1153万例文収録!

「w-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(213ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定


セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

w-Inの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 11344



例文

A cartridge 1 for storing bills is provided with an adjusting guide 11 for adjusting width W of the storage space A parallel with transverse direction S of the bill 2 and connectors 12a, 12b in which a plurality of fitting channels for fitting the adjusting guide 11 vertically are formed in the transverse direction S by corresponding to size of a plurality of kinds of bills 2.例文帳に追加

紙幣収納用のカートリッジ1に、紙幣2の短手方向Sと平行な収納空間Aの幅Wを調節するための調整ガイド11と、調整ガイド11を垂直に嵌合させる嵌合溝が複数種類の紙幣2のサイズに対応させて短手方向Sに複数形成されたコネクタ12a、12bとを設ける。 - 特許庁

In the combustion exhaust gas quick cooling tower provided with the quick cooling tower 10 to introduce combustion exhaust gas G2 containing dust having high temperature into the quick cooling tower 10 and spray water W into the combustion exhaust gas G2 from a water spray in order to cool it, a scope 16 of quick cooling on at least the internal wall face of the quick cooling tower 10 is formed by a silicon carbide material.例文帳に追加

急冷却塔10を具備し、該急冷却塔10内に高温のダストを含む燃焼排ガスG2を導入し、該燃焼排ガスG2中に水噴霧スプレーから水Wを噴霧して、冷却する燃焼排ガス急冷却塔において、急冷却塔10の少なくとも内壁面の急冷範囲16を炭化珪素材で形成した。 - 特許庁

The method is characterized in that after the photo-polymerizable ink composition comprising a polymerization initiating system with a molar absorptivity coefficient of ≥1,000 M^-1cm^-1 in a light wave region of 400 nm-700 nm and a polymerization initiator is delivered on a substrate, the delivered ink is polymerized and cured by light-exposing by a light source of ≤1,000 W.例文帳に追加

支持体上に、400nm〜700nmの光波長領域におけるモル吸光係数が、1000M^−1cm^−1以上の重合開始系及び重合開始剤を含有する光重合型インク組成物を打滴した後、1000W以下の光源で露光により打滴されたインクを重合、硬化することを特徴とする。 - 特許庁

This electric wire protecting tube A formed by dividing 4 in freely opened and spread shape so as one side edge along a long direction of a tube material 1 made of a synthetic resin to cover the electric wire W and many barrier bar materials 9 are radially projected in the whole area of an outer peripheral face of the electric wire projecting tube A to keep respective intervals on which the bird cannot to stop.例文帳に追加

合成樹脂製からなる管体1の長手方向に沿った一側縁を電線Wに被着するため拡開自在に分割4して形成される電線保護管Aであって、該電線保護管Aの外周面の全域に多数本のバリヤー棒体9を鳥が止まれない間隔を保つようにして放射状に突設した。 - 特許庁

例文

In conducting a film-forming process on a wafer W by introducing a film-forming gas containing SiH4 gas, O2 gas and Ar gas into a process chamber 2 while plasma is generated in the process chamber 2, SiH4 gas is fed only from a top nozzle 20, and O2 gas and Ar gas are fed from the top nozzle 20 and from a side nozzle 24.例文帳に追加

処理チャンバ2内にプラズマを発生させた状態で、SiH_4ガスとO_2ガスとArガスとを含む成膜ガスを処理チャンバ2内に導入し、ウェハWの成膜処理を行う場合、まず、SiH_4ガスをトップノズル20のみから供給すると共に、O_2ガス及びArガスをトップノズル20及びサイドノズル24から供給する。 - 特許庁


例文

As a result, secondary electrons e^-, emitted from an electrode plate 62 by γ discharge are accelerated, in a direction which is opposite to that of the ions in the electric field of an upper ion sheath SH_U and passes through the plasma PR, and further traverses a lower ion sheath SH_L, and is injected into a resist pattern 100 on the surface of a semiconductor wafer W on a susceptor 12.例文帳に追加

そうすると、γ放電によって電極板62より放出された2次電子e^-は、上部イオンシースSH_Uの電界でイオンとは逆方向に加速されてプラズマPRを通り抜け、さらに下部イオンシースSH_Lを横断して、サセプタ12上の半導体ウエハW表面のレジストパターン100に所定の高エネルギーで打ち込まれる。 - 特許庁

