「processing process」に関連した英語例文の一覧と使い方(89ページ目) - Weblio英語例文検索

The respective radio equipment 31 to 43 determine processing contents of a packet PKT with reference to a route label stored in a header HD of the packet PKT transmitted from different radio equipment and process the packet PKT in accordance with the determined processing contents.例文帳に追加

各無線装置３１〜４３は、他の無線装置から送信されたパケットＰＫＴのヘッダＨＤに格納されたルートラベルを参照して、パケットＰＫＴの処理内容を決定し、その決定した処理内容に応じて、パケットＰＫＴを処理する。 - 特許庁

To provide a downsized high frequency module that can process a transmission signal and a reception signal and realize improvement in the isolation between a transmission system circuit for processing the transmission signal and a reception system circuit for processing the reception signal.例文帳に追加

送信信号および受信信号を処理できると共に、送信信号を処理する送信系回路と受信信号を処理する受信系回路との間のアイソレーションを向上させることができ、且つ小型化できる高周波モジュールを実現する。 - 特許庁

To provide an information processor, an information processing method and an information processing program capable of quickly performing a predetermined process to information obtained from an external device via a network while preventing increase of information leakage risk.例文帳に追加

情報漏洩の危険性の増大を排除しながらネットワークを介して外部装置から取得される情報に対して所定の処理を迅速に実施することを可能とする情報処理装置，情報処理方法及び情報処理プログラムを提供する。 - 特許庁

The specified reference data are transferred form the data transfer unit 20 in the top layer to the respective image processing units 22 along the tree structure and the image processing units 22 process the image in parallel while referring to the reference data.例文帳に追加

そして、上記特定された基準データをツリー構造に沿って最上位層のデータ転送ユニット２０から各画像処理ユニット２２に転送して、その基準データを参照しながら各画像処理ユニット２２は並列に画像処理を行う。 - 特許庁

In the method of manufacturing the photographic polyester support, the support is treated by a process for preventing blocking using water cleaning after a plasma processing when polyester films are continuously carried and processed by discharged plasma processing under air pressure of 65,000-110,000 Pa.例文帳に追加

連続搬送しているポリエステルフィルムを６５，０００〜１１０，０００Ｐａの気圧下でガス中放電プラズマ処理する際、プラズマ処理した後に、水洗によるブロッキング防止工程を経ることを特徴とする写真用ポリエステル支持体の製造方法。 - 特許庁

To materialize a plate part punch processing die which increases punch process workability and makes a manufacturing cost low by reducing necessary man-hours for manufacturing a plate-shape part by performing a punch processing to a metal plate.例文帳に追加

金属の板材に打抜き加工を施して板状部品を製造する場合に必要な工数を低減することにより、打抜き加工の作業性を高め、製造コストを低廉なものとすることができる板状部品の打抜き加工用金型を実現する。 - 特許庁

The control part 12 performs control for the correction of the displayed time using the time data when the communication with the station server is performed to carry out prescribed processing by the radio processing part 11, and the time data is acquired in the communication process.例文帳に追加

制御部１２は、無線処理部１１によって所定の処理を実行するために駅サーバとの通信が行われ、その通信過程において時刻データが取得されたとき、その時刻データを用いて表示時刻を修正するための制御を行う。 - 特許庁

To increase the processing speed of signals without causing any large increase in power consumption, to improve the signal processing quantity and information transmission amount, and to process signals of multiple series by the same circuit in a correlator and a matched filter.例文帳に追加

相関器およびマッチトフィルタにおいて、消費電力の大幅な増大を招くことなく信号の処理速度を高め、信号処理量および情報伝送量を向上させ、また、複数の系列の信号に対して同一の回路で処理可能にする。 - 特許庁

To provide a document management system which enables an overall grasp also about a relation between two or more process results, while displaying intelligibly about result of each retrieval processing, when narrowing down retrieval processing is performed two or more times.例文帳に追加

絞り込み検索処理が複数回行われた場合においても、それぞれの検索処理の結果についてわかりやすく表示するとともに、複数の処理結果間の関係についても全体的な把握を可能とする文書管理システム等を提供する。 - 特許庁

In an in-line film deposition processing apparatus, the power consumption in the heating process using a lamp heater at the shift to the production start is reduced by keeping every cart at high temperature using a sheath heater provided in a film deposition processing chamber while stopping the production.例文帳に追加

