「w-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(212ページ目) - Weblio英語例文検索

Furthermore, the log record evaluation value computing section adds the second log record sufficiency obtained for respective terminals A, B, and derives an additional value thereof, as a log record evaluation value that is the degree of fulness of log records in an entire path until an actual threat X reaches asset information W.例文帳に追加

また、ログ記録評価値算出部は、各端末Ａ，Ｂについてそれぞれ得られた第２ログ記録十分度を加算し、その加算値を、発生した脅威Ｘが資産情報Ｗに到達するまでの経路全体におけるログ記録の充実度合いであるログ記録評価値として導出する。 - 特許庁

The liquid processing system 1 comprises a tubular processing chamber 26, and a mechanism disposed in the processing chamber 26 and liquid processing an article, e.g. a wafer W held rotatably, while rotating by supplying a specific processing liquid thereto.例文帳に追加

液処理装置の一実施形態である洗浄処理装置１は、筒状の処理チャンバ２６と、処理チャンバ２６内に設けられ、回転自在に保持されたウエハＷ等の被処理体を回転させながら被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理機構とを具備する。 - 特許庁

An information center C receives perusal data from a web system W via a network I, searches spot information, based on the browsing data, and corrects the distribution data so that the character string data for indicating a spot included in the spot information can be linked to desired map data.例文帳に追加

情報センターＣは、ウェブシステムＷからネットワークＩを介し閲覧データを受信し、この閲覧データに基づき地点情報を検索し、当該地点情報に含まれる地点を表す文字列データを所望地図データにリンク可能とするように上記配信データを修正する。 - 特許庁

The wind power generation apparatus 1 includes: wind force adjusting plates 6 provided movably in opening parts 24 between adjacent guide plates 23 of a guide part 2, and a brake mechanism 7 configured to brake rotation of a drum type windmill 3 according to the force of external wind W.例文帳に追加

本発明の風力発電装置１は、ガイド部２の隣接するガイド板２３の間の開口部２４に移動可能に設けられた風力調整板６と、外部の風Ｗの大きさに応じてドラム型風車３の回転を制動するように構成されたブレーキ機構７とを備えている。 - 特許庁

Then, signals of the sound collected by the plurality of microphones 12 are collected in time series by a collection device 18, and collected data by the collection device 18 are subjected to complex spectral processing by a processing device 20, to thereby enable visualization of the vibration mode of the measuring object W.例文帳に追加

そして、収集装置１８によって、複数のマイクロホン１２で集音された音の信号を時系列で収集し、処理装置２０によって、収集装置１８の収集データに複素スペクトル処理を施すことにより、被測定物Ｗの振動モードの可視化を行うことが可能となる。 - 特許庁

The heat-dissipating sheet is formed of a fabric having supported thereon a cured product of a thermosetting resin composition containing a thermally conductive filler, wherein a thermosetting resin contains a diallylphthalate resin and the heat-dissipating sheet has a thermal conductivity, in at least one direction thereof, of ≥2 W/mK.例文帳に追加

熱伝導性フィラーを含有する熱硬化性樹脂組成物を担持した布帛からなる放熱シートであって、熱硬化性樹脂がジアリルフタレート樹脂を含有するものであり、且つ当該放熱シートの少なくとも一方向の熱伝導率が２Ｗ／ｍＫ以上である放熱シート。 - 特許庁

Conventionally, the rising flow of the cooling liquid 1 in the cooling vessel 2 is formed with e.g. a propeller stirring machine, and since the material W to be treated is rapidly cooled, the cooling capacities are different at the upper part and the lower part of the material to be treated, uneven quenched deformation is developed.例文帳に追加

従来は例えばプロペラ攪拌機により冷却槽２内に冷却液１の上昇流を形成し、これにより被処理物Ｗを急冷しているため、被処理物Ｗの上部と下部とで冷却能が異なってしまい、不均一な焼入れ変形が発生する。 - 特許庁