In the treatment vessel 30, a cylindrical rectifying object 37 which is formed in a sag shape at a part outside the semiconductor wafer W and the inlet 32i at the ceiling 32h of the treatment vessel 30, and an upper exhaust port 38a which is arranged on the upper sidewall 32g of the treatment vessel 30 opposite to the rectifying object 37 are formed.例文帳に追加

処理容器30に、この処理容器30の天井部32hにおける半導体ウエハW及び導入口32iより外方位置に垂下状に形成される円筒状の整流体37と、この整流体37と対向する処理容器30の上部側壁32gに設けられる上部排気口38aとを形成する。 - 特許庁

Even when a weighing signal W(t) output from a load cell as a weighing apparatus includes a first oscillating wave which diminishes with the passage of time in accordance with the transient response characteristics of the load cell, the first oscillating wave can be diminished in time equivalent to the half period (=π) of the first oscillating wave.例文帳に追加

この発明によれば、計量器としてのロードセルから出力される計量信号W(t)に、当該ロードセルの過渡応答特性に従って時間の経過と共に減衰する第1振動波が含まれているとしても、この第1振動波の1/2周期(=π)に相当する時間で、当該第1振動波を減衰させることができる。 - 特許庁

The method for producing the hollow particles having two or more macropores of pore diameter of 60 nm to 30 μm in a part of a shell of silica or alkaline earth metal silicate includes the action of a precipitant aqueous solution on a W/O emulsion obtained by dispersing first aqueous phase particles containing water-soluble silicate and a macropore-forming water-soluble compound in an oil phase.例文帳に追加

水溶性珪酸塩とマクロ孔形成用水溶性化合物を含む第1水相粒子を油相中に分散してなるW/Oエマルジョンに沈殿剤水溶液を作用させることを特徴とする、シリカまたはアルカリ土類金属珪酸塩の殻の部分に孔径60nm〜30μmの複数のマクロ孔を有する中空粒子の製造方法。 - 特許庁

例文

By rotating this input device 60 by applying a force having acceleration more than a prescribed level in a W direction with a grip part 61 as a supporting point, the weight 2 is moved in the bending direction of the coil spring 3 by a centrifugal force generated at such a time and an electric signal outputted from the detecting means 21 is changed corresponding to the moving amount of the weight 2.例文帳に追加

この入力装置60に対して、握り部61を支点としてW方向へ所定以上の加速度を有する力を与えて回転させることにより、このとき生じる遠心力によって錘2は、コイルばね3が縮む方向へ移動され、錘2の移動量に応じて前記検出手段21から出力される電気信号が変化する。 - 特許庁

例文

In an underfill treatment, a work W placed in a heating zone HZ formed of a heating cover 21, a fixed rail 51, a movable rail 52, a heater box 23, and a heating-zone room-temperature protective sheet 64 is irradiated with heat rays from a heater tube 31 for near infrared rays adjusted by an interference parting plate 32 while being rocked by a rocking mechanism 80.例文帳に追加

アンダフィリング処理において、熱カバー21、固定レール51、移動レール52、ヒータボックス23、加熱ゾーン室温保護シート64により形成された加熱ゾーンHZに載置されたワークWは、揺動機構80により揺動されながら、干渉仕切板32により調整された近赤外線のヒータ管31の熱線が照射される。 - 特許庁

In the subject coating method, a pressure reduction chamber 40 and a slot die 13 are provided adjacently to each other from an upstream side in a traveling direction of a support W, a backup roller 11 is provided oppositely to the slot die, and the support continuously traveled by imparting tension by the pressure reduction chamber and winding on the backup roller is coated with a coating liquid 14 using the slot die.例文帳に追加

支持体Wの走行方向上流側より減圧チャンバ40とスロットダイ13とを隣接して設けるとともに、スロットダイに対向させてバックアップローラ11を設け、減圧チャンバにより張力を与えバックアップローラに巻き掛けて連続走行させる支持体上に、スロットダイを使用して塗布液14を塗布する塗布方法。 - 特許庁

