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w-Inの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 11344



例文

In this way, both edges of the cathode side electrodes 7, 8 are supported essentially from both the sides in the axial direction, thus, the occurrence of fatigue damage at the cathode feeders 5, 6 by energizing force applied to the cathode feeders 5, 6 through the object W to be plated, and the cathode side electrodes 7, 8 by the rotation of the barrel 2 can be satisfactorily prevented.例文帳に追加

このようにすれば、陰極側電極7、8は本質的に軸方向両側から両端支持されるため、バレル2の回転により被めっき物W、陰極側電極7、8を通じて陰極給電線5、6に掛かる付勢力により陰極給電線5、6に疲労損傷が生じるのを良好に防止することができる。 - 特許庁

Then a sticking roller 54 is pressed and rolled from a wafer center side rather than the sticking place to the other end to stick the release tape Ts on a surface of the protection tape PT, and as the sticking roller 54 and wafer W move relatively in a horizontal direction, the protection tape PT and release tape Ts are peeled in one body from the wafer surface and recovered.例文帳に追加

その後、当該貼付け箇所よりもウエハ中心側から他端まで貼付けローラ54を押圧転動させて剥離テープTsを保護テープPTの表面に貼付けるとともに、当該貼付けローラ54とウエハWの相対的な水平移動に伴って、保護テープPTを剥離テープTsと一体にしてウエハ表面から剥離して回収する。 - 特許庁

In the beginning when the substrate W has been carried in a processing chamber 12 of a washing process part 10, the rinsing liquid is supplied from an entrance nozzle 20 and an upper spray nozzle 22 to the substrate, and after that, the rinsing liquid is supplied from the upper spray nozzle 22 and a lower spray nozzle 24 to the substrate until the substrate is carried out of the processing chamber 10.例文帳に追加

基板Wが水洗処理部10の処理チャンバ12内へ搬入されてきた当初においては入口ノズル20と上部スプレイノズル22とからリンス液を基板へ供給し、それ以後、基板が処理チャンバ10内から搬出されるまでは上部スプレイノズル22と下部スプレイノズル24とからリンス液を基板へ供給する。 - 特許庁

In measuring the tone of a printed surface by a color measurement means disposed adjacent to the printed matter W, the printed surface is illuminated by dome-type illumination having plural ring illuminators 16A to 16C sequentially disposed in the order of decreasing diameter from the printed surface side taking the measurement direction (one dot chain line) of the color measurement means as the center.例文帳に追加

印刷物Wに近接配置された測色手段により印刷面の色調を測定する際、前記測色手段による測定方向(一点鎖線)を中心にして、印刷面側から順次径が小さくなるように配設された複数段のリング照明16A〜16Cを有するドーム型照明により前記印刷面を照射する。 - 特許庁

例文

The ultrasonic waves are generated and transmitted from an ultrasonic transducer 2 and an ultrasonic transducer 3 arranged on the upstream side and the downstream side of a measuring fluid, flowning in an ultrasonic flow-velocity measuring tube 1, the transmitted ultrasonic waves are received mutually, and a flow velocity is measured, on the basis of the difference in the propagation times between the ultrasonic waves found by comparing respective received waves W.例文帳に追加

超音波流速測定管1を流れる計測流体の上流側と下流側に配置した超音波振動子2、3から相互に超音波を発生送信するとともに、送信された超音波を相互に受信し、各受信波Wの比較から求めた超音波の伝搬時間の差に基づいて流速を測定するものである。 - 特許庁


例文

In the fabric with the cool sense, the constant rate drying rate is preferably ≥5.0 g/min m^2 when the fabric is wetted so as to provide 60% pickup rate and irradiated with light by a reflector bulb for photo studio use at 2,000 W total wattage from 30 cm distance in a thermohygrostatic chamber regulated to 20°C×65%RH.例文帳に追加

この涼感性布帛においては、ピックアップ率が60%となるように湿潤させ、20℃×65%RHに調整された恒温恒湿室内にて、30cmの距離から総ワット数2000Wの写真用レフランプにより光を照射した際の恒率乾燥速度が5.0g/分・m^2以上であることが好ましい。 - 特許庁

