processesを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 18450件
The method is for generating a data path for a process execution of a server coupled to a storage area network (SAN) and includes the steps of parameterizing a series of attributes for a desired data path between the processes and the devices of the SAN, and constructing the data path so as to provide the series of attributes.例文帳に追加
本発明の方法は、ストレージエリアネットワーク(SAN)に結合されたサーバ上で実行されるプロセスのためのデータ経路を生成する方法であって、上記プロセスと上記SANのデバイスとの間の所望のデータ経路に関する一連の属性をパラメータ化する工程と、上記一連の属性が上記一連の属性を備えるように上記データ経路を構築する工程と、を包含する。 - 特許庁
A measuring device 10, which measures biological information of a user and performs processing by relating the time information to the biological information, performs one of the processes of preventing a display of time, the storage of the biological information related to the time information, the measurement of the biological information, or the automatic measurement of the biological information when the time is not corrected at prescribed timing.例文帳に追加
ユーザの生体情報を計測し、前記生体情報に時刻情報を関連付けて処理を行う計測装置10において、時刻修正が所定のタイミングでなされなかった場合には、時刻表示の禁止、生体情報を時間情報に関連付けた保存禁止、生体情報の計測禁止あるいは生体情報の自動計測禁止のいずれかを行う。 - 特許庁
An individual/migration control part 11 applies evaluation indexes obtained by varying the weight coefficient of an evaluated value to respective divided small groups, performs processes by respective genetic algorithm execution blocks A1, A2..., and exchange solid bodies between genetic algorithm execution blocks which are close in the weight coefficient of the evaluated value when all the small groups become able to migrate.例文帳に追加
個別/移住制御部11は、評価値の重み係数を変化させた複数の評価指標を、分割したそれぞれの小集団に適用して、それぞれの遺伝的アルゴリズム実行ブロックA1,A2・・・により処理を実行し、全ての小集団で移住可能となったとき、評価値の重み係数が近い遺伝的アルゴリズム実行ブロック間で個体交換を行うように構成している。 - 特許庁
This wire coating separation method includes processes of: preparing the wire core 11 covered with the insulating coating 13; forming an incision 40a on the insulating coating 13 of the wire core 11; and forming a wire core part 11a not covered with the insulating coating 13 by irradiating the insulating coating 13 with pulse laser L1 in accordance with the position of the incision 40a.例文帳に追加
絶縁被膜13で覆われたワイヤ芯線11を準備する工程と、ワイヤ芯線11の絶縁被膜13に切込40aを形成する工程と、切込40aの位置に合わせてパルスレーザL1を絶縁被膜13に照射し、絶縁被膜13により覆われていないワイヤ芯線部分11aを形成する工程と、を有するワイヤ被膜剥離方法。 - 特許庁
The processing apparatus is used to clean a substrate, and it is provided with a steam processor 1 which uses heated steam to peel off/remove organic substances, a chemicals processor 21 which processes the substrate processed in the steam processor and dissolves/removes the organic substances on the substrate, and a rinsing section 31 to rinse the substrate processed in the chemicals processor.例文帳に追加
基板を洗浄処理する処理装置であって、 基板を過熱水蒸気で処理して基板上の有機物を剥離除去する蒸気処理部1と、蒸気処理部で処理された基板を処理液によって処理して基板上の有機物を溶解除去する薬液処理部21と、薬液処理部で処理された基板をリンス処理するリンス処理部31とを具備する。 - 特許庁
The manufacturing method for the birefringent layer includes processes of coating a base material with a material forming the birefringent layer and drying the applied forming material to form the birefringent layer on the base material, and uses as the base material a resin-made base material whose size variation quantity, shown by equation (A), after the coating process and drying process is ≤1 %.例文帳に追加
基材に複屈折層の形成材料を塗工し、前記塗工した形成材料を乾燥することより、前記基材上に複屈折層を形成する工程とを有する複屈折層の製造方法において、前記基材として、前記塗工工程および乾燥工程を施した後の下記式(A)に示す寸法変化量が1%以下となる樹脂製基材を使用する。 - 特許庁
A method, through which hemispherical grain silicons are formed, comprises these processes in which a film of polyslicon or amorphous silicon is formed, exposed to a vapor which contains halide-containing seeds for a time long enough to remove all oxides on it, and is then annealed at high temperature without exposing it to oxygen or an oxygen-containing gas, to be transformed into hemispherical grain silicons.例文帳に追加