In the power source base 2a, a current limiting part 23a monitors current flowing through a primary coil 22a, a switching element is drawn into an OFF operation state when a limit current value is reached, and power supply to the control board 3 is limited to a specification value 15 W or less determining securement of fire safety.例文帳に追加

電源基板２ａでは、電流制限部２３ａが一次巻線２２ａに流れる電流を監視し制限電流値に達するとスイッチング素子をオフ動作状態に引き込み制御基板３への供給電力を火災安全性の確保を定める規格値１５Ｗ以下に制限する。 - 特許庁

In a packaging ream feeder 2c for feeding a packaging ream L to the flat paper packaging machine 2, the number of sheets of the flat paper that forms the packaging ream is counted by a sheet counter 20 from the top of the ream stack W, and the packaging ream L that has been formed is fed to the flat paper packaging machine 2.例文帳に追加

平判包装機２へ包装リームＬを供給する包装リーム給送装置2cに供して、リーム山Ｗの上部から包装リームを生成する平判紙の枚数をシートカウンタ20で計数し、生成された包装リームＬを平判包装機２へ供給する。 - 特許庁

Thus, regardless of the accuracy of the shape of the metallic mold such as a die 3, the cushion cylinder 4, a stock W is held with the pressure required for respective sections of the metallic mold, and consequently a flowing-in quantity or an elongation quantity of the stock is adjusted to an ideal value for each section of a pressed product.例文帳に追加

よって、ダイ３、クッションリング４等、金型形状の精度の如何に拘らず、実際にその金型の各部位に必要とされる圧力で素材Ｗを挟持することで、素材流入量または延び量を、プレス品の部位毎に理想的な値へと調整することができる。 - 特許庁

The electromagnetic wave absorptive object 1 is so constituted that an electromagnetic wave absorbing material W compounding an electrically conductive oxidizing titanium with a basic material in a space 3a is applied to a net body 3 forming a net-like body put on the surface of an electromagnetic wave passive reflector 2 with the thickness (d) of a net body 3 as a standard.例文帳に追加

電波吸収体１は、電波反射板２の表面に装着した網状体を構成する網体３に、網体３の厚さｄを基準として、その空隙部３ａに導電性酸化チタンを基材に配合した電波吸収材料Ｗを塗布して構成するものである。 - 特許庁

An estimation matrix calculator 12 calculates a first estimation matrix W^(1), on the basis of the autocorrelation matrix B of the spectral radiant intensity of a light source to be used to provide an illuminating environment in the shooting object, the spectral transmission factor f^(1) of a diffusing member, and the spectral sensitivity S of the imaging apparatus.例文帳に追加

推定行列算出部１２は、被写体における照明環境を提供するために用いられ得る光源の分光放射輝度の自己相関行列Ｂ、拡散部材の分光透過率ｆ^（１）、撮像装置の分光感度Ｓに基づいて、第１推定行列Ｗ^（１）を算出する。 - 特許庁

When bending a work W clamped in cooperation of a pressure die and a support die 5 by a bending die 6, there is the case a length of the pressure die is required to be set to a desired length by selecting a number of reference pressure dies and an adjusting die.例文帳に追加

押え金型３と受け金型５との協働によりクランプしたワークＷに曲げ金型６により曲げ加工を行う場合において、基準押え金型１５の個数および調整金型１３の選択により押え金型３の長さを所望の長さに設定する必要がある場合がある。 - 特許庁

Near the boundaries specifying the peripheries of the blocks 1, 2, and 3, wiring-inhibited regions 11, 12, and 13 in which wiring is inhibited are provided and the widths W of the regions 11, 12, and 13 are set, so that the wiring capacity between adjacent two wiring become almost zero.例文帳に追加

