「rate process」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a highly durable structure having a small rate of a dimensional change and a small adiabatic temperature rise in a setting process, excellent in resistance to crazing, excellent in defoaming properties, and having an excellent surface state without generation of skinning, and to provide a hydraulic mortar for obtaining the structure.例文帳に追加

硬化過程での寸法変化率や断熱温度上昇が小さく、ひび割れ抵抗性に優れ、さらに消泡性に優れ、かわばりの発生が無く優れた表面状態を有する高耐久な構造体を提供すること及びその構造体を得るための水硬性モルタルを提供する。 - 特許庁

To provide a method for treating exhaust gas in a sintering machine of an exhaust gas circulation system, in which desulfurization and denitrification efficiency is further improved while securing a heat recovery rate while dealing with the increase of the content of moisture in exhaust gas generated from a sintering process accompanying the increase of the using amount of high crystallization water ore.例文帳に追加

高結晶水鉱石の使用量の増加に伴う焼結過程から発生する排ガス中の水分量の増加に対応しつつ、熱回収効率を確保しながら脱硫・脱硝効率をさらに向上しうる排ガス循環方式焼結機の排ガス処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus that can suppress transfer rate decrease in a secondary transfer process without increasing the size and cost of the entire device even when the resistance value of the apparatus or the resistance value of a recording medium is changed by environment, as in the case where the speed of the apparatus is increased.例文帳に追加

装置が高速化された場合等であって、装置側の抵抗値や記録媒体の抵抗値が環境によって変動しても、装置全体が大型化・高コスト化してしまうことなく、２次転写工程における転写率の低下を抑止できる、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Recovered monomers having high purity can be produced in high efficiency by crushing waste polyesters to give crushed products having different bulk density (apparent density), supplying the crushed product to a granulator while controlling the supplying rate to keep the operation load within a prescribed range and supplying the produced granules to a chemical recycling process.例文帳に追加

ポリエステル廃棄物を破砕した嵩比重（見掛け比重）の異なる破砕物を、運転負荷が一定範囲となるように制御しつつ造粒機へ供給して造粒物を形成した後、該造粒物をケミカルリサイクル工程へ供給することにより高純度の回収モノマーを効率よく得る。 - 特許庁

To further improve the operationality of a furnace and the recovery rate for the platinum group metal, in a dry process for recovering the platinum group metal through melting a material to be treated containing the platinum group metal such as a waste catalyst together with a copper source material by heat, and making the platinum group metal absorbed in the molten metal.例文帳に追加

廃触媒等の白金族元素を含有する被処理物質を銅源材料と共に加熱溶融して溶融メタル中に白金族元素を吸収させる白金族元素の乾式回収法において，その炉の操業性と白金族元素の回収率をさらに改善する。 - 特許庁

To provide an abrasive composition for CMP (chemical mechanical polishing) work having a high selectivity, that is, high in abrasion rate of copper but low in that of tantalum, and also excellent in the smoothness of the copper film surface, in the CMP work process of a semiconductor device having a copper film and a tantalum compound.例文帳に追加

銅膜とタンタル化合物を有する半導体デバイスのＣＭＰ加工プロセスにおいて、銅の研磨レートは大きいがタンタル化合物の研磨レートが小さいという選択性の高い研磨用組成物であり、銅膜表面の平滑性にも優れたＣＭＰ加工用の研磨用組成物を提供する。 - 特許庁

To shorten a work period by shortening a process and shorten an occupying time of a hoisting facility such as an overhead crane, in installation-replacement work of a steam turbine for a nuclear power plant, thereby reducing influence on other works and improving a plant operation rate.例文帳に追加

原子力発電所用蒸気タービンの設置、取替え工事において、工程の短縮を図ることにより工事期間を短縮し、天井クレーン等の揚重設備の占有時間を短縮し、他の工事への影響を軽減するとともにプラント稼働率を向上させる。 - 特許庁

The invention relates to the process for preparing tert-butanol (TBA) by reacting isobutene-containing hydrocarbon mixtures with water on acidic solid catalysts in a plurality of reactors, wherein a part of the TBA present in the reaction mixture is separated before the final reactor to increase conversion rate.例文帳に追加

