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electrode processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3315件
The method of manufacturing the electrochemical capacitor is constituted to form lithium films 8 on obverse and reverse faces of the negative electrode 3 in a predoping process, and to form a protection layer 9 comprising oil containing saturated hydrocarbon as a main component, or oil containing silicone with a side chain of an alkyl group as a main component on the lithium film 8.例文帳に追加
本発明では、電気化学キャパシタの製造方法において、プレドープ工程時に、負極3の表裏面へリチウム膜8を形成し、このリチウム膜8の上に飽和炭化水素を主成分としたオイル、または側鎖がアルキル基であるシリコーンを主成分としたオイルから成る保護層9を形成した。 - 特許庁
In the process for fabricating a semiconductor device by forming a shallow trench isolation (STI) 12 on a silicon substrate 11 and forming a gate insulation film covering the corner part of the STI 12 in a region isolated by the STI 12, fluorine ions are implanted into a gate electrode 15 and diffused to the gate insulation film 14.例文帳に追加
シリコン基板11上にシャロートレンチアイソレーション(STI)12を形成し、このSTI12で分離された領域にSTI12のコーナー部を覆うゲート絶縁膜を形成する半導体装置の製造方法であって、ゲート電極15にフッ素イオンを注入し、該フッ素イオンをゲート絶縁膜14に拡散させる。 - 特許庁
To provide a thin film transistor substrate having a structure in which a transparent conductive film and an electrode wiring film are directly connected to each other in a thin film transistor which can prevent pinhole corrosion without having steps of applying and peeling a coating material for corrosion prevention in the process of manufacturing the thin film transistor substrate.例文帳に追加
薄膜トランジスタにおいて透明導電膜と電極配線膜が直接接続する構造を有する薄膜トランジスタ基板であって、その製造工程において、腐食防止用塗料の塗布や剥離といった工程を設けることなく、ピンホール腐食を防止できるような薄膜トランジスタ基板を提供する。 - 特許庁
Furthermore, the manufacturing method has a process for pressing a fastening jig on a portion of the wire-bonding surface so as to perform the wire bonding accompanied by ultrasonic-wave application to a portion of the wire-bonding surface whereon the fastening jig is not pressed in a state of interposing the electrode terminal between its case and the fastening jig fixedly.例文帳に追加
さらに該ワイヤボンディング面の一部に固定用冶具を押し当て、該電極端子を該ケースと該固定用冶具で挟んで固定した状態で該ワイヤボンディング面のうち該固定用冶具が押し当てられていない部分に対し、超音波印加を伴うワイヤボンディングを行う工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁
An electrolytic solution is well supplied to an electrode, since the graphite powder containing the sulfuric in large quantity generates clacks in the active material in the formation process, and the graphite powder containing the sulfuric in small quantity or the graphite not containing the sulfuric generates clacks in the active material during the float discharging.例文帳に追加
本発明では、硫酸を多量に含有させた黒鉛粉が化成工程で活物質にクラックを生じさせ、硫酸を少量含有させた黒鉛粉或いは硫酸を含有させてない黒鉛粉がフロート充電中に活物質にクラックを生じさせるので電極へ電解液が良好に供給される。 - 特許庁
To obtain a printer and a printer head in which a heating element and an integrated drive circuit can be formed on the same silicon substrate through a simple process by solving various problems when a heater material is applied to the interconnection electrode of an integrated circuit in a printer employing a thermal head.例文帳に追加
本発明は、プリンタ及びプリンタ用ヘッドに関し、例えばサーマルヘッドを用いたプリンタに適用して、発熱抵抗体材料を集積回路の配線用電極に適用する場合の各種問題を解決して、簡易な工程により同一シリコン基板上に発熱素子と駆動集積回路とを形成することができるようにする。 - 特許庁
