| 意味 | 例文 |
n-Inの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 19373件
When the period C(n-1) immediately before is the continuous measurement section (NO in figure), the measurement section in the section is set to the same C(n) = C2 as the previous period, and the weighting factor is also set to W(n) = C2 (step S113).例文帳に追加
直前の周期C(n−1)が連続計測区間であれば(同図においてNO)、本区間の計測周期は前周期と同一のC(n)=C2に設定され、また、重み係数もW(n)=C2に設定される(ステップS113)。 - 特許庁
The distribution of the impurity concentration of the n-type drift region 112 is so set that the concentration is reduced both in the lateral direction and in the longitudinal direction of the n-type semiconductor layer 3 as it goes away from the n++-type drain region 104.例文帳に追加
n形ドリフト領域112の不純物濃度の濃度分布は、n形半導体層3の横方向および縦方向いずれもn^++形ドレイン領域104から離れるにしたがって低くなるように設定してある。 - 特許庁
In image processing which performs a processing aggregation including N (N is an integer of ≥3) pieces of unit processing recursively, the unit processing is processed in M (M is an integer of ≥2 and <N ) processing sections to perform the unit process.例文帳に追加
N個(Nは3以上の整数)の単位処理を含む処理集合を繰り返し実行する画像処理において、単位処理を実行するためのM個(Mは2以上でN未満の整数)の処理部で単位処理を実行させる。 - 特許庁
To decrease memory capacity by constructing memories so that the number of memories is the number N which is the same as that of the number of interpolating lines in the case of interpolating signals from N lines, at the time of converting an interlaced signal into a progressive signal while the N+1 pieces of memories are required in a conventional technique.例文帳に追加
インターレース信号をプログレッシブ信号に変換する際、Nラインから補間しようとした場合N+1個のメモリが必要であったものを補間ライン数と同じ個数Nで構成することでメモリ容量を低減する。 - 特許庁
In a data communication network using indoor power lines or radio means, etc., the transmission time of a basic packet being a basic unit of data communication is divided in n divisions (n = 1, 2, ...) at the timing of each node; the n divisions are slots as transmission units.例文帳に追加
屋内電力線や無線を用いたデータ通信ネットワークにおいてデータ通信の基本単位である基本パケットの伝送時間を各ノードのタイミングでn分割(n=1,2,・・・)し、その分割単位をスロットとして伝送時間の単位とする。 - 特許庁
ID_Fol1, ID_Fol2,...ID_G1, ID_G2,... are given to respective folders 25 and respective audio files 28 stored in all SD cards SD[1]-SD[n] equipped in the card slots S[1]-S[n] as ID for whole of the SD cards SD[1]-SD[n].例文帳に追加
カードスロットS[1]〜S[n]に装着中の全部のSDカードSD[1]〜SD[n]に格納されている各フォルダ25及び各オーディオファイル28に対して、SDカードSD[1]〜SD[n]の全体におけるIDとしてID_Fol1,ID_Fol2,・・・,ID_G1,ID_G2,・・・を付与する。 - 特許庁
The channel portion of the N-channel transistor A is used in common with a P-type drain 7a of the P-channel transistor B, and the channel portion of the P-channel transistor B is used in common with an N-type source 5b of the N-channel transistor A to make the memory cell highly integrable.例文帳に追加
NチャネルトランジスタAのチャネル部とPチャネルトランジスタBのP型ドレイン7aとを共用すると共に、PチャネルトランジスタBのチャネル部とNチャネルトランジスタAのN型ソース5bとを共用することによって高集積化する。 - 特許庁
Betulin is dissolved in N-methyl pyrrolidone (NMP) in concentration of ≤5.5 wt.%, or in crotamiton in concentration of ≤12.4 wt.%.例文帳に追加
ベツリンをN−メチルピロリドン(NMP)に対して5.5wt%以下の濃度、またはクロタミトンに対して12.4wt%以下の濃度に溶解する。 - 特許庁
