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substrate layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 39497件
The light diffusion film is obtained by forming a light diffusion layer 5 having a surface shape in which a large number of semicylindrical protrusions 4 are arranged like a lenticular lens on a substrate film 1 by means of a metal mold using a material prepared by dispersing isotropic spherical fine particles 3 in a resin binder 2.例文帳に追加
基材フィルム1上に、樹脂バインダー2中に等方性球状微粒子3を分散させた材料を用いて、レンチキュラレンズのようにかまぼこ型の凸部4が多数配列された表面形状を有する光拡散層5を金型により形成して光拡散フィルムを得る。 - 特許庁
The planographic printing plate original is obtained by disposing an image recording layer which is cured by infrared laser exposure on a metallic support obtained by forming a hydrophilic film whose heat conductivity in the film thickness direction is 0.05-0.5 W/(m×K) on a surface-roughened metallic substrate.例文帳に追加
粗面化処理を施された金属基体上に膜厚方向の熱伝導率が0.05〜0.5W/(m・K)である親水性皮膜を形成して得られる金属支持体上に、赤外線レーザ露光により硬化する画像記録層を設けてなる平版印刷版原版。 - 特許庁
A second-conductivity-type collector region 16 delimited by element isolation regions 20 is formed on a first-conductivity-type semiconductor substrate 10, and a first-conductivity-type first base semiconductor layer 40 extends from the top face of the collector region 16 to the top faces of the element isolation regions 20.例文帳に追加
第1導電型の半導体基板10上に素子分離領域20によって限定される第2導電型のコレクタ領域16が形成され、第1導電型の第1ベース半導体層40がコレクタ領域16の上面から素子分離領域20の上面まで延びている。 - 特許庁
Light absorption films controlling transmittance are divided and laminated and the absorption films provided on the extreme substrate side are respectively used as reflected light attenuation films to directly attenuate the reflected light from the boundary area of each layer to thereby alleviate sensitiveness to optical constants and film thicknesses.例文帳に追加
透過率を制御する光吸収膜を分割積層し、最基板側に設けられる吸収膜をそれぞれ反射光減衰膜として用い、各層の境界域からの反射光を直接減衰させる事により、光学定数や膜厚に対する敏感度を緩和する。 - 特許庁
To provide a copper-plating device wherein a Cu layer remaining at the edge and near it of a plated substrate formed in a copper-plating process is entirely removed, and possibility of causing Cu contamination (cross- contamination) is eliminated while the next CMP process is performed in a short time after copper plating.例文帳に追加
銅めっき処理により形成された被めっき基板のエッジ部及びエッジ部の近傍に残るCu層を完全に除去し、Cu汚染(クロスコンタミ)が生じる恐れがなく、銅めっき処理後、短時間で次工程であるCMP処理が実施できる銅めっき装置を提供すること。 - 特許庁
A low resistance path is provided between the channels of the flash EPROM cell by the buried layer 500, thereby reducing the channel of the flash EPROM until erasure can be performed by giving the voltage (potential difference) between a gate line 28 and the substrate of the cell.例文帳に追加
フラッシュEPROMセルのチャネルは、埋込層が(500)フラッシュEPROMセルのチャネル間に低抵抗経路を設けるのでゲートとセルの基板との間に電圧電位差を与えることによって消去が行なわれることを可能にするまでフラッシュEPROMのチャネルは低減される。 - 特許庁
This printing plate material has an image forming layer comprising a heat-fusible or hot-melt fine particle dispersion on a substrate, and the heat-fusible or hot-melt fine particle dispersion is emulsified and dispersed with an anionic dispersant.例文帳に追加
支持体上に、熱融着性または熱溶融性微粒子分散体を含む画像形成層を有する印刷版材料であって、該熱融着性または熱溶融性微粒子分散体がアニオン性分散剤で乳化分散されていることを特徴とする印刷版材料。 - 特許庁
