「process device」に関連した英語例文の一覧と使い方(229ページ目) - Weblio英語例文検索

The water treatment system for water purification using the ultraviolet irradiation includes: a former stage ultraviolet irradiation device 5 for the ultraviolet irradiation in the former process of the water purification; a latter stage ultraviolet irradiation device 10 for the ultraviolet irradiation in the latter process thereof; and a controller 14 for controlling these ultraviolet irradiation devices.例文帳に追加

紫外線照射により浄水処理を行う水処理システムにおいて、浄水処理工程の前段工程で紫外線を照射するための前段紫外線照射装置５と、後段工程で紫外線を照射するための後段紫外線照射装置１０と、これらの紫外線照射装置を制御するコントローラ１４とを備えた構成である。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device using a laser crystallization process for preventing formation of a grain boundary in the channel forming region of a TFT, significant lowering in mobility of the TFT due to the grain boundary, reduction of on current, or increase of off current, and to provide a semiconductor device fabricated by that method.例文帳に追加

ＴＦＴのチャネル形成領域に粒界が形成されるのを防ぎ、粒界によってＴＦＴの移動度が著しく低下したり、オン電流が低減したり、オフ電流が増加したりするのを防ぐことができるレーザー結晶化法を用いた、半導体装置の作製方法及び該作製方法を用いて作製された半導体装置の提供を課題とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable effectively preventing mutual diffusion in the components between the gate electrodes of n- and p-type transistors in a gate electrode formation process and the subsequent heat treatment process for the method for manufacturing the semiconductor device having a wiring layer substituted for metal and metal silicide.例文帳に追加

金属や金属シリサイドに置換した配線層を有する半導体装置の製造方法に関し、ゲート電極形成過程及びその後の熱処理工程において、Ｎ型トランジスタのゲート電極とＰ型トランジスタのゲート電極との間における構成材料の相互拡散を効果的に防止しうる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

An image forming device (color printer 1) comprises: a process cartridge 42 having a photoreceptor drum 42A and a developing device 42B; an exposure member (LED unit 41) for forming an electrostatic latent image on the photoreceptor drum 42A; and a pair of supporting members (a side wall 61 of a drawer 60) for supporting the exposure member and detachably supporting the process cartridge 42.例文帳に追加

画像形成装置（カラープリンタ１）は、感光体ドラム４２Ａと現像器４２Ｂを有するプロセスカートリッジ４２と、感光体ドラム４２Ａに静電潜像を形成する露光部材（ＬＥＤユニット４１）と、露光部材を支持するとともに、プロセスカートリッジ４２を着脱可能に支持する一対の支持部材（ドロワ６０の側壁６１）とを備える。 - 特許庁

To surely insulate a sample wherein a leakage failure has occurred before wafer burn-in without contaminating a plating tub or a plating liquid with a coating resin, in a semiconductor device subjected to wafer burn-in before a plating process and in a method for manufacturing the semiconductor device, which executes wafer burn-in before the plating process.例文帳に追加

めっき工程前にウエハーバーンインが実施された半導体装置において、また、めっき工程前にウエハーバーンインを実施する半導体装置の製造方法において、被膜樹脂によるめっき槽またはめっき液の汚染を発生させることなくウエハーバーンイン前にリーク不良が発生したサンプルを確実に絶縁させることが可能となる。 - 特許庁

Various types of information for production process of the seedlings on each tray are written in the memory in each IC module member 4 via the portable information processing device 2, and information of the growth histories read out of the memory via the portable information processing device 2 is referred to finely adjust thereafter the production process schedules and conditions.例文帳に追加

各苗床部材における苗の生産経過に関する各種の情報を携帯型の情報処理装置を介して各ＩＣモジュール部材のメモリに書き込み、携帯型の情報処理装置を介して各ＩＣモジュール部材のメモリから読み出した育成履歴情報を参照して以降の生産工程の予定日時および予定条件を微調整する。 - 特許庁

The cleaning liquid for a semiconductor device substrate is provided which is used after a chemical mechanical polishing process in a semiconductor device manufacturing process and contains a nonionic surfactant represented by general formula (I), an organic acid and polyethylene glycol with a number average molecular weight of 5,000 or less, and has a pH of 5 or lower, and a cleaning method using the cleaning liquid.例文帳に追加

