「step method」に関連した英語例文の一覧と使い方(352ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium, which includes a step for processing a glass sheet having a plate shape to form a glass substrate that excels in plate thickness distribution and flatness and does not have an affected layer on a main plane or an end surface thereof with high productivity.例文帳に追加

本発明は、板形状を有するガラス素基板を、板厚分布と平坦度に優れ、ガラス基板の主平面や端面に加工変質層を有さないガラス基板に、高い生産性で加工する工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

This provided printing method is characterized in that it is composed of a behavior information input phase 20A, a copy phase 20B, and a settlement phase 20C composed of a charge payment step for automatically paying the charge from a user's account to an account of a shop.例文帳に追加

行動情報入力フェーズ２０Ａと、コピーフェーズ２０Ｂと、コピーに関して無料と判断されなければ、利用者口座から前記店舗の口座へ代金支払い決済を自動的に行う代金支払いステップでなる決済フェーズ２０Ｃからなることを特徴とする印刷方法を提供する。 - 特許庁

The plasma display is manufactured by the manufacturing method of the plasma display panel in which on a barrier rib material coating film installed on a glass substrate, a glass containing material to form a step forming layer is formed at a position of the vertical barrier rib in a stripe shape, and patterning of the lattice-shaped barrier rib is carried out afterwards.例文帳に追加

ガラス基板上に設けられた隔壁材料塗膜上に、段差形成層となるガラス含有材料を縦隔壁位置にストライプ状に形成し、その後格子状の隔壁をパターニングすることを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの製造方法により製造する。 - 特許庁

In the step of manufacturing the semiconductor integrated circuit included in the method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device, a desired function is realized to make wafer inspections possible by forming bumps on a wafer on which only wiring is formed and face-down sticking the inspected non-defective bare chips of a plurality of semiconductor integrated circuits to the bumps.例文帳に追加

本発明の半導体集積回路の工程では、配線のみの工程を施したウェハーにバンプを生成し、複数の半導体集積回路の検査済み良品ベアチップをフェースダウンで貼り付けることにより、所望の機能を実現し、ウェハー検査工程が可能となる。 - 特許庁

To provide a chip type organic positive temperature coefficient thermistor element having a structure which does not require any step of patterning metallic foil, forming resist films, and so on, and to which a chip type organic positive temperature coefficient thermistor element manufacturing method by which the waste of materials can be reduced and yield can be improved can be applied.例文帳に追加

金属箔のパターニングやめっきレジスト膜の形成などの工程が不必要であり、材料の無駄が少なく歩留まりがよいチップ型有機正特性サーミスタ素子の製造方法を適用できる構造を有するチップ型有機正特性サーミスタ素子を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method, a slurry film 6 for absorbing step-difference is formed by printing on a ceramic green sheet 2, on which inner electrodes 3 are formed, each time the printing to be repeated is ended, the printing position on each of the ceramic green sheets 2 is shifted sequentially, in each of the directions shown by arrows 7-10.例文帳に追加

内部電極３が形成されたセラミックグリーンシート２上に段差吸収用スラリー膜６を印刷により形成するにあたって、繰り返される印刷を１回終える毎に、各セラミックグリーンシート２上での印刷位置を、矢印７〜１０で示す各方向へ順次ずらすようにする。 - 特許庁

The method includes at least one symbol decoding step in the course of which at least one modulation value Pwk representative of an amount of power carried by each pulse sequence Tsgk is computed and compared to at least one predetermined threshold value thk1, thk2...thkM(k).例文帳に追加

本発明による方法は、少なくとも１つのシンボル復号ステップを含み、その過程において、各パルス系列Ｔｓｇｋによって搬送される電力量を表す少なくとも１つの変調値Ｐｗｋが計算され、少なくとも１つの所定の閾値ｔｈｋ１、ｔｈｋ２．．．ｔｈｋＭ（ｋ）と比較される。 - 特許庁

To provide a mount unit and a mount method of a resonator piece capable of attaining solder joining between an inner lead and a mount part of the resonator piece without melting a solder plating layer of a stem surface of a plug in a mount step of the resonator piece and to provide a piezoelectric resonator manufactured by using them.例文帳に追加