複数の反応器中で酸性の固体触媒上でイソブテン含有炭化水素混合物を水と反応させることによりｔ−ブタノール（ＴＢＡ）を製造し、その際に、転化率を増大させるために、最後の反応器の前で反応混合物中に存在しているＴＢＡの一部が分離される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a compound semiconductor which can accelerate the etch rate of even an SiC wafer which requires a high processing temperature, can process a via hole into a rectangular cross-sectional shape with a vertical side wall without extremely thinning the SiC wafer, and allows easy handling of wafers.例文帳に追加

必要とする加工温度が高いＳｉＣウエハでもエッチング速度を早くすることができ、しかもＳｉＣウエハを極度に薄板化せずにバイアホールの断面を側壁が垂直な矩形状に加工でき、ウエハのハンドリングが容易な化合物半導体の製造方法を得る。 - 特許庁

In a low vacuum heat treatment process 70, since a substrate is heated at approx. 1700°C in the atmosphere with higher oxygen partial pressure of about 6 (Pa), the nanotube is oxidized from its end at slower generation rate than that of a silicon removing layer and the end is nondense distributed on the substrate face.例文帳に追加

低真空熱処理工程７０では、基板が6(Pa)程度の酸素分圧の高い雰囲気下において1700(℃)程度で加熱されるため、珪素除去層の生成速度より遅い速度でナノチューブがその先端から酸化させられ、基板表面においてその先端が疎に分布する。 - 特許庁

To provide an exhaust gas treatment apparatus capable of preventing the lowering of dust removing capacity and the lowering of a decomposition rate accompanied by an increase in the content of fly ash in exhaust gas, capable of preventing the scaling to the apparatus main body and capable of suppressing an increase in dust removing load in the later stage of an exhaust gas process.例文帳に追加

排ガス中の飛灰含量の増加に伴う除塵性能の低下および分解率の低下を防止でき、装置本体へのスケーリングを防止できるとともに、除塵負荷が排ガス工程の後段で増大することを抑制できる排ガス処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device that can improve a pickup success rate of a semiconductor chip by decreasing peeling force between an adhesive film of a tape for wafer processing and an adherend by carrying out a pickup process at low temperature, and the tape for wafer processing used for the method.例文帳に追加

ピックアップ工程を低温下で行うことにより、ウエハ加工用テープの粘着フィルムと被着体との間の剥離力を低下させて、半導体チップのピックアップ成功率を向上させることが可能な半導体装置の製造方法及びそれに用いるウエハ加工用テープを提供する。 - 特許庁

To provide a methanol-producing device which is used for producing methanol from a gas containing carbon dioxide and hydrogen as a raw material gas, can sufficiently enhance a methanol conversion rate, can eliminate the problem of catalyst deterioration due to water of reaction product, and does further not need a methanol distillation process.例文帳に追加

二酸化炭素と水素を含むガスを原料ガスとするメタノール合成であって、メタノール転化率を十分に高めることができ、反応生成物である水による触媒劣化の問題を無くすことができ、更にメタノール蒸留工程が要らないメタノール製造装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an etchant for GaInP system compound semiconductor and an etching method which are treated easily, realize the etching at the etching rate which is relatively approximated to that of the etchant for the AlGaInP system and As system compound semiconductors, and obtain a resulting smooth and uniform surface after the etching process.例文帳に追加

手軽に取り扱うことができ、かつAlGaInP系およびAs系化合物半導体などのエッチング液と比較的近いエッチング速度でエッチングが行え、かつエッチング後に得られる表面が平滑かつ均一であるGaInP系化合物半導体用エッチング液およびエッチング方法の提供。 - 特許庁

To provide a methanol-producing device which is used for producing methanol from a gas containing carbon dioxide and hydrogen as a raw material gas, can sufficiently enhance a methanol conversion rate, can eliminate the problem of catalyst deterioration due to water of reaction product, and does not need a methanol distillation process.例文帳に追加

二酸化炭素と水素を含むガスを原料ガスとするメタノール合成であって、メタノール転化率を十分に高めることができ、反応生成物である水による触媒劣化の問題を無くすことができ、更にメタノール蒸留工程が要らないメタノール製造装置を提供する。 - 特許庁