The quenching apparatus 1 is provided with; oil 2 as cooling liquid; a quenching vessel 3 for storing the oil 2; an agitator 6 as a convective flow generating means; and an oil-spraying means 7 which is dipped into the oil 2 in the quenching vessel 3 and sprays the oil 2 for cooling toward the plurality of work-pieces W laid on a pallet 4 under accommodating state in a basket 5.例文帳に追加

焼入れ装置1は、冷却液としての油2と、油2が貯溜される焼入れ槽3と、対流発生手段としてのアジテータ6と、焼入れ槽3内の油2中に浸漬され、バスケット5に収容された状態でパレット4上に載置された複数のワークWに向けて冷却用の油2を吹付ける油吹付け手段7とを備える。 - 特許庁

The water cooling machine 100 includes a body part 10 having a cooling chamber 2 with a PET bottle 1 stored therein, an adaptor 5 mounted on a mouth part 1b of the PET bottle 1, a nozzle part 20 for spouting water W in the PET bottle 1 via the adaptor 5, and cooling means 30 for cooling the cooling chamber 2, in which the nozzle part 20 is made attachable/detachable.例文帳に追加

本発明は、ペットボトル1が収容された冷却室2を有する本体部10と、ペットボトル1の口部1bに取り付けられたアダプタ5と、該アダプタ5を介してペットボトル1の中の水Wを注出させるノズル部20と、冷却室2を冷却する冷却手段30と、を備え、ノズル部20が着脱自在となっている冷水機100である。 - 特許庁

A chute 4 which is diagonally and slidably lowered is arranged on a straight motion guide 5 on a base frame 6 in an expandable and slidable reciprocating manner so as to close a space 1 at a position with the space 1 opened at which the sheared scrap S is freely dropped in a lower front surface of a lower blade BL cutting a work W.例文帳に追加

このため、ワークWの切断が行われる下ブレードB_L の下部前面には、切断されたスクラップSが自由落下するすきま寸法lを開けた位置に、斜行スライド下降可能のシュータ手段4を前記すきま寸法lを閉鎖し得るよう伸縮スライド往復可能に、ベースフレーム6上の直線運動ガイド5上に配設した。 - 特許庁

The circulating pump 31 is installed in the rear of a filter entrance port 22 of a filter case 20 which houses a lint filter 25 through the front of an outer box, and the circulating pump 31 is inclined back downwardly relative to the filter case 20 by an angle θ at which a pump vane 37 is submerged in water even at the lowest water level W during circulation of water by the circulating pump 31.例文帳に追加

循環ポンプ31を、リントフィルタ25を外箱の前方より収容するフィルタケース20のフィルタ出入口22より後部に設け、そのフィルタケース20から循環ポンプ31を、該循環ポンプ31が水を循環させるときの中で、最低水位Wとなるときにもポンプ羽根37が水没する角度θ、後下がりに傾斜させて設けた。 - 特許庁

This macromolecular-flocculant dissolving method comprises a step to mix the powdery or granular hardly-soluble macromolecular flocculant 1 with water-absorptive powdery silica gel 2 at the prescribed ratio and a step to throw the mixed flocculant 1 and silica gel 2 in flowing water so that the flocculant 1 is dissolved in the water W.例文帳に追加

本発明の高分子凝集剤の溶解方法は、粉末状または顆粒状の難溶性の高分子凝集剤1と、吸水性を有する粉末状のシリカゲル2とを所定の割合で混合し、混合された高分子凝集剤1およびシリカゲル2を流水中に投入することによって、高分子凝集剤1を水Wに溶解させる。 - 特許庁

This W/O emulsion type flame retardant hydraulic oil prepared by dispersing a base oil in water with a surfactant, is characterized by adding a compound represented by general formula (1) (R groups are each independently a 1 to 10C hydrocarbon group) in an amount of 0.01 to 10 mass%.例文帳に追加

界面活性剤を用いて基油に水を分散させたW/Oエマルション型難燃性油圧作動油において、下記一般式(1):[式中、Rは、それぞれ独立して炭素数1〜10の炭化水素基である]で表わされる化合物を0.01〜10質量%添加したことを特徴とするW/Oエマルション型難燃性油圧作動油である。 - 特許庁