The semiconductor laser element 80 is provided with a semiconductor layered body 82 made of an AlGaInP group chemical compound semiconductor layer on an n type GaAg substrate 81 with a step structure 14 on a slope tilted by 10-degrees in the [0-1-1] orientation from the (100) plane.例文帳に追加
本半導体レーザ素子80は、(100)面より〔0−1−1〕方向に10°傾斜した傾斜面にステップ状構造14を備えたn型GaAs基板81上に、AlGaInP系の化合物半導体層からなる半導体積層体82を備えている。 - 特許庁
The c-MUT cell 31a mainly composed of a lower electrode 37d, as a signal input/output electrode, a silicon membrane 38, and an upper electrode 37u, or a ground electrode, formed on a silicone substrate 35 and a vacuum clearance part 40 is served as a braking layer of the silicon membrane 38.例文帳に追加
c−MUTセル31aは、シリコン基板35上に形成された、信号入出力用電極である下部電極37d、シリコンメンブレン38及び接地電極である上部電極37uで主に構成され、真空空隙部40はシリコンメンブレン38の制動層になっている。 - 特許庁
In the electrophotographic photoreceptor, a photosensitive layer containing at least an electron transport agent, a charge generating agent and a binder resin is disposed on a conductive substrate, wherein the electron transport agent is a compound represented by general formula (1).例文帳に追加
導電性基体上に、少なくとも電子輸送剤、電荷発生剤およびバインダ樹脂を含有した感光層が設けられた電子写真感光体であって、前記電子輸送剤が、下記一般式(1)で表される化合物であることを特徴とする電子写真感光体である。 - 特許庁
The display element for displaying a prescribed shape is composed of an organic electroluminescence element provided with an element main part in which a transparent anode 2, a light-emitting layer 4, and a cathode 6 patterned into the same shape as the prescribed shape are laminated on a transparent insulating substrate 1 in this order.例文帳に追加
所定形状を表示する表示素子であって、透明絶縁基板上に、透明陽極と、発光層と、該所定形状と同じ形状にパターニングされた陰極とがこの順序で積層された素子主要部を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子からなることを特徴とする表示素子。 - 特許庁
A minute resonator structure having an optical length D corresponding to a wave length of intended light is formed between a metal electrode serving as a total reflection mirror 102 formed on a substrate 101 on which a light-emitting layer made of an organic thin film is formed, and an inside face of a transparent sealing plate 106.例文帳に追加
有機薄膜からなる発光層を形成した基板101に有する金属電極兼全反射鏡102と透明封止板106の内面との間に所望の光の波長に対応した光学長さDをもつ微小な共振器構造を形成する。 - 特許庁
In a process to form this electron injecting layer 52, coating liquid obtained by mixing a complex having the same number of chelate ligands as the number of the valences of a center atom and an organic material forming a neutral legend in a solvent is applied on the entire surface of a substrate, and heat treatment is applied to it.例文帳に追加
この電子注入層52の形成工程は、中心原子の価数と同数のキレート配位子を有する錯体と、中性配位子となる有機材料とを溶媒中に混合した塗布液を基板全面に塗布し、これを熱処理することにより行なう。 - 特許庁
A high speed video camera 9 enlarges, with a microscope lens 8, the state where the photosensitive layer of the photosensitive colored resin sheet 14 is adhered to the adhering face 12a of the glass substrate 12 and images the state when the thermo-compression roller 5 passes through the downside of an opening 3c of a holding base plate 3.例文帳に追加
ハイスピードビデオカメラ9は、熱圧着ローラ5が保持基板3の開口3cの下方を通過する際に、感光性着色樹脂シート14の感光層がガラス基板12の貼着面12aに貼着される状態を顕微鏡レンズ8で拡大して撮像する。 - 特許庁
In the semiconductor device, a p-type punching layer 4, connecting the source region of an LDMOSFET and a source back electrode 36 formed on the back of a substrate 1 electrically, is formed of a heavily doped low-resistance p-type polysilicon film or a low-resistance metal film.例文帳に追加