ポリシリコンまたはアモルファスシリコン被膜を形成し;ハライド含有種を含む気相に該被膜を、その上の酸化物を全て除去するのに充分な時間暴露し;そして該被膜を酸素または酸素含有ガスに暴露することなく、該被膜を高温でアニーリングして、該ポリシリコンまたはアモルファスシリコンを半球形グレーンシリコンに変換する工程を含む半球形グレーンシリコンの形成方法。 - 特許庁
A video editing part 21 reproduces video data in a preview mode and a phonetic processing and reproduction part 22 processes phonetic material data at need before or during the reproduction of the video data, reproduces the processed phonetic material data at need in synchronism with the reproduction of the video data, and records processing parameters used for the processing of the phonetic material data in the phonetic material data.例文帳に追加
映像編集部21がプレビューモードで映像データの再生を行い、音素材加工・再生部22がこの映像データの再生前又は再生中に、必要に応じて音素材データを加工し、映像データの再生と同期して該必要に応じて加工された音素材データを再生し、音素材データの加工に用いた加工パラメータを音素材データ中に記録する。 - 特許庁
To reduce the thickness unevenness on the outer peripheral side of a light transmission layer while suppressing the complication of manufacturing processes and a manufacturing device to the minimum when manufacturing an optical information medium, which has an information recording surface on the surface of a substrate and the light transmission layer on the information recording surface and is irradiated with laser beams for recording or reproduction through the light transmission layer.例文帳に追加
支持基体表面に情報記録面を有し、この情報記録面上に光透過層を有し、この光透過層を通して記録または再生用のレーザー光が照射される光情報媒体を製造するに際し、製造工程および製造装置の複雑化を最小限に抑えた上で、光透過層の外周側の厚さむらを小さくすること。 - 特許庁
Further, while reducing the photomask verification time by reducing the number of times of executing the optical intensity simulation, those having no effect on the manufacture of a semiconductor or on the operation or the characteristics of a semiconductor element are excluded from the photomask verification result so that only the fatal defect is detected, thereby reducing the time and the number of processes related to the correction of layout pattern CAD data.例文帳に追加
加えて、光強度シミュレーションの実施回数を削減することにより、フォトマスク検証時間の削減を図りつつ、さらに半導体製造上、あるいは半導体素子の動作、特性に影響を与えないものをフォトマスク検証結果から除外し致命的な欠陥のみを検出し、レイアウトパターンCADデータの修正に関わる時間、工数を削減する。 - 特許庁
The method comprises the steps of forming a resist film 2 on a semiconductor substrate, forming a resist pattern 2a by performing the exposure and developing processes to the resist film 2, selectively exposing the region for the resist pattern 2a and selectively changing size of the resist pattern 2a by generating thermal fluidity in the resist film in the outside of the exposure region through the heat treatment of the semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板上にレジスト膜2を形成する工程と、レジスト膜2を露光現像処理することでレジストパターン2aを形成する工程と、レジストパターン2aに対して領域を選択して露光する工程と、半導体基板を加熱処理して、露光領域外のレジスト膜に熱流動を起こさせることにより、選択的にレジストパターン2aの寸法を変化させる工程とを含む。 - 特許庁
According to an attribute-column table 130 in which the correspondence between a class specification 110 and a database specification 120, both of which are designed individually, a defined, and a method-relation table 140, a database access class 150 is formed which conducts retrieval, update, insert, and delete records on each tables defined about processes defined in the class specification 110 in the database specification 120.例文帳に追加
別々に設計されたクラス仕様110とデータベース仕様120との対応付けが定義された属性・列対応表130及びメソッド・関連対応表140に基づき、クラス仕様110に定義された処理についてデータベース仕様120に定義された各テーブルに対し、レコードの検索,更新,挿入,削除等のデータベース操作を行うデータベースアクセスクラス150を生成する。 - 特許庁