This air processor 1 provided with the cooling device 2 for cooling at least air A taken in comprises an evaporation part 4 for evaporating water content permeated into a humidifying medium 3 by sending air F to the humidifying medium 3, and a water feeding part 5 for supplying drain water W produced in the cooling device 2 to the evaporation part 4.例文帳に追加

取込んだ空気Aを少なくとも冷却する冷却装置2を備えるエアプロセッサ1を構成するに際して、加湿媒体3に送風Fを当てることにより当該加湿媒体3に浸透した水分を蒸発させる蒸発部4と、冷却装置2で発生したドレン水Wを蒸発部4に供給する送水部5を備える。 - 特許庁

Since each of the housing vessels 12 is formed into a flat shape and the housing vessels are arranged almost in parallel at predetermined intervals by frame members 13 having water permeability, flow resistance of the circulating water W in the antifouling apparatus 10 can be made small, the flow velocity can be accelerated and the antifouling effect can be improved.例文帳に追加

収容容器12は、扁平形状に形成されており、通水性を有する枠部材13により所定の間隔をあけて略平行に配置されているため、防汚装置10に対する循環水Wの通水抵抗を小さくすることができるので、流速を速くすることができ、防汚効果を向上させることができる。 - 特許庁

The device for forming the shrinking tube, is provided with dies 1 divided into plurality, a driving mechanism for driving each die 1 so as to push from the outside in the diameter direction of the blank tube W, respectively and spacers 3 disposed between mutually adjoined dies 1, 1 for forming a space S permissible to a prescribed amount of fluidity in the material of the shrinking blank tube.例文帳に追加

縮管成形装置は、複数に分割された型1、1、1…と、各型1をそれぞれ素管Wの径方向外側から押圧させるよう駆動する駆動機構と、縮径される素管の材料の所定量の流動を許容する空間Sを形成するために互いに隣接する型1、1の間に配置されるスペーサ3と、を備えてなる。 - 特許庁

The nickel-hydrogen secondary battery comprises an electrode group 5 having a positive electrode 2 mainly containing nickel hydroxide, a negative electrode 4 mainly containing a hydrogen storage alloy and a separator 3 mounted therebetween, sealed in a battery can 1 together with an alkaline electrolyte, wherein W element and Na element coexist in the battery.例文帳に追加

そのニッケル・水素二次電池は、水酸化ニッケルを主成分とする正極2と水素吸蔵合金を主成分とする負極4の間にセパレータ3が介装されている電極群5をアルカリ電解液と一緒に電池缶1内に封入したニッケル・水素二次電池において、電池内にはW元素とNa元素が同時に存在している。 - 特許庁

On an original image surface of a projector 10, a search range in search of an original image correspondence point W corresponding to a focused-on point X for composing the target image is limited to a partial interval in an epipolar line Lp on the original image surface determined by epipolar geometry for a video camera 8 and the projector 10 corresponding to each focused-on point X.例文帳に追加

プロジェクタ10の原像面上にて、目的像を構成する注目点Xに対応する原像対応点Wを探索する際の探索範囲を、注目点Xそれぞれに対応してビデオカメラ8及びプロジェクタ10に関するエピポーラ幾何により定まる原像面におけるエピポーラ線Lpのうち一部区間に限定する。 - 特許庁

The image forming apparatus selects either a first state where the belt member 8 is wound on the pressure rotating body 19 by a predetermined winding amount on the upstream of the nip N1 to form a pre-nip W, or a second state where the winding amount in the first state is reduced while the pressure rotating body 19 is in contact with the belt member 8.例文帳に追加

そして、ニップ部N1の上流側で加圧回転体19にベルト部材8が所定の巻付け量にて巻装されてプレニップ部Wが形成された第1の状態と、加圧回転体19がベルト部材8に当接した状態で第1の状態における巻付け量を減少させる第2の状態と、が切り替え可能に構成されている。 - 特許庁

Moreover, an opening of the enclosed space 3a through the deformation of the buffer 3 improves makes a region inside the enclosed space 3a serve as an air space A to improve a void rate inside the fuel assembly storage cask 200 and restrain a pressure (internal pressure) in an internal space 201a from rising due to an expansion of the water W in a thermal environmental event.例文帳に追加