LDMOSFETのソース領域と基板1の裏面に形成されたソース裏面電極36とを電気的に接続するp型打ち抜き層4を不純物を高濃度でドープした低抵抗のp型多結晶シリコン膜もしくは低抵抗の金属膜から形成する。 - 特許庁
Further, an interlayer insulating film 7 is formed on a surface of the n^--type substrate 1, and through contact holes 7a and 7b, a cathode electrode 8 is electrically connected to the n^+-type doped Poly-Si 5 and an anode electrode 9 is electrically connected to the p^+-type impurity layer 2.例文帳に追加
また、n^-型基板1の表面に、層間絶縁膜7を形成し、コンタクトホール7a、7bを通じて、n^+型ドープトPoly−Si5と電気的に接続されるようにカソード電極8を備えると共に、p^+型不純物層2と電気的に接続されるようにアノード電極9を備える。 - 特許庁
For example, even when notches 21 are formed in the cut portion of the substrate 2 by subjecting the semiconductor device to a multiple chamfering, the cracks 22 generated from the notches 21 are so checked by the reinforcing portion 4 as to be able to prevent the cracks 22 from extending to the thin-film circuit layer 3.例文帳に追加
例えば半導体装置を多面取りによって基板2の切断部分にノッチ21が形成された場合であっても、当該ノッチ21から亀裂22が補強部4によって食い止められるので、亀裂22が薄膜回路層3にまで拡大するのを防ぐことができる。 - 特許庁
To provide a transparent impurity capturing film with a low refractive index to a transparent substrate of a side of emitting light from an organic EL layer in an organic EL display device with a top emission structure in order to suppress the occurrence and growth of dark spots not emitting light and to take out light efficiently.例文帳に追加
トップエミッション構造の有機EL表示装置において、有機EL層からの発光を外部に放出する側の透明基板に、非発光部であるダークスポットの発生及び成長を抑制するともに、光を効率よく取り出すための低屈折率透明捕捉膜を提供すること。 - 特許庁
When the protective film is deposited, by setting substrate bias to be in the range of ≥0 V and <80 V by a negative voltage and setting an atmospheric gas pressure during film formation to be in the range of 5 Pa-10 Pa as needed further, the deposition of the boundary mixing layer 15 is suppressed or prevented.例文帳に追加
保護膜を形成する際に、基板バイアスを負電圧で0V以上80V未満の範囲に設定し、さらに必要に応じて成膜中の雰囲気ガス圧力を5Pa〜10Paの範囲に設定することにより、界面混合層15の形成を抑制あるいは防止する。 - 特許庁
The high-density multilayer optical integrated circuit element includes a plurality of layered light guides stacked on a substrate by way of a cladding layer, wherein light introduced into an arbitrary layered light guide among the plurality of layered light guides is propagated to at least one layered light guide formed on or under the arbitrary layered light guide.例文帳に追加
基板上にクラッド層を介して積層された複数層の光導波路を有し、前記複数層の光導波路のうち任意の層の光導波路に導入された光がこの層の上層または下層に形成された少なくとも一つの層に伝播するように構成した。 - 特許庁
The portion having the unnecessary coating film at the end of the photoreceptor 8 formed with the coating film of the photosensitive layer on the surface of a conductive substrate is immersed into a removal solvent tank 2 filled with a removal solvent 10 for the coating film containing granular contact removal members 9 up to a specified liquid level.例文帳に追加
導電性基体の表面に感光層の塗膜を形成した感光体8端部の不要な塗膜を有する部分を、粒状の接触除去部材9を入れた塗膜の除去用溶剤10を一定液面まで満たした除去溶剤槽2に浸漬する。 - 特許庁
An insert speed is raised to 300-600 [mm/min] or the heating temperature at inserting is lowered to 400-600 [°C] so that no poor thermally oxidized film is grown on the surface of the amorphous silicon layer 14 when a semiconductor substrate 10 is inserted into a reactive chamber of the thermal CVD system.例文帳に追加
熱CVD装置の反応室内に半導体基板10を挿入する際にアモルファスシリコン層14の表面に粗悪な熱酸化膜が成長しないように挿入速度を300〜600[mm/min]と速くしたり、挿入の際の加熱温度を400〜600[℃]と低くしたりする。 - 特許庁