振動片のマウント工程において、プラグのステム表面の半田メッキ層を溶融させることなく、インナーリードと振動片のマウント部とを半田接合することが可能な振動片のマウント装置とマウント方法、及びこれらを用いて製造した圧電振動子を提供する。 - 特許庁

A manufacturing method of a glass hard disk substrate includes a step of polishing a glass substrate to be polished by using a polishing liquid composition that contains an abrasive material, an acid, a poly-hydroxybenzene compound having at least two hydroxyl groups or more adjacent to each other on a benzene ring and water, and is from pH1.0 to 4.0.例文帳に追加

研磨材、酸、ベンゼン環上に互いに隣接する２個以上の水酸基を有する多価ヒドロキシベンゼン化合物、及び水を含有し、ｐＨ１．０〜４．０である研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程を含む、ガラスハードディスク基板の製造方法。 - 特許庁

The damage given to the element constituted in an LDD structure by the plasma process performed in the LDD forming step is reduced to the utmost, by forming the element by this method of manufacturing the semiconductor device utilizing a hard mask after a conductive film is formed to cover the whole surface of a substrate.例文帳に追加

基板全面を覆うように導電性膜を形成した状態で、ハードマスクを利用した半導体装置の作製方法でＬＤＤ構造の素子を形成することにより、ＬＤＤ形成工程におけるプラズマプロセスによる素子への損傷を極力低減する。 - 特許庁

The method for charged particle beam lithography in which the substrate is exposed to the desired pattern by raster scanning a charged particle beam includes an adjusting step of narrowing the size of the charged particle beam on the substrate in the raster scanning direction as compared with the size of the beam in the direction perpendicular to the raster scanning direction.例文帳に追加

荷電粒子線をラスタースキャンして基板を露光する荷電粒子線描画方法において、基板上の荷電粒子線のラスタースキャン方向における大きさを、前記ラスター方向と直交する方向における大きさに比べ狭める調整ステップを有する。 - 特許庁

The effective fiber length of the ramie fiber produced by the method in the ramie cotton sheet after the lamination step S4 of the ramie fiber is 40-100 mm and the content of short fibers of not more than 30 mm long in the ramie fiber of the ramie cotton sheet is not more than 45%.例文帳に追加

この製造方法によって製作される麻綿では、麻繊維の積層工程Ｓ４後のシート状麻綿の麻繊維の有効繊維長さが４０〜１００ｍｍであり、シート状麻綿の麻繊維の３０ｍｍ以下の短繊維含有率が４５％以下である。 - 特許庁

To realize a method for inspecting a semiconductor device, which can inspect for the presence of generation of etching stop phenomenon or a mis-etching during hole formation with a simple visual inspection, can find defects in manufacture at a early stage, and can prevent flow out of the defect to a next step.例文帳に追加

ホール形成時におけるエッチングストップ現象又は抜け不良の発生の有無を簡単な外観検査により検査することができ、製造不良を早期に発見することができると共に、次工程への流出を防止することができる半導体装置の検査方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, the method can decrease the number of accessing to the external memory by receiving the data from the cache memory, which are the frequently executed function and the frequently used data when the application program is objectively executed at the predetermined time at a step 106.例文帳に追加

したがって、アプリケーションプログラムが目的とする本来の処理の実行時には（ステップ１０６）、実行頻度の高い関数及び使用頻度の高いデータについては、外部メモリからではなく、キャッシュメモリから供給を受けることができ、外部メモリへのアクセス回数を低減することができる。 - 特許庁

In a method for synthesizing methanol from CO_2 and NADH by a three-step reductive reaction using FDH, AlDH, and ADH, the concentration of ADH in a reaction solution is not less than 500 unit (may be abbreviated as UN hereinafter)/ml.例文帳に追加

ＣＯ_２とＮＡＤＨとから、ＦＤＨ、ＡｌＤＨおよびＡＤＨを用いる３段階の還元反応でメタノールを合成する方法において、反応溶液中のＡＤＨ濃度を５００単位（以下、ＵＮと略記することもある。）／ｍｌ以上とすることを特徴とするメタノールの生成方法。 - 特許庁

In the manufacturing method of charged particles which are used in the electrophoretic display panel and each include a mother particle and a plurality of child particles disposed on the surface of the mother particle, at least a part of child particles is buried into surfaces of mother particles containing a resin material in a child particle burying step (S10).例文帳に追加

