「pattern width」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

A reference pitch pattern SP having substantially fixed pitch and extending in the direction of its width (direction X of main scanning) and a variable pitch pattern VP whose pitch is changed at substantially fixed ratio are formed to overlap mutually while conveying the print sheet P1, thereby forming a gradation pattern GP in which shading is changed in the direction of paper width (step S4).例文帳に追加

プリントシートＰ１を搬送しながら、その幅方向（主走査方向Ｘ）に延びる略一定ピッチの基準ピッチパターンＳＰと、略一定の割合でピッチの変化する変更ピッチパターンＶＰとを、互いに重なるようにして形成し、これにより、ペーパ幅方向に濃淡の変化するグラデーションパターンＧＰを形成する（ステップＳ４）。 - 特許庁

Namely, the edge position of the device pattern 1 is changed so as to eliminate the step 1a, and the line width of the assist pattern 2 is changed so as to adjust a change in transfer shape resulting from the elimination of the step 1a from the device pattern 1.例文帳に追加

デバイスパターン１は、段差１ａを消失させるように、そのエッジ位置を移動させ、アシストパターン２は、デバイスパターン１から段差１ａを消失させたことによるその転写形状の変化を調整するように、線幅を変化させる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in both of line width uniformity of a pattern and developing time-dependency of sensitivity, a chemically amplified resist composition and a resist film, for negative pattern formation with a developer containing an organic solvent.例文帳に追加

有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、パターンの線幅均一性及び感度の現像時間依存性のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

A control section 63 conveys a piece of paper, on which a line pattern is projected in a width direction by a pattern projector 62, to a fixing nip; measures the shape of the line pattern on paper by means of an area sensor 61; and detects the shape of deformation outside the surface of paper.例文帳に追加

制御部６３は、パタン投影機６２で幅方向にラインパタンが投影された用紙を定着ニップへ搬送し、エリアセンサ６１で、用紙上のラインパタンの形状を測定して、用紙の面外変形形状を検知する。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic sensitive material which is hardly affected by a change in the line width of a mask pattern and ensures good smoothness of the edges of a formed pattern when an original pattern is formed with a photo-plotter using laser light or light of a light emitting diode.例文帳に追加

レーザー光または発光ダイオード光を用いたフォトプロッターで原画パターンを描画する際に、マスクパターンの線巾変動を受けにく、描画パターンエッジのスムースネスが良いハロゲン化銀写真感光材料を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of forming a relief pattern in which a relief pattern having a fine line width and a large film thickness is efficiently, easily and securely formed with high precision, and to provide a relief pattern stuck base.例文帳に追加

線幅が微細であるとともに、膜厚が大きなレリーフパターンを高い精度で効率よく、簡便かつ確実に形成することができるレリーフパターンの形成方法及びレリーフパターン付着基材を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus for preventing an output of a pattern image which does not faithfully reproduce the width of a line composing the pattern image when the pattern image expressing information such as a bar code is outputted.例文帳に追加

バーコードなどの情報を表すパターン画像を出力する際に、該パターン画像を構成する線の幅を忠実に再現していないパターン画像の出力を未然に防止することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern measuring method and apparatus which can prevent variations attributed to measurement while enabling measurement of patterns even when a sample has a complete circuit pattern and a fine pattern width formed thereon.例文帳に追加

本発明は、複雑な回路パターン及び微細なパターン幅が形成された試料であっても、パターンを測定可能としながらも、測定によるバラツキをも防止することのできるパターン測定方法及びパターン測定装置を提供する。 - 特許庁

A buttress part pattern having the number of pitch than a ground-contact part pattern, i.e., a tread pattern of a ground-contact part 41 is formed on a buttress part 45 positioned at the outside in a tire width direction of the ground-contact part 41 at a tread part 10 of the pneumatic tire 1.例文帳に追加

空気入りタイヤ１のトレッド部１０において接地部４１のタイヤ幅方向外方に位置するバットレス部４５に、接地部４１のトレッドパターンである接地部パターンよりもピッチ数が多いバットレス部パターンを形成する。 - 特許庁

The control system ahs a sensor for detecting edge parts of the liquid spray pattern and further can be operated so as to adjust the liquid spray pattern to a pattern width set up to an operator from a position where these edge parts are detected.例文帳に追加

制御システムは、液体スプレーパターンの縁部を検出するセンサを有していると共に、それらの縁部の検出された位置から、作業者によって設定されたパターン幅へ液体スプレーパターンを調節すべく作動可能である。 - 特許庁

To provide a pattern sewing machine which forms disruptive lines, which have a predetermined width in alignment with the sewing line of a pattern design, in a template negative plate such as pasteboard and can simply, quickly, and inexpensively create a template at time of sewing a pattern seam.例文帳に追加

厚紙等のテンプレート原板にパターン模様の縫製ラインに沿った所定幅を有する分断ラインを形成し、パターン縫目を縫製する際のテンプレートを簡単且つ迅速に、しかも安価に作成できるようにすることである。 - 特許庁