An n electrode P1 is provided in an n type layer exposed in the recesses, a conductor layer P3 which connects the interiors of the recesses across the insulator layer m connects the n electrodes together, to provide a large chip type nitride semiconductor light-emitting element in which a light emitting part is spread in network.例文帳に追加
各凹部内に露出したn型層にはn電極P1を設け、記絶縁体層mを越えて凹部内同士を結ぶ導体層P3によって、n電極同士を互いに接続し、発光部が網目状に広がったラージチップ型の窒化物半導体発光素子とする。 - 特許庁
In the case of sampling the Ich signal and the Qch signal recorded in a sampling data recording section 20, when an optimum timing position in a frame ri changes from 0 to n (bit missing), the optimum timing position in the frame ri can be corrected from n to '0 and n'.例文帳に追加
サンプリングデータ記録部20に記録されたIch信号およびQch信号のサンプリングに際し、フレームriにおける最適タイミング位置が0からnへと変化した場合(ビット欠け)は、フレームriにおける最適タイミング位置をnから「0およびn」へと補正することができる。 - 特許庁
Dout(n)=K×(Din(n)-B)/(Dwb(n)-B)... (1) In order to eliminate the difference in read densities among respective read modes, a scanner controller 303 alters the target density set coefficient K in the formula (1) to K', depending on a selected read mode and sets K' in the shading correction circuit 302.例文帳に追加
Dout(n)=K×(Din(n)−B)/(Dwb(n)−B) …(1) 上記各読取モード間の読取濃度の差をなくすために、スキャナコントローラ303は選択された読み取りモードに応じて上記(1)式中の目標濃度設定係数KをK'に変更し、このK'をシェーディング補正回路302に設定する。 - 特許庁
Therefore, in the complex number operation of covariance matrix calculation in N total processing range cells, the calculation times counts (N/Q) in comparison with the calculation times (N) of a conventional covariance matrix in each range cell by the sliding window method, and operation quantity can be drastically reduced.例文帳に追加
従って、N個の全処理レンジセルにおける共分散行列算出の複素演算は、スライディングウィンドウ方式による各レンジセルにおいて行った従来の共分散行列の算出回数(N回)と対比して、算出回数は(N/Q)回となるので、演算量を大幅に削減できる。 - 特許庁
The method for production is carried out as follows: A carbamic acid ester such as benzyl N-chloro-N-sodiocarbamate is reacted with an olefin such as 3-acryloyl-2-oxazolidinone in the presence of an optically active quaternary ammonium salt, to afford the optically active nitrogen-containing three-membered ring compound such as 3-(1'-carbonyloxybenzylaziridinyl)-2-oxazolidinone.例文帳に追加
光学活性な四級アンモニウム塩の存在下、N-クロロ-N-ソジオカルバミン酸ベンジル等のカルバミン酸エステルと、3-アクリロイル-2-オキサゾリジノン等のオレフィンを反応させ、3-(1’-カルボニルオキシベンジルアジリジニル)-2-オキサゾリジノン等の光学活性な含窒素三員環化合物を得る製造方法。 - 特許庁
2N sets of the consecutive symbols in the DMT output signal include 1) N sets of symbols whose value is respectively equal to each value of N sets of DMT input symbols and 2) and N sets of symbols whose value is a function of N sets of DMT input symbolalues respectively.例文帳に追加
DMT出力信号の中のこれらの2N個の連続したシンボルは、1)値がN個のDMT入力シンボルの値にそれぞれ等しいN個のシンボル、および、2)値がそれぞれのN個のDMT入力シンボル値の関数であるN個のシンボルを含む。 - 特許庁
In a plurality of multi-point learning region n set within the basic learning region i, a multi-point learning value AGdp(n) corresponding to the region (n) is used to compute the ignition timing command value ST and is renewed based on the gradual changing value Fsm.例文帳に追加
また、基本学習領域i内に設定された複数の多点学習領域nでは、同領域nに対応した多点学習値AGdp(n)が上記点火時期指令値STの算出に用いられるとともに徐変値Fsmに基づき更新される。 - 特許庁