The apparatus 1 comprises a communication processor 12 for executing various provided communication functions, a communication traffic measuring unit 13 for measuring the communication data quantity in communication processes executed by the processor 12, a controller 11 for commonly control units and a processing performance measuring unit 14 for measuring the processing performance of the common controller 11.例文帳に追加
通信装置1が提供している種々の通信機能を実行する通信処理部12と、この通信処理部12が実行する通信処理における通信データ量の測定を実行する通信トラヒック測定部13と、各部を共通に制御する共通制御部11と、この共通制御部11の処理能力を測定する制御部処理性能測定部14とを有している。 - 特許庁
To provide a chemical substance management system which grasps each amount of input of raw material to be input in each production process or each production equipment and grasps and controls the amount of discharge of the chemical substance to atmosphere, soil and waters from each of production processes and production equipment.例文帳に追加
複数の生産プロセス又は生産設備を有し原材料物質貯蔵設備を共有している化学プラントにおいて、各生産プロセス又は各生産設備に投入される原材料物質の各々の投入量を把握し、化学物質の大気、土壌及び水域等の生産プロセス又は生産設備の外部への排出量を把握及び管理する化学物質管理システムを提供。 - 特許庁
To provide an element isolation film forming method of a semiconductor memory element capable of minimizing the depth of a moat formed on an element isolation film by shortening a cleaning process time using a DHF solution in which processes from trench formation to element isolation film formation take place during the process of forming the element isolation film of the semiconductor memory element.例文帳に追加
本発明は、半導体メモリ素子の素子分離膜形成工程時にトレンチ形成工程から素子分離膜形成工程まで行われる、DHF溶液を用いた洗浄工程時間を短縮させて、素子分離膜に形成されるモウトの深さを最小化することが可能な半導体メモリ素子の素子分離膜形成方法を提供することを目的としている。 - 特許庁
The store server device 20, on the other hand, executes temporarily storing the tag IDs acquired by the shopping basket device 50 from the electronic tags 40 of merchandise in the shopping basket, reading out merchandise names and unit prices corresponding to the temporarily stored tag IDs, calculating the total price, generating billing statement screen data and payment procedure screen data, and other processes.例文帳に追加
一方、店舗サーバ装置20は、買物籠装置50が買物籠内の商品の電子タグ40から取得したタグIDを一時記憶する処理、一時記憶されるタグIDに対応する商品名や単価を読み出す処理、合計金額を集計する処理、及び、明細画面データや清算手続画面データを生成する処理、及び、その他の処理を実行する。 - 特許庁
The imaging system includes an endoscope which images an object and outputs imaging signals, an external processor 3 with a subsequent stage signal processing circuit 30 which processes the imaging signals input from the endoscope 2 and produces image signals which can be output to display means, and an output detecting circuit 31 to detect presence of outputs of the imaging signal and the image signal.例文帳に追加
被写体を撮像して撮像信号を出力する内視鏡2と、内視鏡2から入力された撮像信号を処理し表示手段に出力可能な映像信号を生成する後段信号処理回路30を有する外部プロセッサ3と、撮像信号出力の有無、および映像信号出力の有無を検知する出力検知回路31とを有する。 - 特許庁
The manufacture of such backing plates comprises processes of: mixing inorganic binder with ceramic powder having a mean particle size of 2-70 μm; molding the obtained admixture; baking the molding to produce a preform having a rate of powder filling 40 to 70 vol.%; and impregnating the preform with molten aluminum or its alloy at 20 to 100 MPa.例文帳に追加
2〜70μmの平均粒径を有するセラミックス粉末に、無機バインダーを加えて混合し、その混合物を成形し、得られた成形体を焼成して40〜70体積%の粉末充填率を有するプリフォームを形成した後、そのプリフォームに溶融されたアルミニウムまたはその合金を20〜100MPaの圧力で含浸させることとしたブレーキパッド用バッキングプレートの製造方法。 - 特許庁
The method of manufacturing a wiring board is characterised by comprising processes of forming the thickening layer of water-soluble polymer on the support so as to manufacture a wiring forming board, forming a prescribed pattern in aqueous conducive ink on the thickening layer, and curing the conductive ink to form a prescribed conductor wiring pattern on the wiring forming board.例文帳に追加
支持体上に水溶性高分子からなる増粘層を形成して配線形成用基板を製作する工程と、前記増粘層上に水性の導電性インクで所定のパターンを形成する工程と、前記導電性インクを硬化させて前記配線形成用基板上に所定の導体配線パターンを形成する工程と、からなることを特徴とする配線基板の製造方法。 - 特許庁