半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄液であって、下記一般式（Ｉ）で表されるノニオン性界面活性剤と有機酸と数平均分子量５０００以下のポリエチレングリコールとを含み、かつ、ｐＨが５以下である半導体デバイス用基板の洗浄液、及びそれを用いた洗浄方法。 - 特許庁

Besides, the package board producing device is provided with a process for contacting the electrode pins 2p at the adapter part 2 of the package board producing device 1 to all the through hole plating parts of the fused wiring board 10 and a process for supplying the current between the electrode pins 2p while cutting off the connecting lines excepting for one composing of the prescribed wiring pattern.例文帳に追加

また、本発明の実装基板製造方法は、実装基板製造装置１のアダプター部２の電極ピン２ｐをヒューズド配線基板１０の全てのスルーホールメッキ部１１ａに接触させる工程と、所定の配線パターンを構成する以外の接続ラインを切断する態様で、電極ピン２ｐ，２ｐ間に電流を供給する工程とを含んでいる。 - 特許庁

The welding method and a welding device for thermoplastic resin molded articles having tubular ends 20a and 21a are a method and a device for melting and welding tubular ends of the thermoplastic resin molded articles, and include a pushing process of pushing molten tubular ends 20a and 21a to each other and a drawing process of drawing them.例文帳に追加

熱可塑性樹脂成形品の管状端同士を溶融させて溶着する方法であって、溶融し合った管状端２０ａ、２１ａ同士を押付けする押付け工程と、これを引き伸ばす引伸し工程を経るようにした管状端２０ａ、２１ａを有する熱可塑性樹脂成形品を溶着する方法と装置である。 - 特許庁

Further, the observation method for observing the cross section of the semiconductor device includes a process for observing the cross section of the specific place of the semiconductor device by a scanning microscope and a process for forming the protective film of an amorphous structure to the cross section and further observing the cross section by the transmission type electron microscope through the protective film.例文帳に追加

また、半導体デバイスの断面を観察する観察方法において、前記半導体デバイスの特定箇所の断面を走査型顕微鏡で観察する工程と；前記断面に非晶質構造の保護膜を形成し、当該保護膜を透して透過型電子顕微鏡によって前記断面を更に観察する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a process cartridge which is capable of preventing the destruction of the storage contents of a memory means for executing communication without contact with the main body of an electrophotographic image forming device by the influence of the electrical noise generated by impression of a bias and the rewriting to erroneous information and the electrophotographic image forming device to and from which the process cartridge is attachable and detachable.例文帳に追加

電子写真画像形成装置本体と非接触に通信を行う記憶手段の記憶内容がバイアスの印加によって発生する電気的なノイズの影響で破壊されたり、誤情報に書き換えられたりすることを防止できるプロセスカートリッジ、及び前記プロセスカートリッジを着脱可能な電子写真画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an indicating device capable of effecting the operation and performance validation inspection of the whole of indicating device in a process on the way before assembly process, in which a chassis is attached, and when the operation/performance is determined so as to be not proper by the operation and performance validation inspection, a portion of not proper can be repaired in regardless of the chassis.例文帳に追加

筐体が取付けられる組立工程以前の途中の工程で表示装置全体の動作確認及び性能確認検査を行うことができ、動作確認及び性能確認検査により動作／性能が不適正であった場合においても、筐体と関係なく不適正な箇所を修理することができる表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a control device for an engine capable of performing process suppressing function drop of the control device for the engine due to high temperature exhaust gas without giving thermal damage on EGR device by easily raising temperature of exhaust gas to a desired temperature by only control of the engine side.例文帳に追加

本発明は、エンジン側の制御だけで排ガスを所望の温度に容易に昇温し、高温排気ガスでエンジンの制御装置の機能低下を抑制する処理をＥＧＲ装置が熱害を受けることなく、実施できるエンジンの制御装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method and device for keeping a normal operation by preventing the residence of a powdery body or granular body of a carrying matter within a carrying conduit or transfer device, and smoothing a drying process without performing the periodic inspection and internal cleaning of the conduit or device.例文帳に追加