インライン成膜処理装置において、生産停止中に成膜処理室に設けたシースヒータを用いて全カートを高温に保持することによって、生産開始に移行した際のランプヒータを用いて行う加熱工程での消費電力を低減する。 - 特許庁

When the cleaning liquid is supplied from a washing nozzle 15, the cleaning liquid is supplied directed toward the inner wall of the processing tank, so that the process liquid pulled by an upper part on the processing tank 3 inner wall with surface tension is made to flow down in the tank 3.例文帳に追加

洗浄ノズル１５から洗浄液を供給すると、処理槽３の内壁に向けて洗浄液が供給されるので、表面張力により処理槽３内壁で上部に引っ張られている処理液を槽内に流し落とせる。 - 特許庁

Thereby, in the process of '01' write-in processing and write-in verifying processing, for even a bit which is discriminated as verify-pass due to any cause, when it is decided as fail by this operation, write-in voltage is applied again, and the prescribed threshold voltage can be obtained.例文帳に追加

これにより、“０１”書き込み処理、書き込みベリファイ処理の途中に、何らかの原因でベリファイパスと判定されたビットでも、この動作でフェイルと判定されれば再び書き込み電圧が印加され、所定のしきい電圧にすることができる。 - 特許庁

To provide an image processing device and an image processing method allowing even a beginner to easily and efficiently edit and process an image; and to provide a computer readable record medium with a program for a computer to execute the method recorded.例文帳に追加

初心者にも容易にかつ効率的に画像の編集加工ができるようにする画像処理装置、画像処理方法およびその方法をコンピュータに実行させるプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a plate surface processing liquid, such as a neutralization stabilizing liquid or an etching liquid applied after the development processing of a lithographic printing plate by a silver complex salt diffusion transfer process, in which the plate wear of silver image is enhanced and, at the same time, an ink transfer point is improved.例文帳に追加

銀錯塩拡散転写法を用いた平版印刷版の現像処理後に施される中和安定化液あるいはエッチ液のような版面処理液に於いて、銀画像の耐刷力を向上させ、かつインキ乗り点を改良する。 - 特許庁

When the sheet on which the image is to be formed is not a backing sheet, a dot pattern addition processing division 208 generates dots of a layout pattern which represents the attribution information of the image forming process, and adds it to the image data and supplies it to a PWM processing division 209.例文帳に追加

ドットパターン付加処理部２０８は、画像が形成される用紙が裏紙でない場合には、画像形成処理の属性情報を表すような配置パターンのドットを生成し、これを画像データに付加してＰＷＭ処理部２０９に供給する。 - 特許庁

Then, image data related to the job A and a job processing information indicative of its process condition are associated with a job ID assigned to the job A, and transferred to a server (S109-S111) (when the image data are saved at the server, only the job processing information is processed).例文帳に追加

そして、ジョブＡに係る画像データとその処理条件を示すジョブ処理情報（サーバに当該画像データが保存されている場合にはジョブ処理情報のみ）をジョブＡに割り当てられたジョブＩＤに関連付けてサーバに転送する（S109〜S111）。 - 特許庁

To provide a color image information processing method for eliminating/ recovering a set-off image by the edge intensity method, that can process image information at a speed equal to that of a preceding example, without the need for sophisticated processing capability, when obtaining an edge enhancement histogram and a threshold.例文帳に追加

エッジ強度法により裏写り画像の除去・修復をするためのカラー画像情報処理方法において、エッジ強度ヒストグラムを得、閾値を求めるときに、処理能力を高度化せずに、先行例と同等の速度で処理可能にする。 - 特許庁

A dry-molding process comprises skin-processing steps comprising drying the skin in the sun, cutting it, soaking it in water, and knitting or pressing the skin or raw material granule-processing steps comprising drying the skin in the sun, powdering it, adding the adhesive thereto, agitating it, and pressing or extruding the skin.例文帳に追加

乾式成形は、皮の天日乾燥、裁断、水に浸け込む工程、及び編んで又はプレスする皮加工法、又は天日乾燥して粉砕し粘着剤を添加して攪拌する及びプレス又は押し出す粒状原料加工法である。 - 特許庁

A semiconductor manufacturing apparatus comprises a load-lock chamber 1 where a substrate is interchanged between there and outside, a processing chamber 2 where a prescribed process is conducted onto the substrate, and a transfer chamber 3 through which the substrate is transferred between the load-lock chamber 1 and the processing chamber 2.例文帳に追加