The specific binding antibody or its fragment, specific to the ED-B oncofoetal domain of the FN, associated with various biological processes such as the establishment and maintenance of normal cells, cellular transfer, congestion, thrombosis, wound cure, oncogenic conversion, etc., and directly binding with the oncofoetal domain is provided, and the substance and method for producing such the bonding members are also provided.例文帳に追加
正常細胞の定着(establishment)及び維持、細胞移動、うっ血、血栓症、創傷の治癒、腫瘍原性(oncogenic)転換等、多くの異なる生物過程に関与する、フィブロネクチン(FN)のED−B腫瘍胎児ドメインに対して特異的であり、且つその腫瘍胎児ドメインに直接結合する特異性結合抗体又は抗体断片でありそのような結合メンバを製造するための物質及び方法。 - 特許庁
This device has a reading/writing means to read/write information from/to a recording medium 2, a communication means to communicate with a center side device 4 via a public line network 3, and a control means to output the information regarding station wicket processes according to the information received from the center side device 4 via the communication means.例文帳に追加
記録媒体2に対して情報の読み出し及び書き込みを行う読み書き手段と、公衆回線網3を介してセンタ側の装置4と通信を行う通信手段と、通信手段を介して受信したセンタ側の装置4からの情報に応じて、駅窓口処理に関する情報を出力する制御手段と、を有することによって課題を解決する。 - 特許庁
The method of production for the ultra-fine polyester filaments with ≤1.6 dtex of single fiber fineness is to wind up the polyester fiber yarn after melt spinning from a spinneret and cooling/solidifying on a first winding roller, then to continuously wind up on a second winding roller and heats on heating zone in a steam atmosphere, and to directly draw and heat processes without winding up separately.例文帳に追加
単糸繊度が1.6dtex未満の極細ポリエステルフィラメントの製造方法であって、紡糸口金から溶融紡糸、冷却固化させたポリエステル繊維糸条を第1引取ローラーで引き取った後、引き続き第2引取ローラーにより引き取り、第2引取ローラー上のスチーム雰囲気加熱部位で糸条を加熱した後、一旦巻き取ることなく延伸、熱処理して巻き取ることを特徴とする - 特許庁
The method for manufacturing a color filter for a liquid crystal display features that a radiation reactive resin composition containing a radiation reactive resin component, propylene glycol as the solvent for the component, ethyl lactate and/or propylene glycol monomethylether acetate, and a fluorine- based surfactant on a substrate by a die coating method or a die coating and spin coating method and subjecting the composition to photolithographic processes to form a spacer.例文帳に追加
放射線反応性樹脂成分と、その溶媒としてプロピレングリコールと、乳酸エチルおよび/またはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと、フッ素系界面活性剤とを含有する放射線反応性樹脂組成物を、ダイコート法またはダイコートスピンコート法により基板に塗布し、フォトリソ加工法によりスペーサを形成することを特徴とする液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法。 - 特許庁
The method of manufacturing the photomask for evaluating an exposure apparatus comprises processes for designing an original pattern 14 including a pattern 1 for evaluation, forming a pattern in which the designed original pattern 14 is located on a grid 90, and forming a photomask 5 including a mask pattern by transferring the pattern located on the grid 90 on a transparent substrate 11.例文帳に追加
本発明における露光装置評価用フォトマスクの製造方法は、評価用パターン1を含む原画パターン14を設計する工程と、設計された原画パターン14をグリッド90上に位置づけられたパターンとする工程と、グリッド90上に位置づけられたパターンを透明基板11上に転写することで、マスクパターンを有するフォトマスク5を形成する工程とを備えている。 - 特許庁
The surface electoconductive oxy nickel hydroxide concerned to this invention has a characteristic that it is produced by two processes consisted with the first process in which particles of nickel oxide and cobalt salt are reacted in the solution of pH 5-11 to get intermediate product and the second process in which the aforesaid intermediate product is oxidized in the solution and it has superior electro conductivity.例文帳に追加
本発明に係る表面導電性オキシ水酸化ニッケルは、pH5〜11の水溶液中で粒状水酸化ニッケルとコバルト塩とを反応させて中間体を得る工程1と、前記得られた中間体を水溶液中で酸化する工程2との2工程からなる方法により製造されることを特徴とするものであり、優れた表面導電性を有する。 - 特許庁
