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the depthの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 13309



例文

To provide a CMOS image sensor which can improve light efficiency of blue light by reducing the depth of a p-type impurity region to be introduced to isolate a photodiode and the surface of a silicon substrate, reduce a determination defect which may occur during an ion implantation process, and improve light characteristics by forming a high-density p-type impurity region.例文帳に追加

フォトダイオードとシリコン基板の表面との間の隔離のために導入されるP型不純物領域の深さを浅くしてブルー系の光の光効率を改善し、イオン注入時に生じる決定欠陥を抑制し、高濃度のP型不純物領域を形成することにより光特性を改善させるCMOSイメージセンサの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a spot resist film peeling machine which can continuously perform etching added to a quartz substrate 1 and peel a resist film pattern 3' of only a pattern for phase difference measurement without repeating the formation of a resist film, electron beam drawing, and development when it becomes evident that the depth of a shifter is insufficient when a Revenson type phase shift mask 60 is manufactured.例文帳に追加

レベンソン型位相シフトマスク60の製造において、シフターの深さが不足していることが判明した際に、レジスト膜の形成、電子線描画、現像を繰り返し行うことなく、石英基板1に追加したエッチングを継続して行うことができる、位相差測定用のパターンのみのレジスト膜パターン3’を剥膜するスポットレジスト剥膜機を提供すること。 - 特許庁

To provide a laminated film or sheet for substitution for coating having a matte acrylic resin film with a good matte appearance on the outermost layer, feelings of high quality, depth and calmness, a decorative layer in which the occurrence of dropout of printing is suppressed, and good appearance characteristics, and a laminated body laminated with this on a base material.例文帳に追加

本発明は、良好な艶消し外観を有する艶消しアクリル樹脂フィルムを最表層に有し、高級感、深み感、落ち着き感があり、しかも印刷抜けの発生が抑制された加飾層を有する、外観特性が良好な塗装代替用積層フィルム又はシート、及びこれを基材に積層した積層体を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for obtaining a complimentary bipolar transistor with a high behavior by maintaining a diffusion depth thereof to be the same degree to form a diffusion layer of a shallow target, and without affecting other diffusion layers, while simultaneously diffusing dopant added from a polycrystalline silicon film in both emitter areas of a PNP transistor and an NPN transistor in the complimentary bipolar transistor.例文帳に追加

相補型バイポーラトランジスタで、PNPトランジスタとNPNトランジスタの両方のエミッタ領域を多結晶シリコン膜から添加された不純物を同時に拡散させながら、その拡散深さを同程度で目標の浅い拡散層を形成し、しかも他の拡散層に影響を与えることなく、高特性の相補型のバイポーラトランジスタを得るための製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a phone call system capable of simultaneously solving three inconveniences of reduction in voice due to a pressure-proof structure of a vessel with an apparatus necessary for phone call built therein and a diving depth, troubles of wearing a mouth mask or the like to be used for a diver to clearly speak, and carrying a speaker to emit voices of the diver.例文帳に追加

通話に必要な機器を内蔵する容器の耐圧構造や潜水深度による音声の低下やダイバーが言葉を明瞭に話すために使用するマウスマスク等の装着時の煩雑さ、ダイバーの音声を発するスピーカーを携帯したりする不便さの3点を同時に解消した通話システムを考案する。 - 特許庁


例文

To provide a phenol novolak resin capable of forming an overcrowded pattern and an isolated pattern both excellently in shapes when a fine resist pattern of ≤0.35 μm is formed, excellent in sensitivity, resolution and focal depth-width property, and having no change in resin composition in each molecular weight region, a method of synthesizing the same and a positive-type photoresist composition using the same.例文帳に追加

0.35μm以下の微細なレジストパターンを形成する場合に、密集パターン、孤立パターン共に形状良く形成でき、感度、解像性、焦点深度幅特性に優れ、各分子量域において樹脂組成の違いのないフェノールノボラック樹脂、その合成方法およびそれを用いたポジ型ホトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