A vacuum deposition device is equipped with a wafer support substrate, a lamp heater, and a first and a second evaporation source that are all installed in the same vacuum device, and three processes of forming the barrier metal layer of the Schottky barrier diode, carrying out an annealing process, and forming a surface electrode are continuously carried out in the same vacuum device.例文帳に追加
同一真空装置内にウェハ支持基板、ランプヒーター、第1および第2の蒸発源を設置した真空蒸着装置を用い、ショットキーバリアダイオードのバリアメタル層形成、アニール処理、表面電極形成の3工程を同一真空装置内で連続して行う。 - 特許庁
The solid electrolyte battery includes a laminate comprising a positive electrode side collector film 30, a positive electrode protection film 31, a positive electrode active material film 40, a solid electrolyte film 50, a negative electrode potential formation layer 64, and a negative electrode side collector film 70 which are laminated in this order, on a substrate 10.例文帳に追加
この固体電解質電池は、基板10上に、正極側集電体膜30と、正極保護膜31と、正極活物質膜40と、固体電解質膜50と、負極電位形成層64と、負極側集電体膜70とがこの順で積層された積層体を有する。 - 特許庁
The retardation of a liq. crystal layer 1, retardation in the substrate normal direction of the optical phase difference compensation plate 8, and retardation of the optical phase difference compensation plate 9 are brought into a range from 170 nm to 290 nm, from 80 nm to 150 nm, and from 200 nm to 360 nm, respectively.例文帳に追加
液晶層1のリタデーションを170nm以上290nm以下とし、光学位相差補償板8の基板法線方向のリタデーションを80nm以上150nm以下とし、光学位相差補償板9のリタデーションを200nm以上360nm以下とする。 - 特許庁
To provide a support for a high-grade resin coated paper-base image material and a method for manufacturing the same in which, when both faces of a paper substrate are coated with a resin and a roll is formed, the shape of the rear side face is not transferred onto the front side face on a side coated with an image forming layer.例文帳に追加
紙基質の両面に樹脂被覆して、巻き取りを形成する際に、裏面の形状が画像形成層が塗設される側の表面に転写することのない、高品位な樹脂被覆紙型画像材料用支持体及びその製造方法を提供することである。 - 特許庁
The manufacturing method of a semiconductor device comprises a process for preparing a double SOI substrate, a process for forming a deep trench, a process for embedding the deep trench, a process for forming an opening 54, a process for forming a hole 56, a process for depositing polycrystalline silicon layer 80, and a process for forming a bipolar transistor.例文帳に追加
2重SOI基板を用意する工程と、ディープトレンチを形成する工程と、ディープトレンチを埋め込む工程と、開口部54を設ける工程と、空孔部56を設ける工程と、多結晶シリコン層80を堆積する工程と、バイポーラトランジスタを形成する工程とを有している。 - 特許庁
When an incident light is made incident on a liquid crystal layer 31 and when the incident light is reflected by a pixel electrode (reflection electrode) 23 and then emitted from an incident side substrate 11, transmissivity is high on the short wavelength side of 380 nm-480 nm as well in addition to the long wavelength side of a visible area.例文帳に追加
入射光が液晶層31に入射する際、及び該入射光が画素電極(反射電極)23において反射したのち入射側基板11から出射する際、可視領域の長波長側に加えて、380nm〜480nmの短波長側においても透過率が高い。 - 特許庁
The P-type ZnTe quantum well layers 12a and the P-type ZnSe barrier layers 12b constituting the P-type ZnSe/ZnTeMQW layer 12 are grown in a desired thickness in a growing time almost an integer times as long as a rotation period of the substrate.例文帳に追加
p型ZnSe/ZnTeMQW層12は、p型ZnSe/ZnTeMQW層12を構成する全てのp型ZnTe量子井戸層12aおよび全てのp型ZnSe障壁層12bは、基板の回転周期の整数倍とほぼ等しい成長時間で所望の厚さに成長することにより形成する。 - 特許庁