The R/W 100 performs the mutual authentication in a succeeding manufacturing process through the use of the maintenance card authentication key for the user in a maintenance card 300 for the user and the re-written maintenance card authentication key for the user, reads setting information of the application processing from the maintenance card 300 for the user when the authentication is successfully performed, and then, stores the information inside.例文帳に追加

次の製造工程において、R/W100は、ユーザ用メンテナンスカード300内のユーザ用メンテナンスカード認証鍵と、書き換えられたユーザ用メンテナンスカード認証鍵とを用いて相互認証を行い、認証が成功した場合にユーザ用メンテナンスカード300からアプリケーション処理の設定情報を読み出して内部に記憶する。 - 特許庁

A first electrode 107, a second electrode 108, and a third electrode 106 are provided in a vacuum treatment chamber; a semiconductor wafer W is subjected to desired etching treatment; then a switch 116 connected to the second electrode 108 is turned off; prescribed high-frequency power is applied to the first electrode 107; and plasma is generated in a vacuum vessel 101.例文帳に追加

真空処理室内に第1電極107と第2電極108と第3電極106を備え、半導体ウエハWを所望のエッチング処理を行った後、第2電極108に接続してあるスイッチ116を切断し、所定の高周波電力を第1電極107に印加され、真空容器101内にプラズマを発生させる。 - 特許庁

The louver 100 is in a bottomless cylindrical shape which is 3 mm thick and 20 mm tall and has an external diameter of 300 mm equal to that of a semiconductor wafer W, and formed of a material made translucent by forming fine air bubbles in transparent quartz glass so as to scatter incident light by the air bubbles and then to transmit about 30% of light.例文帳に追加

ルーバー100は、厚さ3mm、高さ20mmで、外径が半導体ウエハWと同じ300mmの無底円筒形状であって、透明な石英ガラスに微細な気泡を形成して入射した光をその気泡で散乱させ、約30%程度の光を透過させるように半透明になした素材により形成される。 - 特許庁

例文

In pressing a work W in cooperation with a punch P and a die D by blowing the punch P by a vertically movable ram 21 by a crank shaft to be rotated by a servo motor 37, the drive pattern comprising the optimum time constant and rotational speed of the servo motor 37 is calculated by an arithmetic unit based on the pressing condition.例文帳に追加

サーボモータ37により回転駆動されるクランク軸25により上下動自在なラム21でパンチPを打撃し、このパンチPとダイDと協働してワークWをプレス加工する際、プレス加工すべき加工条件に基づいて演算装置によりサーボモータ37の最適な時定数と回転速度とからなる駆動パターンを計算する。 - 特許庁

例文

This pulper equipped with an upper side-opened container 1 in which the paper stock S can be mixed with water W and crushed and suspended, thereby forming a suspension P containing the paper stock S, is characterized in that the center of a rotor 2 driven to form a circulated flow is disposed at a place eccentric to the center of the container 1.例文帳に追加

上側で開いた容器1が設けられており、該容器1内で紙料Sが水Wと混合、破砕かつ懸濁されることができ、その結果、紙料Sを含む懸濁液Pが形成されるようになっており、循環流動を生じさせるために駆動されるロータ2の中心が容器1の中心に対して偏心的に配置されているパルパ。 - 特許庁

The separator channel structure of the fuel cell has (1) gas channel grooves 18Ag, 18Bg formed in a separator 18, the opening width W of the gas channel groove and the gas channel depth H of a separator base material are almost constant in the gas channel extension direction, and the gas channel cross section area is variable.例文帳に追加

(1)セパレータ18にガス流路溝18Ag、18Bgが形成されている燃料電池のセパレータ流路構造であって、ガス流路溝伸長方向に、ガス流路溝の開口部幅Wとセパレータ母材のガス流路溝深さHがそれぞれほぼ一定で、ガス流路断面積が変化している燃料電池のセパレータ流路構造。 - 特許庁

In this gas hydrate generation apparatus, gas hydrate s slurry is generated by carrying out the hydration reaction between a raw material gas g and raw material water w in a generation vessel 2, then powdery gas hydrate n is generated by dehydrating this gas hydrate slurry with a dehydration apparatus 3, and finally this powdery gas hydrate is molded into pellets with a pelletting apparatus 7.例文帳に追加