ブロック１，２，３の外縁を規定する境界の近傍には、配線が禁止された配線禁止領域１１，１２，１３が設けられており、配線禁止領域１１，１２，１３のそれぞれの幅Ｗは、隣接する２配線間の配線容量がほぼゼロとなるような幅に設定されている。 - 特許庁

The ice thickness controlling apparatus stores a second impedance E_2 when a first impedance E_1 between the first ice thickness electrode 24 and the common electrode 28 is higher than the second impedance E_2 between the second ice thickness electrode 26 and the common electrode 28 as a reference impedance E_3 in cooling water W.例文帳に追加

氷厚制御装置は、第１の氷厚電極２４と共通電極２８間の第１インピーダンスＥ_１が、第２の氷厚電極２６と共通電極２８間の第２インピーダンスＥ_２より高くなったときの第２インピーダンスＥ_２を、冷却水Ｗの基準インピーダンスＥ_３として記憶する。 - 特許庁

However, in the apparatus, a capacitor 22 having adequate capacitance is inserted between the grounding electrode 18 and the ground electric potential, a decrease of the stage impedance is compensated by the impedance insertion effect or the voltage division effect by the capacitor 22, and an increase of the voltage applied to the substrate W is suppressed thereby.例文帳に追加

しかし、接地電極１８とグランド電位との間に適正なキャパシタンスを有するコンデンサ２２が挿入されているため、コンデンサ２２によるインピーダンス挿入効果ないし分圧効果によりステージ・インピーダンスの低下が補償され、被処理基板Ｗに掛かる電圧の増加が抑制される。 - 特許庁

Therefore, even if a work processing device S happens to have no works to be irradiated on as the works W are only intermittently conveyed, or the like, maintenance of the microwave generating device 20 can be alleviated by minimizing a period for it to operate as in the case of a magnetron.例文帳に追加

したがって、ワークＷが間欠的に搬送されるなどして、被照射対象のワークＷが存在しない場合のあるワーク処理装置Ｓにおいて、マグネトロンなどのマイクロ波発生装置２０を稼働させる期間を最小限とし、該マイクロ波発生装置２０のメンテナンスを軽減することができる。 - 特許庁

A separation distance between the gas distribution plate 13 and the annular holder 15 is set such that a cooling gas for temperature decreasing which flows downward from the gas supply port 12 through the gas distribution plate 13 is in a laminar flow state on a surface of the semiconductor wafer W or a surface of the annular holder 15.例文帳に追加

そして、ガス整流板１３と環状ホルダー１５の離間距離は、ガス供給口１２からガス整流板１３を通り流下する降温のための冷却用ガスが半導体ウェーハＷ面上あるいは環状ホルダー１５面上で整流状態になるように設定されている。 - 特許庁

A plurality of the tire molding members W are bonded to the surface of the molding drum 11 as is conventional to be assembled into a cylindrical member and the press bonding device 12 is fitted to the outer peripheral surface of the molding drum 11 to be moved in parallel to the axis of the molding drum 11.例文帳に追加

成形ドラム１１上では、従来と同様に複数枚のタイヤ成形部材Ｗを貼付けて円筒部材を組立てるもので、前記圧着装置１２は、前記成形ドラム１１の外周面に嵌合し、かつ成形ドラム１１の軸心と平行に移動するものである。 - 特許庁

An error history information recording processing section 20 outputs error status data D1-D3 in erroneous operations for reception/demodulation, control signal separation/ extraction and MPEG decoding by discrete circuits (a latch circuit, three edge detection circuits, a 4-input OR circuit, a counter, an R/W address generating section).例文帳に追加

エラー履歴情報記録処理部２０が、個別回路（ラッチ回路、三つのエッジ検出回路、４入力ＯＲゲート、カウンタ、Ｒ／Ｗ・アドレス生成部）で処理した受信／復調、制御信号の分離／抽出及びＭＰＥＧデコードにおける誤り動作時のエラー状態データＤ１〜Ｄ３を出力する。 - 特許庁

