1016万例文収録!

「埋積層」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 埋積層に関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

埋積層の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 569



例文

横断面略C字型をした無端帯状の帆布層1の背面に化粧ゴム2を重ね合わせると共に、これら帆布層1又は化粧ゴム2の内側にアラミド繊維からなるテンションメンバ3をめ込んでなるハンドレールにおいて、上記帆布層1を、ナイロン繊維からなる帯状の帆布1aを複数枚積層して形成したものである。例文帳に追加

In the hand rail comprising a decorated rubber 2 laid on top of the back face of the endless canvas layer 1 having a nearly C-shaped cross section, and a tension member 3 made from Aramid fiber buried inside the canvas layer 1 or the decorated rubber 2, the canvas layer 1 is formed by laminating a plurality of belt-like canvases 1a made from nylon fibers. - 特許庁

積層チップパッケージ1を製造する際には、半導体ウェハを処理して、配列された複数の半導体チップ予定部を形成し、少なくとも1つの半導体チップ予定部に隣接するように延びる1以上の溝を形成し、この溝をめるように絶縁層を形成し、更に複数の電極を形成して、基礎構造物を作製する。例文帳に追加

When the laminated chip package 1 is manufactured, a semiconductor wafer is processed, a plurality of semiconductor chip scheduled parts arranged in an array are formed, one or more grooves extending so as to neighbor at least one semiconductor chip scheduled part are formed, an insulating layer is formed so as to fill in the groove; and further, a plurality of electrodes are formed and a fundamental structure is manufactured. - 特許庁

本発明のMOSFETダイ100は、PSG等からなる層間絶縁膜3に設けれられたコンタクトホール4内に形成されたWからなるめ込み電極部102と、その上に形成されたAlからなる下層電極層5と、その上に形成されたTi層,Ni層,Ag層の積層体からなる上層電極層6とを備えたソース電極101を有している。例文帳に追加

A MOSFET 100 has an embedded electrode 102, which consists of W formed in a contact hole 4 prepared in an interlayer insulating film 3 comprising PSG etc., a lower electrode layer 5 comprising Al prepared thereon, a source electrode 101 equipped with an upper electrode layer 6 comprising the laminates of Ti layer, Ni layer, and Ag layer formed thereon. - 特許庁

リードフレーム11,12,13,14をテープ状に成形すると共に、そのリードフレーム11,12,13,14を下金型に配置された溝付きピンの溝に縦置きして略同心円状に積層して配置し、前記溝付きピンと同一ピッチで上金型に配置されたピンで挟んで樹脂材16で一体にめ込んで成形する。例文帳に追加

The lead frames 11, 12, 13 and 14 are formed into a tape shape and vertically placed in the grooves of grooved pins arranged at a lower mold to be arranged in an almost concentrically circular laminated state and held by the pins arranged to an upper mold at the same pitch as the grooved pins to be integrally embedded in a resin compound to perform molding. - 特許庁

例文

この光導波路構造の両側に、Znを低濃度にドープしたInPからなるp^−型半導体層23、Znを高濃度にドープしたInPからなるp^+型半導体層25、およびSiをドープしたInPからなるn型半導体層27が順次積層され、め込まれ電流狭窄領域を形成している。例文帳に追加

P^--type semiconductor layers 23 consisting of InP doped in low concentration with Zn, P^+-type semiconductor layers 25 consisting of InP doped in high concentration with Zn, and semiconductor layers 27 consisting of InP doped with Si are stacked sequentially and embedded on both sides of this waveguide structure so as to form a current throttling region. - 特許庁


例文

カード基材上に、少なくとも、磁気記録層と、金属反射層と、ホログラム層と、が順次積層され、カード基材の中に、アンテナと、該アンテナと接続されたICチップと、が設されてなる非接触ICカードであって、金属反射層は、表面抵抗率が4.04(Ω/□)よりも高いことを特徴とする。例文帳に追加

In the non-contact IC card constituted by sequentially laminating at least a magnetic recording layer, a metal reflection layer, a hologram layer on a card base and burying an antenna and the IC chip connected to the antenna in the card base, surface resistivity of the metal reflection layer is higher than 4.04(Ω/Square). - 特許庁

セル駆動型圧電/電歪アクチュエータ1は、圧電/電歪素子4が、複数の層状の圧電/電歪体14と層状の電極18,19とが交互に積層されてなるとともに、電極18,19の端部が、少なくともセル3内側において圧電/電歪体14内に設されていることを特徴とする。例文帳に追加