半導体製造装置は、外部との間で基板のやりとりを行うロードロック室１と、基板に所定の処理を施す処理室２と、前記ロードロック室１と処理室２との間で基板の搬送を行う搬送室３とを備える。 - 特許庁

To provide a surface processing method for obtaininga substrate having the desired uniform lyophilic property in order to improve formation of a film pattern by the ink jet method, and also provide a surface processing substrate obtained by this surface process and a method of forming a film pattern.例文帳に追加

インクジェット法による膜パターンの形成を改善するため、所望の親液性を均一に有する基板を得るための表面処理方法、この表面処理によって得られた表面処理基板、及び膜パターンの形成方法等を提供する。 - 特許庁

This information processor is provided with an image processing means for applying a processing process different according to a display position to data on each the background image for display when displaying the plurality of background images in a prescribed range on the display screen of the information processor.例文帳に追加

情報処理装置の表示画面上の所定範囲に複数の背景画像を表示させるに際し、各背景画像のデータに対してそれらの表示位置に応じて異なる加工処理を施こして表示させるための画像加工手段を設ける。 - 特許庁

To provide a device which, when a treatment containing fine particles of ices is supplied to a surface of a board to process the board, can perform a uniform processing without causing a processing unevenness, and does not damage a film formed on the board.例文帳に追加

氷の微粒子を含む処理液を基板の表面へ供給して基板の処理を行う場合に、処理むらを生じることなく均一な処理が可能であり、基板上に形成された被膜にダメージを与えることもない装置を提供する。 - 特許庁

When the master key is generated, the authentication processor controls an encryption part to encrypt an ID of the information processing terminal using the master key generated by the process of the step S32 to generate the key specific for the information processing terminal, in a step S33.例文帳に追加

マスタ鍵が生成されると認証処理部は、ステップＳ３３において、暗号化部を制御し、情報処理端末のIDを、ステップＳ３２の処理により生成されたマスタ鍵を用いて暗号化させ、情報処理端末固有の鍵を生成する。 - 特許庁

To provide a laminate production method related to a laminated sheet for aiming an etching processing, a processing method therefor or the like and a washing, drying and etching process by setting a holder which indirectly incorporates an ultrasonic vibration, and an automatic apparatus to be used for this method.例文帳に追加

エッチング加工を目的とする積層シートに係関連するラミネート製造及び、其の加工方法等であり超音波振動を間接的に組み込んだホルダーを設け、洗浄加工及び乾燥、エッチング加工方法であり、また使用する自動装置。 - 特許庁

To provide a device for processing work by plasma capable of moving electrodes closer to each other, to increase an etching rate, when plasma- processing a work and of increasing a gap between the electrodes, when putting the work into or out of the gap between the electrodes after the plasma process is finished.例文帳に追加

プラズマ処理時には電極部同士を接近させてエッチングレートを上げ、プラズマ処理が終了してワークを電極部間に出し入れするときには、電極部間の間隔を大きくできるワークのプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

The grinding auxiliary device comprises a data processing means (3) to process data of the electric resistance rate of a work for a semiconductor wafer ; a speaker (4), serving as an alarming means, operated by an alarm signal from the data processing means (3); alarm lamps (5A and 5B); and a CRT (6).例文帳に追加

半導体ウェーハのワークの電気抵抗率のデータを処理するデータ処理手段（３）と、データ処理手段（３）からの警報信号により作動する警報手段としてのスピーカ（４）、警告灯（５Ａ，５Ｂ）およびＣＲＴ（６）を備えている。 - 特許庁

A locus interpolation and processing part 14 and a locus interpolation and processing part 15 locus-interpolation-process the first and second Lissajous waveforms in such a way that the first and second Lissajous waveforms are prescribed by a linear relationship by using the first and second collation points as a reference.例文帳に追加

軌跡補間処理部１４及び１５はそれぞれ第１及び第２の照合点を基準として第１及び第２のリサージュ波形が線形的関係で規定されるように第１及び第２のリサージュ波形を軌跡補間処理する。 - 特許庁

To enable a user to easily process audio data and easily know the processing contents of the audio data by generating and displaying image data corresponding to the kind and degree of processing of the audio data.例文帳に追加