しかも、緩衝体3が変形して密閉空間3aを開放することで、密閉空間3a内の領域が空気層Aとなって燃料集合体収納容器200内のボイド率が向上され、熱的環境事象において、水Wの膨張による内部空間201aの圧力(内圧)の上昇が抑制される。 - 特許庁

After filling up rubber material X more than the volume of the molding part into the molding part 11 of the mold 10, a base plate 2 having the through-hole 2a loaded with a pipe member 20 is fitted in a plate fixation section 13 of the mold 10, and the base plate 2 is pushed in by applying the load W while releasing the extra rubber material X into the pipe member 20.例文帳に追加

成形型10の本体成形部11にその容積よりもゴム材料Xを多めに充填した後、貫通穴2aにパイプ部材20を装填したベースプレート2を成形型10のプレート嵌込み部13に嵌め込み、荷重Wを負荷することにより、余分なゴム材料Xをパイプ部材20内に逃がしながら、該ベースプレート2を押し込む。 - 特許庁

A sensing device 100 includes: control lines CA1 to CA240 and CB1 to CB240; sensing data lines SL1 to SL320; a plurality of sensor circuits Q installed in association with the crossing of the control lines CA1 to CA240 and the sensing data lines SL1 to SL320; and a plurality of amplifier circuits W installed in association with the sensing data lines SL1 to SL320.例文帳に追加

センシング装置100は、制御線CA1〜CA240,CB1〜CB240と、感知データ線SL1〜SL320と、制御線CA1〜CA240と感知データ線SL1〜SL320との交差に対応して設けられた複数のセンサ回路Qと、感知データ線SL1〜SL320に対応して設けられた複数の増幅回路Wとを備える。 - 特許庁

An upper heating element 3 which heats a single semiconductor wafer W arranged in a processing chamber 2 of the single wafer type heat treatment apparatus 1 from above is area-divided into a plurality of first to third upper heating zones 31a to 31c, and first to third upper heaters 5a to 5c which are brought individually under temperature control are arranged in the first to third upper heating zones 31a to 31c.例文帳に追加

枚葉式熱処理装置1の処理室2に配置された単一の半導体ウエハWを上方から加熱する上加熱体3を、複数の第1〜第3の上加熱ゾーン31a〜31cに領域分割し、第1〜第3の上加熱ゾーン31a〜31cには個別に温度制御される第1〜第3の上ヒータ5a〜5cを配置する。 - 特許庁

The transfer apparatus 1 includes an object holder 5 holding a to-be-molded article W and a mold holder 9 which moves relatively in such a direction as to access or leave the object holder 5 while holding the mold M or positions freely the rotating position, relative to the object holder 5, around the shaft CL1 extending in the moving direction.例文帳に追加

被成型品Wを保持する被成型品保持体5と、型Mを保持し被成型品保持体5に対して接近・離反する方向で相対的に移動すると共にこの方向に延びた軸CL1を回転中心にして被成型品保持体5に対し相対的に回転位置決め自在な型保持体9とを有する転写装置1である。 - 特許庁

In a second watermarking block 120, a modification section 16 generates a plurality of candidates of second watermark data Y' by scrambling information regarding the embedding location P of the first watermark data X and a second watermarking section 18 embeds these candidates in the first watermarked host data W and selectively outputs second watermarked host data U with high robustness.例文帳に追加

第2透かし埋め込みブロック120において、変更部16は、第1透かしデータXの埋め込み位置Pに関する情報をスクランブルして複数の第2透かしデータY’の候補を生成し、第2透かし埋め込み部18は、それらの候補を第1埋め込みホストデータWに埋め込み、耐性の強い第2埋め込みホストデータUを選択して出力する。 - 特許庁

An etching processing device 20 for etching an object in an evacuated atmosphere comprises a processing bath 21, where a carried-in semiconductor wafer W is etched, and a vacuum pump 30, which provided on the lower side of a susceptor 22 of the processing bath 21 while being coaxial with the processing bath 21, sucks the exhaust of the processing bath 21 for evacuation.例文帳に追加