In the cell driving piezoelectric/elctrostrictive actuator 1, the piezoelectric/elctrostrictive element 4 is formed by laying a plurality of layer piezoelectric/elctrostrictive bodies 14 and layer electrodes 18, 19 alternately and the end parts of the electrodes 18, 19 are buried in the piezoelectric/elctrostrictive bodies 14 at least on the inside of the cell 3. - 特許庁

本発明の非接触ICカードは、アンテナコイルを端子間に接続したICチップがカード基体中に設されてなる非接触ICカードにおいて、ICチップ、アンテナコイルの両面にメッシュシートを介して非結晶性コポリエステルシートを各面に1または2層積層し、熱融着により一体のカード基体にされていることを特徴とする。例文帳に追加

The noncontact IC card comprises an IC chip 12 for connecting an antenna coil 14 between terminals and embedded in a card base, one or two amorphous copolyester sheet layers laminated on both surfaces of the coil 14 via mesh sheets 15, 16 and integrated as card base by heat fusion bonding. - 特許庁

セラミックコンデンサ焼結体2にめ込まれた複数の内部電極層1の露出両端面に外部電極3を形成して積層セラミックコンデンサ素子4とし、前記外部電極3それぞれに金属銅板7を接続され、且つ、セラミックコンデンサ素子4部分が絶縁樹脂10にて被覆されたものとする。例文帳に追加

This laminated ceramic electronic component is constituted by forming a laminated ceramic capacitor element 4 by forming external electrodes 3 on both exposed end surfaces of internal electrode layers 1 embedded in a ceramic capacitor sinter 2, connecting a metal copper plate 7 to the external electrodes 3 respectively, and coating the part of the ceramic capacitor element 4 with insulating resin 10. - 特許庁

例文

ベルト長手方向に沿って心線3を設した接着ゴム層2に隣接してリブを設けた圧縮ゴム層4を配置し、ベルト背面に基布5を積層したVリブドベルト1であり、圧縮ゴム層4が、ゴム100質量部に対して、ナイロン樹脂パウダー6を3〜25質量部配合したゴム組成物で構成されてなる。例文帳に追加

A V-ribbed belt 1 is formed by laminating base cloth 5 on a belt back face by arranging a compressed rubber layer 4 provided with a rib adjacently to an adhesive rubber layer 2 of embedding conductor 3 in the belt longitudinal direction, and the compressed rubber layer 4 is composed of a rubber composition of blending nylon resin powder 6 by 3 to 25 mass part to rubber 100 mass part. - 特許庁

例文

ロータ本体5に設けたスロット孔8に永久磁石9を配置するめ込み磁石型のロータにおいて、前記ロータ本体5は、前記スロット孔8を有する軸方向に分割された複数のロータ部材6と、前記各ロータ部材6の間に配置されるセパレータ7とを備え、前記複数のロータ部材6とセパレータ7とを軸方向に積層して一体的に形成されていることを特徴とする。例文帳に追加

In the buried magnet rotor where a permanent magnet 9 is arranged in a slot hole 8 provided in the rotor body 5, the rotor body 5 has a plurality of rotor members 6 divided in the axial direction having the slot hole 8, and a separator 7 arranged between respective rotor members 6 wherein the plurality of rotor members 6 and the separators 7 are laminated in the axial direction and integrated. - 特許庁

本波長可変半導体レーザ装置10は、p−InP基板12上に、p−AlInAs酸化用層14、p−InP下部クラッド層16、波長可変層18、n−InP中間層20、MQW活性層22、p−InPスペーサ層24、p−回折格子26、及びp−InPめ込み層28の積層構造のメサを有する。例文帳に追加

The variable wavelength semiconductor laser device 1 has a mesa of a laminated structure comprising a p-AlInAs oxidizing layer 14, a p-InP lower clad layer 16, a variable wavelength layer 18, an n-InP intermediate layer 20, a MQW active layer 22, a p-InP spacer layer 24, a p-grating 26 and p-InP embedded layer 28 on a p-InP substrate 12. - 特許庁