搬送管路や移送装置内部での被乾燥物の粉状体や粒状体の滞留を防止し、定期的に点検して内部を清掃することなく、乾燥工程を円滑にし、正常な運転の維持するための方法及びその装置を提供することにある。 - 特許庁

The arithmetic operation part holds a plurality of judgement expressions respectively set for every flashing device constituting the flashing device group, and determines whether or not the preliminary light emitting process is performed again from the result of photometry by the flash light photometry part based on the judgement expression corresponding to the flashing device to be controlled.例文帳に追加

演算部は、閃光装置群を構成する各閃光装置毎にそれぞれ設定された複数の判定式を保持し、被制御閃光装置に対応する判定式に基づいて閃光測光部の測光結果から予備発光プロセスを再度実行するか否かを決定する。 - 特許庁

In this drying device provided with the nozzle injection process of the nozzle device for supplying or discharging fluid in a state of any of normal temperature fluid, thermic fluid and low temperature fluid by the duct disposed inside of the wall surface, the drying device 200 is composed of six faces of rectangular parallelopiped or cube.例文帳に追加

常温流体と、熱流体と、低温流体の何れかの状態の流体を壁面内部に設けたダクトにより給気あるいは排気をするノズル装置のノズル噴射工程を設置できる乾燥装置であって、該乾燥装置２００は、直方体あるいは立法体の６面で構成した。 - 特許庁

Furthermore, the process chamber comprises means for uncoupling a carrier positioned in a transport position from the guidance device, and means for the acceptance of the carrier from the guidance device, wherein the means for acceptance comprise a transfer device for transferring the carrier from the transport position into a treatment position transverse to the transport direction.例文帳に追加

更にプロセスチャンバは搬送位置にあるキャリアをガイダンス装置から分離するための手段、及びガイダンス装置からキャリアを受け入れるための手段を含み、受け入れのための手段は、搬送位置から搬送方向を横切る処理位置へキャリアを搬送するための搬送装置を含む。 - 特許庁

To provide a semiconductor device wherein electric charge accumulated at a substrate side does not cause the deterioration of a transistor and the like even if a semiconductor process such as a plasma CVD method or an ion implantation method is carried out at the surface side of an insulating substrate and to provide an optoelectric device and a projection-type display device.例文帳に追加

絶縁基板の表面側でプラズマＣＶＤ法やイオン打ち込みなどの半導体プロセスを行なっても、基板側に蓄積した電荷がトランジスタなどを劣化させることのない半導体装置、電気光学装置および投射型表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a device which performs tape lapping at an arm end of an industrial robot using a cassette type tape lapping device, and also performs machining using another film lapping device while a workpiece to be pre-machined is centered to a spindle stock and a tailstock and supported in a pre-machining process.例文帳に追加

前加工が行われる被加工物を、前加工工程で主軸台と心押台等にセンタリングされ支持された状態で、そのまま、産業用ロボットのアーム先端にカセット型テープラップ装置でテープラップ加工が可能で、別のフイルムラップ装置で加工できる装置を提供。 - 特許庁

When a process cartridge B is installed in the main body 14 of the image forming device, the positions of a cylindrical hollow part 11 formed on a cleaning frame 10c, a through-hole 13 on the side face of the main body 14 of the image forming device and a fan 30 attached to the main body 14 of the image forming device correspond to one another.例文帳に追加

プロセスカートリッジＢを画像形成装置本体１４に装着した際、クリーニング枠体１０ｃに形成した円筒状の中空部１１と、画像形成装置本体１４の側面の貫通穴１３と、画像形成装置本体１４に取り付けたファン３０の位置が対応する。 - 特許庁

Conventionally, a user has been able to listen to voice from a speaker by directly touching a body of a communication device such as a mobile phone to a user's ear in the case of performing conversation by the device; however, in the process of operation of some kind, a user has been required to separate the device from the ear so as to easily perform operation.例文帳に追加