In the method for forming a gate insulating film of silicon oxide by sputtering, power being thrown into a target is set at 4 W/cm^2 or smaller at the forming of the gate insulating film and film deposition pressure is set at 0.5 Pa or higher.例文帳に追加

酸化シリコンからなるゲート絶縁膜をスパッタリング法により形成するゲート絶縁膜の形成方法において、ゲート絶縁膜形成時のターゲットに対する投入電力を４Ｗ／ｃｍ^２以下とし、成膜圧力を０．５Ｐａ以上とすることにより、上記課題を解決した。 - 特許庁

This germination- suppressing material is laid in a layer state having a thickness W on the surface M part of a ground of an objective point P.例文帳に追加

この抗発芽資材を対象地Ｐの地表面Ｍ部分に厚さＷで層状に敷設し、この敷設面８を加圧すると、かかる敷設層が圧縮されて透水係数が略１０^５以上である不透水層となり、対象地Ｐの地表面Ｍ部分に抗発芽敷設物７が形成される。 - 特許庁

The shutter members 30F, 30R are in opening position where the lateral opening sections 40F, 40R are opened, and while, when the weight 21 is held at the high position of the shelf T, the shutter members 30F, 30R are displaced to the closing positions via the wire W when the weight 21 falls down by its own weight.例文帳に追加

重り２１が棚Ｔの高所に保持されているときはシャッタ部材３０Ｆ、３０Ｒが側方開口部４０Ｆ、４０Ｒを開いた開位置とされる一方、重り２１が自重により落下するときにワイヤＷを介してシャッタ部材３０Ｆ、３０Ｒが閉位置に向けて変位される。 - 特許庁

The alloy composition of the weld zone may be the one containing Mo and (or) W of 5.0% or less, or may be the one containing one or more kinds among Nb of 1.0% or less, Zr of 0.1% or less and B of 0.1% or less in place of the above, or together with the same.例文帳に追加

溶接部は、Ｍｏおよび（または）Ｗ：５．０％以下を含有する合金組成であってもよいし、それに代え、またはそれとともに、Ｎｂ：１．０％以下、Ｚｒ：０．１％以下およびＢ：０．１％以下の１種または２種以上を含有する合金組成であってもよい。 - 特許庁

To provide a water-in-oil (W/O) type emulsified sunburn care low viscosity cosmetic having a very excellent ultraviolet (UV) ray protection enhancing effect (=a booster effect on UV absorbability) over a wide range of UV ray region with excellent usability (such as smooth feeling, dry feeling without oily touch).例文帳に追加

幅広い紫外線領域に亘って極めて優れた紫外線防御促進効果（＝紫外線吸収能のブースター効果）を有し、かつ、使用性（なめらか感、さらさら感、べたつかない等）に優れる、低粘度の油中水型乳化日焼け止め化粧料を提供する。 - 特許庁

When the EBR treatment is made to the low- permittivity film in the organic resin material system with 1,4-dioxane as the rinse liquid, the improved shape of the periphery of the low-perimittivity film that is not to be removed, after removing the low-permittivity film from the end edge section of the substrate W.例文帳に追加

有機樹脂材料系の低誘電率膜に１，４−ジオキサンをリンス液としてＥＢＲ処理を行えば、基板Ｗの端縁部から低誘電率膜を除去した後に除去対象外の低誘電率膜の周縁の良好な形状を確保することができる。 - 特許庁

In a state that the mist generation device is operated, water of a liquid film W formed along the inner face of the mist generation body 4 is discharged from the mist holes 33 by the centrifugal force when the mist generation body 4 is rotationally driven by the motor 3 to directly generate the minute mist.例文帳に追加

ミスト発生装置を作動させた状態において、ミスト生成体４がモーター３で回転駆動されるときの遠心力で、ミスト生成体４の内面に沿って形成される液膜Ｗの水をミスト穴３３から放出して、微細ミストを直接生成する。 - 特許庁