This information recording device 1 is provided with a plurality of heads 2-i (i=1, 2,..., N) with different azimuth angles and a reproduction head 4 for reproducing information recorded with the different azimuth angles in adjacent recording areas 3R-i (i=1, 2,..., N) on a recording medium 3.例文帳に追加
情報記録装置1において、アジマス角を異にする複数の記録ヘッド2_i(i=1、2、…、N)と、記録媒体3上で隣接する記録領域3R_i(i=1、2、…、N)について異なるアジマス角をもって記録された情報を再生するための再生ヘッド4を設ける。 - 特許庁
An optical transmitter 1 sends to an optical receiver 5 one of quantum entangles paired photons making empty preceding and following (0th and (N+1)-th) time slots in a series of N time slots and spread by 1st to N-th N time slots, and also sends the other photon to an optical receiver 11.例文帳に追加
光送信機1は、一連のN個のタイムスロットの前後(0番目およびN+1)のタイムスロットを空にした、1〜N番のN個のタイムスロットにより張られた量子もつれ光子対の一方を光受信機5へ、他方を光受信機11へと送る。 - 特許庁
If the logic circuit includes a circuit having an n-th (1≤n≤N) logic and an m-th (1≤m≤M) current supply capacity in step S30, the circuit connection information and the layout pattern are created using the n-th logic cell and the m-th current supply cell.例文帳に追加
ステップS30において、論理回路が第n(1≦n≦N)の論理と第m(1≦m≦M)の電流供給能力を有する回路を含む場合には、第nの論理セルと第mの電流供給セルを用いて回路接続情報及びレイアウトパターンを作成する。 - 特許庁
Then the firmware 2 refers to an interruption information table pointer correspondence table 21, stores the interruption information in interruption information tables #0 to #n indicated by interruption information table pointers #0 to #n which correspond to the specified interruption factors #0 to #n and sets flags #0 to #n corresponding to the interruption information.例文帳に追加
ファームウェア2は割込み情報テーブルポインタ対応表21を参照し、特定された割込み要因#0〜#nに対応する割込み情報テーブルポインタ#0〜#nの示す割込み情報テーブル#0〜#nに割込み情報を格納し、それに対応するフラグ#0〜#nを設定する。 - 特許庁
This dictionary creating device is provided with a rephrasing probability estimation part 13 which estimates the probability P(u|n) of occurrence of a rephrasing example u from a formal name (n), and is configured to record the probability P(u|n) of occurrence of the rephrasing example u in a dictionary including the formal name n and rephrasing example u.例文帳に追加
正式名称nから言い換え例uが生起される生起確率P(u|n)を推定する言い換え確率推定部13を設け、その言い換え例uの生起確率P(u|n)を正式名称nと言い換え例uを含む辞書に記録する。 - 特許庁
The amidomalonate N,O-Pt complex having the chemical structure shown in the figure is provided, which is essentially purely obtained by a process including the step of bringing the corresponding amidomalonate O,O'-Pt complex or a mixture of amidomalonate O,O'-Pt and N,O-Pt complex into contact with an aqueous solution of pH 6.0-10.0.例文帳に追加
対応するアミドマロネートO,O'-Pt錯体またはアミドマロネートO,O'-PtおよびN,O-Pt錯体の混合物をpH 6.0〜10.0の水溶液に接触させる段階を含むプロセスによって本質的に純粋に得られる、以下の化学構造を有するアミドマロネートN,O-Pt錯体を用いる。 - 特許庁
In addition, the light axis X of each LED 82(n-1), 82(n-2), ..., on left side from the original document reference line L inclines at a constant inclination angle α to a vertical line orthogonal to the main scanning line B so as to be directed to the original document reference line L when seen from the front direction.例文帳に追加
また、原稿基準ラインLよりも左側の各LED82(n-1)、82(n-2)、…の光軸Xは、正面方向から見たときに原稿基準ラインLに向くように、主走査ラインBと直交する垂線に対して一定の傾斜角度αで傾斜している。 - 特許庁