本発明の課題は、音声データの加工の種類と加工度に対応した画像データを作成、表示することにより、ユーザが簡単に音声データを加工できるようにするとともに、音声データの加工内容を容易に知ることができるようにすることである。 - 特許庁

This process reduces the differential pressure between the pressure in the processing chamber and the pressure in the first passage even when the abnormality occurs during the etching processing and thus preventing the substrate from springing up from the stage and causing the position aberration and the like.例文帳に追加

これにより、エッチング処理中に異常が発生した場合であっても、処理室内の圧力と第１流路内の圧力との差圧が減少されるため、差圧により基板がステージより跳ね上がって位置ズレ等が生じることを防止できる。 - 特許庁

As a result, in the wafer treatment processing 100, the Si+ ions introduced at the ion implantation processing 120 are bonded to a vacant lattice defects, produced in the ion implantation process 110, thereby crystal defect generation caused by the vacant lattice defect is prevented.例文帳に追加

結果として，ウェハ処理工程１００では，イオン注入工程１２０で導入されたＳｉ＋イオンが，イオン注入工程１１０で生じる空格子欠陥と結合し，空格子欠陥に起因する結晶欠陥の発生が抑制される。 - 特許庁

To provide a method for processing a semiconductor wafer, which can planarize the entire surface with high accuracy and can process it with high throughput, and also to provide a plasma etching apparatus which can be used for processing of such a semiconductor wafer.例文帳に追加

ウエーハ表面全体にわたって高精度に平坦化することができるとともに、高いスループットで処理することができる半導体ウエーハの加工方法、及びそのような半導体ウエーハの加工に使用できるプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device capable of improving plasma processing capability without deteriorating the capability of surface activation process by ultraviolet irradiation of a UV irradiation means adjacently installed with a plasma supply means.例文帳に追加

プラズマ供給手段と隣り合って設置した紫外線照射手段の紫外線照射による表面活性化処理の能力を低下させないようにして、プラズマ処理の能力を向上させることができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To enhance throughput and to improve reproducibility of a process by using branch resources pertaining to ozone processing continuously, as much as possible, in the expectation of ozone processing schedule, thereby eliminating the waiting time while suppressing waste of power.例文帳に追加

オゾン処理の予定を見越してオゾン処理に係るブランチリソースをできるだけ連続的に使用することにより、無駄な電力を抑制しつつも待機時間をなくしてスループットを向上させることができ、プロセスの再現性を良好にすることができる。 - 特許庁

To provide a color image reading and recording apparatus for efficiently performing a conversion process from image data read from the image of an original to image data including a plurality of color components for recording so as to reduce a time for recording processing and furthermore the entire processing time of reading and recording.例文帳に追加

原稿画像の読取画像データから記録用の複数の色成分の画像データへの変換処理を効率良く行って、記録処理の時間、更には、読取記録全体の処理時間を短縮するカラー画像読取記録装置を提供する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 1 allows a substrate 17 supported by and fixed to a chuck table 16 to rectilinearly move along movement mechanisms 7-1 to 7-3 and discharges ink from an ink jet head or the like provided on a process unit 13 to make the substrate 17 undergo a processing.例文帳に追加

基板処理装置１は、吸着テーブル１６に支持固定する基板１７を、移動機構７−１〜７−３に沿って直線移動させてプロセスユニット１３に備えるインクジェットヘッド等からインクを吐出させて基板１７に加工処理を行う。 - 特許庁

The synchronization part is spread using a spread code for synchronization with higher spreading rate (longer code length of the spread code) than a spread code for communication of the information part and the processing part has longer processing time period than that of a synchronous acquisition process.例文帳に追加

そして、同期部が情報部の通信用拡散符号よりも拡散率の高い(拡散符号の符号長が長い)同期用拡散符号で拡散され、処理部が同期捕捉処理に要する時間よりも短くない時間以上に設定されている。 - 特許庁

To conduct formant emphasis in a more natural manner and to improve clarity in voice for a voice processing device in which a voice emphasis process is performed so as to hear voice in a more clear manner and a mobile communication terminal device provided with the voice processing function.例文帳に追加

音声を明瞭に聴くことができるように音声を強調処理する音声処理装置及び該音声処理機能を備えた移動通信端末装置に関し、より自然にフォルマント強調を行い、音声の明瞭度を改善する。 - 特許庁