A plurality of boluses 44A to 44E, at least inside diameters of which can be varied, a ring bolus insertion means to insert each of the ring boluses into radiation irradiation routes, in accordance with an energy shape in the necessary depth direction of passed radiation, and a collimator 50 to shield radiation to unnecessary radiation areas in accordance with a necessary plane energy shape are provided.例文帳に追加

少なくとも内径が異なるようにできる複数のリングボーラス44A〜44Eと、各リングボーラスを、通過した放射線の必要な深さ方向エネルギ形状に応じて、それぞれ放射線照射路内に挿入するためのリングボーラス挿入手段と、必要な平面的エネルギ形状に応じて、不要な照射領域に対する放射線を遮蔽するためのコリメータ50を備える。 - 特許庁

To provide a threaded joint for an oil well pipe having the material of carbon steel or low alloy steel of Cr containing quantity of less than 10 wt.%, for suppressing the generation of galling to repititive fastening and unfasting, in mining crude oil under environments of deep depth, high- temperature oil well, or a high-temperature environment such as a steam injection oil well, and excellent in airtightness.例文帳に追加

材質が炭素鋼またはCr含有量が10重量%未満の低合金鋼であって、高深度、高温油井、あるいは蒸気注入油井等の高温環境下の原油採掘において繰り返しの締め付け・緩め戻しに対してゴーリングの発生を抑制し、気密性に優れた油井管用ねじ継手を提供する。 - 特許庁

The photomask has four annularly arranged main patterns MP1-MP4 based on design information of a circuit pattern to be formed on a wafer SB, and a sub-pattern SP is arranged at an intersection point O of two diagonal lines L1 and L2 of a quadrangle Q formed by four vertices inside the four main patterns MP1-MP4 in order to increase a depth of focus of an exposure pattern.例文帳に追加

このフォトマスクは、ウェハSB上に形成すべき回路パターンの設計情報に基づいて、4つのメインパターンMP1〜MP4を環状に配置し、4つのメインパターンMP1〜MP4の内側の4つの頂点によって形成される四角形Qの2本の対角線L1,L2の交点Oに、露光パターンの焦点深度を増大させるためのサブパターンSPを配置する。 - 特許庁

例文

When a phase-V coil 70 V pulled and hooked on a blade fixture 21 is inserted with a coil inserter 10, interphase insulating paper 120 fixed to a stator core 110 is pulled to the depth of a slot 112 by an interphase insulating paper opening member 51, and the interphase insulating paper 120 is held with an interphase insulating paper holding member 31.例文帳に追加

コイル挿入装置10にて、ブレード治具21に引き掛けられたV相コイル70Vを挿入する際に、ステータコア110に組み付けられている相間絶縁紙120を相間絶縁紙開き部材51でスロット112の奥に引き込み、その相間絶縁紙120を相間絶縁紙押さえ部材31で保持する。 - 特許庁

例文

The method for press forming The optical elements having fine patterns of10 μm in groove depth on their optical function surfaces by means of forming dies including a pair of upper and lower die members is characterized in that phosphoric acid-base glass having a content of phosphoric acid (P2O5) of20% in molar ratio is used as a glass blank for forming.例文帳に追加

上下一対の型部材を具備する成形型により、その光学機能面に10μm以下の溝深さである微細パターンを有する光学素子を、プレス成形する方法において、隣酸(P_2 O_5 )の含有率がモル比で20%以上である隣酸系ガラスを、成形用ガラス素材として用いることを特徴とする。 - 特許庁

A reaped culm raised by a raising apparatus 26 of a combine C is raked with a gathering plate 38 and a raking transportation apparatus 28 placed on a raising apparatus 26, delivered backward to a laterally transporting apparatus 30 and further delivered to a threshing depth transporting apparatus 32 placed at the right or left side of the machine body.例文帳に追加

コンバインCは、引起し装置26にて引起した刈取り穀稈を、該引起し装置26に配設された寄せ板38と掻込搬送装置28により掻込んで、後方の横送り搬送装置30に引継ぎ移送し、この横送り搬送装置30にて穀稈を機体左右一側部に配置された扱深さ搬送装置32に引継ぎ移送する各搬送装置を備えている。 - 特許庁