After forming an n-type buffer layer 7, a surface of the n-type buffer layer 7 is covered with a protecting film 8, then flaws 6, which are generated in forming the n-type buffer layer 7, are removed by a mirror polishing, and a p-type base region and an n-type emitter region are formed on the surface.例文帳に追加
n型バッファ層7を形成した後で、このn型バッファ層7の表面を保護膜8で被覆し、n型バッファ層7を形成したたきに付いたキズ6を鏡面研磨で除去し、その面に、p型ベース領域やn型エミッタ領域を形成する。 - 特許庁
When a semiconductor is divided into a main circuit part (N: the number of elements having possibility in which defect is caused) and a redundant relieving circuit section (N: same as the above) and circuit ratio is assumed to be N/N=α, and main circuit area is assumed to be A, the redundant relieving circuit is expressed as αA.例文帳に追加
半導体装置を主要回路部(N:欠陥が起こる可能性のある個数、素子数)と冗長救済回路部(N:同上)と分けた場合、回路比N/N=αとし、主要回路面積をAとした場合、冗長救済回路はαAで表される。 - 特許庁
The thickness t of the light transmission layer is set in the range of f(n)-t1≤t≤f(n)+t2 using constants t1 and t2 determined based on an allowable value of aberration and a function f(n) of the refractive index n so that the value of aberration is within a fixed allowable value.例文帳に追加
更に収差が一定許容値以内となるように、光透過層の厚さtが、収差の許容値に基づいて決定される定数t1,t2と、屈折率nの関数f(n)を用いて、f(n)−t1≦t≦f(n)+t2の範囲に設定される。 - 特許庁
Further, in order that aberrations fall within the range of certain acceptable values, the thickness t of the light transmission layer is set within the range of f(n)-t1≤t≤ f(n)+t2, employing constants t1, t2 determined based on an acceptable value of aberration and function f(n) of the refractive index n.例文帳に追加
更に収差が一定許容値以内となるように、光透過層の厚さtが、収差の許容値に基づいて決定される定数t1,t2と、屈折率nの関数f(n)を用いて、f(n)−t1≦t≦f(n)+t2の範囲に設定される。 - 特許庁
An n- doped GaN diode is provided on the n+ doped GaN diode patterned in a plurality of slender fingers, a metal layer is provided on the n- doped GaN layer to form Schottky junction between the n- GaN layer and the metal layer.例文帳に追加
1μmを超える厚さを有するn−型ドープしたGaNダイオードを、複数の細長形の指にパターン化した前記n+型ドープGaNダイオード上に配設し、金属層をn−型ドープGaN層上に配設し、それとの間にショットキー接合を形成する。 - 特許庁
In the agent, each of the branched chains includes a copolymer of strongly basic cationic monomer and weakly basic cationic monomer; wherein it is preferable that the strongly basic cationic monomer is 3-N, N-dimethylaminopropyl acrylamide and/or a derivative thereof, while the weakly basic cationic monomer is 2-N, N-dimethylaminoethyl methacrylate and/or a derivative thereof.例文帳に追加
前記強塩基性カチオン性モノマーとしては、3−N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド及び/又はその誘導体が好ましく、前記弱塩基性カチオン性モノマーとしては、2−N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート及び/又はその誘導体が好ましい。 - 特許庁
The thickness t of the light transmission layer is set so as to be in a range as f(n)-t1≤t≤f(n)+t2, using constants t1 and t2 determined on the basis of the permissive value of aberration and a function f(n) of the refractive index n, so that the aberration is within a specified permissive value.例文帳に追加
更に収差が一定許容値以内となるように、光透過層の厚さtが、収差の許容値に基づいて決定される定数t1,t2と、屈折率nの関数f(n)を用いて、f(n)−t1≦t≦f(n)+t2の範囲に設定される。 - 特許庁
This curved interpolation is performed by filtering to become characteristics having a zero point on j/M (j=1, 2...M-1) and k/N (k=1, 2...N-1) on a frequency axis in the case of interpolating the image data into N/M (M and N are mutually prime positive integers).例文帳に追加