When the robot 1 is shifted along the machining course by reproducing a machining program in a robot controller 10, the detected signal of a distance sensor 3 is inputted through a distance sensor amplifier 6, and a copying control is performed so as to keep the interval between the laser beam machining head 2 and the workpiece W to a prescribed value.例文帳に追加

ロボットコントローラ１０内で加工プログラムを再生し、ロボット１を加工経路に沿って移動させる際に、距離センサアンプ６を介して距離センサ３の検出信号を取り込み、レーザ加工ヘッド２とワークＷの間の間隔を所定値に保つように倣い制御を行なう。 - 特許庁

In the mode, the position of the valve element of the first three-way valve 350 is controlled to the position of the valve element where the circulating supply of the cooling water through the branched flow path 310c is carried out, and simultaneously a first motor-driven W/P320 is stopped, so that the cooling of the engine 200 is stopped.例文帳に追加

当該モードにおいては、第１三方弁３５０の弁体位置が、分岐流路３１０ｃを介した冷却水の循環供給がなされる弁体位置に制御され、同時に第１電動Ｗ／Ｐ３２０が停止されることによってエンジン２００の冷却が停止される。 - 特許庁

Furthermore, even after the zoom switch is turned off, the focal distance is moved by a prescribed amount so as to bring the focal distance toward the short focal point, and U-turned toward the long focus to obtain the focus when the zoom switch W is turned off thereby eliminating backlash in a zoom drive mechanism such as a zoom cam and a gear (one-side motion).例文帳に追加

また、ズームスイッチオフ後も焦点距離をさらに短焦点側になるように所定量だけ移動させ、ズームスイッチＷがオフされた時点の焦点距離となるように長焦点側にＵターンさせ、ズームカムや歯車等ズーム駆動機構におけるバックラッシを除去する（片寄せ動作）。 - 特許庁

A projected portion 23 is provided at a first circuit board 10 so that the extension lines 13 (u, v, w) and the common extension line 14 of the coil 12 in the stator 5 for the motor 7 may not directly come into contact with the support member (a frame chassis 3), then it is forcedly put into the opening 22 of the frame chassis 3.例文帳に追加

モータ７のステータ５におけるコイル部１２の引出線１３（ｕ,ｖ,ｗ）と共通引出線１４が、支持部材（フレームシャーシ３）と直接接触しないように、第１の回路基板１０に突出部２３を設け、これをフレームシャーシ３の開口２２に突入させておく。 - 特許庁

A sputtering target is composed of a high-purity Ge a Ge alloy containing, in the range of 0.1-50 atom.%, at least one element selected from Al, Si, Fe, Cr, Ta, Nb, Cu, Mn, Mo, W, Ni, Ti, Zr, Hf, Co, Ir, Pt, Ru, B and C.例文帳に追加

高純度Ｇｅ、もしくはＡｌ、Ｓｉ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｃｏ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｒｕ、ＢおよびＣから選ばれる少なくとも1種の元素を0.1〜50原子％の範囲で含むＧｅ合金からなるスパッタリングターゲットである。 - 特許庁

The supporting groove 19 is formed along the circumferential direction so that the both end sides of an extending direction and the outer circumferetial surface 19 sides are opened; and is provided in the circular arc shape gradually separated from the peripheral border to the both end sides of the extending driection when the semiconductor wafer W is inserted.例文帳に追加

支持溝１９は、その延出方向両端側及び外周面１９側が開放するように、周方向に沿って形成され、半導体ウェハＷが挿入されたときに、延出方向の両端側に向って次第に前記周縁から離れる円弧状に設けられている。 - 特許庁

To enable one-by-one reception of spouts from a line of the spouts carried on a rail, in a state of forming one line, successive feeding of the received spouts to two adjacent spout holding members of a W type spout sealing machine and also 90-degree shifting of the direction of the spouts between the occasion of reception and that of delivery.例文帳に追加

