pattern at positions opposing to etching regions 87 independently partitioned to each other.例文帳に追加

半導体基板３をエッチングするに際し、まず、それぞれ独立に区画されたエッチング領域８７に対向する位置に同一パターンの開口８８を多数有するレジスト５９をマスクとして、異方性の深掘り反応性イオンエッチングする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing magnetic recording medium which can transfer a high-resolution pattern functioning as a starting point for forming anodized alumina nanoholes and a magnetic recording medium which has a large capacity and achieves high-density recording.例文帳に追加

陽極酸化アルミナナノホールの形成用起点として機能し得るパターンを高精細に転写可能で、生産性に優れた磁気記録媒体の製造方法、及び大容量で高密度記録が可能な磁気記録媒体の提供。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing color filter capable of inexpensively forming a light shielding layer and a colored pattern in such a satisfactory dimensional precision as to accommodate to a large screen and obtaining a high-definition color filter having no color irregularity without using a photolithography method with a mask.例文帳に追加

光遮蔽層、及び着色パターンを、マスクを使ったフォトリソグラフィ法を用いることなく、大画面にも対応し得る良好な寸法精度及び低コストで形成して、色むらのない高精細なカラーフィルタを得る。 - 特許庁

To provide a biaxially stretching lamination film for fine processing which is capable of easily molding a pattern of a high aspect ratio in a large area and is excellent in mechanical strength, to provide a manufacturing method of the biaxially stretching lamination film for fine processing, and to provide a molding processing sheet and a molding method of the molding processing sheet.例文帳に追加

高アスペクト比のパターンを大面積で容易に成形でき、且つ機械的強度に優れた微細加工用二軸延伸積層フィルム、および製法、成形加工シート、並びに成形方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a large degree of freedom of design of a pattern shape, to form a core part of high size precision in an easy method, to maintain optical transmitting performance without generating a defect even in case of bending, and to obtain superior durability.例文帳に追加

パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部を簡単な方法で形成することができ、曲げが作用した場合でも欠陥を生じることなく光伝送性能を維持し、耐久性に優れる。 - 特許庁

To provide a high grade decorative film having a pattern and unevenness suitably coinciding with each other and suitably expressing the quality feeling or the like of a material by large unevenness, and a method for manufacturing the same with high productivity.例文帳に追加

絵柄と凹凸とが好適に一致し、かつ、大きな凹凸で材料の質感等を好適に表現した高品位な化粧フィルム、および、この化粧フィルムを高い生産性で製造することができる製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a body fluid absorbing article the contour shape of which can be visually recognized more clearly by applying a required pressure to decorative parts having a decorative effect in a compressed groove pattern without pressing with relatively large force.例文帳に追加

比較的に大きな力でプレスすることなく、圧搾条溝のうち装飾効果を有する装飾部に所要の圧力を加えてその輪郭形状をより明瞭に視認することのできる体液吸収性物品の提供。 - 特許庁

Subcontracting is when an enterprise or other entity larger than one's own contracts out production, repair, creation of information deliverables, or provision of services, and a keiretsu pattern of subcontracting within corporate groups with large enterprises at their core is particularly apparent in the contracting out of manufacturing activities.例文帳に追加

下請取引とは、自社より規模が大きい企業等から製造、修理、情報成果物作成、役務提供の委託を受けることであるが、特に製造委託については大企業を中心とした「系列」構造がみられた。 - 経済産業省

During large winning after large winning generation is decided and the variation display of the special pattern based on the decision is ended, information relating to the variation display (for instance, what kind of a lizhi action direction is performed) is reported on the display screen 4a of an image display device 4 by the control of a display controller 141.例文帳に追加

大当たり発生が決定され、この決定に基づいた特図の変動表示が終了した後の大当たり中に、この変動表示に関係する情報（例えば、どのようなリーチアクション演出が行われたか）を、表示制御装置１４１の制御で画像表示装置４の表示画面４ａにて報知可能な構成とする。 - 特許庁