I read various articles from today's newspapers and am aware that the reduced securities tax rate was actively discussed in the Government Tax Commission yesterday with a variety of opinions contributed in the process, but I do not know of any policy decision having been presented. 例文帳に追加

今日の新聞を色々見させて頂きましたが、昨日の税制調査会において証券の軽減税率についても様々な議論がなされたことは承知しており、色々な意見が出たということは聞いておりますが、何らかの方針が示されたということは承知いたしておりません。 - 金融庁

The method comprises adding to mix alumina as a calcination preventing agent to the fluorescent substance precursor on a process so that the calcinations preventing agent may be added to the unit mass of the fluorescent substance precursor at a rate of 5-100% relative to the BET specific surface area of the fluorescent substance precursor.例文帳に追加

焼結防止剤としてアルミナを蛍光体前駆体形成中に添加し、蛍光体前駆体単位質量当たりの焼結防止剤添加量が蛍光体前駆体のＢＥＴ比表面積に対して５〜１００％になるように混合して焼成する。 - 特許庁

A geometric configuration pattern whose opening rate is 50% or more is formed at the time of forming the conductive metal layer 3 and the black color layer 2 by a vacuum process.例文帳に追加

導電性金属層３と黒色層２と透明プラスチック支持体１からなる構成体において、真空プロセスによって導電性金属層３及び黒色層２形成の際に開口率が５０％以上である幾何学図形模様を形成させることを特徴とする電磁波遮蔽部材。 - 特許庁

In the process for preparing a rubber composition by kneading a composition containing a rubber component and a resin, the composition is extruded after being kneaded at a temperature equal to or higher than the softening point of the resin and cooled to room temperature at a cooling rate of from 30 to 100°C/min.例文帳に追加

ゴム成分と樹脂とを含有する組成物を混練りすることを含むゴム組成物の製造方法であって、該組成物を混練り後に該樹脂の軟化点以上の温度で排出し、３０〜１００℃／分の冷却速度で室温まで冷却することを特徴とするゴム組成物の製造方法である。 - 特許庁

That is to say, the manufacturing method of the organic light emitting element comprises a process of heating the alkali metal containing cesium carbonate or the like by 8 wt.% or less at a temperature of 400°C or less, and forming a film at a rate of 0.1 Å/sec. or less by vapor deposition.例文帳に追加

すなわち炭酸セシウム等のアルカリ金属の濃度をアルカリ金属として８重量％以下とし、４００℃以下の加熱温度、毎秒０．１Å以下の成膜レートで蒸着する工程を有することを特徴とする有機発光素子の製造方法を用いる。 - 特許庁

The ECF bleached pulp is preferably is bleached pulp produced by a multistage bleaching process including a chlorine dioxide stage at ≤70°C, wherein the chlorine dioxide additive rate to absolute dry mass of the pulp is ≤0.06 mass% per 1 kappa number before bleaching (JIS P 8211) as a first bleaching step.例文帳に追加

該ＥＣＦ漂白パルプは、温度７０℃以下、二酸化塩素添加率が絶乾パルプ質量に対し、漂白前カッパー価（ＪＩＳ Ｐ ８２１１）１当り０．０６質量％以下である二酸化塩素段を漂白初段として含む多段漂白工程による漂白パルプであることが好ましい。 - 特許庁

To provide a method for producing a polyester, by which the polyester having a desired molecular weight and a desired molecular weight distribution can be produced at a high reaction rate of a carboxyl group-including compound with a cyclic ester compound as raw materials on the synthesis of the polyester without needing a process for purifying the unreacted raw materials.例文帳に追加

ポリエステルの合成において、原料であるカルボキシル基を有する化合物と環状エステル化合物との反応率が高く、未反応原料の精製工程を必要せず、且つ、所望の分子量、分子量分布をもつポリエステルを製造しうるポリエステルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

This blast mask forming ink, having 300,000 cPs viscosity or more in a share rate 0.1S-1 by a rotational viscometer and burning properties in a baking process of the rib is used as an ink for printing on a rib material layer 14 and forming the film blast mask 15.例文帳に追加

リブ材料層１４の上に印刷し、皮膜型のブラストマスク１５を形成するインキとして、粘度が回転粘度計によるシェアレート０．１Ｓ^-1において３０００００ｃｐｓ以上であり、かつリブの焼成工程において焼失性を有するブラストマスク形成用インキを使用する。 - 特許庁