生成器2内で原料ガスgと原料水wとを水和反応させてスラリー状のガスハイドレートsを生成し、このスラリー状のガスハイドレートを脱水装置3にて脱水してパウダー状のガスハイドレートnを生成し、このパウダー状のガスハイドレートを造粒装置7にてペレット状に成型するガスハイドレート製造装置である。 - 特許庁

In the coating method, a pressure reduction chamber 40 and a slot die 13 are provided adjacently to each other from an upstream side in a traveling direction of a support W, a backup roller 11 is provided oppositely to the slot die and the support continuously being traveled by imparting tension by the pressure reduction chamber and winding on the backup roller is coated with a coating liquid 14 using the slot die.例文帳に追加

支持体Wの走行方向上流側より減圧チャンバ40とスロットダイ13とを隣接して設けるとともに、スロットダイに対向させてバックアップローラ11を設け、減圧チャンバにより張力を与えバックアップローラに巻き掛けて連続走行させる支持体上に、スロットダイを使用して塗布液14を塗布する塗布方法。 - 特許庁

After a 4th inter-layer insulating film 20 is formed covering a TMR element 18, the 4th inter-layer insulating film 20 is polished by using slurry which is slow in polishing speed for the metal, such as Pt, Au, and W, constituting an upper magnetic layer 17 of the TMR element 18 and fast in polishing speed for the 4th inter-layer insulating film 20.例文帳に追加

TMR素子18を覆うように第4の層間絶縁膜20を形成した後、TMR素子18の上磁性層17を構成するPt、Au、W等の金属に対する研削速度が遅く、第4の層間絶縁膜20に対する研削速度が速いスラリーを用いて、第4の層間絶縁膜20を研磨する。 - 特許庁

In the cleaning method, water around the fouling 9 adhered to an object S to be cleaned is removed, the fouling 9 is frozen by using water contained in the fouling 9, the temperature of the frozen fouling 9 is changed sharply by hot water W the temperature of which is different from that of the fouling 9, and the fouling 9 is removed from the object S.例文帳に追加

洗浄方法は、被洗浄物Sに付着した汚れ9の周囲の水分を除去した後、前記汚れ9が持つ水分を利用して当該汚れ9を凍結させ、前記凍結させた汚れ9にこれと温度差を持った温水Wにより急激な温度変化を与えて当該被洗浄物Sから汚れ9を除去するものとしてある。 - 特許庁

In this groove grinding machine and groove grinding method, a grinding wheel disc 20 having a grinding wheel surface on an end face of a rotary shaft center direction is provided movably in the rotary shaft center direction and a direction perpendicular to the rotary shaft center direction,and a linear groove 43 of a workpiece W having an inner hole 40 and the groove 43 extending from the inner hole 40 is ground.例文帳に追加

回転軸芯方向の端面に研石面を有する砥石円板20を、回転軸芯方向及び回転軸芯方向と直角な方向に移動可能に備え、内孔40と該内孔40から延びる直線状の溝43を有するワークWの上記溝43を研削する溝研削盤及び溝研削方法である。 - 特許庁

In this removal method for removing a silicon oxide film formed on a surface of a processing object W in a processing vessel 4 capable of being vacuumed, a removal process of removing the silicon oxide film by using HF gas and NH_3 gas and setting a set range of processing temperature to 150-200°C is executed.例文帳に追加

真空引き可能になされた処理容器4内にて、被処理体Wの表面に形成されているシリコン酸化膜を除去するための除去方法において、HFガスとNH_3 ガスとを用いると共に、処理温度の設定範囲として150〜200℃の範囲内に設定することによりシリコン酸化膜を除去する除去工程を行うようにした。 - 特許庁

In the screw type grindstone 11 formed in a barrel shape with the diameter becoming gradually smaller as it goes from the axial intermediate portion toward both axial ends to be meshed with a workpiece W angled by an axial angle Σ during machining the workpiece, the helix angle of the grindstone is set corresponding to the length from the axial intermediate portion.例文帳に追加