When a substrate W is transferred in or out of one or at least two processing apparatuses 30-34 which process substrates, trays 1, 2 supporting the substrate W are transferred in or out of the processing apparatuses 30-34 in order to transfer the substrate W.例文帳に追加

基板を処理する１又は２以上の処理装置３０〜３４に対して基板Ｗを搬入，搬出させるに際し，基板Ｗを保持したトレー１，２を処理装置３０〜３４に対して搬入，搬出することにより基板Ｗを搬送する。 - 特許庁

To efficiently process information correspondingly to a change by dynamically selecting whether the processing is movement between nodes or cooperation with another agent in accordance with a condition in order to prepare the action plan of an agent in accordance with a situation and realize the processing of the action plan by another node.例文帳に追加

状況に応じてエージェントの行動プランを作成し、他のノードでの処理を実現するために、ノード間で移動するか他のエージェントと協調するか条件に応じて動的に選ぶことで、変化に対応して効率よく情報を処理する。 - 特許庁

To provide a device for processing prevention of loss of a knot of a lumber capable of previously performing loss prevention treatment before a dead knot or live knot falls or chips away in a drying process of the lumber, and a method of processing knot loss prevention for lumber.例文帳に追加

木材の乾燥工程において死節又は生き節が脱落したり、欠け落ちたりする前にあらかじめ脱落防止処理を行うことが可能な木材の節脱落防止処理装置及び木材の節脱落防止処理方法を提供する。 - 特許庁

In this computer system, a trace buffer is monitored in a process separate from emulation processing by use of that information related to a virtualization event is recorded in the trace buffer by a trace function that is one of RAS functions, and the statistical processing is performed based on the information in the trace buffer.例文帳に追加

ＲＡＳ機能の１つであるトレース機能により、トレースバッファに仮想化イベントに関する情報が記録されることを利用し、エミュレーション処理とは別プロセスでトレースバッファを監視して、トレースバッファにおける情報を基に統計処理を行う。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus capable of avoiding interruption of conversion process which is caused due to inputting of color images exceeding its own capability and an event that takes an extremely long time for processing.例文帳に追加

自己の性能を超えるカラー画像が入力されたことによって生じる変換処理の停止や、処理に極端に時間がかかるという事象に対し、これらの停止や事象を抑制する画像処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a catalytic chemical processing method and apparatus using magnetic fine particles capable of processing a difficult-to-process workpiece, especially SiC, GaN, etc. with high processing efficiency and with high precision based on a processing principle utilizing a catalytic action enabling the chemical reaction introducing no lattice defect into the surface of the workpiece, and capable of obtaining a crystallographically excellent processed surface.例文帳に追加

本発明は、被加工物表面に格子欠陥が導入されない化学的な反応が可能な触媒作用を利用した加工原理に基づき、難加工物、特にＳｉＣやＧａＮ等を、加工効率が高く且つ高精度に加工することができ、結晶学的に優れた加工面が得られる磁性微粒子を用いた触媒化学加工方法及び装置を提案する。 - 特許庁

To provide a surface processing method of an aerated lightweight concrete (ALC) panel, for example, applied to an existing building as an outer wall material, capable of applying novel emboss processing full of variety not performed heretofore, easy to process and not causing the occurrence of dust or the like at the time of processing, and a surface processing apparatus therefor.例文帳に追加

例えば既設の建築物に外壁材として施工された軽量気泡コンクリート（ＡＬＣ）パネルの表面加工方法および表面加工装置に係り、加工が容易で加工時に粉塵等が発生することが少なく、しかも従来にはない新規で変化に富んだ凹凸加工を施すことのできるＡＬＣパネルの表面加工方法および表面加工装置を提供する。 - 特許庁

A plurality of liquid processing units 2 for performing liquid-process to a substrate W are aligned mutually in the lateral direction, an exhaust tube 3 for exhausting an atmosphere in the liquid processing units 2 is provided under the plurality of liquid processing units so as to extend along the liquid processing units 2, and a liquid flow controlling equipment group 4 for supplying liquid is provided under the exhaust tube 3.例文帳に追加

基板Ｗに対して液処理を行うための複数の液処理ユニット２が互いに横方向に並べて配置され、液処理ユニット２内の雰囲気を排気する排気管３は、これら複数の液処理ユニット２の下方側に、当該液処理ユニット２の並びに沿って伸びるように配置され、給液用の通流制御機器群４は前記排気管３の下方側に設けられている。 - 特許庁