電気泳動表示パネルに用いられ、母粒子と、当該母粒子の表面に複数配置された子粒子とを備えた帯電粒子の製造方法において、まず子粒子埋込工程において、樹脂材料を含む母粒子の表面に、子粒子の少なくとも一部を埋め込む（Ｓ１０）。 - 特許庁

A method for producing the pneumatic tire 1 includes a bead wire winding step of sticking the bead wire 10, spirally around the rotary shaft of the pneumatic tire, to wire sticking planes S being the outside surface of a bead part 4 of an inner liner 9 and/or the outside surface of the bead part 4 of a carcass ply 6A.例文帳に追加

インナーライナー９のビード部４の外面、及び／又は、カーカスプライ６Ａのビード部４の外面であるワイヤ貼付面Ｓに、ビードワイヤ１０をタイヤ回転軸の回りに渦巻き状に貼り付けるビードワイヤ巻付け工程を含む空気入りタイヤ１を製造する方法である。 - 特許庁

The alloy-plating method for forming an alloy plating film on an article to be plated includes a step of passing an electric current between each of a plurality of anodes 31A and 31B which contain a single metal component that forms the alloy film respectively, and are electrically insulated from each other, and the article 5 to be plated.例文帳に追加

メッキ対象物に合金膜をメッキする合金メッキ方法であって、合金膜を構成する各金属成分の単体からなり、互いに電気的に絶縁された複数のアノード３１Ａ，３１Ｂのそれぞれと、メッキ対象物５と、の間に電流を流す工程を備える。 - 特許庁

To provide a reducible gypsum composition and a method of manufacturing the same by which the effect of suppressing the elusion of 6-valent chromium is uniformalized, the degradation of solidification strength is prevented and elusion suppressing cost is reduced and further, the cost of gypsum for solidification material is reduced and a solidification material manufacturing step is simplified.例文帳に追加

六価クロムの溶出抑制効果の均一化、固化強度の低下防止、溶出抑制コストの低減を可能にし、かつ、固化材用せっこうコストの低減、固化材製造工程の簡略化をも可能にする還元性せっこう組成物およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

This method includes a first step which determines value of parameter of n≥2 radio links, whereby the parameters of each radio link are suitable to quantify at least an aspect of the quality of service of the radio link, they are generic QoS parameters, usable by different radio network technology.例文帳に追加

方法は、ｎ≧２個の無線リンクのパラメータの値を決定する第１のステップを含み、各無線リンクのパラメータは、その無線リンクのサービス品質の少なくとも１つの態様を定量化するのに適しており、異なる無線アクセス技術によって使用されることが可能な汎用ＱｏＳパラメータである。 - 特許庁

The method is characterized by having a step for pressing a first molding material having a first viscosity and a second molding material having a second viscosity different from the first viscosity between molds of a shaping mold consisting of a pair of an upper mold and a lower mold for molding an optical element.例文帳に追加

光学素子を成形する一対の上型及び下型からなる成形型の型間で、第１の粘度を有する第１の成形材料と、第１の粘度と異なる第２の粘度を有する第２の成形材料とを押圧するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the image forming particles includes at least a chain transfer agent removing step for removing a chain transfer agent existing in the image forming particles by using at least either a supercritical fluid or a subcritical fluid and bringing it into contact with the image forming particles.例文帳に追加

画像形成粒子に、超臨界流体及び亜臨界流体の少なくともいずれかを用いて接触させ、画像形成粒子に存在する連鎖移動剤を除去する連鎖移動剤除去工程を少なくとも含むことを特徴とする画像形成粒子の製造方法。 - 特許庁

The method for recovering from the grounding bounce during the boundary scan test comprises a step, in which a test access port controller 118 can be shifted operably to an arbitrary one determined controller state, from among at least three determined controller states induced by the grounding bounce.例文帳に追加