In the process for purifying the gallium solution, the liquid which was used for electrolysis is cooled and stirred to achieve a high flow rate of the liquid inside a tank to inhibit crystal growth and deposit a crystal containing the impurities for obtaining the desired metal (e.g. gallium) in the residual liquid.例文帳に追加

電解に使用済みの液を冷却しながら撹拌することで、槽内で液の流速を高速化し、結晶成長を抑制し、析出した結晶に不純物を含有させ、残った液側に所望の金属（例えば、ガリウム）を得るガリウム溶液の浄液方法を見出した。 - 特許庁

In obtaining particle distribution in a translation process for virtual fluid particles on lattice points adjacent to a porous body 1, a discrete velocity distribution function is used which includes a reflectance rate by which a virtual fluid particle is reflected on the porous body 1 or a transmission factor by which the particle passes through the porous body 1.例文帳に追加

多孔体１に隣接する格子点上の仮想流体粒子について並進過程における粒子分布を求める際に、仮想流体粒子が多孔体１に反射される反射率または多孔体１を透過する透過率を含んだ離散速度分布関数を用いる。 - 特許庁

To provide a sputtering target which is used for depositing a high refractive index thin film by a DC sputtering process, and allows a high film deposition rate of the high refractive index thin film and high productivity, and to provide a method of depositing the high refractive index thin film using the target.例文帳に追加

本発明は、高屈折率薄膜をＤＣスパッタリング法で形成する際に用いられるスパッタリングターゲットであって、高屈折率薄膜の成膜速度が速く生産性が高いスパッタリングターゲットおよび該ターゲットを用いた高屈折率薄膜の形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a process for fermenting a lactic acid bactiller by utilizing a material which is a fermentation-activating factor having activities for stimulating the proliferation of a fermentate, as a result, affecting the oxidation rate of a proliferation medium, and preferably making final activities of the fermentate good.例文帳に追加

発酵剤の増殖を刺激する効果があり、その結果、増殖培地の酸性化速度に影響する発酵活性化因子であって、好ましくは発酵剤の最終的な活性が良好になるようなものを利用した乳酸菌の発酵方法を提供すること。 - 特許庁

On the other hand, when the processing rate is relatively low, the heat generation due to the process decreases that much, the rolling oil 3 leaves on the surface of the aluminum alloy sheet stock 1 even in the rolling outlet side, as shown in (b), the rolling oil 3 is interposed between the abrasive powder 2 and the aluminum alloy sheet stock 1.例文帳に追加

一方、加工率が比較的低い場合には、それだけ加工による発熱も小さくなり、圧延出側でもＡｌ合金素板１の表面上に圧延油３が残っており、（ｂ）に示すように、摩耗粉２とＡｌ合金素板１との間に圧延油３が介在するようになる。 - 特許庁

To process an e-frame addressed to a plurality of ports without using a frame memory by transmitting ports and without increasing a write/read rate of one summarized frame memory in a system for transmitting a frame to the plurality of ports in a receiving part of a frame containing destination information in its header.例文帳に追加

本発明はヘッダに宛先情報を含むフレームの受信部における複数ポートへのフレーム送信方式に関し，送信ポート別のフレームメモリを使用せず，１つに集約したフレームメモリの書込み／読出しレートを上げることなく複数ポート宛のイーフレームを処理できることを目的とする。 - 特許庁

Further, the water supply quantity control mechanism sets the value calculated by subtracting excessive supply quantity in the water supply quantity control operation of a final rice washing process from the set supply quantity as a target value in water supply quantity control operation of rice cooking water and issues a closing command signal when the flow rate signal reaches the target value.例文帳に追加

炊飯用水の給水量制御動作においては、設定供給量から最終の洗米工程の給水量制御動作における過剰供給量を引いた値を目標値として設定し、流量信号がこの目標値に達したときに閉止指令信号を発する。 - 特許庁

The thermal treatment process is a thermal oxidation, when the thermal oxidation of the oxidation time of T minutes is performed, and when the measured pressure is x% of the mean rate of a preset pressure, the thermal treatment time variation ΔT is ΔT=T {1-(x/100) ^2}/(x/100) ^2.例文帳に追加