通常、携帯電話などの通信装置による通話を行う際には、ユーザは、ユーザ自身の耳に装置本体を直接当てることにより、スピーカから音声を聞くことができるが、何らかの操作をする場合には、操作しやすいように耳から装置本体を離す必要がある。 - 特許庁

To provide a filter device for a motor-vehicle air-conditioning system with which increases in resistance to the passage of air are suppressed over prolonged periods, and also the device is easy to handle in the production process as a filtering medium for a filter device can still expand and contract after it has been folded.例文帳に追加

本発明は、長期間にわたり通気抵抗の上昇を抑制するとともに、フィルタ装置用の濾材に折り目を付けた後にも伸縮可能として生産工程で取り扱い易い自動車用空調装置のフィルタ装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device and the semiconductor device capable of preventing short circuit due to an accident in which cements provided to each of a plurality of bump electrodes provided with a predetermined interval are connected to each other in a manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造過程において、所定の間隔を有して配設された複数の突起電極にそれぞれ設けられた接合剤が、互いに繋がって短絡（ショート）してしまうことを防止することができる半導体装置の製造方法及び当該半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a conveyance device capable of conveying quickly a disk product in an inspection process for inspecting successively the appearance quality of the disk product, and an inspection device capable of inspecting accurately and quickly the disk product by applying the conveyance device.例文帳に追加

円板製品の外観上の品質を順次検査する検査工程において当該円板製品を迅速に搬送することができる搬送装置を提供し、さらに、その搬送装置を適用して当該円板製品の検査を精度よくかつ迅速に行うことができる検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of enhancing the manufacturing yield and manufacturing efficiency of an ultra thin semiconductor device, by enhancing the separation precision of a semiconductor device formed on a substrate via a peeling layer and reducing the damages or the like of the semiconductor device in the separation process.例文帳に追加

基板上に剥離層を介して形成された半導体素子の分離精度を高めると共に、分離工程における半導体素子のダメージ等を低減することによって、超薄型半導体素子の製造歩留りや製造効率を高めることができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a moving-object detection device capable of simplifying manufacturing process to reduce costs without using an expensive laser welding device or a large laser welding device and capable of preventing a resin melted by laser welding from flowing out of an abutment.例文帳に追加

高価なレーザ溶着装置、あるいは、大型のレーザ溶着装置を用いることなく、かつ、製造工程を簡素化し、製造コストを低減することが可能であり、かつ、レーザ溶着によって溶けた樹脂の当接部からの流出を阻止することが可能な移動物体検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing device of treatment device insertion channels of endoscopes greatly reducing the cost by easily manufacturing the treatment device insertion channels with a constitution of having a spiral groove formed on the outer face of a flexible tube and a reinforcing coil wound around along the base of the spiral groove in a single process.例文帳に追加

可撓性チューブの外面に螺旋溝が形成されてその螺旋溝の底面に沿って補強コイルが巻き付けられた構成の処置具挿通チャンネルを、一工程で容易に製造して大幅なコストダウンを実現することができる内視鏡の処置具挿通チャンネル製造装置を提供すること。 - 特許庁

During a period when the exhaust emission control device provided in one of the branch passages is under a process of SOx regeneration treatment and a flow control valve in the branch passage provided with the exhaust emission control device opens, NOx reduction treatment of the exhaust emission control device in other branch passage is performed.例文帳に追加

分岐通路の一つに設けられた排気浄化装置のＳＯx再生処理中であって、その排気浄化装置が設けられた分岐通路における流量制御弁が閉弁している期間に、他の分岐通路における排気浄化装置のＮＯx還元処理を実施する。 - 特許庁

To provide an information recording device which can quickly carry out user data recording or reproducing requested by a host control device when requested while updating the alternation management information from the host control device, while suspending the updating process of alternation management information.例文帳に追加

交替管理情報の更新中に上位制御装置からユーザデータ記録再生要求があった場合に、交替管理情報の更新処理を途中で中断し、上位制御装置からのユーザデータ記録再生要求を早急に実行することを可能とする情報記録装置を提供する。 - 特許庁

To provide a refrigerating device capable of improving operation efficiency by increasing a degree of freedom in adjusting a refrigerant circulation amount by a multistage compression type compressing element without increasing a size of the device, in the refrigerating device using a refrigerant activated through a process in a supercritical state.例文帳に追加