バウンダリ・スキャン・テスト中に接地バウンスから回復する方法であって、テスト・アクセス・ポート・コントローラ１１８を、接地バウンスによって誘発される少なくとも３つの未確定コントローラ状態の任意の１つから確定コントローラ状態に操作可能に遷移させるステップを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the printing bases 1 for the decorative plate for constituting the pattern of the decorative plate comprises a step of printing image data 26 for printing, having the number of dots for preservation arbitrarily selected from a range of 100 dpi or more as the bases 18 each having a size S1 for the decorative plate.例文帳に追加

化粧板用のサイズＳ１を有する基材１８に１００ｄｐｉ以上の範囲から任意に選択された保存用ドット数を有する印刷用画像データ２６を印刷して化粧板の模様を構成する化粧板用印刷基材１を製造する。 - 特許庁

The production method of the sugar 1-phosphate of formula (I) (wherein R^1 and R^2 are each an alkyl group; and R-O- is a sugar compound residue) includes a step of reacting a sugar compound of the formula: R-OH with a compound of formula (II) (wherein X^+ is a monovalent cation).例文帳に追加

下記の一般式(I)：（R^1及びR^2はアルキル基を示し；R〜O-は糖化合物残基を示す）で表される糖1-ボラノホスフェート化合物の製造方法であって、R〜OHで表される糖化合物と下記の一般式(II)：（X^+は一価の陽イオンを示す）で表される化合物とを反応させる工程を含む方法。 - 特許庁

The method further includes a step of newly holding the estimated phase by inputting the estimated phase to a position information holder 23, tuning the position information of the position detecting means 5 incorporated in the controller 11, thereafter correcting an output of the position detecting means 5 according to information incorporated in the position information holder 23, and operating the synchronous motor 1.例文帳に追加

推定した位相を位置情報保持部２３に入力して新たに保持し、制御器１１が持っている位置検出手段５の位置情報をチューニングし、この後、位置情報保持部２３が持つ情報により位置検出手段５の出力を補正し、同期モータ１を運転する。 - 特許庁

The manufacturing method of a carbon onion particle dispersed film is provided with an irradiating step for irradiating a pulse laser on the surface of a substrate containing a metal carbide at least on the surface, wherein the pulse laser has an irradiation strength of not less than 5×10^13 W/cm^2 and not more than 10^17 W/cm^2.例文帳に追加

少なくともその表面に金属炭化物を含む基材の表面にパルスレーザーを照射する照射工程を備え、前記パルスレーザーは、照射強度が５×１０^13Ｗ／ｃｍ^2以上１０^17Ｗ／ｃｍ^2以下であるカーボンオニオン粒子分散膜の製造方法。 - 特許庁

A processing method of a flange that is attached to a drum fitting portion side cylinder surface, respectively for both sides of a photoreceptor drum includes a step for cutting both a drum fitting portion side cylinder surface and a center reference hole in a state where a gear portion, which is included in the flange, is clamped once to a chuck of a lathe.例文帳に追加

感光ドラムの両端部夫々に、ドラム嵌合部側筒面で取付けられるフランジの加工方法であって、ギヤ部を有したフランジに対して、該ギヤ部を旋盤のチャックに一回クランプした状態で、ドラム嵌合部側筒面および中心基準穴の両方を切削加工する。 - 特許庁

The method for manufacturing the phosphor fine particle comprises a step for spray drying and thermally decomposing a solution containing a raw material for the phosphor, where the concentration of a constituent element in the raw material for the phosphor is 0.5 mol/L to the saturated concentration based on the solution.例文帳に追加

蛍光体原料を含有する溶液を噴霧乾燥・熱分解する工程を有する蛍光体微粒子の製造方法において、該蛍光体原料中の構成元素濃度が該溶液に対して０．５ｍｏｌ／Ｌ〜飽和濃度であることを特徴とする蛍光体微粒子の製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the optical glass having refractive index (nd) of <1.8 includes a step for charging a raw material previously controlled so that the characteristic of flowing-out molten glass is within a prescribed range in a glass melting apparatus including flowing out the molten glass from a flow-out port.例文帳に追加

熔融ガラスを流出口から流出させることを含むガラス熔融装置において、流出した熔融ガラスの特性が所望の範囲内となるように予め調節された原料を投入する工程を含む、屈折率（ｎｄ）が１．８未満の光学ガラスの製造方法。 - 特許庁