この曲線補間は、画像データをN/M(M、Nは互いに素な正の整数)に補間する際に、周波数軸上におけるj/M(但しj=1,2,・・・,M−1)、k/N(但しk=1,2,・・・,N−1)に零点を持つ特性となるフィルタリングを行うことで実現する。 - 特許庁
This multiplication processing portion 24 multiplies a voltage value from the voltage control means by the sampling value Vrec(n) of a source voltage and the gain of the multiplication processing portion, to obtain a peak control target value Iref(n) of a current that flows in the switching element and to supply it to a second addition processing portion 25.例文帳に追加
この乗算処理部24は電圧制御手段からの電圧値と電源電圧のサンプリング値Vrec(n)と乗算処理部のゲインを乗算し、スイッチ素子に流れる電流のピーク制御目標値Iref(n)を算出し、第2の加算処理部25に供給する。 - 特許庁
A readout circuit 31 selects n(≥2) pixel signals having the same color from the R pixels or the B pixels in the R row or the B row and reads out the pixel signals by executing 1/n thinning for reducing the number of pixel signals to 1/n for each color to the selected n pixel signals.例文帳に追加
読み出し回路31は、R行またはB行でR画素またはB画素からn(≧2)個の同一色の画素信号を選択し、選択したn個の画素信号に対し色ごとに画素信号数を1/nに減らす1/n間引きを行って読み出す。 - 特許庁
When the n-side electrode is provided on the n-type conductive substrate, first of all, the n-type conductive substrate is irradiated with plasma in an atmosphere of a chlorine-based compound gas containing Si to form an ion irradiation layer on the n-type conductive substrate (an irradiation step, a step S52).例文帳に追加
n側電極をn型導電性基板上に設けるときには、まず、n型導電性基板にSiを含む塩素系化合物ガスの雰囲気中でプラズマ照射してn型導電性基板にイオン照射層を形成する(照射工程、ステップS52)。 - 特許庁
The signature generation apparatus for generating a signature for a message m from the i-th user includes a plurality of sub-IPs 302 within the IP core 301 so that any two or three of a[1]^μ[x](mod n), a[2]^μ[s](mod n), and w^μ[t](mod l) are calculated in parallel.例文帳に追加
署名生成装置は、i番目のユーザによるメッセージmに対する署名を生成するものであり、a[1]^μ[x] (mod n)と、a[2]^μ[s] (mod n)と、w^μ[t] (mod l)と、の、いずれか2つもしくは3つを並列に計算するように、IPコア301内に複数のサブIP302を備える。 - 特許庁
The composite nanospheres have a diameter ranging from 50 to 1,000 nm plus or minus 5%, and comprise: an essentially liquid core consisting of an organic phase and inorganic nanoparticles disposed inside an organic phase; and an envelope consisting of at least a hydrophilic polymer derived from polymerization of at least one water-soluble monomer, in particular an N-alkylacrylamide or an N-N-dialkylacrylamide.例文帳に追加
50から1000nmプラスまたはマイナス5%の間の直径を有し、− 有機相と、有機相の内部に配置された無機ナノ粒子とからなる必須に液体であるコア、および− 特にN-アルキルアクリルアミド、またはN,N-ジアルキルアクリルアミドである、少なくとも一つの水溶性モノマーの重合から由来する少なくとも一つの親水性ポリマーからなるエンベロープを含むことを特徴とする複合ナノスフェア。 - 特許庁
To provide an epoxy resin composition containing an epoxy resin, N,N-bis(diphenoxyphosphinyl)piperazine, a curing agent and an organic solvent and free from trouble of the precipitation of N,N-bis(diphenoxyphosphinyl)piperazine even by heating the epoxy resin composition to evaporate the organic solvent, dissolving the N,N-bis(diphenoxyphosphinyl)piperazine in the epoxy resin and leaving the solution after temporarily cooling at room temperature.例文帳に追加
エポキシ樹脂、N,N−ビス(ジフェノキシフォスフィニル)ピペラジン、硬化剤および有機溶剤を含有するエポキシ樹脂組成物を加熱して有機溶剤を揮発させ、N,N−ビス(ジフェノキシフォスフィニル)ピペラジンをエポキシ樹脂に溶解させた後一旦室温まで冷却して放置しても、N,N−ビス(ジフェノキシフォスフィニル)ピペラジンが析出することのないエポキシ樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁
Upon occurrence of structural change caused by binding (unbinding) of the second messenger-recognizing protein with a second messenger, the position of the N-LE and C-LE flanked at both termini approaches (dissociates) to develop observable luminescence (extinction) in vivo as well as in vitro.例文帳に追加
前記セカンドメッセンジャー認識タンパク質がセカンドメッセンジャーとの結合(脱離)によって構造変化が起こると、両端のN-LE及びC-LEとの位置が近接(解離)し、in vivoでもin vitroでも発光(減光)を観察できる。 - 特許庁
Based on a correction value written in advance in EEPROM in a production process, lighting periods of the BL scan signals 1 to N are individually corrected, and the deviation in the brightness of light source blocks 1 to N is made adjustable.例文帳に追加
予め生産工程においてEEPROMに書き込まれた補正値に基づいてBLスキャン信号1〜Nの点灯期間を個別に補正し、1〜Nの光源ブロックの輝度ばらつきを調整可能にしている。 - 特許庁
To prevent the development of crack at the time of applying the width reduction, even in the case of containing Nb, Ti, V, N in a cast slab by applying the reduction having ≥3% draft in the thickness direction of a steel plate, prior to the reduction of the cast slab in the width direction.例文帳に追加
鋳片を幅方向に圧下するに先だって、鋼板の厚み方向に圧下率3%以上の圧下を加えることにより、鋳片内にNbやTi,V,Nを含有する場合にも、幅圧下時に割れの発生を防止する。 - 特許庁
A width W in Y-axis direction of the n^- semiconductor layer 3 in the slit area 105 is set smaller than that in Y-axis direction of the n^- semiconductor layer 3 in the high-potential island area 101.例文帳に追加
そして、スリット領域105におけるn^-半導体層3のY軸方向の幅Wは、高電位島領域101におけるn^-半導体層3のY軸方向の幅HWよりも小さく設定されている。 - 特許庁
N pieces of bars of the same shape are parallel displayed, the respective bars are set uniform in brightness of color, and (n-m) pieces of bars among them are displayed in white, the remaining m pieces of bars being displayed in a specified hue in the order of different saturation.例文帳に追加
同様な形状のバーをn個並列に表示し、各バーの明度は同じに設定し、その中のn−m個に白色を、残りのm個に特定の色相を異なる彩度の順にカラーバーとして表示する。 - 特許庁
Data are made into packets with n-bits, in the case of sending the data from a system A to a system B.例文帳に追加
システムAからシステムBにデータを送る際に、データはnビットでパケット化される。 - 特許庁
To provide a magnetic recording medium which exhibits a high C/N in magnetic recording of high density.例文帳に追加
高密度磁気記録において高いC/Nを示す磁気記録媒体を提供すること。 - 特許庁
A p-type base region 2 is provided in a surface layer of an n^- type drift region 1.例文帳に追加
n^-型のドリフト領域1の表面層に、p型のベース領域2が設けられている。 - 特許庁
The ultrasonic wave is transmitted and received in synchronization with a displayed synchronization signal to obtain the reflected wave data #N.例文帳に追加
表示同期信号に同期して超音波を送受信し、この反射波データ#Nを得る。 - 特許庁
In the formula, XO is a 2-4C oxyalkylene group; and n is an integer of 13-77.例文帳に追加
式中、XOは炭素数2〜4のオキシアルキレン基、nは13〜77の整数である。 - 特許庁
To provide a method for determining the n-value of a superconductor in a nondestructive and noncontact way.例文帳に追加
超電導体のn値を非破壊的かつ非接触的に求める方法の提供。 - 特許庁
The diffusion region 14 is of an n-type, and high in impurity concentration relative to the drift region 22.例文帳に追加
拡散領域14は、n型であり、ドリフト領域22よりも不純物濃度が高い。 - 特許庁
A Ge-concentration in an n-type GaAlAs layer is set to 3×1016 cm-3 or lower.例文帳に追加
n型GaAlAs層中のGe濃度を3×10^16cm<SP>ー</SP><SP>3</SP>以下とする。 - 特許庁
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