レール上を１列の整列状態で搬送されるスパウトの列から、スパウトを１個ずつ受け取り、これをＷ型のスパウトシール機の隣接する２つのスパウト挟持部材に続けて供給すると同時に、受取り時と引渡し時でスパウトの向きを９０度変更する。 - 特許庁

The embossed part 7 is blanked by lowering an embossing punch 29 by keeping a coil W in a pressed and restricted condition by arranging a blanking die 31, an ejector pad 32 on the inner side thereof and an ejector pin 33 on a lower die 12 side, and a blanking punch 27 and an embossing punch 29 on an upper die 11 side.例文帳に追加

打ち抜き加工ダイ３１とその内側のエジェクタパッド３２およびエジェクタピン３３を下型１２側とし、打ち抜き加工ポンチ２７とエンボス加工ポンチ２９を上型１１として、コイル材Ｗの加圧拘束状態にてエンボス加工ポンチ２９の下動によりエンボス部７を成形する。 - 特許庁

A holder body 10 is formed like an upper face opened box with a flange 15, various types of connectors C are attached to the attaching part 12 provided in an interior or the like of the holder body 10, and the electric wire W, extended from each connector C, crosses a left side part 15A of the flange 15 and it is lead through to the left side.例文帳に追加

ホルダ本体１０は、フランジ１５付きの上面開放の箱状に形成され、その内部等に設けられた取付部１２に各種コネクタＣが取り付けられ、各コネクタＣから引き出された電線Ｗが、フランジ１５の左辺部１５Ａを横切って左方へ導出される。 - 特許庁

A maintenance server 130 registers alternative fingerprint information for each user, and transmits the alternative fingerprint information to the IC card using terminal 120, in response to a request for the change of the fingerprint information from the IC card using terminal 120, and changes the fingerprint information of the IC card 110 via an R/W 121.例文帳に追加

メンテナンスサーバ１３０は、ユーザごとに代替の指紋情報を登録し、ＩＣカード利用端末１２０からの指紋情報の変更要求に応答して代替の指紋情報をＩＣカード利用端末１２０へ送り、Ｒ／Ｗ１２１を介してＩＣカード１１０の指紋情報を変更する。 - 特許庁

In cutting a workpiece W, air is supplied from the center side to a divided chamber (e.g., C1 or C9) on the lower side of the machining portion and simultaneously, together with the air supplied from the side of the divided chamber, the dust produced from the machining portion is sucked out.例文帳に追加

被加工物Ｗを切断加工する際には、その加工箇所の下方側の区画室（例えばＣ１、またはＣ９）に中央側から空気を供給すると同時に、上記区画室の側部側から供給された空気とともに加工箇所から発生した粉塵が吸引される。 - 特許庁

Antlers coach Ishii Masatada said after the game, "We were frustrated by our loss to Real Madrid in the Club World Cup final, so we wanted to win the Emperor's Cup at all costs to finish the season well. I think the experience of battling against Real Madrid helped us win today."例文帳に追加

アントラーズの石井正(まさ)忠(ただ)監督は試合後に「クラブW杯の決勝でレアル・マドリードに敗れて悔しい思いをしていたので，何としても天皇杯で優勝し，良い形でシーズンを終えたかった。レアル・マドリードと戦った経験は今日私たちが勝利するのに役立ったと思う。」と話した。 - 浜島書店 Catch a Wave

In this lithium ion secondary battery, a polymer electrolyte having non-aqueous electrolytic solution containing lithium salt up to 95 w% of the total is disposed in a polymer obtained by cross-linking and polymerizing (a) a polyether copolymer having at least glycygil ether with allyl base and ethylene oxide with (b) polyether polyol poly (meta)acrylate between a negative electrode and a positive electrode.例文帳に追加