The method of preventing the floating roof from settling by maintaining the buoyancy of a float provided on the floating roof of the tank reserving the liquid includes a step of filling the float with a foam of a foamed resin solidified to maintain the buoyancy of the float to prevent the roof from settling.例文帳に追加

液体を貯蔵するタンクの浮き屋根に配設されるフロートの浮力を維持して浮き屋根の沈降を防止する沈降防止方法において、発泡性樹脂を固形化した発泡体をフロート内に充填することによって、フロートの浮力を維持して浮き屋根の沈降を防止する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of forming gate insulating films with a plurality of thicknesses on the same semiconductor substrate during a single step of forming the gate insulating films and suppressing a defect caused by a pro-oxidant material from occurring in the gate insulating film.例文帳に追加

１回のゲート絶縁膜形成工程で複数の厚みのゲート絶縁膜を同一の半導体基板上に形成することができるとともに、ゲート絶縁膜に酸化促進物質による欠陥が発生するのを抑制することができる半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

The method of manufacturing the magnetic core 4 includes a step of forming a coat by powder coating with an insulating coating layer 3 composed of a fluorine-based resin having a thickness of 0.02 mm or more and 0.2 mm or less on the peripheral surrounding of a magnetic-core main body 1 composed of a roll or laminate of a magnetic alloy thin ribbon 2.例文帳に追加

磁心４の製造方法は、磁性合金薄帯２の巻回体または積層体からなる磁心本体１の外周面に、厚さが0.02mm以上0.2mm以下のフッ素系樹脂からなる絶縁被覆層３を粉末コーティングにより被覆形成する工程を有する。 - 特許庁

The manufacturing method includes a step of setting the position of the projection portion through hole 14 through which the projection portion 16 is inserted and the position of the bent pin portion 18 to be inserted into a circuit board to be at the same position and working them when a metal plate 19 as a raw material of the shield case 11 is blanked.例文帳に追加

製造方法としては、シールドケース１１の素材となる金属板１９を打ち抜く加工の際に、凸部１６を挿通するための凸部通し穴１４と、回路基板に差し込まれる切り起こしピン部１８とを同じ位置にして加工する工程を行う。 - 特許庁

To improve the throughput of removal of foreign particles in a hole or in a wiring trench which are adhered at the time of etching or resist removal, and to remove an oxide film on the surface of lower wiring which is exposed from the hole or the wiring trench with respect to a method for manufacturing a semiconductor device including a cleaning step.例文帳に追加

洗浄工程を含む半導体装置の製造方法に関し、エッチング時やレジスト除去時に付着したホール内又は配線溝内の異物除去のスループットを向上するとともに、ホールや配線用溝から露出した下側配線表面の酸化膜を除去すること。 - 特許庁

In the method for producing silica composite reclaimed particles R for producing reclaimed particles by subjecting papermaking sludge S to dehydration (10) and heat treatment (30), and compounding (60) silica into the reclaimed particles, deinked floss discharged in a production step of a pulp of a used newspaper is used as a main raw material of the papermaking sludge S.例文帳に追加

製紙スラッジＳを脱水（１０）及び熱処理（３０）して再生粒子を製造し、この再生粒子にシリカを複合する（６０）シリカ複合再生粒子Ｒの製造方法であって、製紙スラッジＳの主原料を、新聞古紙パルプの製造工程において排出された脱墨フロスとする。 - 特許庁

The arithmetic unit 100 then receives input of physical property data and terminal finish height data to be used for the simulation arithmetic operation (steps S3, S4) and executes the simulation arithmetic operation to arithmetically operate a change in shape of the simulation coaxial line model through arithmetic operation based on a finite element method (step S5).例文帳に追加

そして、演算装置１００は、模擬演算に用いる物性データ及び端子仕上がり高さデータの入力を受け付け（ステップＳ３，Ｓ４）、有限要素法に基づく演算により、模擬同軸線モデルの形状の変化を演算する模擬演算を実行する（ステップＳ５）。 - 特許庁

A development method comprises steps of moving a developing liquid discharge nozzle 80 on the wafer W while discharging a developer to supply the developer to the wafer W, and operating the rotating speed of the wafer W in a step 3 of moving the nozzle 80 from a position P2 to a position P3.例文帳に追加