To provide a resin composition which excels in electrical insulation properties as in the conventional one, has a short period of sealing time, and can inhibit voids and sink marks to be generated during its process in the area amounting method which seals a semiconductor chip, particularly a semiconductor chip having a protruding electrode on the circuit surface.例文帳に追加
液状樹脂組成物を用いて半導体チップ、特に回路面に突起電極を有する半導体チップを封止するエリア実装法において、従来と同様に電気絶縁性に優れ、封止時間が短く、またそのプロセス中に発生しうるボイドや樹脂のひけを抑えることができる樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a silicon substrate achieving electrical isolation of a wide voltage region of 500 V or larger, in a manufacturing process allowing coexistence with STI and having an isolation structure for blocking the physical movement of metal to the depth of a through-electrode, while ensuring surface planarity and metal contamination gettering performance.例文帳に追加
表面平坦性と金属汚染ゲタリング機能を確保しながら、STIと共存できる製造工程で500V以上の広い電圧領域の電気的アイソレイションを実現するとともに、貫通電極全体の深さにいたる物理的な金属移動の阻止のためのアイソレイシヨン構造を有する。 - 特許庁
To improve the TFT characteristics by reducing amount of hydrogen H_2 to be taken into a semiconductor thin film without any damage on the semiconductor thin film, in the plasma discharge process which is executed by the P-CVD apparatus for lift-up of a glass substrate having formed a semiconductor thin film from a lower electrode.例文帳に追加
P−CVD装置により、半導体薄膜を成膜したガラス基板を下部電極からリフトアップする際に行うプラズマ放電処理において、成膜した半導体薄膜へダメージを与えることなく、また、半導体薄膜に取り込まれるH_2の量を少なくして、TFT特性の向上を図る。 - 特許庁
To provide a microscopic crystal silicon thin film solar battery, which can be formed using a deposition process that can be utilized at this point of time by forming an n-type hydrogenated amorphous silicon layer on the side of the reflection electrode of the n-type hydrogenated microscopic crystal silicon layer, and improved output characteristic can be exhibited.例文帳に追加
n型水素化微結晶シリコン層の反射電極側にさらにn型水素化アモルファスシリコン層を形成することによって、現時点で利用可能な堆積プロセスを使用して形成されることができる、改善された出力特性を発揮できる微結晶シリコン薄膜太陽電池を提供する。 - 特許庁
To form an insulation pattern whose forming process is simple and which has high extraction efficiency of light, can securely prevent a short circuit between an anode and a cathode and breaking of a display element due to an edge portion of an electrode pattern, and is sectioned in a forward tapered shape or trailing shape.例文帳に追加
形成プロセスが簡便で、光の取り出し効率が高く、陰極を断線させることなく、電極パターンのエッジ部に起因する陽極−陰極間の短絡及び表示素子の破壊を確実に防止できる順テーパー形状または裾引き形状の断面形状を有する絶縁パターンを形成する。 - 特許庁
The manufacturing method of the fuel cell includes a process tentatively fixing a pair of electrodes and an electrolyte membrane by installing magnetic members 4a, 4b on both surfaces of a membrane electrode assembly 3 including the pair of sheet-like electrodes 2a, 2b, and the electrolyte membrane 1 interposed between the pair of electrodes.例文帳に追加
シート状の一対の電極2a、2b、及び、一対の電極によって挟持された電解質膜1を備える膜電極構造体3の両面側に磁性部材4a、4bを配設することによって、一対の電極及び電解質膜を仮止めする工程、を含むことを特徴とする燃料電池の製造方法とする。 - 特許庁
A laser beam radiated in the shape of a circular cross section from a laser oscillator 4 is shaped into almost a rectangle by placing, in the laser beam, a set of two cylindrical lenses 5a and 5b arranged orthogonally to each other, when the tin oxide film applied onto a glass substrate 9 is subjected to the electrode patterning process by the irradiation of the laser beam.例文帳に追加
ガラス基板9上に被覆された酸化錫膜にレーザービームの照射により電極パターニング加工をするとき、レーザー発振器4から出射したビームの断面円形状をシリンドリカルレンズを互いに直交方向に配置した2個のレンズ5a、5bを2個1組としてレーザービーム中に配置して略矩形に整形する。 - 特許庁