The resin-coated metal plate having high coating peeling resistance during roll forming and provided with a resin coating obtained from a surface treated composition is characterized in that Sward rocker hardness of the resin coating is 35 or more and an indentation depth of an indenter in nano-scratch test is less than 0.3 μm.例文帳に追加

表面処理組成物から得られた樹脂皮膜を備える樹脂塗装金属板であって、この樹脂皮膜のスォードロッカー硬度が35以上であり、かつ、ナノスクラッチ試験における圧子の進入深さが0.3μm未満であることを特徴とするロール成形時の耐皮膜剥離性に優れた樹脂塗装金属板である。 - 特許庁

When forming these element separating part and oxidized part, a silicon-nitride film 22 that has been used as an oxidization blocking mask, is then used as an anti-etching mask in the mark forming area to perform etching upon the oxidized part 26b and a silicon-oxide film 14 to depth such that a first silicon layer 12 is exposed, thereby forming an alignment mark.例文帳に追加

その後、これら素子分離部及び酸化部の形成時に酸化阻止用マスクとして用いたシリコン窒化膜22をマーク形成領域において耐エッチング用マスクとして用いて、第1のシリコン層12が露出される深さまで酸化部26b及びシリコン酸化膜14のエッチングを行って、位置合わせ用マークを形成する。 - 特許庁

In a housing member 12, a liquid crystal device storing recess 13d for burying the display surface part 5a is formed such that a position of a surface side 5c of the display surface part 5a in a depth direction h is deeper than positions of surface sides of display surfaces 6c and 7c of any of dial plates 6 and 7.例文帳に追加

ハウジング部材12には、表示面部5aを埋設する液晶装置収納凹部13dが形成されていて、表示面部5aの表面側5cの奥行き方向hの位置を、文字板6,7の何れの表示面6c,7cの表面側の位置よりも、奥側位置となるように、この液晶装置収納凹部13d内に装着されている。 - 特許庁

To provide a measuring instrument and a measuring method capable of detecting Rayleigh light including feeble interface reflection information by the same one line of detection optical system, while measuring a feeble Raman scattered light by a detector, in order to impart the interface reflection information required for depth-directional analysis of a light transmissive thin film sample.例文帳に追加

光透過性の薄膜試料の深さ方向解析に必要な界面情報を付与するために微弱なラマン散乱光を検出器で測定しつつ、微弱な界面反射情報を含んだレイリー光を同一の1系統の検出光学系により検出可能な測定装置および測定方法を提供する。 - 特許庁

The micro ruggedness value measurement device for measuring depth or height of sample by scanning its surface is provided with an in-lens reflective electron detecting means for shape measurement which receives only reflected electrons within a given angle region from those passing inside an object lens based on incident electrons irradiating the sample and converts them into electric signals.例文帳に追加

被観察対象の表面を走査して試料の深さ若しくは高さを測定する微細凹凸量測定装置において、試料に照射した入射電子に基づいて対物レンズの内側を通過する反射電子の中で、所定角度領域内の反射電子のみを受けて電気信号に変換する形状計測用インレンズ型の反射電子検出手段を備える、微細凹凸量測定装置。 - 特許庁

The copper foil for a high-frequency circuit is manufactured by roughening the surface of a non-treated copper foil, which is comprised of granular crystal structure having an average particle size of 0.3 μm or more in a 4 μm-depth area from its surface, by electrolytic etching.例文帳に追加

未処理銅箔の少なくとも電解エッチング処理を施す表面は、その表面から4μmの深さ領域において平均粒径が0.3μm以上の粒状の結晶組織からなり、該未処理銅箔の前記表面を、電解エッチングで粗化処理する高周波回路用銅箔の製造方法であり、この製造方法で製造した高周波回路用銅箔である。 - 特許庁