To decrease nonuniformity of an irradiation range or intensity distribution of light in projection exposure using a graded index lens array, to form a pattern having a uniform line width of the pattern or a smooth side wall, and to form a finer pattern.例文帳に追加

分布屈折率レンズアレイを用いた投影露光において、照射範囲や光強度分布の不均一性を低減し、パターンの線幅の均一化や側壁がスムーズなパターンの形成を可能とし、より微細なパターンをも形成可能にする。 - 特許庁

In a region, excluding the tip of a designed wiring pattern 21 in an etching resist pattern 30, width (w) of a wiring part 31 is set larger than that w0 of the designed wiring pattern 21, taking the influence of an undercut into consideration.例文帳に追加

エッチングレジストパターン３０において、設計上の配線パターン２１の先端部を除く領域では、アンダーカットの影響を考慮して配線部３１の幅ｗを設計上の配線パターン２１の幅ｗ０よりも大きく形成する。 - 特許庁

The frequency characteristics of impedance peak values are finely adjusted by changing the pattern width (b) of the winding part 2b close to the edge electrodes 3, 4.例文帳に追加

端部電極近傍の巻回部分のパターン幅ｂを変えることにより、インピーダンスピーク値の周波数特性を微調整する。 - 特許庁

The line width of a part 313b other than the end part 311a of the mounting pattern is made thick to improve the mounting strength of the lead wire 21.例文帳に追加

実装パターンの先端部分３１３ａ以外の部分３１３ｂの線幅を太くし、リード線２１の実装強度を上げる。 - 特許庁

The position and width of the ground pattern are specified so that the sum of noises to be generated due to the two factors can be minimized.例文帳に追加

このグラウンドパターンの位置と幅を規定することで、前記二つの要因で発生するノイズの和が最小となるようにする。 - 特許庁

When the identification pattern cannot be identified even when the threshold becomes A0H, an original with a B4 width is read (S10).例文帳に追加

しきい値がＡ０Ｈになっても前記識別パターンが識別できない時は、Ｂ４幅での原稿の読み取りを行う（Ｓ１０）。 - 特許庁

The width and length of each of the projection parts 2a are substantially equal to those of the connection pattern 4 from the viewpoint of a thickness direction of the insulation sheet body 1.例文帳に追加

絶縁シート体１の厚み方向から見て突起部２ａの幅と長さとは接続パターン４のそれらと略等しい。 - 特許庁

To easily and quickly measure an average line width of a line-and-space pattern, without conducting measurement in a large number of positions.例文帳に追加

多数位置での計測を行うことなく、簡便にかつ高速にライン・アンド・スペースパターンの平均的な線幅計測を行う。 - 特許庁

The width of a back conductor pattern CP2 is smaller than those of a back terminal TEPa and a back terminal TEPb.例文帳に追加

裏面端子ＴＥＰａおよび裏面端子ＴＥＰｂの幅に比べて、裏面導体パターンＣＰ２の幅が小さくなっている。 - 特許庁

The well contact 12 has a well contact active region 34 having a plane pattern width wider than that of the memory cell active region 20.例文帳に追加

ウェルコンタクト部１２は、メモリセル活性領域２０よりも平面パターン幅の広いウェルコンタクト活性領域３４を有する。 - 特許庁

It is possible thereby to obtain a three-dimensional displaying pattern P with a narrow width which can be hardly realized by embossing by a conventional press mold.例文帳に追加

これにより、従来のプレス型による型押しでは到底実現困難な細幅の立体的な表示パターンＰが得られる。 - 特許庁

The L/S pattern is arrayed with the line parts 12 with a width narrower than the escape depth at a prescribed interval, with the space part 14 therebetween.例文帳に追加

Ｌ／Ｓパターンはスペース部１４を挟んで、脱出深度より小さい幅のライン部１２を一定の間隔で配列している。 - 特許庁

A channel width W is substantially subdivided by the dot pattern to alleviate the fall of a threshold voltage associated with short channel effect.例文帳に追加

ドットパターンによってチャネル幅Ｗは実質的に細分化され短チャネル効果に伴うしきい値電圧の低下を緩和する。 - 特許庁

Based on the stitch data, a sewing needle is moved by a prescribed amount in a sewing object width direction and the zigzag stitch pattern is formed.例文帳に追加

その縫目データに基づいて、被縫製体幅方向へ縫針を所定量移動して千鳥縫目模様を形成する。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shielding light transmission window material having a mesh-like conductive pattern with small line width and a high opening ratio.例文帳に追加

線幅が小さく開口率の高いメッシュ状の導電性パターンを有した電磁波シールド性光透過窓材を提供する。 - 特許庁

By a registration detection sensor 6, the toner applying amount and the line width of a line pattern 8 are detected in addition to the writing start position of the images of respective colors.例文帳に追加