In the pattern electrode forming process of the manufacturing method, after the pattern electrodes 2 are formed on the flat face S of the support plate 1, it is desirable to make the surfaces of the pattern electrodes 2 rough and it is also desirable to form the pattern electrodes 2 after mold release is applied to the flat face S.例文帳に追加
前記製造方法のパターン電極形成工程において、前記支持板1の平坦面Sにパターン電極2を形成した後、そのパターン電極2の表面を粗面にすることが好ましく、また前記平坦面Sに離型剤を塗布した後、パターン電極2を形成することが好ましい。 - 特許庁
In a process for forming an external connection electrode, conductive resin 10 is applied linearly in a plurality of ink chambers 26 and the plurality of projecting faces of a piezoelectric substrate, respectively, in the direction perpendicular to the extending direction of the plurality of ink chambers 26.例文帳に追加
外部接続用電極を形成する工程においては、複数のインク室26の一端部となる部分において、複数のインク室26が延びる方向と直交するように一直線状に、複数のインク室26内それぞれおよび圧電性基板の複数の突出面上それぞれに導電性樹脂10を塗布する。 - 特許庁
The method for manufacturing the ferroelectric substance membrane includes a step for charging a particle of the ferroelectric substance material; a step for electrodepositing the charged particle on a first electrode 40 by a migration electrodeposition process to form the ferroelectric substance material membrane 50; and a step for heating/treating the ferroelectric substance material membrane 50.例文帳に追加
本発明にかかる強誘電体膜の製造方法は、強誘電体原料の粒子を帯電させる工程と、帯電させた粒子を、泳動電着法により第1電極40に電着させて強誘電体材料膜50を形成する工程と、強誘電体材料膜50を、熱処理する工程と、を含む。 - 特許庁
In the method of manufacturing the electrode substrate for a solid polymer fuel cell having the hot press process of producing a resin cured sheet by continuously carrying out hot press of the resin-impregnated paper of impregnating thermosetting resin in carbon fiber paper, and a carbonization process of continuously baking the resin cured sheet, tension of when drawing the resin cured sheet right after hot press is ≥10 Mpa, and ≤150 MPa.例文帳に追加
熱硬化性樹脂を炭素繊維紙に含浸した樹脂含浸紙を連続的に加熱プレスして樹脂硬化シートを作製する加熱プレス工程と、前記樹脂硬化シートを連続的に焼成する炭素化工程とを有する固体高分子型燃料電池用電極基材の製造方法において、前記加熱プレス直後の樹脂硬化シートを引き取る際の引き取り張力が、10MPa以上、150MPa以下である固体高分子型燃料電池用電極基材の製造方法。 - 特許庁
Therefore, by performing ion implantation using a mask 180 in a second ion implantation process, an impurity ion is implanted into a region including the defective portion where the width of the offset region 114 is enlarged, to form the hole storage region 113 including a protruding region 113A to the transfer electrode 160A, 160B sides.例文帳に追加
そこで、第2のイオン注入工程によってマスク180を用いたイオン注入を行うことにより、オフセット領域114の幅が大きくなった欠損部分を含む領域に不純物イオンを注入し、転送電極160A、160B側へのはみ出し領域113Aを有する正孔蓄積領域113を形成する。 - 特許庁
The metallic hard polymer produced while the upper electrode is formed within an optimum temperature range of the mixed gas containing the oxygen and fluorocarbon gas is removed while characteristics of respective thin films constituting the MIM capacitor are taken into consideration to prevent the lifting phenomenon of the thin films constituting the MIM capacitor, thereby improving the yield of an MIM capacitor manufacturing process.例文帳に追加
MIMキャパシターを構成する各薄膜の特性を考慮して酸素及びフッ化炭素系ガスを含む混合ガスで最適の温度範囲で上部電極を形成する間に発生された金属性ハードポリマーを除去してMIMキャパシターを構成する薄膜のリフティング現象を防止し、MIMキャパシター製造工程の収率を向上させることができる。 - 特許庁