Table output data Dout0 and Dout1 corresponding to first table input data RA0 to be address-inputted to an LUT memory 12 and second table input data RA1 to which 1 is added are outputted, and interpolated outside the LUT memory 12, and output data whose bit depth is larger than that of the LUT memory 12 are obtained.例文帳に追加

LUTメモリ12にアドレス入力する第1のテーブル入力データRA0と、これに1を足した第2のテーブル入力データRA1のそれぞれに対応したテーブル出力データDout0,Dout1を出力し、LUTメモリ12の外部で内挿補間して、LUTメモリ12よりもビット深さの大きい出力データを得る。 - 特許庁

The method comprises a step for providing a semiconductor substrate wherein a prescribed process is carried out for forming a semiconductor element and a step for forming an ion implantation layer 105 by injecting trivalent impurities having a larger atomic weight than that of boron and consisting of a single atom to a prescribed depth of the semiconductor substrate by an ion implantation process.例文帳に追加

半導体素子を形成するための所定の工程が行われた半導体基板を提供する段階と、前記半導体基板の所定深さに、ホウ素より大きい原子量を有し且つ単原子からなる3価不純物をイオン注入工程によって注入してイオン注入層105を形成する段階を含む。 - 特許庁

Respective image data D_1 and D_2 of intermediate images I_1 and I_2 are acquired by rotating a pupil modulating device 3 at rotation angles 0° and 180°, and arithmetic processing for the sum and difference between these intermediate image data D_1 and D_2 is performed to obtain an image which has ghost removed and the depth of field extended in real time.例文帳に追加

瞳変調素子3を各回転角度0°と180°とに回転させたときにそれぞれ取得される各中間像I_1、I_2の各画像データD_1、D_2を取得し、これら画像データD_1、D_2間で和、差の演算処理を行って、リアルタイムにゴーストを除去した被写界深度を拡大した画像を得る。 - 特許庁

It must have at least one color buffer, astencil buffer of at least 1 bit, and a depth buffer of at least 12 bits.This visual must have as many color bitplanes as the deepest PseudoColoror StaticColor visual supported on level 0. 例文帳に追加

このビジュアルは少なくとも 1 つのカラーバッファ、少なくとも 1 ビットであるステンシルバッファ、少なくとも 12 ビットであるデプスバッファを持たなければならない。 このビジュアルは、レベル 0 でサポートされている\\f3PseudoColor\\fP ビジュアルと \\f3StaticColor\\fP ビジュアルのうち深さが大きい方と同じだけのカラービットプレーンを持っていなければならない。 - XFree86

To secure stable moldability without occurrence of a pinhole, breaking or the like of aluminum foil being a barrier layer even during cold molding of a forming depth or every mold shape, in a cold-forming packaging material used for a press-through pack wherein high dampproofness, barrier properties, light shielding properties, pinking resistance, and pinhole resistance are required.例文帳に追加

高い防湿性やバリア性、遮光性、耐突刺性、および耐ピンホール性が要求されるプレススルーパックに用いられる冷間成形用包材において、あらゆる金型形状や成形深さの冷間成形加工時においてもバリア層であるアルミニウム箔の破断やピンホール等の発生が無く、安定した成形性を確保することを目的としている。 - 特許庁

To provide an on-site vane test device mounted with an electrically driven gear which enables a rotation force to be applied from a place adjacent to and above soil under test in the ground without limit of a test depth by mounting an electrically driven gear and a torque measurement section working cooperatively each other inside a shoe to protect a vane.例文帳に追加

本発明は、電動ギア搭載型現場ベーン試験装置に関するものであって、ベーン保護用シューの内部に電動ギアとトルク測定部を連係搭載させることによって、試験深度の制限無しで試験対象深度の隣接上部で回転力を加えられるようになる電動ギア搭載型現場ベーン試験装置を提供するためのものである。 - 特許庁

To prevent degradation of a yield due to a short circuit between wires by preventing degradation of a margin of the depth of focus due to a hard mask film and degradation of visibility of an alignment mark, and allowing a self-alignment via to be formed, and to improve an insulation property between wires to improve reliability thereof.例文帳に追加