真空雰囲気で被処理体にエッチング処理を施すエッチング処理装置20は、搬入された半導体ウエハWにエッチング処理を施すための処理容器21と、この処理容器21のサセプタ22の下方側に処理容器21と同軸的に配置され、処理容器21内の排気を吸引して真空引きするための真空ポンプ30とを具備する。 - 特許庁

To provide a method of reducing the thickness of a hot slab by which yield can be improved due to the reduction of width correcting work such as an edger and the reduction of trimming by reducing a width spread W at the reduction in a thickness direction and a width distribution ΔW while holding excellent productivity when performing the reduction in the thickness direction by a thickness reducing press.例文帳に追加

板厚圧下プレスによってスラブの板厚方向圧下を行うに際して、良好な生産性を保持しつつ、板厚方向圧下時の幅広がりW、幅分布ΔWを低減して、エッジャー等の幅修正加工の縮小化やトリム代の低減による歩留まり向上を可能とする熱間スラブの板厚圧下方法を提供する。 - 特許庁

A 1st storing means 13 for storing the image and coating program of the work W is provided, the coating program corresponding to the image is read out from the 1st storing means 13 with a coating control device 4 based on the image obtained in the photographing devices 3A and 3B and the coater 1 is controlled in accordance with the coating program.例文帳に追加

ワークWの画像とそのワークの塗装プログラムを記憶する第1記憶手段13を設け、前記撮影装置3A,3Bで得られたワークWの画像に基づいて、塗装制御装置4が第1記憶手段13からその画像に対応した塗装プログラムを読み出し、その塗装プログラムにしたがって塗装機1を制御する。 - 特許庁

Since laser beams can be irradiated in both the longitudinal direction of the laser beam source unit 10 and the direction orthogonal thereto, a laser beam machining apparatus can be installed without any running-out of the workpiece in the width direction with respect to a conveying line L even when the printing is performed on either the top face or the side face of a workpiece W.例文帳に追加

そのため、レーザ光をレーザ光源ユニット10の長手方向並びにこれと直交する方向のいずれの方向へも照射出来るから、ワークWの上面或いは側面のいずれの面に印字等する場合であっても搬送ラインLに対して幅方向の飛び出しなく同レーザ加工装置を設置することが出来る。 - 特許庁

A multiplayer film, whose main composition is W having a mechanical strength larger than a wiring 18B whose main conductive layer is an Al alloy film and a bonding pad BP, is formed in an opening 21B formed in a silicon oxide 19, 20, and a multiplayer film 22B is interposed between the wiring 18B and the bonding pad BP.例文帳に追加

酸化シリコン膜19、20に形成された開口部21B内において、Al合金膜を主導電層とする配線18BおよびボンディングパッドBPに比べて機械的強度の強いWを主成分とする積層膜22Bを形成し、配線18BとボンディングパッドBPとの間に積層膜22Bが介在する形状とする。 - 特許庁

The clutch mechanism is so constructed that a coupling 108 and a bearing 122 forming an input side of bearing are made of resin, and a shat 10 and an annular sidewall 56 forming an output side of bearing are also made of resin, and then a magnetic circuit as shown in dotted line W is formed, thereby no magnetic circuit is constituted as in a bearing part of conventional construction.例文帳に追加

入力側の軸受を構成する、継手108および軸受122を樹脂製品とし、また、出力側の軸受を構成する、シャフト10および環状側壁56を樹脂製品とし、また、点線Wに示すような磁路を形成するように構成したため、従来の構造のように軸受部において磁気経路が構成されない。 - 特許庁

A pressing point P to the coin by a pressing mechanism 64 for applying the pressing force to the conveyed coin C is determined on a position close to the downstream side in the coin conveying direction with respect to a center Z of each sorting hole 10 (for example, a position with W/2 from downstream end part in conveying direction of sorting hole 10).例文帳に追加

搬送される硬貨Cに対して押圧力を付与する押圧機構64による硬貨に対する押圧点Pを、各選別孔10の中央Zよりも硬貨搬送方向下流側に寄った位置(例えば、選別孔10に対応する硬貨Cの直径をWとした場合、選別孔10の搬送方向下流の端部からW/2以内の位置)にする。 - 特許庁