To provide a piezoelectric actuator being driven with a high field strength to produce a larger displacement while ensuring high conduction reliability of an electrode, which is fabricated through a smaller number of fabrication steps without restricting the ink to be used by the characteristics or components of the ink when the actuator is used an ink jet head, and to provide its fabricating process.例文帳に追加
高い電界強度で駆動出来、より大きな変位を得ることが可能であって、電極の導通信頼性が高く、例えばインクジェットヘッドとして用いた場合に、特性・成分等により利用するインクを制約することなく、より少ない製造工程数で作製可能な、圧電式のアクチュエータ、及び、その製造方法を提供すること。 - 特許庁
One or both of the step for forming the gate electrode and the step for forming the opening parts 203a and 203b penetrating the insulating layer are performed in an exposure process using a phase-shift mask or a hologram mask.例文帳に追加
ゲート電極を形成する工程、前記ゲート電極上に絶縁層を形成する工程、絶縁層を貫通する開口部を形成する工程を含み、ゲート電極を形成する工程と絶縁層を貫通する開口部を形成する工程の一方または双方は、位相シフトマスク若しくはホログラムマスクを用いた露光工程で行うことを要旨とする。 - 特許庁
To provide a method for producing a ceramic disc capacitor in which production process is simplified furthermore while suppressing the production cost by coating the surface of a ceramic body evenly with silver paste utilizing a roller in order to form an electrode and such characteristics as very large capacitance and high accuracy and reliability are attained.例文帳に追加
ローラを利用して、セラミック体の表面に万遍なく銀ペーストを塗布して電極を形成させることにより、製造工程がより簡単になると共に、製造コストもおさえることができ、更に、容量が非常に大きく、精度や信頼性が高いなどの特性を有する円板型セラミックコンデンサの電極製造方法を提供する。 - 特許庁
In the manufacturing method of an organic electronics element wherein a transparent conductive membrane is formed on a substrate, next at least an organic compound layer and a counter electrode layer are formed on the transparent conductive membrane, a process is provided in which moisture amount in the substrate before forming the transparent conductive membrane is controlled.例文帳に追加
基材上に透明導電膜を形成し、次いで、該透明導電膜上に、少なくとも有機化合物層および対向電極層を形成する、有機エレクトロニクス素子の製造方法において、該透明導電膜を形成する前の基材の水分量を制御する工程を有することを特徴とする有機エレクトロニクス素子の製造方法。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device having a process of forming a metal electrode film on one-side principal surface of a thin wafer having a thickness of 200 μm or less, and forming a metal film on a semiconductor wafer by using a ring-like susceptor capable of reducing wafer cracks even when warpage occurs in the wafer.例文帳に追加
200μm以下の薄いウエハの一方の主面に金属電極膜を形成する工程を有する半導体装置の製造方法において、ウエハに反りが生じていてもウエハ割れを少なくすることのできるリング状サセプターを用いて半導体ウエハに金属膜を成膜する半導体装置の製造方法を提供すること - 特許庁
To provide a highly reliable high sensitivity solid state imaging device by planarizing the surface of a charge transfer device employing a charge transfer electrode of single layer structure while holding flexibility in the process without lowering the yield even for a large and shrunk device having multiple pixels, and enhancing the processing accuracy at a photodiode part.例文帳に追加
単層構造の電荷転送電極を用いた電荷転送装置において、微細化、多画素化、大型化に際しても、工程の自由度を確保したままで歩留まり低下を生じることなく、表面の平坦化をはかり、フォトダイオード部の加工精度の向上をはかることにより、高感度で信頼性の高い固体撮像素子を提供する。 - 特許庁
In the melt-extruding and cooling process, a corona discharge 7 under a streamer corona state is performed between an electrode 6 loaded with a direct current high voltage and a polyamide mixed resin laminated sheet 2 under a molten condition to provide an enough electric charge to tightly stick the polyamide mixed resin laminated sheet under the molten condition on the moving cooling body surface.例文帳に追加
そして、溶融押出冷却工程においては、直流高圧を印可した電極6と溶融状態のポリアミド系混合樹脂積層シート2との間に、ストリーマコロナ状態のコロナ放電7が行われ、溶融状態のポリアミド系混合樹脂積層シートに移動冷却体面と密着させるのに十分な電荷が付与される。 - 特許庁