ハードマスク膜による焦点深度のマージンの低下及びアライメントマークの視認性の低下を防ぎ、且つ、セルフアラインドビアの形成を可能とすることにより、配線同士のショートによる歩留まりの低下を防止すると共に、配線同士の絶縁性を高め、その信頼性を向上させるようにする。 - 特許庁

An electron transfer speed in a semiconductor substrate is increased by giving an impurity concentration of the semiconductor substrate a concentration gradient from a standard concentration to a high concentration with depth, to quickly transfer electrons at a part deeper than a depletion part in a surface direction, and electron recovery is made to be fast by shortening a lifetime of a stray electron, thereby a time resolution is improved.例文帳に追加

半導体基板の不純物濃度を深度が深くなるに従って標準的な濃度より高濃度へと移行する濃度勾配をつけることにより、半導体基板中での電子移動速度を増し、空乏層より深部の電子をすばやく表面方向に移動させ、かつ、迷走する電子の寿命を短時間とすることで電子回収の高速化を図り、時間分解能を向上させるようにするものである。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation sensitive resin composition superior in line width roughness (LWR), depth of focus (DOP) and pattern profile, so as to more stably form a high-precision minute pattern for manufacturing a highly integrated high-precision electronic device, and to provide a method of forming a pattern using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、フォーカス余裕度(DOF)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an eddy-current type inspection device, capable of adapting to a tempering depth/hardness measuring test, even for a high-frequency tempered part which has its outside diameter changed by significant amount is inspected, because even an inspection target which is altered in its outside diameter can be inspected with high inspection accuracy, regardless of the measurement region, and to provide an eddy-current type inspection method.例文帳に追加

外径が変化する検査対象物であっても測定部位に関わらず高い検査精度で検査することができるため、外径が大きく変化するような高周波焼入れ部品を検査する場合であっても焼入れ深さ/硬度測定試験に適用することが可能な、渦流式検査装置、及び、渦流式検査方法を提供する。 - 特許庁

A 2D reproduction dedicated block Ln_2D is arranged following a 3D extent block 2001 in which a depth map data block D, a right view data block R, and a left view data block L are interleaved, and a 3D extent block 2002 including a 3D reproduction dedicated block L3_SS is arranged between the 2D reproduction dedicated block Ln_2D and a long jump point LB.例文帳に追加

デプスマップデータブロックD、ライトビューデータブロックR、レフトビューデータブロックLがインターリーブ配置した3Dエクステントブロック2001に連続して、2D再生専用ブロックLn_2Dが配置され、2D再生専用ブロックLn_2Dとロングジャンプ点LBとの間に3D再生専用ブロックL3_SSを含む3Dエクステントブロック2002が配置されている。 - 特許庁

Practically, a volume is about 150 cc to about 360 cc, a CG position is about 10 mm to about 20 mm on a ground face, a face depth is about 30 millimeters (mm) to about 65 millimeters (mm), a loft is about 10 degrees to about 16 degrees, a COR is about 0.790 to about 0.830, and a full length of the golf club is about 41 inches to about 45 inches.例文帳に追加

より具体的には、体積が約150ccから約360ccで、CG位置が地面の上において約10mmから20mmで、フェース深さが約30ミリメータ(mm)から約65ミリメータ(mm)で、ロフトが約10度から約16度で、CORが約0.790から約0.830で、ゴルフクラブ全体の長さが約41インチから約45インチである。 - 特許庁

To provide a resist composition giving a pattern having a smooth good surface free from foreign matter and rectangular good profile and also having a large focal depth in the case of an isolated pattern in lithography using a short-wavelength light source for exposure which enables ultra- microfabrication and a positive type chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、表面がスムーズで異物がない良好な表面を有し、かつ、矩形で良好なプロファイルを有するパターンが得られ、また、孤立パターンについて広い焦点深度を有するレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

An ink layer with a specified pattern of pinholes is formed by applying an ink coating liquid with 10-18" viscosity by a Zern cup measuring method using a gravure coating process with a gravure printing plate having 170-220 mesh and a groove depth of 45-70 in such a manner that the coating build-up is 1.0-1.8 g/m2.例文帳に追加