熱処理は熱酸化であり、Ｔ分の酸化時間の熱酸化を行う場合、測定された前記気圧値が予め設定された気圧値の平均値のｘ％であるとき、前記熱処理時間変動値ΔＴはΔＴ＝Ｔ｛１−（ｘ／１００）^２｝／（ｘ／１００）^２である。 - 特許庁

To provide a film, in which fine projections are provided on the surface and both writing properties and tracing properties are excellent and the whole beam transmittance and light diffusion transmittance are large and a rate of heat shrinkage is small and heat resistance is excellent, in the film- making process of an ordinary polyester film at a low cost together with stabilized quality.例文帳に追加

表面に微小突起を有し、筆記性とトレース性に優れ、全光線透過率と光拡散透過率の大きな、熱収縮率の小さい耐熱性に優れたフィルムを通常のポリエステルフィルムの製膜工程内で安定した品質とともに安価に提供する。 - 特許庁

In the photolithographic process in which existing processing conditions are set, a resist film on a wafer W is exposed using a mask for applying extinction of a predetermined extinction rate to only the 0-order light of a light source to allow the light to pass, and after that, the resist film is heated and developed to reduce the resist film on the wafer W.例文帳に追加

既存の処理条件の設定のフォトリソグラフィー工程において，光源の０次光のみを所定の減光率で減光させて透過させるマスクを用いて，ウェハＷ上のレジスト膜を露光し，その後加熱し，現像して，ウェハＷ上のレジスト膜を減少させる。 - 特許庁

In the exposure process to form the resist mask 103', the beam has the intensity distribution, having a main beam intensity Im and a side beam intensity Is, and the main beam intensity Im and the side beam intensity Is holds the relations Is<E and Im>E, where E is the beam intensity at which the film residual rate of the mask layer begins to saturate.例文帳に追加

レジストマスク１０３’を形成する露光において、ビーム光が、メインビーム強度Ｉmとサイドビーム強度Ｉsとを含む強度分布を有し、メインビーム強度Ｉmとサイドビーム強度Ｉsとが、Ｉs＜Ｅ，Ｉm＞Ｅの関係を持つ（Ｅ：マスク層の残膜率が飽和を開始するビーム光強度）。 - 特許庁

The production method involves compositely applying the mechanical cavitation action excellent in mixing/reacting action, and reaction-promoting and coagulating/separating action caused by the formation of an electric field to a BDF (biodiesel fuel)-producing process to promote the reaction rate, to achieve low cost and to produce the high-purity BDF.例文帳に追加

混合・反応作用に優れたメカニカルキャビテーション作用と、電場の形成による反応促進及び凝集・分離作用をＢＤＦ（バイオディーゼル燃料）製造工程に複合的に適用し、反応速度を速め、低コスト化を実現するとともに、高純度のＢＤＦを製造する。 - 特許庁

Thus, when the alignment measurement ends in failure, the alignment measurement is repeatedly performed, so the success rate of the alignment measurement is held excellent, and a frequency of feeding of a semiconductor wafer, not having been subjected to trimming processing, to a next process decreases to improve the yield of the semiconductor wafer W.例文帳に追加

このように、アライメント計測が失敗した場合に、繰り返しアライメント計測を実行するので、アライメント計測の成功率を良好に保て、トリミング処理が未実施の半導体ウエハＷが次工程に移行される頻度が低くなり、半導体ウエハＷの歩留まりが向上する。 - 特許庁

A leaning value FGPG for a purge concentration is calculated from a purge deviation compensating value FAFPG obtained from an long period averaging process (S420) of a ratio between a deviation value (FAFAV-1) from the control center of a short period averaged air-fuel ratio compensating coefficient FAFAV, and a purge rate PGR (S430 to S480).例文帳に追加

短期平均空燃比補正係数ＦＡＦＡＶの制御中心からのずれ量（ＦＡＦＡＶ−１）とパージ率ＰＧＲとの比の長期平均処理（Ｓ４２０）から得られるパージずれ補正値ＦＡＦＰＧに基づきパージ濃度学習値ＦＧＰＧを算出する（Ｓ４３０〜Ｓ４８０）。 - 特許庁