ワーク加工時に、該ワークWに対して軸角Σが与えられた状態で噛み合わされるために、その軸方向中間部から軸方向両端部に向かうに従って、その径が漸次小さくなるような樽形に形成されるねじ状砥石11において、砥石ねじれ角をその軸方向中間部からの長さに応じて設定する。 - 特許庁

The O/W emulsion obtainable by phase inversion comprises microspheres with an average diameter of 100-1,000 nm wherein the microspheres composes the oil phase in the emulsion, a nanopigments of metal oxides, at least one organic UV screening agent and at least a 4,4'-diarylbutadiene based organic UV-A screening agent in the emulsion.例文帳に追加

エマルションの油相を構成する小球体の平均径が100nm〜1000nmであり、金属酸化物ベースの無機ナノ顔料と少なくとも一の有機UV遮蔽剤を含有し、転相技術により得ることができる水中油型エマルションに、4,4-ジアリールブタジエン型の少なくとも一の有機UV-A遮蔽剤を含有せしめる。 - 特許庁

To reduce equipment cost by reducing the unit cost of a pallet, in a transfer type working system for carrying a workpiece W with a bolt passing hole Wa for bolting to an assembled object along a working line while fixedly placing the workpiece on the pallet 2, in which a handling robot is used to load or pick up the workpiece onto or from the pallet.例文帳に追加

被組付物にボルト止めするためのボルト挿通孔Waを有するワークWをパレット2に載置固定した状態で加工ラインに沿って搬送するトランスファー式加工システムであって、パレットに対するワークの投入作業や払出し作業をハンドリングロボットで行うものにおいて、パレットの単価を下げて設備費を削減する。 - 特許庁

In the thermal transfer image receiving sheet provided with the ink receiving layer on the substrate sheet, a heat radiating layer, consisting primarily of a filler and a binding agent, is provided between the ink receiving layer and the substrate sheet while the heat radiating layer contains the filler having a heat conductivity of 0.25 W/m.K or more in the heat radiating layer.例文帳に追加

基材シート上にインク受理層を設けた熱転写受像シートにおいて、インク受理層と基材シートとの間に主として填料と結着剤とからなる放熱層を有し、この放熱層中の填料が、放熱層中における熱伝導率が0.25W/m・K以上の填料を含有することを特徴とする熱転写受像シートである。 - 特許庁

When rice cooking starts, air in the inner pot 30 is poured into the air pool means 70 via the gas leading means 50, an air pool part T is formed above the air pool means once, and then water vapor V generated in the inner pot 30 is poured into the air pool part T, cooled down by water W, and condensed (returned to water).例文帳に追加

炊飯が始まると、内釜30内の空気はガス誘導手段50を経由して空気溜まり手段70に注入され、その上方に空気溜まり部Tが一旦形成され、その後、内釜30において発生した水蒸気Vは空気溜まり部Tに注入され、水Wによって冷却され凝縮(復水)する。 - 特許庁

The thin film inductor 100 is formed by individualizing a plurality of unit structures on a wafer by dicing, and includes a coil 22 formed to be embedded in an insulation layer 20 and wound around the protrusion 11 on an annular groove 12 of a magnetic substrate W having the protrusion 11 projected on an in-plane center part.例文帳に追加

薄膜インダクタ100は、ウェハ上に複数形成された単位構造がダイシングによって個片化されたものであり、面内中央部に突起部11が突設された磁性基板Wの環状の溝部12上に、絶縁層20内に埋め込まれるように、かつ、突起部11の周囲を巻回するように設けられたコイル22が形成されたものである。 - 特許庁

The processor for performing prescribed processing in a body W to be processed inside a vaccumable processing container 4 includes film attachment prevention layers 54A-54H composed of a SAM (Self assembled monolayer), on the surface of the inner wall of the processing container and/or the surface of the inner structure of the processing container in the processor.例文帳に追加

真空引き可能になされた処理容器4内で被処理体Wに対して所定の処理を施す処理装置において、前記処理容器の内壁の表面及び/又は前記処理容器の内部構造物の表面にSAM(Self assembled monolayer)膜よりなる膜付着防止層54A〜54Hを形成する。 - 特許庁