The transparent substrate is, in particular, made of glass, equipped with an electrode, in particular, for a solar cell, comprising a conductive layer based on molybdenum (Mo) not more than 500 nm thick, in particular, not more than 400 nm or not more than 300 nm or not more than 200 nm.例文帳に追加
特にはガラス製であり、特には太陽電池用の電極を備え、厚さが多くとも500nm、特には多くとも400nm、多くとも300nm、又は、多くとも200nmのモリブデンMoに基づいた導電層を含んで成る透明基材が提供される。 - 特許庁
In addition, the ceramic element in a state where at least a part of the function element formed of a ceramic layer between the inner electrodes is exposed, is molded by using a resin or housed in a case in a state in which it is mounted on a substrate, singly or together with other components.例文帳に追加
また、内部電極と該内部電極間のセラミック層により形成される機能素子部の少なくとも一部が露出した状態のセラミック素子を、単独で又は他の部品とともに基板上に実装した状態で、樹脂によりモールドするか、又はケースに収納する。 - 特許庁
A seed layer of a magnetic recording medium is formed with a sputtering target comprising an alloying element having solubility to tantalum (Ta) and a tantalum (Ta) phase of a body-centered cubicle ≤10 atom% at room temperature and mass susceptibility ≤1.5×10^-7m^3/kg on a substrate.例文帳に追加
磁気記録媒体のシード層を、タンタル(Ta)と、体心立方のタンタル(Ta)相に対する溶解度が室温で10原子パーセント以下であり且つ1.5×10^-7m^3/kg以下の質量磁化率を有する合金化元素とからなるスパッタターゲットで基板上に形成する。 - 特許庁
A charge accumulator 22, a CCD embedded channel 23, and a channel stop layer 24 are formed on the front surface of a p-type silicon substrate 21; a transfer electrode 25 that also works as a signal charge reader, and an interlayer insulating film 26 are formed thereon; and a pixel electrode 27 is then formed thereon.例文帳に追加
p型シリコン基板21の表面部に、電荷蓄積部22、CCD埋め込みチャネル23、チャネルストップ層24が形成され、その上に信号電荷読出し部を兼ねた転送電極25、層間絶縁膜26が形成され、その上に画素電極27が形成されている。 - 特許庁
To provide a raw material for a dense thin film capable of forming a thin film denser than a conventional one even on a dense ceramic substrate, to provide a dense thin film using the same, and to provide a solid oxide fuel cell single having an intermediate layer and having more excellent electricity generation performance than a conventional performance.例文帳に追加
緻密セラミック基体上であっても、従来より緻密な薄膜を形成することが可能な緻密薄膜用原料、これを用いた緻密薄膜、及び従来より発電性能に優れた、中間層を有する固体酸化物形燃料電池単セルを提供する。 - 特許庁
The original printing plate for the lithographic printing plate is characterized by having an image recording layer comprising (A) a cyanine dye expressed by general formula (1) (R^9 and R^10, and R^11 and R^12 are respectively mutually connected with each other to form hydrocarbon rings) and (B) a polymerization initiator on a substrate.例文帳に追加
支持体上に、(A)下記一般式(1)で表されるシアニン色素(R^9とR^10、及びR^11とR^12は、それぞれ互いに連結して炭化水素環を形成する)、及び(B)重合開始剤を含有する画像記録層を有することを特徴とする平版印刷版原版。 - 特許庁
The thin-film single magnetic pole magnetic head 10 is formed by laminating on a substrate 1 a main magnetic pole 4 formed in a thin film form by a soft magnetic body, a coil 3 formed in a thin film form by a conductive body and an auxiliary yoke 5 formed in a thin film form by the soft magnetic body via an insulating layer 6.例文帳に追加
薄膜単磁極磁気ヘッド10は、軟磁性体により薄膜状に形成された主磁極4、導電体により薄膜状に形成されたコイル3、および軟磁性体により薄膜状に形成された補助ヨーク5を、絶縁層6を介して、基板1上に積層して形成される。 - 特許庁
The heat-sensitive adhesive material includes a substrate having at least an underlayer and heat-sensitive adhesive layer in this order on its one face, in which the underlayer contains a thermoplastic resin whose glass transition temperature (Tg) is from not less than -70 °C to not more than 0 °C and hollow fillers.例文帳に追加