This invention provides the image expander where sequentially giving an address from a counter to a memory storing pixel data conducts reading of the pixel data and interpolation processing is applied to the pixel data at expansion of JPEG image compression data, and rearranging output bit sequences in the counter so that one counter is used in common for interpolation processing processes adopting different interpolation methods.例文帳に追加
画素データを格納したメモリに対して、カウンタから順次アドレスを与えることで読み出しを行い、JPEG画像圧縮データを伸長するときに行なう補間処理を行なう装置において、前記カウンタにおける出力ビット順序を並び替えることにより、補間方法の異なる複数の補間処理で前記カウンタ1つを共通使用するようにした画像伸長装置。 - 特許庁
To provide a polyphenylenesulfide resin composition which is excellent in mechanical properties, heat resistance, chemical resistance, electric properties, and low gas-emission properties by reusing polyphenylenesulfide recovered from film waste from polyphenylenesulfide film preparation processes, polyphenylenesulfide film waste from a post process for forming the obtained polyphenylenesulfide film into desired shapes, and used polyphenylenesulfide film.例文帳に追加
ポリフェニレンスルフィドフィルム製造工程で発生したフィルム屑、得られたポリフェニレンスルフィドフィルムを後工程で所望の形状に加工した際に発生するポリフェニレンスルフィドフィルム屑および使用済みポリフェニレンスルフィドフィルムを回収し、これを再利用するとともに、機械的特性、耐熱性、耐薬品性、電気特性、低発生ガス性に優れるポリフェニレンサルファイド樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
This method of manufacturing a piezoelectric element includes processes of: forming a lower electrode on a base body; forming a seed layer having a layered perovskite structure on the lower electrode; forming a piezoelectric body layer formed of Bi_4Ti_3O_12-BaBi_4Ti_4O_15 on the seed layer; and forming an upper layer on the piezoelectric body layer.例文帳に追加
本発明に係る圧電素子の製造方法は、基体の上に下部電極を形成する工程と、前記下部電極の上に層状ペロブスカイト構造を有するシード層を形成する工程と、前記シード層の上にBi_4Ti_3O_12−BaBi_4Ti_4O_15からなる圧電体層を形成する工程と、前記圧電体層の上に上部電極を形成する工程と、を含む。 - 特許庁
To provide a molding method of a sidewall member which enables the enhancement of the adhesiveness of a different color rubber member and the efficient molding due to a series of continuous processes, in molding the sidewall member having a part different from a main body rubber in color, and a pneumatic tire constituted of the sidewall member obtained by this molding method.例文帳に追加
本体ゴムと異なる色の部分を有するサイドウォール部材を成形するにあたり、異色ゴム部材の接着性を向上することができ、しかも、連続した一連の工程によって効率良く成形することができるサイドウォール部材の成形方法、および、その成形方法により得られたサイドウォール部材により構成される空気入りタイヤを提供すること。 - 特許庁
When receiving the RGB image data, the data processing terminal 200 converts the received RGB image data into color data of a CMYK system, generates raster data by performing a process to be handled out of respective color conversion processes of CMYK with respect to color data to be handled out of the converted color data, and transmits the generated raster data to a network printer 300.例文帳に追加
データ処理端末200は、RGB画像データを受信したときは、受信したRGB画像データをCMYK系の色データに変換し、変換した色データのうち自己が担当するものに対して、CMYKの各色変換処理のうち自己が担当する処理を行うことによりラスターデータを生成し、生成したラスターデータをネットワークプリンタ300に送信する。 - 特許庁
An image processing device 1 processes a moving picture constituted by arranging respective images, photographed by a camera 10 photographing a still subject by directing the optical axis in a specified photographic direction perpendicular to a specified direction at respective photography positions set in the specified direction on a straight line at equal intervals, in the order of the photography positions.例文帳に追加
画像処理装置1は、所定の方向に沿って一直線上かつ等間隔に設定された各撮影位置において、所定の方向に対して垂直な方向となる所定の撮影方向に光軸を向けて、静止した被写体を撮影するカメラ10によって撮影された各画像を、撮影位置の順に並べて構成された動画像を処理の対象とする。 - 特許庁