The interposer allows an allowable current value in a path for carrying a large current therethrough to be increased and allowing large-consumption-power integrated circuit elements to be mounted thereon by: mounting the integrated circuit elements on both sides of the interposer comprising a semiconductor substrate; and making wiring materials, wiring pattern densities and the like of the interposer by using techniques different from each other on both sides thereof.例文帳に追加

半導体基板から成るインターポーザの表裏面に集積回路素子を搭載し、インターポーザの配線材料、配線パターン密度などを表裏面では異なった技術で作成することにより、大電流が流れる経路での許容電流値を大きくすることができ、大消費電力の集積回路素子をインターポーザへ実装できるようにした。 - 特許庁

After the small component 2 is mounted on land pattern 8 through a bonding material 4, the small component 2 is drawn near toward the large component 1 by surface tension force of the bonding material 4 under thermally fused state and the interval between the large component 1 and the small component 2 becomes narrow enough to suppress tombstone phenomenon.例文帳に追加

小さい方の部品２を接合材料４を介してランドパターン８上に載置した後に、加熱による溶融状態での接合材料４の表面張力によって、小さい方の部品２は大型部品１側に引き寄せられて、大きい方の部品１と小さい方の部品２との間の間隔は、ツームストーム現象を抑制できる狭い間隔となっている。 - 特許庁

A substrate holder suits a small wafer to the wafer table of the lithographic apparatus for receiving a large wafer and comprises a large silicon wafer having a bar pattern for arranging the small wafer, a positioning pin for accurately arranging the small wafer, and a clamp formed by a magnet mounted to a clamp ring and the larger wafer.例文帳に追加

大きなウェハを受けるようにされたリソグラフィ装置のウェハテーブルに小さいウェハを適合させるための基板ホルダは、小さいウェハを配置するバールパターンを備えた大きなシリコンウェハと、小さいウェハを正確に配置するための位置決めピンと、クランプリングと大きなウェハに取り付けされた磁石により形成されたクランプとから構成される。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of further improving uniformity of a mask pattern size on the entire wafer surface and lowering variation in opening width of a contact window on the entire wafer surface when forming the contact window to improve the product yield and quality even when a higher step and a large area pattern are formed.例文帳に追加

高段差で大面積のパターンが形成される場合でも、ウェハ全面でのマスクパターン寸法の均一性をさらに向上させることができるとともに、コンタクト窓形成の際にウェハ全面でコンタクト窓の開口幅ばらつきを低減することができ、製品歩留を改善しかつ製品品質をより向上させることができる半導体装置を提供する。 - 特許庁

The dummy pattern 3 is arranged while folded in a rectangular wave shape to the line width of a conventional linear pattern and then the peeling load of the dummy seal 3 per unit area of a glass is improved to obtain the large effect that a serious defect which is seal peeling is hardly caused in a process of cutting the stuck glass to a panel individual piece size.例文帳に追加

また、ダミーパターン３を従来の直線パターンの線幅で矩形波状に折り曲げて配置することにより、ガラスの単位面積当たりのダミーシール３の剥離荷重が向上し、貼り合わせガラスをパネル個片サイズに切断する工程において、シール剥離という重大欠陥を誘発しにくくなるという効果も多大と成りうる。 - 特許庁

A mask pattern 31a covering the surface part for forming an ink supply chamber recess 18 in the silicon substrate 2A includes a large number of rhombic openings 41 formed discretely and the mask pattern 31a is stripped and removed automatically utilizing undercut progressing from the four sides 42-46 of each rhombic opening 41 as etching progresses.例文帳に追加

シリコン基板２Ａにおけるインク供給室用凹部１８を形成するための表面部分を覆っているマスクパターン３１ａを、多数の菱形開口部４１を離散状態に形成したものとし、エッチングの進行に伴って各菱形開口部４１の四辺４２〜４６から進行するアンダーカットを利用して、マスクパターン３１ａを自動的に剥離して除去する。 - 特許庁