支持体と、該支持体の一方の面上に少なくともアンダー層及び感熱性粘着層をこの順に有し、該アンダー層が、ガラス転移温度(Tg)が−70℃以上0℃未満である熱可塑性樹脂及び中空フィラーを含有する感熱性粘着材料である。 - 特許庁
To provide a display device in which a display panel is fixed via an adhesive layer to a supporting substrate and a picture frame does not exist on the periphery of the display panel to make the display panel look attractive in design and the occurrence of peeling and dislodgment of the display panel by display unevenness due to a thermal expansion and external impact is averted.例文帳に追加
表示パネルを接着層を介して支持基板に固定した表示装置で、表示パネルの周辺に額縁がなくてデザイン上見栄えがよく、しかも熱膨張率に起因する表示ムラや外部衝撃による表示パネルの剥離や脱落が生じないようにする。 - 特許庁
Although the resin coating layer is formed by the spray coating method, the sleeve substrate surface is slightly grounded by the grinding device with excellent accuracy, so as to preliminarily prevent large ripples from being formed in the length direction on the sleeve surface, so that the maximum filter ripple in the length direction satisfies the next formula, W cm≤0.35 μm.例文帳に追加
そのスリーブ基体表面は、スプレー塗布法により樹脂被膜を形成しても、現像スリーブ表面の長手方向に大きなうねりができないよう、心無し研削装置により長手方向のろ波最大うねりWcm≦0.35μmとなるように、予め高精度に研削した。 - 特許庁
In the semiconductor light-emitting element, where an active layer 18 is formed between a semiconductor substrate 10 and a transparent conductive film 28, a small-gauge wire electrode 32 is formed while it is connected to an electrode pad 30, that is provided on the transparent conductive film 28 and is extended to an area near the end of the transparent conductive film 28.例文帳に追加
半導体基板10と透明導電膜28との間に活性層18が形成された半導体発光素子において、透明導電膜28上に設けられた電極パッド30に接続され、透明導電膜28の端近傍まで延びる細線電極32を形成する。 - 特許庁
A photosensitive resin layer is formed on a substrate 4, on the top of which a non-translucent material is jetted using a jet head 2 such that top-to-bottom, right-to-left, and obliquely adjacent dots overlap each other in a way that no uncovered areas arise, thus covering a desired pattern.例文帳に追加
基板4の上には感光性樹脂層が形成されており、この感光性樹脂層の上に噴射ヘッド2より非透光性材料を、上下、左右、斜めの隣接ドットが非被覆領域が生じないように互いに重なり合うように噴射して所望のパターンを被覆する。 - 特許庁
To provide a laminated piezoelectric element that reduces a rate of change in the degree of orientation of a crystal particle for composing a piezoelectric substrate layer before and after drive, and has a small decrease in piezoelectric characteristics even after a long-term drive test, and also to provide a method for manufacturing the laminated piezoelectric element and an ejector using the laminated piezoelectric element.例文帳に追加
圧電体層を構成する結晶粒子の、駆動前後の配向度の変化率を小さくして、長期間の駆動試験においても、圧電特性の低下が小さい積層型圧電素子およびその製法、並びにそれを用いた噴射装置を提供する。 - 特許庁
An upper stage (first supporting body) 101a and a lower stage (second supporting body) 101b are formed on the surface of a substrate 101, and a catalyst metal layer 111 which is made of a catalyst metal such as iron or cobalt, etc. and of which thickness is around 0.06-0.5 nm is formed in the upper stage 101a.例文帳に追加
基板101の表面には、上段部(第1支持体)101aと下段部(第2支持体)101bが形成され、上段部101aには、例えば鉄やコバルトなどの触媒金属からなる膜厚0.06〜0.5nm程度の触媒金属層111が形成されている。 - 特許庁
This vital implant material is constituted by joining the porous ceramic member across an intermediate layer consisting of a metallic material having a little damaging property to the living body on the ceramic substrate and the porous ceramic member is formed by depositing the metallic material having a little damaging property to the living body on at least the wall surface of the hole of the porous ceramic member.例文帳に追加