The manufacturing method of the polymer optical waveguide substrate comprising the processes of forming a polymer optical waveguide laminated body on a silicon substrate, removing the unnecessary part by performing the reactive ion etching via a resist pattern containing positive type silicon, and exfoliating the resist containing the silicon, is characterized in that an exfoliation liquid containing amino alcohol is used as an exfoliation liquid of the resist containing silicon.例文帳に追加
シリコン基板上に、ポリマー光導波路積層体を形成し、ポジ型シリコン含有レジストパターンを介して反応性イオンエッチングを行って不要部を除去し、次いでシリコン含有レジストを剥離する工程を含むポリマー光導波路基板の製造方法において、シリコン含有レジストの剥離液としてアミノアルコール含有剥離液を使用することを特徴とする方法。 - 特許庁
With the kind of priority jobs being predetermined for each of a plurality of NICs 5a-5c according to priority job setting information, the apparatus controls to preferentially process those jobs of the kind set as priority jobs according to the priority job setting information, if a plurality of jobs accompanying with the communication processes through the NICs 5a-5c occur simultaneously in time.例文帳に追加
複数のNIC5a〜5c各々について優先するジョブの種類を優先ジョブ設定情報により予め定めておき、NIC5a〜5cを通じた通信処理を伴う複数のジョブが時間的に重複して発生した場合に、前記優先ジョブ設定情報において優先するよう設定された種類のジョブが優先して処理されるよう制御する。 - 特許庁
The preprocessing device 2 prepares the test water so as to meet a measurement condition, and the particle amount quantifying device 3 obtains an image of the test water by using a microscope and processes the image thereby quantifying the amount of colored particles, and the transparency calculating device 4 refers to a calibration curve measured beforehand and calculates the transparency from a value obtained by the particle amount quantifying device 3.例文帳に追加
前処理装置2は検水を測定条件に合わせ調製するものであり、粒子定量化装置は3、顕微鏡による該検水の画像を取り込み、該画像の処理をして着色粒子量を定量化するものであり、透視度算出装置4は、予め測定された検量線を参照し、前記粒子定量化装置3で得られた値から透視度を算出するものである。 - 特許庁
A surveillance camera 1 as the device is equipped with a camera board 4 which processes the multimedia data, and a system module 40 of the camera board 4 extracts a payload of music data from a data packet of an ASF file stored in a memory card 3, and ciphers a specified part of a payload header of the extracted payload by using an SIM 2, thereby making the quality of the multimedia data deteriorate.例文帳に追加
本発明に係る装置である監視カメラ1には、マルチメディアデータを処理するカメラボード4が備えられ、カメラボード4のシステムモジュール40は、メモリカード3に記憶するASFファイルのデータパケットの中から、音楽データのペイロードを抽出し、SIM2を用いて、抽出したペイロードのペイロードヘッダの指定された箇所を暗号化することで、マルチメディアデータの品質を劣化させる。 - 特許庁
To provide a source drain electrode in which a barrier metal layer of a lower part can be eliminated, a production process can be simplified without increasing the number of processes, an Al based alloy film can be connected to a semiconductor layer of a thin film transistor directly and surely, and an electrical resistivity between transparent pixel electrodes can be lowered even in the case of applying a low thermal process temperature to an Al alloy film.例文帳に追加
下部バリアメタル層の省略を可能にすると共に、工程数を増やすことなく簡略化し、Al系合金膜を薄膜トランジスタの半導体層に対し直接かつ確実に接続することができ、しかも、Al合金膜に対して低い熱プロセス温度を適用した場合でも、透明画素電極間の低電気抵抗率化を達成し得るソース−ドレイン電極を提供する。 - 特許庁
This signal processing method for detecting the periodic defects existing in a specimen partitions measured signals including the periodic defects with a plurality of periods, at a fixed interval, arrays the partitioned measured signals along a direction orthogonal to a data sequential direction of the measured signals to prepare a two-dimensional data sequence, and pattern-processes the two-dimensional data sequence to recognize the defects.例文帳に追加
被検体に存在する周期性欠陥を検出するための信号処理方法であって、前記周期性欠陥を複数周期以上含んだ測定信号を、一定間隔で区切り、前記測定信号のデータ列方向に対して直交する方向に、前記区切った測定信号を並べて2次元データ列を作成し、その2次元データ列をパターン処理して欠陥を認識する。 - 特許庁