チップアンテナは、互いに所定間隔をおいて配された主及び補助アンテナ素子(10、20)とこれを囲むフレームとを連結部を介して連結してなる導体平板(40)を形成し、この導体平板を誘電体チップ(30)に設または積層し、次いで、誘電体チップの両側面に沿って導体平板を切断することにより製造される。例文帳に追加

The chip antenna is manufactured by forming a conductor plate (40) formed by connecting the main and auxiliary antenna elements (10, 20) placed at a prescribed interval and a frame surrounding them via a connection part, embedding or layering the conductor flat plate in a dielectric chip (30) and cutting off the conductor flat plate along both side faces of the dielectric chip. - 特許庁

本発明はセラミック電子部品に用いられるセラミックグリーンシートに感するものであり、薄層のセラミックグリーンシートを用いて薄層化してもショート率・絶縁耐圧の低下を抑制できる電極め込みセラミックグリーンシートとその製造方法およびそれを用いた高容量・高信頼性の積層セラミックコンデンサの製造方法を提供することを目的とするものである。例文帳に追加

To provide an electrode-embedded ceramic green sheet which can suppress reduction in short-circuit ratio and dielectric voltage even when a thin layer is formed using a thin ceramic green sheet, and to provide a method of manufacturing the same, and a method of manufacturing a multilayer ceramic capacitor using the same with a high capacity and high reliability. - 特許庁

回路素子142を基材140に固定した状態で、絶縁樹脂膜122および導電性膜120の積層体123を配置し、前記回路素子142を前記絶縁樹脂膜内122にめ込む工程と、圧着により前記回路素子142を前記絶縁樹脂膜内122に固定する工程と、を含む半導体モジュールの製造方法である。例文帳に追加

The method of manufacturing the semiconductor module includes a process wherein the laminated body 123 of an insulating resin film 122 and a conductive film 120 is arranged while a circuit element 142 is fixed to a substrate 140 to bury the circuit element 142 into the insulating resin film 122 and another process wherein the circuit element 142 is fixed to the insulating resin film 122 through pressing. - 特許庁

有底ビア18内をめっき金属19によってめるビアフィルめっき時には、有底ビア18の底面に露呈している銅箔13のみを有効なめっき電極として機能させ、有底ビア部分以外の積層板表面のめっきを成長させることなく有底ビア18内をめっき金属19で充填する。例文帳に追加

Upon via-fill plating wherein bottomed via 18 is filled with the plating metal 19, only copper foil 13 exposed at the underside of the bottomed via 18 is made to function as an effective plating electrode, and the inside of the bottomed via 18 is filled with the plating metal 19 without growing the plating on the surface of the laminated board except the bottomed via hole. - 特許庁

建築用パネル1は、ガラスチョップを含有し、多数の独立気泡を有する多孔質の発泡セメント固化物3内にガラスチョップドストランドマット又はガラスネット等3を設してパネル本体2を構成し、その両面に、接着剤8により、表面に合成樹脂フィルム7がコートされた耐水紙6を積層して耐水層5を形成してある。例文帳に追加

A glass chop is contained in the building panel 1, a panel body 2 is constituted by burying a glass-chopped strand mat or a glass net etc. in a porous foaming cement solidifying object 3 having a large number of independent bubbles, and water resisting layers 5 are formed on both sides by laminating water resisting paper 6 coating synthetic resin films 7 on the surfaces with adhesives 8. - 特許庁

詳細には、イオン注入等の方法によって窒素含有層を形成する方法や、アモルファスシリコン層を素子分離用トレンチ側壁に積層し、これを固相エピタキシャル成長により単結晶シリコン層を形成する方法により、SOI層とめ込み酸化シリコン層との界面での酸素拡散を防止し、隣接したSOI層の酸化を防止する。例文帳に追加

More specifically, oxidation of adjacent SOI layers is prevented by preventing diffusion of oxygen at the interface of the SOI layer and the buried silicon oxide layer using a method for forming the nitrogen containing layer by ion implantation or a method for forming an amorphous silicon layer on the side wall of the isolation trench and forming a single crystal silicon layer through solid phase epitaxial growth. - 特許庁

周辺領域の第2素子分離絶縁層は、周辺領域の第2素子分離溝内の全体に込まれると共にその上面が半導体基板の上面の上方に突出した第1の酸化膜と、当該第1の酸化膜上に積層され、その上面が第1導電膜の上面より上方に突出している第2の酸化膜とで構成されている。例文帳に追加