ザーンカップ測定法による粘度が10ないし18秒インク塗布液を、塗布量1.0ないし1.8g/m^2で、メッシュ170ないし220メッシュ及び溝の深度45ないし70のグラビア版を用いてグラビア塗工法により塗工して所定のパターンのピンホールを有するインク層を形成する。 - 特許庁

A neural network is formed by using a correspondence relation between color information (RGB) and a combination of a vertical position X, a horizontal position Y, and a depth direction Z for respective pixel of three-dimensional image data as a teacher signal, and a parameter group such as a weighting factor and the like that defines its structure is stored as compressed data.例文帳に追加

3次元画像データが有する各画素についての縦位置Xと横位置Yと奥行き位置Zの組み合わせに対する色情報(RGB)の対応関係を教師信号として、ニューラルネットワークを形成し、その構造を定義する重み係数等のパラメータ群を圧縮データとして記憶する。 - 特許庁

To provide a measuring probe capable of continuously an extremely fine region of a nanometer order while minimizing a contact state or a measuring position error without separating probes from a sample each time when measurement in a depth direction is performed with respect to the sample, a measuring instrument of surface characteristics and a measuring method of surface characteristics.例文帳に追加

試料に対して深さ方向の計測を行う際に、探針をその都度試料から離間させる必要がなく、接触状態や計測位置誤差を最小限に抑えてナノメートルオーダーの極微細領域を連続して計測することができる計測プローブ及び表面特性計測装置並びに表面特性計測方法を提供すること。 - 特許庁

In a reflection preventing structure, the irregularities have an average groove width Λ and an average depth d satisfying formula (1):0.45×Λ<d例文帳に追加

凹凸をもつ媒体1と媒体2の界面における媒体2の表面に対して、光が垂直に入射するときに、凹凸の平均溝幅をΛ、平均深さをd、媒体1での波長をλ1、媒体2での波長をλ2として、下記式(1)、(2)を充たすΛとdを持ち、かつ深さ方向への平均屈折率が連続的に変化することによって界面での全反射率を低減する。 - 特許庁

To provide a gable roof structure capable of easily giving special design variation with depth to a roof shape and effectively protecting the upper central part of a gable wall liable to be damaged by wind and rain without adopting special working and special settling difficult to be industrialized and pre-cut.例文帳に追加

工業化・プレカット化が困難な特殊加工や特殊納まりを採用することなく、重厚感を伴う特殊なデザインバリエーションを屋根形状に容易に付与することができると共に、風雨で痛みやすい切妻壁の上部中央部分を効果的に保護することのできる切妻屋根構造を提供する。 - 特許庁

An interlayer movement to another recording layer is executed only in a predesignated area during recording/reproducing while applying beams emitted from a recording/reproducing light source 1 and a servo light source 16 to a 3-dimensional recording medium 8 provided with a servo layer 31 indicating positional information or the like beforehand and capable of recording data in a depth direction.例文帳に追加

位置情報などを示すサーボ層31を予め有し、かつ深さ方向にデータ記録が可能な3次元記録媒体8に、記録再生用光源1及びサーボ用光源16から出射されたビームを照射しながら、記録再生時は他の記録層への層間移動を予め指定した領域においてのみ実行する。 - 特許庁

To provide a resin letterpress for high-definition printing which ensures a uniform relief depth and avoids reduction in relief strength while maintaining edge sharpness of relief protrusions, or to provide a method for manufacturing an element panel for an organic El display by which a high-definition pattern of a luminescent layer of an organic EL element can be uniformly and stably formed using the resin letterpress plate.例文帳に追加