The method of manufacturing the semiconductor device includes the processes of (a) forming a resist film 17 selectively on a surface of the nitride film 16; and (b) etching the resist film 17 while etching the nitride film 16 using the resist film 17 as a mask to leave the nitride film 16 covered with the resist film 17 which is made thin and has its end surface retracted.例文帳に追加
本発明の一実施形態に係る半導体装置の製造方法は、(a)窒化膜16の表面に選択的にレジスト膜17を成膜する工程、(b)レジスト膜17をマスクとして窒化膜16をエッチングすると同時にレジスト膜17をもエッチングし、薄膜化され端面が退避されたレジスト膜17に覆われた窒化膜16を残す工程を備えて構成される。 - 特許庁
To provide a volatile organic compound (VOC) containing exhaust gas treatment device and method securing VOC removal efficiency when VOC concentration rises after a process change-over while minimizing consumption of stabilizing burner fuel when the VOC concentration becomes very small in a process change-over process in regard to manufacturing and treatment processes for various products generating VOC containing exhaust gas.例文帳に追加
揮発性有機化合物(VOC)含有排ガスを発生させる各種製品の製造・処理工程における工程切替過程でVOC濃度が微小となった場合の、助燃用バーナ燃料の使用量を最小化しつつ、工程切替完了後のVOC濃度の上昇時のVOC除去効率を確保するVOC含有排ガス処理装置と方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method, a program, and an apparatus for simulation for securing accuracy of computation without confusion of processes performed by individual function units of a VLIW (very long instruction word) type processor.例文帳に追加
VLIWアーキテクチャに基づくプロセッサの命令実行を模擬するシミュレータにおいて、当該プロセッサが機能ユニット(パイプライン)ごとに個別のアキュムレータを設ける構成である場合に、超長命令語を構成する各基本命令中のアキュムレータが、「どの機能ユニットの」どのアキュムレータを指定しているかを正確に特定することで、異なる機能ユニットによる処理を混同することなく、演算の正確性を確保すること。 - 特許庁
The method of manufacturing the semiconductor device includes the processes of: forming a wettability improving film on a surface of a semiconductor substrate; coating a surface of the wettability improving film with a dopant diffusing agent containing dopants of a first conductivity type and a second conductivity type; and forming a dopant diffusion layer by diffusing the dopants in the semiconductor substrate from the dopant diffusing agent.例文帳に追加
半導体基板の表面上にぬれ性改善膜を形成する工程と、ぬれ性改善膜の表面上に第1導電型または第2導電型のドーパントを含有するドーパント拡散剤を塗布する工程と、ドーパント拡散剤から半導体基板にドーパントを拡散させることによってドーパント拡散層を形成する工程とを含む半導体装置の製造方法である。 - 特許庁
The method for manufacturing the semiconductor device includes processes for forming a first mask layer 115 having a first lower opening 115a, on an interlayer insulting film 114, and forming, on the first mask layer 115, a second mask layer 116 having a first upper opening 116a exposing the interlayer insulating film 114 through the first lower opening 115a.例文帳に追加
半導体装置の製造方法は、層間絶縁膜114の上に第1の下部開口部115aを有する第1のマスク層115を形成する工程と、第1のマスク層115の上に第1の下部開口部115aを通して層間絶縁膜114を露出する第1の上部開口部116aを有する第2のマスク層116を形成する工程とを備えている。 - 特許庁
The method for producing titanium sponge by the magnesium reduction of titanium tetrachloride is characterized in that molten magnesium is filled into a reaction vessel, the average temperature in the wall face of a reaction vessel in contact with the vicinity of the reaction face in a molten magnesium bath where reduction reaction processes is held at the melting point of magnesium chloride or below, and titanium tetrachloride is fed to the molten magnesium bath.例文帳に追加
四塩化チタンのマグネシウム還元によるスポンジチタンの製造方法において、反応容器に溶融マグネシウムを満たし、還元反応が進行する溶融マグネシウム浴の反応面近傍と接する反応容器の壁面の平均温度を塩化マグネシウムの融点以下に保持し、四塩化チタンを溶融マグネシウム浴に供給することを特徴とするスポンジチタンの製造方法。 - 特許庁
The drawing data inspection method for rasterizing design data described in a vector format to create drawing data to be drawn on a substrate comprises processes of performing conversion of the design data to raster data that forms the drawing data and reconversion of the raster data to vector data; and comparing the design data with the vector data to determine matching/mismatching between the design data and the vector data.例文帳に追加