ａ）アリル基を有するグリシジルエーテルとエチレンオキシドを少なくとも含んでいるポリエーテル共重合体と、ｂ）ポリエーテルポリオールポリ（メタ）アクリレートとを架橋重合して得られるポリマー中に、リチウム塩を含む非水電解液を全体の９５重量％まで含んでいるポリマー電解質を負極と正極の間に配置したリチウムイオン二次電池。 - 特許庁

The system for cooling culture medium in tomato cultivation comprises using culture medium 11 comprising rock wool or the like, and trickling and flowing the culture solution on and through the culture medium 11 to cultivate the tomatoes T in a greenhouse 10: wherein the culture medium 11 is put on a lid-attached metal tub 16, and cool water w is supplied to the lid-attached tub 16 to cool the culture medium 11.例文帳に追加

ハウス１０内で、ロックウールなどの培地１１を用い、その培地１１に培養液をかけ流してトマトＴを栽培するトマト等の栽培における培地冷却システムにおいて、培地１１を、金属製の蓋付き樋１６上に載置し、その蓋付き樋１６に冷水ｗを供給して培地１１を冷却するようにしたものである。 - 特許庁

In a discrete track media (magnetic recording medium) 300 having a data tracks 308 which are recording regions 310 and non-recording regions (grooves) 312 therebetween, the width W in a radius direction of a discrete servo region 306 for specifying the position of the data tracks 308 is made to be less than the width SL of a center pad end provided on the slider of the magnetic disc device.例文帳に追加

記録領域３１０であるデータトラック３０８とその間に設けられた非記録領域（溝）３１２を備えたディスクリートトラックメディア（磁気記録媒体）３００において、データトラック３０８の位置を特定するディスクリートサーボ領域３０６の半径方向における幅Ｗを、磁気ディスク装置のスライダに設けられたセンターパッド端の幅ＳＬ未満とする。 - 特許庁

This device comprises a base 3, a brush table 29 provided on the base 3, and having brushes 25 to support the workpiece W planted on the surface of a brush base 23, and a brush putting in/out means 37 to move a brush support member 35 having brushes 31 that can be put in/out between the brushes 25 on the brush table 29 to/from the brush table 29.例文帳に追加

基台３と、基台３に設けられ、ワークＷを支持するブラシ２５をブラシベース２３の表面に植設したブラシテーブル２９と、上記ブラシテーブル２９の各ブラシ２５の間で出没自在なブラシ３１を植設したブラシ支持部材３５を、上記ブラシテーブル２９に対して接近離反する方向に動かすブラシ出没手段３７とを有する。 - 特許庁

By arranging two plane parallel plates 5a and 5b, whose thickness and refractive indexes are equal, between a projection optical system 4 and a wafer W, and tilting the two plane parallel plates mutually only by the same amount in the direction opposite to the optical axis of the optical system 4 by a regulation means 9, the astigmatism caused in the optical system 4 by exposure is compensated.例文帳に追加

投影光学系４とウエハＷの間に厚さと屈折率が等しい２枚の平行平面板５ａ，５ｂを配し、調整手段９によりこの２枚の平行平面板を光学系４の光軸に対して互いに逆方向に同じ量だけ傾けることにより、露光により光学系４に生じた非点収差を補正する。 - 特許庁

In a circuit board 1, in which conductor layers 3 for forming a circuit are integrally formed on a ceramic substrate 2 formed of ceramic crystal grains and liquid phase oxide grains, the thermal conductivity of the ceramic substrate 2 is 180 W/m.K or higher, and the mean particle size of the ceramic crystal grains is 10 μm or less.例文帳に追加

セラミックス結晶粒子と液相酸化物粒子とから成るセラミックス基板２に回路となる導体層３を一体に形成した回路基板１において、上記セラミックス基板２の熱伝導率が１８０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であり、かつセラミックス結晶粒子の平均粒径が１０μｍ以下であることを特徴とする回路基板である。 - 特許庁