一定のレリーフ深度を確保し、レリーフ凸部のエッジのシャープ性を維持しながら、レリーフ強度も低下することのない、高精細印刷用の樹脂凸版を提供すること、或いは、この樹脂凸版を用いて、有機EL素子の発光層の高精細なパターンを均一に安定して形成できる有機ELディスプレイ用素子パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a printing plate causing no ink transfer omission of a non-dense pattern part without deepening a plate depth, particularly a printing plate having high definition and causing no pattern omission even if the non-dense pattern part and a dense pattern part are mixed, and its forming method and a method of forming printed matter.例文帳に追加

本発明は、版深を深くしなくてもパターンが疎である部分のインク転移抜けが起こらない印刷用版を提供するためになされたものであり、特に、パターンが疎である部分と密である部分が混在していても高精細かつパターン抜けの起こらない印刷用版と、その形成方法、及び印刷物の形成方法を提供する。 - 特許庁

A plurality of plate boluses 44A to 44J are inserted into a radiation irradiation opening 15, respectively in accordance with arrival doses in the necessary depth direction of passed radiation with plate bolus slide mechanisms 46A to 46J, and radiation to unnecessary irradiation areas is shielded with a collimator 50 in accordance with a necessary plane dose distribution.例文帳に追加

複数のプレートボーラス44A〜44Jを、通過した放射線の必要な深さ方向到達線量に応じて、それぞれプレートボーラススライド機構46A〜46Jにより放射線照射開口15に挿入すると共に、必要な平面的線量分布に応じて、コリメータ50により不要な照射領域に対する放射線を遮蔽する。 - 特許庁

To provide a carburizing rolled steel which can exhibit excellent grain coarsening prevention effect and also has low hot deformation resistance and excellent hot forgeability even when subjected to carburizing at a temperature higher than before in order to perform carburizing or carbo-nitriding treatment in a shorter period of time when the carburizing rolled steel is used as a stock for bar-shaped machine parts such as a pulley for a CVT requiring carburizing depth and excellent hot forgeability.例文帳に追加

浸炭深さと優れた熱間鍛造性が求められる例えばCVT用プーリー等の棒状の機械部品用素材として、浸炭や浸炭窒化処理をより短時間で行ない得るよう、従来例よりも高温で浸炭を行なった場合でも優れた結晶粒粗大化防止効果を発揮し、且つ熱間変形抵抗が低くて優れた熱間鍛造性を有する浸炭用圧延鋼材を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printing plate having plate thickness of about 3-5 mm and stable relief depth by using a liquid resin composition having photosensitive characteristics suitable for the manufacture of a printing plate having thickness of about 7 mm, and to provide a method for manufacturing a flexographic printing plate having excellent compatibility with a method for manufacturing a 7 mm thick plate without using a support having a halation preventing function.例文帳に追加

版厚7mm前後の印刷版製造に適した感光特性を有する液状樹脂組成物を用いて、安定したレリーフ深度を有した版厚約3mm〜5mm程度の印刷版を製造するための方法であり、さらにハレーション防止機能を有する支持体を使用することなく、7mm版製造方法との互換性に優れたフレキソ印刷版の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an object body alignment inspection device of an ion implantation system for aligning and disposing an object body, by inspecting whether inclination and a rotation angle of an object body are in the range of a set value for preventing channeling phenomenon, wherein impurity ion to be implanted to an object body is implanted to a set depth or more, and its method.例文帳に追加

対象体に注入される不純物イオンが設定された深さ以上に注入されるチャネリング現象を防止するため、対象体の傾きと回転角が設定値の範囲にあるかどうかを検証し、これを通じて対象体が整列配置されるようにするイオン注入設備の対象体整列検証装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition having such a degree of sensitivity that it can be satisfied as a positive type photoresist composition used in ultra-microfabrication in the production of a semiconductor device, excellent in image contrast and section shape, particularly having good focal depth-width characteristics and good heat resistance, excellent also in storage stability and having very high practicality.例文帳に追加

半導体デバイスの製造における超微細加工に用いられるポジ型ホトレジスト組成物として、十分に満足しうる程度の感度を有し、画像コントラスト、断面形状に優れる上、特に焦点深度幅特性及び耐熱性が良好で、保存安定性にも優れた実用性の極めて高いものを提供する。 - 特許庁