In the parallel winding method for forming a coil C by winding a plurality of wires W linearly aligned around a winding frame 49, to be received by a coil receiving tool 80, the plurality of wires are wound in the opposite order for the axial direction of the winding frame when a coil of the next pole is formed after at least one coil is formed.例文帳に追加

複数本の導線Wを一列に整列させて巻枠49に巻き付けてコイルCを形成し、このコイルをコイル受け治具80に落とし込むようにしたパラ巻線方法において、少なくとも1つのコイルを形成して、次の極のコイルを形成する際、前記巻枠の軸方向に対する前記複数本の導線の配列順序を逆転させる。 - 特許庁

The electron beams EB are radiated from an outgoing window 40g of an electron beam generation unit 40A, 40B to a substrate surface while being scanned in a scanning direction (a first direction) Y, and a substrate W concerned is moved in a horizontally moving direction (a second direction) X and the electron beams EB are radiated to the substrate surface Wf two-dimensionally.例文帳に追加

電子ビーム発生ユニット40A,40Bの出射窓40gから電子ビームEBがスキャン方向(第1方向)Yに走査されながら基板表面に照射されるとともに、当該基板Wが水平移動方向(第2方向)Xに移動して基板表面Wfに対して電子ビームEBが2次元的に照射される。 - 特許庁

This drying system utilizes a compression refrigerating system, and an adjustment condenser is divided into a condenser 13 capable of adjusting the exhaust heat and releasing the heat to the outside of the system, and a heating condenser 11 for evaporating the moisture in a dried object (W) by supplying the heat to the moist dried object in a processing tank 5 and producing the moist air.例文帳に追加

圧縮冷凍システムを利用し、凝縮器を、系外に熱を放出する排熱量調整可能な調整用凝縮器13と、処理槽5内に装入された含水性の被乾燥処理物に熱を供給することで被乾燥処理物(W)中の水分を蒸発させて湿り空気を生成する加温用凝縮器11とに分割させた。 - 特許庁

The functional structural bodies corresponding to various purposes as required are loaded by setting the vehicle on a loading frame part 2 of which the loading mechanism to fit and attach the functional structural body W unitized by storing a constituent member in a frame body, and the plurality of functional structural bodies unitized by storing the constituent members in the frame body.例文帳に追加

積載架台部2に、枠体内に構成部材を収容してユニット化された機能構造体Wを嵌合着合する搭載機構を設けた車両と、前記枠体内に構成部材を収容してユニット化された複数の機能構造体とを設定し、必要に応じて目的に対応する機能構造体を搭載するように構成した。 - 特許庁

The system 1 for producing a semiconductor substrate comprises a CVD furnace 2 for growing an epitaxial layer on a semiconductor substrate (wafer) W, an exhaust gas bubbler 3 branched from the way of piping 23 for discharging exhaust gas, and an analyzer 4 for analyzing metals in the exhaust gas captured by pure water 33 in the bubbler 3.例文帳に追加

半導体基板の製造装置1は半導体基板(ウェーハ)Wにエピタキシャル層を成長させるCVD炉2、その排気ガスの排出用配管23の途中から分岐して設けられた排気ガスのバブリング装置3、バブリング装置3の純水33に捕捉された排気ガス中の金属を分析する分析装置4とから構成される。 - 特許庁

The fine bubble generation apparatus 11 comprises fine bubble generator 10 immersed in water W in a storage tank 12, a pump P for supplying water to the fine bubble generator 10, an air pump AP for supplying air with an increased oxygen concentration by passing air to an oxygen-enriching apparatus 90 to the fine bubble generator 10.例文帳に追加

微細気泡発生装置11は、貯留槽12の水W中に浸漬された微細気泡発生器10と、微細気泡発生器10へ水を供給するポンプPと、酸素富化器90を通過して酸素濃度を高めた空気を微細気泡発生器10へ供給する空気ポンプAPと、ポンプPと微細気泡発生器10とを備えている。 - 特許庁

Shape data regarding the room layout of a building to be evaluated and the opening parts W of the respective rooms are stored in a shape data storage means 10 and the illumination distribution in a desired room of the building to be evaluated is computed by an arithmetic means 12 according to the shape data on the opening part.例文帳に追加