超臨界状態の過程を含んで作動する冷媒を使用した冷凍装置において、装置の大型化を抑えつつ、多段圧縮式の圧縮要素による冷媒循環量の調整自由度を増大させ、運転効率を向上させることが可能な冷凍装置を提供する。 - 特許庁

When real time performance is measured for the device 200 to be measured, a measuring device 300 transmits the start instruction of a measurement target process to the device 200 to be measured, and measures a time since a start instruction is transmitted until a corresponding pulse is returned.例文帳に追加

測定対象装置２００についてリアルタイム性能を測定する際、測定装置３００は、測定対象装置２００に対して測定ターゲットプロセスの起動指令を送信する一方、該起動指令を送信してから対応するパルスが返送されるまでの時間を測定する。 - 特許庁

On the hold up cam device 23 for applying a pressing force to a lower punch 8a during the extrusion process for the forming product press- formed by the powder forming machine, an anomaly detecting device for detecting an anomaly of the raising movement of the piston cylinder device 23 operating the hold up cam 25 is provided.例文帳に追加

粉末成形機によって加圧成形された成形品の押し出し行程中に下パンチ８ａに加圧力を加えるホールドアップカム装置２３に、ホールドアップカム２５を作動させるピストンシリンダ装置２３の上昇動作の異常を検出する異常検出装置を設けた。 - 特許庁

This cogeneration system is furnished with a heat engine 101 to drive a generator 102, an exhaust gas heat using device 201 to use heat of the exhaust gas discharged from the heat engine 101 and an exhaust gas processing device 300 to purify and process the exhaust gas discharged from the exhaust gas heat using device 201.例文帳に追加

発電機（１０２）を駆動する熱機関（１０１）と、該熱機関（１０１）から排出された排ガスの熱を利用する排ガス熱利用装置（２０１）と、該排ガス熱利用装置（２０１）から排出された排ガスを浄化処理する排ガス処理装置（３００）と、を備える。 - 特許庁

To provide a developing device or a process cartridge or an image forming device provided with the developing device capable of easily preventing the erroneous transfer of a developer to a region corresponding to a character image forming part and a blank part of a recording medium in a latent image carrying body.例文帳に追加

本発明は、潜像担持体における、記録媒体の文字画像形成部並びに余白部に応じた領域への現像剤の誤った転移防止を容易に行うことができる現像装置又はこの現像装置を備えるプロセスカートリッジ若しくは画像形成装置の提供を目的とする。 - 特許庁

The process cartridge of the present invention is equipped with the lubricant supply device 28 and the lubricant resupply device 30 of which durability has been improved by the improvement of the durability of the cleaning member 24, thereby improving the long term reliability of the image forming device.例文帳に追加

また、本発明は、潤滑剤供給装置２８および潤滑剤再供給装置３０を備えるプロセス・カートリッジを提供し、クリーニング部材２４の耐久性を向上させることにより、プロセス・カートリッジの耐久性を向上し、画像形成装置の長期信頼性を改善する。 - 特許庁

A waiting time for the retrieval processing is set, the set waiting time and a retrieval request are transmitted to other device, and timeout information transmitted from the device which received the transmitted waiting time and the retrieval request is received when the device cannot process the retrieval based on the retrieval request within the waiting time.例文帳に追加

検索処理の待ち時間を設定し、設定した待ち時間と検索要求を他の装置に送信し、送信した待ち時間と検索要求を受信した装置が、該検索要求による検索を該待ち時間以内に処理できない場合に送信するタイムアウト情報を受信する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device by which both rearranged wiring and connections formed as projecting electrodes can be formed in a simple manufacturing process, and to provide a semiconductor device manufactured by the method and a circuit board and electronic equipment equipped with the semiconductor device.例文帳に追加

簡略な製造プロセスで再配置配線と突起状の電極としての接続部を共に形成することができる半導体装置の製造方法及び当該方法で製造される半導体装置並びに当該半導体装置を備える回路基板及び電子機器を提供する。 - 特許庁