A second element isolation insulating layer in a peripheral region includes the first oxide film that is embedded in the entirety of a second element isolation groove in the peripheral region and whose top surface protrudes above the top surface of the semiconductor substrate and a second oxide film that is stacked on the first oxide film and whose top surface protrudes above the top surface of a first conductive film. - 特許庁

相互に電磁結合しているλ/4結合ストリップラインの組が2組以上、誘電体チップ中で実装面に対して垂直方向に重畳した状態で設され、誘電体チップ内に位置するストリップライン端と外部電極との間が引出しラインで繋がれているチップ型積層バラン素子である。例文帳に追加

In the chip type laminated balun element, two or more sets of λ/4 coupled strip lines mutually electromagnetically coupled are embedded in a dielectric chip in such a manner as overlapped in a vertical direction to the mounting surface of the chip, and one end of the strip line positioned within the dielectric chip and an external electrode are connected by a lead line. - 特許庁

立て廃棄物10を覆土する保護層16に勾配を付して、前記保護層16の勾配に沿って空隙が大きなマット18を敷設して、前記マット18よりも空隙が小さく大きな毛管力を備えた排水層20を前記マット18上に積層して浸透水キャピラリーバリア層17を形成する。例文帳に追加

The penetrating water capillary barrier layer 17 is formed by providing a protective layer 16 for covering the reclaimed waste material 10 by soil with an incline, laying a mat 18 having a large space along the inclination of the protective layer 16, and laminating a drainage layer 20 having a smaller space and a larger capillary strength than the mat 18 on the above-described mat 18. - 特許庁

ヘッドスライダの空気流出側端部に形成された非磁性絶縁層404の内部に、ヘッド素子408と熱発生素子410とに加えて、スライダ長手方向に積層され、各層のうち少なくとも一つの層がスライダ幅方向両脇付近まで延伸した多層構造の熱伝導機構412がめ込まれる。例文帳に追加

Inside a nonmagnetic insulating layer 404 formed in an air outflow end of the head slider, in addition to a heat generating element 410 and a head element 408, a multiple layer heat conducting mechanism 412 which is laminated in a slider longitudinal direction and where at least one layer out of the layers extends to near both the ends of a slider width direction, is embedded. - 特許庁

立て廃棄物の上表面に粗粒層18とその上層に積層した細粒層20からなる勾配が付された浸透水キャピラリーバリア層を形成し、前記キャピラリーバリア層17による勾配に沿った移動で浸透水が粗粒層18へ浸透する箇所に複数の排水溝24を形成する。例文帳に追加

A sloped seepage water capillary barrier layer composed of a coarse grain layer 18 and a fine grain layer 20 stacked on the upper layer of the layer 18 is formed on the upper surface of earth filling waste, and a plurality of drainage channels 24 are formed in a place where seepage water penetrates into the coarse grain layer 18 by being moved along a gradient by the capillary barrier layer 17. - 特許庁

シリコン基板1上に形成されるバイポーラトランジスタであって、その基本構造では、半導体基板表面に一導電型不純物を有する真性ベース6が形成され、真性ベース6にめ込まれて逆導電型不純物を有するエミッタ10が形成され、エミッタ10上に逆導電型の単結晶シリコン9aと第2のポリシリコン11が積層して形成されている。例文帳に追加

In this bipolar transistor formed on a silicon substrate 1, the basic structure is constituted of an intrinsic base 6 having a one conductivity type impurity formed on the surface of a semiconductor substrate, and an emitter 10 having the opposite conductivity type impurity embedded in the intrinsic base 6, and single crystal silicon 9a having an opposite conductivity type impurity and a second poly silicon 11 formed in a layer stack on the emitter 10. - 特許庁

透明基板に設けた凹状区域に、各画素毎の入射光を色補正するカラーフィルター層が少なくとも積層され、保護層が前記カラーフィルター層を被覆し、かつ前記凹状区域内の隙間をめるように形成されており、保護層表面と凹状区域外の基板表面とが面一につながっていることを特徴とする光学フィルター。例文帳に追加

The optical filter comprises: laminating a color filter layer color-correcting incident light at each pixel on a recessed region provided on a transparent substrate at the lowest; covering the color filter layer by the protection layer, being formed so as to bury a gap in the recessed region; and connecting the surface of the protection layer and the surface of the substrate out of the recessed region. - 特許庁