The W-CDMA wireless system 1 is determined that synchronization can be established when phase difference in a common channel between a zero system and 1 system is within a fixed range and receiving quality of the common channel (or individual channel) reaches a fixed level even when it is determined that synchronization can not be established in normal synchronization establishment determination.例文帳に追加

W−CDMA無線システム1は、通常の同期確立判定において同期確立可能でないと判定される場合であっても、0系と1系の共通チャネルにおける位相差が一定の範囲内であり、共通チャネル(あるいは個別チャネル)の受信品質が一定レベルに達しているときには、同期確立可能であると判定される。 - 特許庁

In a plasma nitriding method, a plasma treatment apparatus 100, comprising a treatment container 1 having an opening in the upper portion, a stage 2 for mounting a wafer W, a microwave transparent sheet 28 blocking the opening of the treatment container 1 and allowing a microwave to pass through, and a flat panel antenna 31 having a plurality of slots for introducing a microwave into the treatment container 1, is used.例文帳に追加

プラズマ窒化処理方法は、上部に開口を有する処理容器1と、ウエハWを載置する載置台2と、処理容器1の開口を塞ぐとともにマイクロ波を透過させるマイクロ波透過板28と、処理容器1内にマイクロ波を導入するための複数のスロットを有する平面アンテナ31と、を備えたプラズマ処理装置100を用いる。 - 特許庁

To provide an inexpensive W-based high specific gravity composite material solved in the defects of the conventional integrated type material as the use for damping, having a high damping capacity which has not been exhibited heretofore, high in workability, easy to be formed into various shapes and having a high radiation shielding capacity which has not been exhibited heretofore as the use for radiation shielding.例文帳に追加

本発明は、制振用途として従来の一体型材料の欠点を解消し、従来にない高い制振性能を有し、加工性が高く、各種形状に形成容易で、放射線遮蔽用途としても従来にない高い放射線遮蔽性能を有し、安価なWベースの高比重複合材料を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method comprises an inspection step for inspecting a wiring pattern comprising a plurality of wires formed on a wafer W, for a spot of an unplanned short circuit between wires; and a blowout step for severing by laser application the defective spot in case a short-circuiting spot is found in the wiring pattern during the inspection step.例文帳に追加

ウエーハW上に形成された複数本の配線からなる配線パターンに配線同士を意図せず短絡させるようなショート欠陥部位があるか否かを検査する検査工程と、この検査工程で配線パターンにショート欠陥部位が発見された場合に、このショート欠陥部位にレーザを照射して当該部位を溶断する溶断工程と、を含むものである。 - 特許庁

On condition of a chuck device for gripping or releasing a work W by horizontally opening/closing a pair of chuck hands 11a, 11b arranged in a chuck main body 16, a guide rod 6 is fixed to an installing stand 1 installed on a robot hand M, so that both chuck hands 11a, 11b are guided in the horizontal direction by the guide rod 6.例文帳に追加

チャック本体16に設けられた一対のチャックハンド11a,11bが水平方向に開閉することによってワークWを把持又は解放するチャック装置を前提とし、ロボットハンドMに取付けられた取付台1にガイドロッド6を固定し、そのガイドロッド6に両チャックハンド11a,11bが水平方向にガイドされるようにした。 - 特許庁

To satisfy the requirement for decrease in the size of the fitting part 5 and prevent the hole position from being shifted even when bending is applied, right and left spread parts 5A formed by compressing the fitting part 5 are cut in cut positions P capable of remaining annular pipe parts 12 of the pipe raw material W surrounding the solid member 10 at the tip portion of the fitting part 5.例文帳に追加

取付部5の小型化の要求を満足すると共に、曲げ加工しても、孔位置がズレないようにするために、取付部5の先端部分に、中実部材10を囲む管素材Wの環状の管部12を残すことができる切断位置Pで、取付部5を圧縮することでできた左右の広がり部5Aを切除する。 - 特許庁

A rail 2 serving as a movement guide means extending in a direction parallel with a passage 10 formed by the protector 1 installed in the existing tunnel a, is mounted to the upper part of one side of the protector 1 through a bracket 3, and a hoist 4 travelable along the rail 2 is disposed to lift the heavy load W such as concrete debris by the hoist 4 for conveyance.例文帳に追加