To provide a carburizing steel which can exhibit excellent grain coarsening prevention effect and excellent rolling fatigue life even when subjected to carburizing at a temperature higher than before in order to perform carburizing or carbo-nitriding treatment in a shorter period of time when the carburizing steel is used as a stock for bar-shaped machine parts such as a pulley for a CVT requiring carburizing depth and rolling fatigue life.例文帳に追加

浸炭深さと転動疲労寿命が求められる例えばCVT用プーリー等の棒状の機械部品用素材として、浸炭や浸炭窒化処理をより短時間で行ない得るよう、従来例よりも高温で浸炭を行なった場合でも優れた結晶粒粗大化防止効果を発揮し、且つ転動疲労寿命にも優れた浸炭用鋼材を提供すること。 - 特許庁

To provide a decorative sheet excellent in resistance in use such as antistaining properties or weatherable adhesiveness, abrasion resistance, etc. having both of an asperity feeling visually recognized as recessed parts and a depth feeling as a design, especially excellent in design properties wherein visually recognized recessed parts are more clearly recognized as recessed parts, and a decorative plate using the decorative sheet.例文帳に追加

耐汚染性や耐候密着性、耐摩耗性等の使用時の耐性において優れることは元より、意匠として視覚的に凹部として認識される凹凸感と奥行き感とを併せ持つと共に、特に、視覚的に認識される凹部が凹部としてより明確に認められる意匠性に優れた化粧シートを提供することであり、さらには、その化粧シートを用いた化粧板を提供することである。 - 特許庁

In order to suppress especially transfer characteristics degradation caused by potential barrier wall of a surface shield layer 205 prominent in p/n/n^-/p^+/n structure, a part of a charge accumulation part 204 is formed in such depth as away from a silicon-gate oxide film interface 209 under a transfer gate electrode, directly below the transfer gate electrode 208.例文帳に追加

特に、p/n/n^−/p^+/n構造において顕著となる表面シールド層205によるポテンシャル障壁に起因する転送特性劣化を抑えるために電荷蓄積部204の一部を転送ゲート電極208の直下であって、且つ、転送ゲート電極下のシリコン−ゲート酸化膜界209面から離れた深さに形成する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition for exposure with far UV adaptable to exposure in the far UV region using ArF or KrF as a light source in production of a semiconductor device, ensuring improved dimensional uniformity of a resist pattern and excellent also in various properties as a resist, such as resolving power, focal depth and development defects.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ArFやKrFを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、レジストパターンの寸法均一性が改善され、さらに解像力、焦点深度、現像欠陥などのレジスト諸特性にも優れた遠紫外線露光用ポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

In a continuously variable transmission rolling element with a rolling surface (input disk 5, output disk 9, power roller 10), the rolling surface down to at least 1 mm depth has a high speed steel composition containing 5 to 10 vol.% hard particles of diameters less than or equal to 10 μm and other parts have alloy steel composition containing 0.20 to 0.35 wt.% carbon.例文帳に追加

転動面をそなえた無段変速機の転動体(入力ディスク5,出力ディスク9,パワーローラー10)において、少なくとも転動面はその表面から少なくとも深さ1mmまでの部分を直径10μm以下の硬質粒子を5〜10体積%含有する高速度鋼組成からなるものにすると共に、その他の部分を炭素含有量が0.20〜0.35重量%である合金鋼組成からなるものとした。 - 特許庁

例文

To provide a manufacturing method of a silicon substrate with a lifetime of 500 μsec or more that includes neither oxygen precipitates nor defects (RIE defect) detected by an RIE method such as COP or OSF at a depth of at least 1 μm from a surface serving as a device manufacture region, and to provide the silicon substrate manufactured by such method.例文帳に追加

デバイス作製領域となる表面から少なくとも1μmの深さに、酸素析出物、COP、OSF等のRIE法により検出される欠陥(RIE欠陥)が存在せず、かつ、ライフタイムが500μsec以上のシリコン基板の製造方法及び当該方法により製造されたシリコン基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

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