評価対象の建物の間取り及び各部屋の開口部Wに関する形状データを形状データ記憶手段10に記憶させ、上記評価対象の建物における所望の部屋内の照度分布を上記開口部の形状データに基づいて演算手段12により演算するようにした光環境評価方法。 - 特許庁

When the user is identified, original data for authentication is generated from the tally data α read from a memory in the IC card 2 by an IC card R/W 3 and the tally data β stored in the authentication information management server 5 and is compared with biological information of the user to be identified, which is read by the biological authentication apparatus 4, to identify the user.例文帳に追加

個人認証時は、ICカードR/W3によりICカード2内のメモリから読み込んだ割符データαと、認証情報管理サーバ5に保存されている割符データβとから元の認証用データを生成し、生体認証装置4により読み込んだ認証対象のユーザの生体情報と比較して個人認証を行う。 - 特許庁

The method for washing a substrate using functional water as washing water consists of a process for dipping a wafer W in the washing water that is accommodated in treatment baths 1A and 1B, a process for supplying the washing water into the treatment baths 1A and 1B for overflowing, and a process for immediately draining the overflowed washing water without using any circulation.例文帳に追加

機能水を洗浄水として用いて基板を洗浄する洗浄方法であって、処理槽1A,1B内に収容された洗浄水中にウエハWを浸漬させる工程と、洗浄水を処理槽1A,1B内に供給してオーバーフローさせる工程と、オーバーフローさせた洗浄水を循環使用せず直ちに排水する工程とからなる。 - 特許庁

Routes (piping 61, supply duct 62 and ventilation guide 62a) wherein the dry air DF generated by the dry air generator 60 is supplied to the substrate W elevated from the internal tank 40 of a treatment tank 4 are formed of materials that are lower in gas discharging speed than that of a vinyl chloride and lower in water absorption than that of the vinyl chloride.例文帳に追加

ドライエア発生装置60により発生されたドライエアDFが処理槽4の内槽40から引き上げられる基板Wに供給されるまでに通過する経路(配管61、供給ダクト62および通気ガイド62a)には、塩化ビニルよりもガス放出速度が低くかつ塩化ビニルよりも吸水率が低い材料が用いられる。 - 特許庁

In the optical information recording medium in which recording and reproducing are possible by irradiation of energy beams, the recording layer has ≤0.6 J/g specific heat, ≤0.9 W/cm.K thermal conductivity and 40 to 75% reflectance when the recording film is formed, and the modulation is60% after signals are recorded.例文帳に追加

エネルギービームの照射により記録・再生が出来る光情報記録媒体において、記録層の比熱が0.6J/g以下であり、かつ熱伝導率が0.9W/cm・K以下であり、作成時の該記録膜の反射率が40%〜75%であり、信号記録後のモジュレーションが60%以上であることを特徴とする光情報記録媒体。 - 特許庁

The managing device 21 determines a storage position of the cargo W in each set zone A to H, sets the location information indicating the set zones A to H and the storage position automatically, and allots the location information to respective ID tags T automatically based on arrangement positions of the ID tags T and the storage position in the zones A to H.例文帳に追加

管理装置21は、設定された各ゾーンA〜H内における荷物Wの格納位置を決定するとともに、設定されたゾーンA〜Hと格納位置とを示すロケーション情報を自動的に設定し、IDタグTの配置位置とゾーンA〜Hと格納位置とに基いて、ロケーション情報をそれぞれのIDタグTに自動的に割り付ける。 - 特許庁

例文

In a digital watermarking apparatus, a location detecting section 12 generates a plurality of candidates of an embedding location P of first watermark data X in a first watermarking block 110, and a first watermarking section 14 embeds these candidates of the watermarking location P of host data V and selectively outputs first watermarked host data W with high watermark robustness.例文帳に追加

第1透かし埋め込みブロック110において、位置検出部12は、第1透かしデータXの複数の埋め込み位置Pの候補を生成し、第1透かし埋め込み部14は、ホストデータVのそれらの埋め込み位置Pの候補に第1透かしデータXを埋め込み、透かしの耐性が強い第1埋め込みホストデータWを選択して出力する。 - 特許庁




  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2026 GRAS Group, Inc.RSS