In this analysis, the machine cycle time on an optimization process and event time is determined based on a work period when displacing from an advance position to a retreat position and its reverse of each mechanism, a semi-work period, time for a variation rate arising and a target time for the optimization machine cycle.例文帳に追加

この解析では、各機構の前進位置から待避位置及びその逆の作業期間、準作業期間、各変位が生じる時間、並びに、最適化マシーン・サイクルに関する目標時間に基づいて、最適化プロセスに関するマシーン・サイクル時間及びイベント時間が決定される。 - 特許庁

An progress situation in the reduction process is grasped accurately in real time, and a quick and simple measuring technique is provided, since the oxidation electrode and the reduction electrode are connected to the constant potential/constant current power source to measure directly a conversion rate of the uranium oxide reduction reaction in the high-temperature molten salt.例文帳に追加

酸化電極と還元電極を定電位/定電流電源に連結して高温溶融塩内で酸化ウラニウム還元反応の転換度を直接測定できるため、リアルタイムで還元工程の進行状況を正確に把握でき、迅速で簡便な測定技術を提供できる。 - 特許庁

By preventing the generation of the multi-lead frame having partial omission, multi-lead frames having the same prerequisites for transfer molding can be supplied to a transfer molding process, preventing the occurrence of wire deformation, poor resin charge, etc. due to changes in resin velocity and flow rate.例文帳に追加

目抜けのマルチリードフレームの発生を防止することにより、トランスファ成形に対して互いに同一の条件のマルチリードフレームをトランスファ成形工程に供給できるので、レジンの流速や流量の変化によるワイヤ流れ不良やレジン充填不良等が発生するのを防止できる。 - 特許庁

Disclosed are adherent micro particles having an adhesion rate to mucous of 30-100%, in which fine adherent particles are dry-coated on the surface of micro particles with an average particle size of 5-50 μm containing a medicine, a production process therefor, and a preparation containing the micro particles.例文帳に追加

本発明は、薬物を含有する平均粒子径５〜５０μｍのマイクロ粒子の表面に付着性微粒子が乾式被覆された、粘膜付着率が３０〜１００％の付着性マイクロ粒子、その製造方法、並びに該マイクロ粒子を含有する投与剤である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing composite materials, by which occurrence of defective joining is suppressed when members for joining are joined via a diffused joining layer and an increase in the rate of occurrence of defective products in pressing process thereafter and deterioration in durability of pressed products are prevented.例文帳に追加

拡散接合層を介して接合用部材を接合させる際に接合不良が生じるのを抑制して、その後のプレス加工工程において不良品の発生率が上昇したり、プレス加工品の耐久性が低下したりするのを防止できる複合材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To block minute holes in a diaphragm generated in a manufacturing process of calcining a natural diaphragm material containing various organic matters at a high temperature in manufacturing an acoustic diaphragm having a high carbonization rate, and to prevent the deterioration of a tone when the diaphragm is used as a speaker.例文帳に追加

高炭化率音響振動板を製造するにあたって、様々な有機物を含んでなる自然振動板材料を高温で焼成する製造工程中で発生する振動板中の微細な孔をふさぐとともに、該振動板をスピーカとして使用した場合の音色の劣化を防止する。 - 特許庁

The void defect as well as the face roughness in the periphery of the wafer can be effectively reduced without adding another process by controlling the distance Dw between wafers and gas flow rate Vg of hydrogen or the like within the predetermined range in a general batch furnace.例文帳に追加

一般的なバッチ式炉において、ウェーハ間の距離Ｄｗと水素などのガス流速Ｖｇとを所要範囲に制御することにより、ボイド状欠陥の低減を行うと同時にウェーハ外周部の面荒れを効果的に低減でき、新たな工程を付加することなく簡単に実施できる。 - 特許庁

When at least one layer of an antireflection film is deposited on an optical base material by a vacuum process, the layer in contact with the optical base material is deposited from an inorganic oxide having ≥40% and ≤60% packing rate in the film substance so as to obtain the antireflection optical article.例文帳に追加

真空プロセスにより光学基材上に少なくとも１層の反射防止膜を形成する際に、前記光学基材と接する層の膜質充填率が４０％以上６０％以下の無機酸化物で成膜することにより上記反射防止光学物品を得る。 - 特許庁