本発明の描画データ検査方法は、ベクトル形式で記述された設計データをラスタライズして、基板に描画する描画データを作成するためのものであり、設計データを描画データとなるラスターデータに変換し、再度ラスターデータをベクターデータに変換する工程と、設計データとベクターデータとを比較し、設計データとベクターデータとの一致不一致を判定する工程を有する。 - 特許庁
A user terminal 10 inputs information for specifying a homepage required to be read out of homepages provided from a Web server 20, and a conversion server 30 requests contents provided in the specified homepage to the Web server 20, processes/changes the contents and transmits the processed contents to the user terminal 10 to display the contents on the user terminal 10.例文帳に追加
利用者端末10は、Webサーバ20が提供するホームページのうち閲覧を希望するものを特定するための情報を入力し、変換サーバ30は、Webサーバ20に指定されたホームページにおいて提供されているコンテンツを要求し、そのコンテンツの加工・変更を行ない、加工されたコンテンツを利用者端末10に送信し、利用者端末10はそのコンテンツを表示する。 - 特許庁
The method includes a process for selecting a pair of as-yet-scheduled, executable nodes for the scheduling of burst during that time; a process for selecting one time slot from a finite time slot sequence; a process for scheduling the burst to the selected time slot; and a process for repeating the above processes until unscheduled demands or the pair of executable nodes disappear.例文帳に追加
この方法は、まだスケジュールされていない実行可能なノード対を、その間のバーストのスケジューリングのために選択する工程と、有限のタイムスロット・シーケンスから1つのタイムスロットを選択する工程と、選択したタイムスロットにバーストをスケジュールする工程と、スケジュールされていない需要または実行可能なノード対がなくなるまで上記の工程を繰り返す工程とを含む。 - 特許庁
This manufacturing method of the liquid crystal display device includes processes of: producing a liquid crystal display panel 100a including a polymeric composition in a liquid crystal layer 30; and forming a polymer structure 32 by polymerizing the polymeric composition in the liquid crystal layer 30 while predetermined voltage is applied to the liquid crystal layer 30 in the liquid crystal display panel 100a.例文帳に追加
本発明による液晶表示装置の製造方法は、液晶層30中に重合性組成物を含む液晶表示パネル100aを用意する工程と、液晶表示パネル100aの液晶層30に所定の電圧が印加された状態で、液晶層30中の重合性組成物を重合することによって、ポリマー構造物32を形成する工程とを包含する。 - 特許庁
The decryption method includes: a step for requesting the outside to process a part of a series of processes to perform decryption for the encrypted contents which correspond to a predetermined node according to whether or not the predetermined node among a plurality of nodes is disposed and a step for decrypting the encrypted contents which correspond to the predetermined node based on a response to the request.例文帳に追加
複数のノードのうち所定ノードが廃棄されたかどうかによって、前記所定ノードに対応する暗号化されたコンテンツの復号化を行う一連の過程のうち、一部を処理することを外部に要請するステップと、前記要請に対する応答に基づいて、前記所定ノードに対応する暗号化されたコンテンツを復号化するステップと、を含む復号化方法。 - 特許庁
To provide a novel structural magnetic processing device which extremely improves a fuel consumption rate in comparison with the conventional magnetic processing device and in its return, can realize the effective reduction of an exhaust gas amount in a magnetic processing device of combustion air which is arranged in an air pipe line for introducing combustion air to the cylinder chamber of an internal combustion engine and magnetically processes combustion air.例文帳に追加
内燃機関のシリンダ室に燃焼用空気を導く空気管路に配設されて、該燃焼用空気を磁気処理する燃焼用空気の磁気処理装置において、従来の磁気処理装置に比して、燃料消費率を飛躍的に向上せしめ、ひいては排気ガス量の効果的な軽減を実現する新規な構造の磁気処理装置を提供すること。 - 特許庁
To provide the high-speed mirror surface polishing method of a silicon wafer for improving a mirror surface polishing speed extremely, improving throughput by obtaining a mirror surface quickly with less processes, preventing damage such as scratch marks and a machining deterioration layer to a wafer, and preventing waste liquid problems and the damage to a polishing device and tools.例文帳に追加
鏡面研磨速度が著しく向上し、少ない工程数で短時間に鏡面が得られることによりスループットが向上し、ウエハにスクラッチ傷や加工変質層等のダメージを与えることがなく、しかも廃液処理問題や研磨装置および治具が損傷する不具合も生じることがないシリコンウエハの高速鏡面研磨方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
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