ベルト長手方向に沿って心線2を設した接着ゴム3と、ベルト長手方向に沿って少なくとも1つのリブ部7をもつ圧縮ゴム層4からなるVリブドベルト1であり、繊維材料5を積層したベルト背面6の表面粗さRaを20μm以下にした構成からなる。例文帳に追加

A V-ribbed belt 1 is comprised of bonded rubber 3 in which a core wire 2 is buried along the length direction of the belt; and a compressed rubber layer 4 having at least one rib part 7 along the length direction of the belt, and surface roughness Ra of the belt back surface 6 formed by laminating a fiber material 5 is specified to 20 μm or less. - 特許庁

前記半導体基板に設けられた素子分離溝部にめ込まれ、底面が前記半導体基板と前記トンネル絶縁膜の接する面の高さよりも低く、かつ上面が前記電荷蓄積層および前記ブロック絶縁膜の接する面の高さよりも低い第1の素子分離絶縁膜が設けられる。例文帳に追加

A first element isolating insulation film is provided which is buried in an element isolation groove provided on the semiconductor substrate, and the bottom face of which is lower than the height of a face at which the semiconductor substrate and the tunnel insulation film are contacted and the top face of which is lower than the height of a face at which the charge storage layer and the block insulation film are contacted. - 特許庁

このカシメ加工のカシメ位置7を、込まれた永久磁石4の積層鉄心1の外周側の長辺を延長して画成される多角形8の内側でかつ、磁石挿入穴2等、軸方向に貫通した穴部とカシメ部外周部との最短距離が最も小さいものでも電磁鋼板の板厚の三倍以上に設定する。例文帳に追加

Caulking positions 7 of the caulking work are set inside a polygon 8, demarcated by extending longer sides of the periphery side of the laminated core 1 of the embedded permanent magnets 4, and the beeline between holes perforating the magnet inserting holes, or the like, in the axial direction and the periphery of caulking portions is set so as that even the shortest is three or more times the sheet thickness of the electromagnetic steel sheet. - 特許庁

光電変換モジュールとしての太陽電池モジュールは、内部に板状の太陽電池素子1がめ込まれている透光性基板と、透光性基板の受光面側と反対側の主面に積層された保護層4と、保護層4の表面に太陽電池素子1と重なるように設置された金属部材5とを具備している。例文帳に追加

A solar cell module as the photoelectric conversion module comprises: a transparent substrate including a plate-shaped solar cell element 1 embedded therein; a protective layer 4 stacked on a principal surface located on the opposite side to a light receiving surface side of the transparent substrate; and a metal member 5 installed on the surface of the protective layer 4 such that it overlaps on the solar cell element 1. - 特許庁

地下壁10を形成するコンクリートの内表面に粗面加工を施した後に、その凹部11に珪藻土を主成分とする目地め材12を充填し、ついで、前記地下壁の内面に、珪藻土を主成分とする下地材13を塗布することにより、前記地下壁内面を平滑化し、ついで、前記下地材の表面に、珪藻土を主成分とする仕上げ材14を少なくとも一層以上積層する。例文帳に追加

After surface processing is applied to the inside surface of a concrete constituting the basement wall 10, the recess section 11 is filled with joint fillers 12 having diatom earth as main ingredients, the ground 13 having diatom earth as main ingredients is applied to the inside of the basement wall to smooth the inside of the basement wall, and the finish 14 having diatom earth as main ingredients is laminiated at least one or more layers. - 特許庁

半導体を含んでパッケージ化された半導体装置の製造方法であって、スクライブラインSLで区分された基板の半導体装置形成領域SDにおいて、基板10上に積層された絶縁樹脂層(16,20)からなる絶縁層と、絶縁層にめ込まれた再配線層(17,18,21,23)を形成し、さらに、スクライブラインSLにおいて基板10を切断する。例文帳に追加

In the manufacturing method of the packaged semiconductor device including a semiconductor; an insulating layer consisting of insulating resin layers (16, 20) laminated on a substrate 10 and re-wiring layers (17, 18, 21, 23) buried in the insulating layer are formed on a semiconductor device forming region SD of the substrate segmented with scribe lines SL, and the substrate 10 is cut on the scribe lines SL. - 特許庁