The master side device BS measures a delay time from the send/receive timing of the random access process signal sent and received by way of the plurality of slave side devices RE#1 and #2, selects the slave side device RE#1 of the smallest delay time, and decides it as the slave side device for use in the communication services (1-19).例文帳に追加

親側装置ＢＳで複数の子側装置ＲＥ＃１、＃２を経由して送受されるランダムアクセス処理信号の送受信タイミングから遅延時間を測定し、該遅延時間が最小の子側装置ＲＥ＃１を選択し、通信サービスに使用する子側装置として決定する（１−１９）。 - 特許庁

To provide a reaction monitoring device capable of polyhedrally monitoring even physical properties other than viscosity by setting the viscosity as an essential monitoring item in a reaction process, a reaction solution manufacturing device equipped with the reaction monitoring device containing a viscosity detection means, and a reaction solution manufacturing method.例文帳に追加

粘度を反応工程における必須の監視項目とし、粘度以外の物性をも多面的に監視できる反応監視装置を提供すること、当該粘度検出手段を含む反応監視装置を備える反応液製造装置、並びに該反応液製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an optical pickup device capable of reducing manhours in an assembly adjustment process and reducing adjustment time by eliminating the diffraction grating in an optical path from a light source to an optical recording medium, and to provide an optical recording and reproducing device equipped with the optical pickup device.例文帳に追加

光源から光記録媒体までの光路中における回折格子の存在を排除することにより、組立て調整工程の工数の削減と調整時間の短縮とを図り得る光ピックアップ装置及びそれを備えた光記録再生装置を提供する。 - 特許庁

Then a P value is calculated for each combination of a process ID and a device ID to be contrasted and compared by applying merge data of inspection data on a product and device history data of a manufacturing device to a predetermined significant difference examination method, and a new P value is calculated based upon the P value and P-value correction factor.例文帳に追加

次に、製品の検査データと製造装置の装置履歴データのマージデータを所定の有意差検定法に適用して工程ＩＤおよび対比較される装置ＩＤの組合せ毎にＰ値を算出し、このＰ値とＰ値補正ファクタに基づいて新たなＰ値を算出する。 - 特許庁

Based on the key words inputted from an input device 80, a central processor 50 conducts a retrieval process for the information on the IC paper 10 and the IC file 1 recorded in the device 40 with the procedures indicated above and the processed result is outputted by an output device 60.例文帳に追加

さらに、以上の手順で記憶装置４０に記録された、ＩＣペーパ１０とＩＣファイル１の情報に対して、入力装置８０から入力されたキーワードをもとに、中央処理装置５０が検索処理を行い、処理結果を出力装置６０において出力する。 - 特許庁

According to the method of manufacturing a silicon wafer, since the n-type first epitaxial film 12 formed under the second epitaxial film 13 in which the device is formed functions as a barrier layer, heavy metal introduced from the reverse-surface side of the silicon wafer in the device post-process never reaches a device region.例文帳に追加

本発明によれば、デバイスが形成される第２のエピタキシャル膜１３の下部に形成されるｎ型の第１のエピタキシャル膜１２がバリア層として機能することから、デバイス後工程でシリコンウェーハの裏面側から導入される重金属がデバイス領域に到達することがない。 - 特許庁

To provide the management method of a semiconductor device which can identify each semiconductor device and specify its manufacturing process information without providing a special record to a semiconductor chip itself, and can carry out quality assurance and failure analysis of each semiconductor device.例文帳に追加

半導体チップ自体に特別な記録部などを設けることなく、半導体装置個々について識別できその製造工程情報を特定でき、個々の半導体装置の品質保証及び不良解析を行うことができる半導体装置の管理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid quantity measuring device for exactly measuring the quantity of liquid materials stored in a vessel, especially those used in semiconductor production process and the like, and a liquid supply method used for the liquid supply device provided with such a liquid quantity measuring device.例文帳に追加

容器内に貯蔵された液体材料、特に半導体製造プロセス等で使用される液体材料の液量を正確に測定することのできる液量測定装置、及びそのような液量測定装置を備えた液体供給装置に用いられる液体供給方法を提供する - 特許庁