既設トンネルa内に設置されるプロテクタ1の一側上部に、該プロテクタ1による通路10と平行な方向へ延びる移動案内手段としてのレール2を、ブラケット3を介して取り付け、このレール2に沿って走行可能なホイスト4を配置し、コンクリートガラなどの重量物Wを、ホイスト4で揚重して搬送するものである。 - 特許庁

In an substantially rectangular remodeled window with a foamed cured body filled in almost the entire space between an existing window frame and a newly mounted window frame, when an interlayer deformation is horizontally applied to the upper side of the remodeled window, the allowable horizontal deformation quantity Δ is larger than C_1+C_2+H/W×(C_3+C_4).例文帳に追加

本発明は、既設窓枠と新設窓枠との間の空間部分の略全体に発泡硬化体が充填された、略長方形の改装窓において、改装窓の上辺に対して水平方向に層間変形を加えた時に、改装窓の許容水平変形量ΔがC_1+C_2+H/W×(C_3+C_4)より大きくなる改装窓に関する。 - 特許庁

The aromatic hydrocarbon, having at least one hydrogen directly bound to a benzene ring, and a methylenation agent such as formalin are made to react in a specified range of temperature, thus obtaining a reaction mixture in the presence of the heteropoly acid, which is produced through condensation between at least one oxide selected from among Mo, W, Nb and V and an oxygen acid of P, Si, As or Ge.例文帳に追加

ベンゼン環に直接結合した水素を少なくとも1個有する芳香族炭化水素とホルマリン等のメチレン化剤を、Mo、W、NbおよびVから選ばれた少なくとも1種の酸化物と、P、Si、AsまたはGeの酸素酸の縮合した酸であるヘテロポリ酸の存在下に特定の温度範囲で反応させ、反応混合物を得る。 - 特許庁

The route guide system 1000 is provided with the portable terminal 1, embedded information terminals 100-Z, 100-A,..., 2000-F,...100-I buried in a footpath, an embedded information terminal 300-J buried in a pedestrian crossing w, a service plan server computer 1001 searching a guide route, and an ITS network 1010.例文帳に追加

経路案内システム1000は、携帯端末1と、歩道に等間隔で埋設された埋め込み型情報端末100−Z,100−A,…,200−F,…100−Iと、横断歩道w内に埋設された埋め込み型情報端末300−Jと、案内経路を探索するサービス立案用サーバコンピュータ1001と、ITS用ネットワーク1010とを具備する。 - 特許庁

The W/O type emulsion explosive containing an oxidizing agent, oils, an emulsifier, hollow microspheres of glass and water is characterized in that the hollow microspheres of glass ranging from 3.0 to 7.0% in the ratio d/r (%) of an average film thickness (d) and a grain size (r) at which cumulative volume attains 50% are used.例文帳に追加

酸化剤、油類、乳化剤、ガラス微小中空球体及び水を含有する油中水滴型エマルション爆薬に於いて、平均膜厚(d)と累積体積が50%になる粒径(r)との比率d/r(%)が3.0から7.0%の範囲であるガラス微小中空球体を使用したことを特徴とする油中水滴型エマルション爆薬。 - 特許庁

Further, the main controller 7 sends a proper command signal to a lens driving device 25 and makes a condenser lens (described in detail later) held on a fine moving stage device 23 turn in X-Y plane by properly operating the fine moving stage device 23 and makes the incident position of a spot laser beam rotate at high speed on a work W.例文帳に追加

また、主制御装置7は、レンズ駆動装置25に適当な指令信号を送信して微動ステージ装置23を適宜動作させることにより、微動ステージ装置23に保持された集光レンズ(後に詳述)をXY面内で回転運動させることができ、スポット状のレーザ光の入射位置をワークW上で高速回転させることができる。 - 特許庁

This polishing device 1 is configured to set a gain value and a dress time of a polishing pad 13 in a dress position control of a dresser 30 according to a dress rate by a polishing control section 60 in an adjust process before start of a series of polishing processes for polishing a plurality of semiconductor wafers W successively by a polishing tool 10.例文帳に追加