For example, this negative electrode plate can be obtained by repeating a process immersing a sintered type nickel substrate obtained by sintering powder of metal nickel in a mixed water solution of cadmium nitrate and indium nitrate, drying, carrying out an alkali treatment, washing and drying until a cadmium component which is the main active material reaches almost an specified amount, then performing conversion treatment.例文帳に追加
例えば、この負極板は、金属ニッケルの粉末を焼結して得た焼結式ニッケル基板を、硝酸カドミウムおよび硝酸インジウムの混合水溶液に浸漬し、乾燥、アルカリ処理、水洗、乾燥する工程を、主活物質であるカドミウム成分が略所定量となるまで繰り返し、その後化成処理を行うことにより得ることができる。 - 特許庁
To provide a capacitor which is equipped with a dielectric film having a hafnium oxide and an aluminum oxide, can obtain a characteristic of a high dielectric breakdown voltage in a high voltage applied area, and can prevent a leakage current from increasing caused by the following heat treatment process after forming an upper electrode, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
酸化ハフニウム及び酸化アルミニウムを有する誘電膜を備えたキャパシタにおいて、高電圧印加領域で高い絶縁破壊電圧特性を得ることができ、上部電極の形成後に行われる後続する熱処理工程によりリーク電流が増加するのを防ぐことができるキャパシタ、及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
When the antisurge protecting device is assembled by using these elements, a process for adjusting the force to be applied to the main member and the vessel is adopted, and both the pressure of a contact part of the high resistance covering film of the main member and the contact pressure at a mechanical contact point forming an electrode to the main member are made controllable.例文帳に追加
これら要素を用いて対サージ防御装置を組立てるに際して、キャップ、主要部材及び容器に加える力を調整する工程を取り入れて、主要部材の高抵抗被膜の接触部の圧力と、この主要部材に対して電極を形成する機械的接点における接触圧の双方を制御できるようにする。 - 特許庁
The first electrode can be exactly formed almost into the tapered-shape by heightening accuracy of patterning by accurately controlling an etching line width by applying a lithography process at every layer with a different etching method and an etching speed from each other, after forming the adhesion layer 12A, the metal layer 12B, and the work function adjusting layer 12C on the substrate 11, successively.例文帳に追加
基板11に、密着層12A,金属層12Bおよび仕事関数調整層12Cを順に形成したのち、エッチング方法およびエッチング速度が異なる層ごとにリソグラフィ工程を設けることにより、エッチング線幅を精確に制御してパターニング精度を高め、第1電極12を確実に略順テーパ状に形成することができる。 - 特許庁
To control a height and a cross-section shape of a wiring, alleviate defects of the4 wiring while aiming at improvement in luminous efficiency of an image forming device and realize vacuum reliability of an element-making process of an electrode board and the image forming device using the same, in forming a wiring board using the wiring obtained by baking a photosensitive conductive paste.例文帳に追加
感光性導電ペーストを焼成して得られる配線を用いた配線基板形成において、配線の高さおよび断面形状を制御し、配線の欠陥を抑制するとともに、画像形成装置の発光効率・信頼性向上を実現しつつ、配線基板の素子作成工程及びこれを用いた画像形成装置の真空信頼性を得る。 - 特許庁
In the bump forming for forming the bump on the electrode 3a of a wafer type chip 3, the chips 3 of the semiconductor wafer 2 are bound to define a block B becoming a unit operating division in the bump forming process, and set the recognition mark 3b of a chip 3 at a predetermined position in each blocks as a block recognition point 3b(B).例文帳に追加
ウェハ状のチップ3の電極3aにバンプを形成するバンプ形成において、半導体ウェハ2のチップ3を括ってバンプ形成工程における単位作業区画となるブロックBを定義し、各ブロック毎に所定位置にあるチップ3の認識マーク3bをブロック位置検出用のブロック認識点3b(B)として設定する。 - 特許庁