RFID6をめ込んだ複数の生ラベル2を剥離可能に積層した単一のキャリアテープ3を送り、RFID6から生ラベル2の印刷条件に関する属性情報を読み出し、読み出した属性情報に基づいて各生ラベル2に画像の印刷を行うと共に、各RFID6に認証ラベルの認証情報を書き込むことで、生ラベルから認証ラベルを連続的に作成する。例文帳に追加

The label creation system feeds a single carrier tape 3 removably laminating a plurality of the raw labels 2 embedding RFID 6, reads an attribute information concerning a printing condition of the raw labels 2 from RFID 6, prints an image on each raw label 2 on the basis of the read attribute information, and continuously creates an authentication label from the raw label by writing authentication information of the authentication label on each RFID 6. - 特許庁

そして、柱状部を有する半導体堆積層150を形成する工程において、チップの境界領域に所定パターンの分離用半導体層130を形成し、込み絶縁層120を形成する工程において、分離用半導体層130の少なくとも上面を露出させ、かつ、チップを形成する工程において、分離用半導体層130を用いて前記分離が行われる。例文帳に追加

In a step of forming the semiconductor deposition layer 150 having the columnar parts, a predetermined pattern of isolating semiconductor layer 130 is formed in a boundary region of the chip; in a step of forming the embedded insulating layer 120, at least the upper surface of the isolating semiconductor layer 130 is exposed; and in a step of forming the chip, the isolation semiconductor layer 130 is used to realize this isolation. - 特許庁

ロータコア21の内部にマグネットを装着するマグネット装着孔22、23を有する込磁石型回転電機用ロータにおいて、ロータコア21を積層された炭素鋼や合金鋼などの焼入れ性を有する鋼板より構成し、かつマグネット装着孔22、23の周りのブリッジ部24、25とブリッジ部の近傍26、27を焼入れ処理した。例文帳に追加

In the rotor for embedded magnet type dynamo-electric machines, which has magnet mounting holes 22 and 23 for mounting magnets inside the rotor core 21, the rotor core 21 is constituted of stacked steel plates, having hardenability, such as carbon steel or alloy steel, etc., and the bridge sections 24 and 25 around the magnet mounting holes 22 and 23 and the vicinity 26 and 27 of the bridge sections are quenched. - 特許庁

多層プリント配線板は、部品が表面実装された第1のリジッド基板と、この部品の位置及び外形に対応した逃げ部を有する第2のリジッド基板と、第1及び第2のリジッド基板よりも長く形成されたフレキシブル基板とが、それぞれ絶縁層を介して積層一体化され、部品がリジッドな絶縁層内に設されている。例文帳に追加

The multilayer printed wiring board is configured in such a way that a first rigid substrate having a surface-mounted component, a second rigid substrate having an escape portion corresponding to the position and profile of this component, and a flexible substrate formed to be longer than the first and second rigid substrates, are each integrally stacked via an insulating layer; and the component is buried in the rigid insulating layer. - 特許庁

接着層20の上面に電子素子30を付着する工程と、電子素子30がめ込まれるように、電子素子30の上側及び接着層20の下側に絶縁体41,43をそれぞれ積層する工程と、絶縁体41に回路パターン45及びビア46を形成する工程と、を含むことを特徴とする印刷回路基板及びその製造方法。例文帳に追加

The method of manufacturing the printed circuit board includes a step of adhering an electronic element 30 on the adhesive layer 20, a step of stacking insulation bodies 41, 43 on the upper side of the electronic element 30 and the lower side of the adhesive layer 20 to embed the electronic element 30 therein, and a step of forming a circuit pattern 45 and a via 46 in the insulation body 41. - 特許庁

断裁されることにより帯状の樹脂層となる樹脂シート2上に積層されたホットメルト層30を溶融しておき、このホットメルト層30に対して、ICチップ10を射出し、ICチップ10の射出の勢いによって、溶融したホットメルト層30内にICチップ10をめ込む。例文帳に追加

Under the condition that a hot melt layer 30 laminated onto a resin sheet 2, which is turned into a strip-like resin layer by being cut out, is kept under being fused, the IC chip 10 is jetted against the hot melt layer 30 so as to embed the IC chip 10 in the fused hot melt layer 30 by the jetting force of the IC chip 10. - 特許庁

Bステージ状態の樹脂層4の一面又は両面に、表面に導体回路5が設けられると共にこの導体回路5に対して電気部品10が実装された転写用基材6を導体回路5及び電気部品10と樹脂層4とが対向するように積層すると共に導体回路5及び電気部品10を樹脂層4に設する。例文帳に追加