本発明に係る研磨装置1は、研磨工具10により複数の半導体ウェハWを連続的に研磨する一連の研磨工程を開始する前のアジャスト工程において、研磨制御部60により、ドレッサ30のドレスポジション制御におけるゲイン値および研磨パッド13のドレス時間をドレスレートに応じて設定するようになっている。 - 特許庁

The oxynitride includes Zn and at least one element selected from In, Ga, Sn, Mg, Si, Ge, Y, Ti, Mo, W and Al, wherein an atomic composition ratio of N in the oxynitride, which is expressed by N/(N+O), is 7 atom% to 80 atom%.例文帳に追加

金属酸窒化物から構成され、前記酸窒化物がIn、Ga、Sn、Mg、Si、Ge、Y、Ti、Mo、W、Alから選択される少なくとも1つの元素と、Znと、を含み、且つ、前記酸窒化物中のN/(N+O)で表されるNの原子組成比率が、7原子%以上80原子%以下であることを特徴とする酸窒化物半導体。 - 特許庁

The 200 W power is supplied to the induction coil 111c by the power supply part 110 in the case of the roll temperature T equal to or lower than the target temperature Tt, and power supply to the induction coil 111c from the power supply part 110 is stopped in the case of the roll temperature T higher than the target temperature Tt.例文帳に追加

そして、ローラ温度Tが目標温度Tt以下である場合は、電力供給部110により誘導コイル111cに200Wの電力を供給させ、他方、ローラ温度Tが目標温度Tt以上である場合は、電力供給部110による誘導コイル111cへの電力供給を停止させる。 - 特許庁

A crack occurrence detection section 63 determines whether cracking sound is included in the acoustic signal obtained by the microphone 61 (concretely, the acoustic signal obtained by the microphone 61 while a prescribed frequency region is removed by a filter circuit 62), thus determining whether the substrate W carried in the equipment has cracked.例文帳に追加

割れ発生検知部63が、マイクロフォン61により取得された音響信号(より具体的には、マイクロフォン61により取得され、フィルタ回路62により所定の周波数領域が除去された音響信号)に割れ音が含まれるか否かを判断することによって、装置内に搬入された基板Wが割れたか否かを判定する。 - 特許庁

A substrate transfer robot 38 is arranged freely movable along the arrangement direction of the cassette placement table 18a in substrate transfer part 12 interposed between the cassette placement part 10 and a substrate treatment part 14, and the substrate transfer robot 38 is accessed to respective cassettes C in sequence, thereby picking up a substrate W one by one from the cassette C to transfer it to the substrate treatment part 14.例文帳に追加

カセット載置部10と基板処理部14との間に介在する基板搬送部12に、カセット載置台18aの配列方向に沿って移動自在に基板搬送ロボット38を配置し、基板搬送ロボット38を各カセットCに順次アクセスさせてカセットC内から基板Wを1枚ずつ取り出し基板処理部14へ搬送する。 - 特許庁

In the translucent electromagnetic wave shielding material provided with the near infrared-ray absorbing layer and an electromagnetic wave shielding layer, the absorbing layer and the shielding layer are brought into contact with each other directly or only through an adhesive layer, and the surface heat conductivity of the shielding layer in the surface direction is ≥1×10^-5 (W/K).例文帳に追加

近赤外線吸収層と、電磁波シールド層とを備える透光性電磁波シールド材であって、該近赤外線吸収層と該電磁波シールド層とが、直接、または接着層のみを介して接しており、該電磁波シールド層の面方向の表面熱伝導率が1×10^-5(W/K)以上であることを特徴とする透光性電磁波シールド材。 - 特許庁

An aqueous solution or suspension containing elements required for the composition of a desired phosphor is dispersed in a nonaqueous medium to prepare a W/O emulsion, which is then dehydrated to prepare a powder composed of a spherical particle as a phosphor precursor, and subsequently the powder is calcined in an oxidizing atmosphere or calcined and then reduced.例文帳に追加

目的とする蛍光体の組成比にて所要の元素を含む水溶液又は水懸濁液を非水媒体中に分散させて、W/O型エマルジョンとした後、このエマルジョンを脱水して、球状粒子からなる粉体を蛍光体前駆体として得、次いで、この粉体を酸化性雰囲気中で焼成し、又は焼成した後、還元する。 - 特許庁