This reproduction method for the probe sheet for reproducing the probe sheet having a substrate, and a conductor film having a linear contact part positioned on the substrate, contacting with an electrode of a sample, and formed on the substrate includes a removal process cutting or scraping away a tip part of the contact part together with the substrate.例文帳に追加
本発明に係るプローブシートの再生方法は、基板と、前記基板上に位置し検体の電極に接触する線状の接触部を有し前記基板上に形成される導電膜とを備えるプローブシートを再生するための方法であって、前記接触部の先端部を前記基板とともに切除又は削り取る除去工程を含む。 - 特許庁
Disclosed are an ink containing nanoparticles for formation of a thin film of a solar cell and its preparation method, a CIGS thin film solar cell having at least one light absorption layer formed by coating or printing the ink containing nanoparticles on a rear electrode, and a process for manufacturing the same.例文帳に追加
本発明は、ナノ粒子を含有する太陽電池の薄膜組成用インクとその製造方法、及び前記ナノ粒子を含有するインクを背面電極上に塗布又は印刷して形成した光吸収層を少なくとも1つ以上包含するCIGS薄膜型太陽電池とその製造方法によって本発明の課題を解決する。 - 特許庁
Specifically, the process for producing a metal substrate with a multilayer film comprises immersing the metal substrate in an aqueous bismuth compound solution (A) and applying an electric current between the metal substrate and an electrode to thereby form a coating film (F1) on the metal substrate; and then applying a coating composition (B) on the coating film (F1) to form a coating film (F2).例文帳に追加
具体的には、金属基材を、ビスマス化合物の水溶液(A)に浸漬し、金属基材と電極間に通電することによって、該金属基材上に皮膜(F1)を形成し、次いで、該皮膜(F1)上に、塗料(B)を塗装して塗膜(F2)を形成することを特徴とする複層皮膜を有する金属基材の製造方法である。 - 特許庁
To provide a thermosetting resin composition excellent in the relaxation effect of strain generated in a semiconductor element and a wiring board and a connecting electrode, capable of easily forming a sealing resin layer in the gap between the semiconductor element and the wiring board, and requiring no flux cleaning process, and a semiconductor device therewith and a method of its manufacture.例文帳に追加
半導体素子と配線回路基板および接続用電極に生ずる応力の緩和効果に優れ、半導体素子と配線回路基板との空隙に容易に封止樹脂層を形成することができかつフラックスの洗浄工程を必要としない、熱硬化性樹脂組成物ならびにそれを用いた半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
On a surface of aluminum foil, a roll-pressed mark of the aluminum foil is removed, and multiple recessed parts each having a tip with an acute angle are present, and the colorimetric value (L value of Hunter Lab) on the surface of the aluminum foil is set to 65-80, whereby positive electrode foil high in capacitance can be provided by improving pit density by an etching process and uniformizing pit length.例文帳に追加
アルミニウム箔の表面が、アルミニウム箔の圧延傷が取り除かれて先端が鋭角を有する凹部が多数存在し、かつ該アルミニウム箔の表面の測色値(ハンターLabのL値)を65〜80とすることにより、エッチング処理によるピット密度の向上とピット長さを均一化し、静電容量の高い陽極箔を得ることができる。 - 特許庁
This is the manufacturing method of the negative electrode material for the lithium secondary battery having an immersing treatment process in which the silicon alloy powders containing at least silicon and a metal element A except silicon are immersed into an aqueous solution containing the metal element B smaller in ionization tendency than that of the metal element A as a metal ion and substantially not containing a material to reduce the metal ion.例文帳に追加
少なくともシリコンと、シリコン以外の金属元素Aを含むシリコン合金粉末を、該金属元素Aよりもイオン化傾向の小さい金属元素Bを金属イオンとして含み、かつ前記金属イオンを還元する物質を実質的に含まない水溶液に浸漬する浸漬処理工程を有するリチウム二次電池用負極材料の製造方法。 - 特許庁