On one side or both sides of a resin layer 4 in a stage B state, a transfer base 6 having conductor circuits 5 on which electric components 10 are mounted is laminated in a manner wherein the conductor circuits 5 and the electric components 10 face to the resin layer 4, and the conductor circuits 5 and the electric components 10 are buried in the resin layer 4. - 特許庁

本発明に係る不揮発性半導体記憶装置は、ストライプ状のトレンチ50を有する基板1と、トレンチ50の底部に設された第1の電極10と、隣り合う第1の電極間10の基板表面を覆う第2の電極20と、ソース/ドレインとしての拡散層40と、電荷蓄積層としてのトラップ膜30とを備える。例文帳に追加

A nonvolatile semiconductor memory has a substrate 1 having stripe-like trenches 50, each first electrode 10 buried in the bottom of each trench 50, each second electrode 20 covering the surface of the substrate interposed between the adjacent first electrodes to each other, each diffusion layer 40 served as each source or each drain, and each trap film 30 served as a charge accumulating layer. - 特許庁

エラストマー4中に心線5をスパイラル状に設したセンターベルト3と、該センターベルト3の長手方向に沿って複数のブロック2を設けた高負荷伝動ベルト1において、カバー帆布10のブロック2と接触する側の面にフッ素樹脂製繊維を積層配置したものである。例文帳に追加

In this high load transmitting belt 1 provided with the center belt 3 in which a core wire 5 is spirally buried in an elastomer 4, and the plurality of blocks 2 arranged along the longitudinal direction of the center belt 3, fluorine resin fiber is stacked on a face at a side kept into contact with the blocks 2, of the cover canvas 10. - 特許庁

基材1の上に光触媒粒子を含む光触媒層3が積層され、この光触媒層3に硬化性樹脂領域4が光触媒層3の表面から突出した状態で分散して形成された光触媒部材Aとするか、この光触媒層3に硬化性樹脂領域4が光触媒層3の表面と面一になるように入された状態で分散して形成されている光触媒部材とする。例文帳に追加

The photocatalytic member A is formed by layering a photocatalyst layer 3 containing a photocatalyst particle on a base material 1 and dispersing a thermosetting resin area 4 in the photocatalyst layer 3 so that the thermosetting resin area is projected from the surface of the photocatalyst layer 3 or buried in the photocatalyst layer to form one and the same surface as that of the photocatalyst layer 3. - 特許庁

極めて平坦でかつ厚み精度の良いセラミックグリーンシート薄膜を製造することができ、そしてセラミックグリーンシートの製造工程でのキャリヤーシートの取り扱いが容易で、特に内部電極め込み式の積層コンデンサを製造するのに有用なセラミックコンデンサー製造用キャリヤーシートを提供する。例文帳に追加

To provide a carrier sheet for manufacturing a ceramic capacitor, which can manufacture a ceramic green sheet extremely flat and superior in thickness accuracy, and is easy of handling the carrier sheet in the manufacturing process of the ceramic green sheet, and is especially useful for manufacturing an internal electrode embedded stacked capacitor. - 特許庁

ストレージ電極のバーパターン70と没コンタクトホール53との不整合のため、オーバエッチング終了段階でストレージ電極に食刻溝71が形成されても、この食刻溝71を、バーパターン70側壁の導電性スペーサ73で充填した後、ストレージ電極上に誘電体膜80を積層する。例文帳に追加

Even if an etched groove 71 is formed at a storage electrode at the completion stage of over-etching due to unconformity between a bar pattern 70 of the storage electrode and an embedded contact hole 53, the etched groove 71 is filled with a conductive spacer 73 on the side wall of the bar pattern 70 before a dielectrics film 80 is laminated on the storage electrode. - 特許庁

半導体ウエハー10に感光性絶縁樹脂付き銅箔1を積層し、金属レジスト12により銅箔1をエッチングして回路13を形成し、形成した回路を感光性絶縁樹脂2に没させた後、感光性絶縁樹脂2をマスク露光、現像、硬化することにより、ワイヤボンド用開口部を一括形成する。例文帳に追加