セラミック製基体上に生体為害性の少ない金属材からなる中間層を介してセラミック製多孔質部材を接合してなり、かつ上記セラミック製多孔質部材は少なくともその孔壁面に生体為害性の少ない金属材が被着された構成とする。 - 特許庁
To provide a coating resin composition without generating a scratch or scrape on the surface of a hardened film irrespective to curing temperatures and rubbing conditions, obtaining a good alignment function and a high picture quality in a liquid crystal display device, a liquid crystal-alignment layer, a liquid crystal-nipping substrate and the liquid crystal-display device.例文帳に追加
液晶表示装置において、硬化温度、ラビング条件によらず硬化膜表面にキズ・削れが発生せず、良好な配向機能が得られる、高画質を示すコーティング樹脂組成物、液晶配向膜、液晶挟持基板及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a carrier for printed board manufacturing which simplifies the carrier structure, couples joining means not only to a side surface of a metal layer but also to an upper surface to improve the connection reliability of an outer peripheral part of the carrier, and to provide a manufacturing method of the printed substrate.例文帳に追加
キャリアの構造を簡単にし、金属層の側面だけでなく上面にも接合手段を結合してキャリアの外周部の接合信頼性を向上させることができるプリント基板製造用キャリアの製造方法、及びプリント基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
In a process of forming the organic functional layer in a plurality of pixel regions 33 of element substrate 30 provided with the pixel regions 33, a vapor deposition boat 10 is used which is partitioned by a barrier rib BH coping with the plurality of pixel regions 33 and which has a plurality of material arranging parts 20 at which a heater 50 is installed.例文帳に追加
複数の画素領域33を備える素子基板30の画素領域33に有機機能層を形成する工程で、複数の画素領域33に対応して隔壁BHにより区画され、ヒータ50が設けられた複数の材料配置部20を有する蒸着ボート10を用いる。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which is capable of forming a side wall without producing a dent on the surface of a substrate at the side wall of a gate electrode so as to stabilize the formation positions of diffusion layer regions, such as a source region, a drain region, etc., and to obtain a semiconductor device uniform in element characteristics.例文帳に追加
ゲート電極側壁の基板表面に掘れを発生させることなくサイドウォールを形成することが可能で、これによりソース/ドレインなどの拡散層領域の形成位置が安定化して素子特性が均一な半導体装置を得ることが可能な製造方法を提供する。 - 特許庁
To obtain the subject glass coating emulsion composition that has high storage stability and coating properties, can form a coating layer having excellent resistances to water and weather, excellent injured part-shielding properties on the substrate material by using a specific carboxylic acid and amine base-containing compound or the like and water in a specific proportion.例文帳に追加
保存安定性、塗布性に優れ、基材に塗布した後、短時間の低温加熱下または室温下で、基材上に耐水性、耐候性、傷部の遮蔽性に優れた被膜を形成する、水を分散媒とする1液型のガラス容器コーティング用エマルジョン組成物を提供する。 - 特許庁
The insulating layer 3 is formed from a resin coating film that has heat resistance and transparency and also has a film thickness of 0.1 - tens μm, and its minute surface shape is extremely smoothed by completely burying the irregularity of the surface including polishing flaws C of the surface of the glass substrate 2 caused by a polishing process.例文帳に追加
絶縁層3は、耐熱性及び透明性を有する膜厚0.1〜数10μmの樹脂塗膜からなり、ポリシング処理によるガラス基板2の表面の研磨傷Cを含めて表面の凹凸を完全に埋めて微細表面形状を極めて平滑にしている。 - 特許庁
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