The display device 10 comprises, on a first substrate 12, a semiconductor film constituting a thin film transistor 23, a pixel electrode 27, a terminal part 34 and a TEG 28 provided in a wiring non-forming area, and a manufacturing process management mark part 29 provided on the semiconductor film constituting the TEG 28 through at least one insulating layer.例文帳に追加
表示装置10は、第1基板12において、薄膜トランジスタ23、画素電極27、端子部34及び配線の非形成領域に設けられたTEG28を構成する半導体膜と、TEG28を構成する半導体膜上に少なくとも1層の絶縁層を介して設けられた製造工程管理用マーク部29と、を備える。 - 特許庁
When a laminated ceramic green chip using an electrode made of Ni or made mainly of Ni is subjected to binder removal and baking, it is heated in an atmosphere gas whose oxygen partial pressure is lower than the oxidization reduction equilibrium oxygen partial pressure of Ni and higher than that having a small value by one digit, in the binder removing process of 500 to 1000°C.例文帳に追加
NiあるいはNiを主成分とする金属を電極とした積層セラミックグリーンチップを脱バインダー・焼成する際に、脱バインダー過程の500℃〜1000℃の温度範囲では、Niの酸化還元平衡酸素分圧より低くかつ酸化還元平衡酸素分圧の1ケタ下より高い酸素分圧の雰囲気ガス中で熱処理を行う。 - 特許庁
To provide an electrode plate for flat panel display provided with a photo spacer having a uniform thickness and not causing hindrance to rubbing in the rubbing processing where the thickness of the photo spacer is not excessively decreased by a load in a panel assembling process and the thickness and the shape of the photo spacer formed by the photo lithography method can be made stable.例文帳に追加
パネル組み立て工程における荷重によってフォトスペーサがその厚みを減じ過ぎることなく、また、フォトリソグラフィ法によって形成されたフォトスペーサの厚さ及び形状が安定したものとなり、さらに、ラビング処理において、フォトスペーサの厚さが均一なラビングの障害になることのないフォトスペーサを具備するフラットパネルディスプレイ用電極板を提供すること。 - 特許庁
To provide a highly sensitive and highly reliable solid state imaging element by flattening a surface without generating the deterioration of an yield while securing the degree of freedom in a process as it is, and improving the working accuracy of a photodiode unit even upon microfabrication, pixel increasing and enlarging, in an electric charge transfer device employing an electric charge transfer electrode of a single layer structure.例文帳に追加
単層構造の電荷転送電極を用いた電荷転送装置において、微細化、多画素化、大型化に際しても、工程の自由度を確保したままで歩留まり低下を生じることなく、表面の平坦化をはかり、フォトダイオード部の加工精度の向上をはかることにより、高感度で信頼性の高い固体撮像素子を提供する。 - 特許庁
To provide a lithium secondary battery excellent in the temp. characteristic and/or fire retardancy equipped with an enhanced charge/discharge efficiency by suppressing reactions of carbon material with the electrolytic solution, wherein a process to apply to electrolytic solution a solvent which has not been applicable to a conventional lithium secondary battery using a carbon material as electrode active material is introdiced easily at a low cost.例文帳に追加
炭素材料と電解液との反応を抑制して充放電効率を向上し,炭素材料を電極活物質とするリチウム二次電池に適用できなかった溶媒を電解液に適用することができる手法を容易にかつ低コストで提供し,温度特性や難燃性に優れるリチウム二次電池を提供すること。 - 特許庁
In a process of forming a positive electrode 4, a conductive paste containing first conductive particles 4a not reacting with phosphors constituting a phosphor layer 5 and second conductive particles 4b having hardness of penetrating an oxide layer of wiring 2 by printing pressure is printed on an insulating layer 3 including an opening 3a in a given pattern, and then is baked.例文帳に追加
陽極4を形成する工程において、蛍光体層5を構成する蛍光体と反応しない第1の導電性粒子4aと、印刷圧力により配線2の酸化被膜を貫く硬度を有する第2の導電性粒子4bとを含む導電性ペーストを開口部3aを含む絶縁層3上に所定パターンで印刷した後、焼成する。 - 特許庁