A copper foil 1 with a photosensitive insulation resin is laminated on a semiconductor wafer 10, the copper foil 1 is etched by a metal resist 12 to form a circuit 13, and after the formed circuit is buried in the photosensitive insulation resin 2, wire bond opening parts are collectively formed by mask- exposing, developing and curing the photosensitive insulation resin 2. - 特許庁

フッ素ゴムを含むゴム組成物で形成され、ベルトの長手方向に沿って延びる心線5が設されたベルト本体と、このベルト本体の少なくとも一方の面に、フッ素ゴムと水素化ニトリルゴムとを含むゴム組成物で被覆された布帛で形成された補強層6とを積層することにより、伝動ベルトを得る。例文帳に追加

The transmission belt is formed by laminating a belt body formed of a rubber composition including fluorine rubber and embedded with a core wire 5 extending along the belt longitudinal direction, and a reinforcing layer 6 formed of cloth covered by a rubber composition including fluorine rubber and hydrogenated nitrile rubber at least on one face of the belt body. - 特許庁

表面に補強カバー材5を積層し、ベルト長手方向に沿って心線2を設した接着ゴム層3に隣接して圧縮ゴム層4を配置した動力伝動用ベルト1において、上記補強カバー材5が円筒状のニット製の丸編物6であり、カーボンブラック分散液とレゾルシン−ホルマリン−ラテックス液の混合溶液で接着処理している。例文帳に追加

In this power transmission belt 1 having a compressive rubber layer 4 disposed adjacent to an adhesive rubber layer 3 in which cores 2 are buried along the longitudinal direction of the belt, the reinforced cover material 5 is formed in a cylindrical knitted round knitting 6, and subjected to adhesion treatment with a mixed solution of carbon black dispersed liquid and a resorcinol-formalin-latex liquid. - 特許庁

積層型誘電体フィルタは、複数の誘電体層から成る誘導体2と該誘導体2に設され且つ互いに対向配置された少なくとも第1及び第2のストリップライン導体層13,16と第1及び第2のストリップライン導体層13,16に対向配置されたグランド導体層22,25と入出力導体層28とから成るストリップライン共振器L1を具備している。例文帳に追加

The laminate type dielectric filter comprises a strip line resonator L1 comprising a dielectric 2 composed of a plurality of dielectric layers; at least first and second mutually opposed strip line conductor layers 13, 16 embedded in the dielectric 2; ground conductor layers 22, 25 opposite to the first and second stripline conductor layers 13, 16; and an input/output conductor layer 28. - 特許庁

半導体基板上のめ込み酸化膜上に積層されたSOI層内に設けられたPN接合領域を含むUVセンサ部と、前記SOI層に設けられたN型の低濃度拡散領域及び前記低濃度拡散領域に対向して前記半導体基板内に設けられたN型の高濃度拡散領域を含むIRセンサ部とを有している。例文帳に追加

This compound sensor includes a UV sensor part including a PN junction area provided within an SOI layer layered on an embedded oxide film on a semiconductor substrate, and an IR sensor part including an N-type low-density diffusion area provided in the SOI layer, and an N-type high-density diffusion area provided within the semiconductor substrate opposedly to the low-density diffusion area. - 特許庁

積層、接合された複数の絶縁体層と、これらの接合界面にその界面を形成する絶縁体層の両者に没するように配置した複数の磁性粒子とを含むアンテナ基板;および前記アンテナ基板の主面に直接または近接して配置されたアンテナを備えることを特徴とするアンテナデバイス。例文帳に追加

The antenna device includes the antenna substrate that comprises a plurality of insulating layers layered and bonded, and a plurality of magnetic particles arranged in bonded interfaces of the insulating layers and being embedded in both of the insulating layers that form the bonded interfaces; and an antenna arranged directly or in close proximity to the main face of the antenna substrate. - 特許庁

例文

真空容器内にて互いに反応する少なくとも2種類の反応ガスを順番に回転テーブル上の基板の表面に供給しかつこの供給サイクルを実行することにより反応生成物の層を積層して薄膜を形成するにあたり、基板の表面に形成された凹部内に薄膜を良好にめ込むこと。例文帳に追加

To excellently embed a thin film into a recess formed on the surface of a substrate in forming the thin film by sequentially supplying at least two kinds of reactant gases reacting with each other in a vacuum chamber to the surface of the substrate on a rotation table and executing this supply cycle to laminate layers of a reaction product. - 特許庁

索引トップ用語の索引



  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2024 GRAS Group, Inc.RSS