Then, the editing unit 120 controls selection of the element piece data so that when one element piece data in the element piece data array of the edited music is generated, one element piece data within a range of a sliding window W having its center at a position corresponding to the element piece data to be generated in the element piece data array of the original musical piece is used.例文帳に追加

その際、編集部120は、編集曲の素片データ列の中の1つの素片データを作成する場合に、元楽曲の素片データ列において作成対象の素片データに相当するものの位置を中心としたスライディングウィンドウWの範囲内の1つの素片データが用いられるように素片データの選択の制御を行う。 - 特許庁

In the magnetic recording medium having at least an alignment adjusting layer, a non-magnetic underlayer, a magnetic layer and a protective layer in this order on a glass substrate having streaks on the surface thereof, the alignment adjusting layer contains any one or more selected from Co, Ni and Fe and any one or more selected from W, Mo, Ta and Nb.例文帳に追加

表面に条痕を有するガラス基板上に、少なくとも、配向調整層、非磁性下地層、磁性層及び保護膜をこの順で有する磁気記録媒体において、前記配向調整層をCo、NiおよびFeから選ばれる何れか1種類以上と、W、Mo、TaおよびNbから選ばれる何れか1種類以上とを含むように形成する。 - 特許庁

As a waveform data which a sample load processor reads from a flash memory 16 is loaded in a waveform memory 17, while a sound source processor reproduces the waveform data which is loaded in the waveform memory 17, and generates a musical sound waveform W according to instruction of a gate start/end processor, there is no loading waiting time for loading the waveform data from the flash memory to a RAM (a waveform memory).例文帳に追加

サンプルローダ処理がフラッシュメモリ16から読み出した波形データを波形メモリ17にロードすると同時に、ゲートスタート/エンド処理の指示に従って音源処理が当該波形メモリ17にロードされた波形データを再生して楽音波形Wを生成するので、フラッシュメモリからRAM(波形メモリ)に波形データをロードする際のロード待ち時間を無くす。 - 特許庁

A switch circuit A for actuating (sounding) a horn in an automobile steering wheel 10 and a feeble-current circuit (incorporating a protective resistance of the order of 1/2 W-1 kΩ) for operating an additional function are connected in parallel to operate the additional-function constituting part 6 by passing a feeble current without actuating (sounding) the horn.例文帳に追加

自動車用のステアリングホイール10内のホーンを作動させる(鳴らす)ためのスイッチ回路Aと、付加機能作動用微弱電流回路(保護抵抗1/2W・1KΩ程度を組み込んだもの)Bを並列に接続して、ホーンを作動させる(鳴らす)ことなく、微弱電流を流して付加機能構成部分6を作動させるようにしたものである。 - 特許庁

At this time, the joining flange fiber parts are overlapped and bonded while coating and impregnating the overlapped joining flange fiber parts with an adhesive resin Qa (hand layup molding method) and this fiber laminated part is subsequently covered with a film-like vacuum bag 5 and heated and cured in a state that the fiber laminated part is evacuated in the vacuum bag 5 to integrally connect the fiber reinforced plastic panel pieces W.例文帳に追加

この際、この重合させた継ぎ代繊維部上に接着用樹脂Qaを塗布して含浸させながら重合させて接着した後(ハンドレイアップ成形法)、この繊維積層部分をフィルム状のバキュームバック5で覆い、該バキュームバック内の繊維積層部分をバッキュームした状態で加熱硬化させて一体的に接続するものである。 - 特許庁

例文

Further, the high thermal conductivity graphite material is obtained by the above production method, and in which bulk density is ≥1.85 g/cm^3, thermal conductivity in the respective directions of X, Y, Z directions is170 W/m K and a thermal expansion coefficient is ≤5.5×10^-6/K, and which is isotropic.例文帳に追加

また、本発明の高熱伝導黒鉛材料は、上記製造方法によって得られた、かさ密度が1.85g/cm^3以上であり、X,Y,Z方向の各方向における熱伝導率が170W/m・K以上でありかつ熱膨張係数が5.5×10^−6/K以下であり、等方性の高熱伝導黒鉛材料である。 - 特許庁




  
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