In manufacture, an unwanted portion on the STI film in the second polycrystalline silicon film for formation of the floating gate electrode and the unwanted portion on the source formation region are removed separately by the first mask covering the whole surface of the stripe-form active region and the second mask covering the whole surface of the drain formation region in place of being removed in one process.例文帳に追加
製造時には、フローティングゲート電極形成用の第2の多結晶シリコン膜におけるSTI膜上の不要部分及びソース形成領域上の不要部分を一度の工程で除去する代わりに、ストライプ形状の活性領域の全面を覆う第1のマスクと、ドレイン形成領域の全面を覆う第2のマスクとにより別々に除去する。 - 特許庁
To provide an active element substrate and a liquid crystal display that can suppress small variation in drain potential during OFF-period of a thin-film transistor due to capacitances, respectively provided at superimposed portions of signal lines and a pixel electrode, while taking a wide process margin, and that can simplify the structure of signal lines, and improve the aperture ratio.例文帳に追加
プロセスマージンを広くとりながら、信号線と画素電極とを重畳配置したことによる容量に起因する、薄膜トランジスタがOFFしている期間のドレイン電位の変動を小さく抑えることができ、かつ、信号線の構造を簡素化すると共に開口率を向上させ得る能動素子基板と液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
On a PET film 1 as a conductive-process supporter on the surface of which a conductive layer 2 is formed, an uncalcined ceramic green sheet 3 functioning as a resist in which a photosensitive polymeric material is used as binder is provided, and the sheet 2 is exposed and developed to form an internal-electrode forming pattern 10 from which the conductive layer 2 is exposed.例文帳に追加
導電層2が表面に形成された導電処理支持体としてのPETフィルム1上に、感光性高分子材料をバインダとして用いたレジストとして機能する未焼成セラミックグリーンシート3を設け、このシート3を露光及び現像処理することで導電層2が露出する内部電極形成パターン10を形成する。 - 特許庁
The manufacturing method of the positive active material contains a process mixing metal-doped lithium manganese phosphate: LiMn_1-xM_xPO_4 (wherein, 0<x≤0.1; M represents a doped metal element) with a carbon source, and heat-treating the mixture obtained in inert gas atmosphere, and the nonaqueous electrolyte battery has a positive electrode containing the positive active material.例文帳に追加
金属をドープしたリン酸マンガンリチウムLiMn_1−xM_xPO_4 (式中、0<x≦0.1であり、Mはドープ金属元素を表す)と炭素源とを混合し、得られた混合物を不活性ガス雰囲気中にて熱処理する工程を含む正極活物質の製造方法、並びにその正極活物質を含む正極を有する非水電解質電池。 - 特許庁
Each notch 31, 32, 33 and 34 measures a resonance frequency of the patch antenna 1 after the patch antenna 1 prior to forming the notch portions 31, 32, 33 and 34 is once manufactured and are formed by conducting a notching process to grind the radiation electrode 12 in the case that the measured resonance frequency is higher than a standard range of a desired resonance frequency.例文帳に追加
この切り欠き部31,32,33,34は、切り欠き部31,32,33,34を形成する前のパッチアンテナ1を一旦製造した後に、このパッチアンテナ1の共振周波数を測定し、測定した共振周波数が、所望の共振周波数の規格範囲より高い場合に、放射電極12を研削する切欠工程を行うことにより形成される。 - 特許庁
To provide a semiconductor device such as an organic field effect transistor in which source and drain electrodes have superior adhesiveness to a base, in which ohmic contact sufficient to a semiconductor layer is formed in a contact region with a current passage, and which has an electrode structure that can be manufactured with good productivity in a simple process; and to provide a manufacturing method of the device.例文帳に追加
ソース及びドレイン電極が、下地に対する優れた密着性を有し、かつ、電流通路との接触域において半導体層に対し良好なオーミック接触を形成し、しかも簡易な工程で生産性よく製造できる電極構造を有する、有機電界効果トランジスタなどの半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
| 意味 | 例文 |
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