現像液吐出ノズル８０が，現像液を吐出しながらウェハＷ上を移動し，ウェハＷに現像液を供給する現像処理において，現像液吐出ノズル８０が位置Ｐ２から位置Ｐ３に移動するステップ３におけるウェハＷの回転速度を操作する。 - 特許庁

The method for cleaning a matter attached with a hydraulic composition comprises a step of contacting a clay with a combination of a compound selected from cationic surfactants and a compound selected from anionic aromatic surfactants, water and a hydraulic powder which is attached to the matter to be cleaned.例文帳に追加

洗浄対象物に付着した、カチオン性界面活性剤から選ばれる化合物およびアニオン性芳香族化合物から選ばれる化合物の組合わせと、水と、水硬性粉体とを含有する水硬性組成物に、粘土を接触させて当該水硬性組成物付着物を洗浄する。 - 特許庁

The method comprises a step of reducing the power radiated from an antenna by a power saving control in a phase control operation, comparing a previously stored phase value with a phase value set up at the next phase control, and, if an abnormal loop phase is detected, controlling to stop transmitting.例文帳に追加

位相制御動作時に減電力制御によりアンテナから放射される電力を低減し、先に格納された位相値と次の位相制御時に設定された位相値とを比較し、ループ位相の異常を検出した場合には、送信を停止するように制御する。 - 特許庁

In the method and device of marking a chip ID, when the chip ID is marked until a step in which chips are arranged in the form of a wafer, the wafer or a chip coordinate value in the wafer can be traced by detecting the chip ID even when a defect occurs during chip steps or after shipping of the chip.例文帳に追加

本発明のマーキング方法及び装置はウエハ形状で配列している工程までにチップＩＤをマーキングすることで、チップ工程時やチップ出荷後の不具合発生時であってもチップＩＤを検出する事によって、ウエハやウエハ内チップ座標までトレースする事ができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a ceramic laminate which enables to eliminate a step due to the thickness of a conductor pattern and to suppress the deformation of a ceramic laminate even when making ceramic green sheets thinner and increasing the number of layers, and also enables to suppress the decrease in insulation resistance or the generation of short-circuit defects.例文帳に追加

セラミックグリーンシートを薄層化して積層数を増加した場合にも、導体パターンの厚みによる段差を無くし、セラミック積層体の変形を抑えることができるとともに、絶縁抵抗の低下やショート不良の発生を抑制できるセラミック積層体の製法を提供する。 - 特許庁

In the image forming apparatus including a heater, a temperature sensing element, and a control circuit for controlling the wave number of a current to the heater according to a sensing temperature of the element, a method for controlling includes a step of deciding the extending time of the preheating according to the wave number when the output wave number is lowered after it reaches a rising target temperature.例文帳に追加

発熱体と、検温素子と、検温素子の検知温度によって発熱体への通電を波数制御する制御回路をもつ画像形成装置で、立ち上げ目標温度到達後の出力波数が低下したときの波数によってプレヒートの延長時間を決定する制御。 - 特許庁

An insulating material 50 is applied to a projection part 40 having a void part 42, which is formed on a surface of a photoelectric conversion layer 18, by an ink jet method, and then, a step for making into a reduced pressure state and returning to an ordinary pressure state is repeated so that the void part 42 can be entirely filled with the insulating material 50.例文帳に追加

光電変換層１８の表面に生じた空隔部４２を有する突起部４０に、絶縁物質５０をインクジェット法により塗布した後、減圧状態にし、常圧状態に戻す工程を繰り返すことにより、空隔部４２の全体に絶縁物質５０を充填することができる。 - 特許庁

Furthermore, the method for manufacturing the resin coated metal plate comprises the step of heating an interface region between the tin-plated layer and the silane coupling agent coating layer, the silane coupling agent coating layer, and the interface region between the silane coupling agent coating layer and the resin layer to (the melting point of the resin)-10°C to (the melting point of the resin)+100°C.例文帳に追加

また、少なくとも、前記錫めっき層と前記シランカップリング剤塗布層との界面領域、シランカップリング剤塗布層及び前記シランカップリング剤塗布層と前記樹脂層との界面領域を、前記樹脂の融点−１０℃〜前記樹脂の融点＋１００℃に加熱する工程と、を有する。 - 特許庁