レジ検知センサ６は各色画像の書き出し位置を検知する他、ラインパターン８のトナー載り量・ライン幅を検知する。 - 特許庁

To provide a process for facilitating production of an electromagnetic wave shielding light transmitting window material in a conductive pattern having a small line width and a high aperture ratio.例文帳に追加

線幅が小さく開口率の高い導電性パターンを有した電磁波シールド性光透過窓材を容易に製造する。 - 特許庁

To provide a method and device for development by which the line width uniformity of a resist pattern film in the surface of a water can be improved.例文帳に追加

ウエハ面内のレジストパターン膜の線幅均一性を向上させる現像処理方法及び現像処理装置を提供する。 - 特許庁

To surely supply a conductive paste to a correcting writing-brush used to correct a disconnection failure of a narrow width wiring pattern.例文帳に追加

狭小幅配線パターンの断線欠陥の修正筆への導電性ペーストの供給を、簡便で確実に行うこと。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition of which the viscosity increase is small, when it is stored, and which is capable of forming a pattern of a fine line width.例文帳に追加

保存時の粘度上昇が小さく、微細な線幅のパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid drop applying method and a liquid drop applying apparatus by which a uniform film and a pattern of minute line width can be formed and quality inferiority such as disconnection is not caused.例文帳に追加

均一な膜及び微小線幅のパターンが形成可能であり、また断線等の品質不良を生じさせない。 - 特許庁

To output an excellent image, without enlarging the line width of a line pattern such as a character and a thin line, while making a halftone section glossy.例文帳に追加

ハーフトーン部でグロスを出しつつ、文字や細線などのラインパターンの線幅が太くなることなく、良好な画像を出力する。 - 特許庁

Then, an SiO2 film 14 is formed and the pattern of lines and spaces is formed with the interval of about 24 μm so as to leave the SiO2 film 14 of the width of 16 μm.例文帳に追加

次に、SiO_2膜14を形成し、幅16μmのSiO_2膜14が残るように、24μm程度の間隔でラインアンドスペースのパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a small-sized inductor provided with a large inductance value without being peeled off from a substrate for which the width of a coil conductor pattern is uniform.例文帳に追加

コイル導体パターンの幅が均一で基板から剥離することがなく、小型で大きなインダクタンス値を有するインダクタを得る。 - 特許庁

A second method is a step of arranging patterns where the aspect ratio of the width of the dummy pattern to the height of a resist is not larger than 2 in the separated areas.例文帳に追加

第２の方法は、ダミーパターンの幅とレジスト高さのアスペクト比が２以下になるパターンを上記分離領域に配置する。 - 特許庁

An inspection signal value 401 for inspecting a track width is generated from the output value of the reproducing signal reproduced from the burst pattern.例文帳に追加

バースト・パターンから再生した再生信号の出力値からトラック幅を検査する検査信号値４０１を生成する。 - 特許庁

To correct open circuit defect of a narrow width wiring pattern conveniently and precisely without damaging a wiring board.例文帳に追加

狭小幅配線パターンの断線欠陥の修正を配線基板にダメージを与えることなく、簡便で精度よく行うこと。 - 特許庁

In the capital city, nine streets running east to west and nine streets running north to south were arranged in the grid pattern; moreover, the width of each street was set to be nine times that of a rut (242.4 centimeters).' 例文帳に追加

「城内には、南北と東西に9条ずつの街路を交差させ、幅は車のわだち（8尺）の9倍とする。」 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Since this fine circuit pattern has relatively fine line width and spacing, the circuit board structure has a higher wiring density.例文帳に追加

この微細回路パターンが相対的に微細な線幅及び間隔を有するので、回路板構造がより高い配線密度を有する。 - 特許庁

The mask pattern has a width smaller than that of the transfer gate electrode so that the edge of the transfer gate electrode is exposed.例文帳に追加

前記マスクパターンは前記転送ゲート電極の端を露出させるように前記転送ゲート電極よりも小さい幅を有する。 - 特許庁

The width and height of the projected strip pattern part 12 are formed to be gradually smaller toward the right end from the left end.例文帳に追加

凸状帯模様部１２の幅及び高さは、その左端から右端に向かって徐々に小さくなるように形成されている。 - 特許庁

The mask used for re-exposure only has an opening for generating an identification pattern of a single pellet and it is stepped in X and Y directions by a step width different from the dimension of the pellet.例文帳に追加

その寸法はペレット幅±αの寸法で、αの値は、識別パターンの間隔に対応する寸法である。 - 特許庁

To provide a polishing method and a polishing machine which have low running cost, have small pattern width dependence and generate no working damages.例文帳に追加

ランニングコストが低く、且つ、パターン幅依存性が少なくて加工ダメージが発生しない研磨方法，研摩装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern, a method for manufacturing a semiconductor device and a photoresist applicator/developer, whereby variations of a line width dimension of the resist pattern can be reduced.例文帳に追加

レジストパターンの線幅寸法のばらつきを小さくできるようにした レジストパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法、フォトレジスト塗布現像装置を提供する。 - 特許庁