「formation method」に関連した英語例文の一覧と使い方(231ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for forming a stacked structure including the amorphous carbon film on the underlayer, includes steps of: supplying an organic silicon gas on the underlayer to form an initial layer including a Si-C bond on the underlayer (t4); and forming the amorphous carbon film on the underlayer with a heating film formation (t6) supplying a film forming gas containing hydrocarbon gas on the underlayer on the surface of which the initial layer is formed.例文帳に追加

アモルファスカーボン膜を含む積層構造を下地層上に形成する方法は、前記下地層上に有機系シリコンガスを供給し、前記下地層の表面にＳｉ−Ｃ結合を含む初期層を形成する工程（ｔ４）と、前記初期層が表面に形成された前記下地層上に炭化水素化合物ガスを含む成膜ガスを供給し、前記下地層上に前記アモルファスカーボン膜を熱成膜で形成する工程（ｔ６）と、を具備する。 - 特許庁

To provide a method in which an in vitro derived pancreas is derived from a gastrula other than a predetermined area for pancreas in a high yield, providing knowledge related to a differentiation and formation mechanism of pancreas and capable of evaluating whether the pancreas obtained in vitro can actually act in vivo when transplantation and providing knowledge on a diagnosis and a therapy for pancreatic diseases of higher animals.例文帳に追加

膵臓の分化・形成機構に関しての知見を得ることができる、発生工学あるいは臓器工学上有用なインビトロ誘導膵臓や、インビトロで誘導した膵臓が実際に生体内でも機能できるかどうかを評価することができる移植用膵臓や、より高等な動物の膵疾患の診断・治療への道を拓くインビトロ誘導膵臓を、人工的に膵臓予定域以外の原腸胚から高率に誘導しうる方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing under mild reaction conditions from an unsaturated hydrocarbon, carbon monoxide and an alcohol the subject dicarboxylic acid diester having two more carbon atoms than the unsaturated hydrocarbon, (i.e., such a diester that an ester group is added to the unsaturated bond of the unsaturated hydrocarbon) while suppressing the formation of byproduct oxalic diester and easily separating, recovering and circulating/reusing palladium catalyst, etc.例文帳に追加

本発明は、不飽和炭化水素、一酸化炭素、及びアルコール類から、不飽和炭化水素より炭素数が２多いジカルボン酸のジエステル（不飽和炭化水素の不飽和結合にエステル基が付加されたジエステル）を製造する方法において、パラジウム触媒などを容易に分離、回収、循環・再使用することができ、温和な反応条件下、シュウ酸ジエステルの副生を抑えて、目的のジカルボン酸のジエステルを製造できる方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

For all pixels, a pixel electrode for display and an electrode for proximity part formation are electrically disconnected by, for example, a TFT switching element irrelevantly to a driving method to make proximity parts operate as transition nuclei in spray bend alignment transition and eliminates parasitic capacitance between pixels in display operation, thereby solving display problems such as various display unevenness, etc., due to the parasitic capacitance between the pixels.例文帳に追加

また、駆動方法に関わらず全ての画素において、表示用画素電極と近接部形成用電極の間を、例えばＴＦＴスイッチング素子により電気的に切り離す構成とすることで、スプレイ−ベンド配向転移時は近接部が転移核として働くと共に表示動作では画素間の寄生容量をなくすことができるので画素間の寄生容量に起因する各種表示むら等の表示課題を解消できる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor element capable of reducing a leakage current in a storage electrode junction region by forming a gate having a stepped channel, by etching into a predetermined thickness a semiconductor substrate in a portion scheduled for a storage electrode contact and in an adjacent region thereof before the formation of an element isolation film that defines an active region.例文帳に追加

本発明は半導体素子の製造方法に関し、特に活性領域を定義する素子分離膜の形成前に格納電極コンタクトに予定されている部分及びその隣接領域の半導体基板を所定厚さにエッチングして段差のあるチャンネルを有するゲートを形成することにより、格納電極接合領域で漏洩電流を低減させて半導体素子のリフレッシュ特性を向上させることができる技術である。 - 特許庁

In the above method, partition frames is preassembled in a crossing state inside the blank; and the inside partition frames are expanded for the formation of a plurality of sections, when the blank, in which the partition frames are assembled, is assembled into the box by means of the carton former.例文帳に追加

シート状材料を打ち抜いて形成した扁平なブランクを立体的な箱に組み立て、その箱の内部に複数個の容器の中間製品を収納するとともに、容器の中間製品には後工程にて内容物を充填する方法において、ブランクの内部に、仕切り枠を交差状態で組み付けておき、その仕切り枠を組み付けたブランクを、製函機を用いて、箱に組み立てたときに、内部の仕切り枠が拡がり、複数箇所の区画が形成されるようにする。 - 特許庁

To obtain a new copolymer suitable as a coating film-forming polymer for obtaining a resist pattern highly adhesive to a substrate and slight in pattern spoilage in an ultrafine pattern formation step in semiconductor production process through eliminating drawbacks involved in conventional techniques, to provide a method for producing the copolymer, and to obtain a new thiol compound useful as a chain transfer agent in producing the copolymer.例文帳に追加

従来技術の難点を解消し、半導体の製造における極微細なパターン形成において、基板との密着性が高くパターン倒れが少ないレジストパターンを得るための塗膜形成用ポリマーとして好適な、新規な共重合体及び該共重合体を製造する方法、並びに、これらの塗膜形成用ポリマーとして好適な共重合体の製造における連鎖移動剤として有用な新規チオール化合物を提供する。 - 特許庁

The method concretely, prepares a solution of mixture comprising the titanium oxide precursor, a polymeric material compatible with the titanium oxide precursor and a solvent, formation of the titanium oxide-polymer composite fiber by spinning the solution containing the titanium oxide precursor and the polymeric material and super fine fiber structures formed by phase separation, and heat pressing the composite fibers to eliminate the polymeric materials from the composite fibers.例文帳に追加

具体的には、酸化チタンナノロッド製造方法は、酸化チタン前駆体、前駆体と相溶性の高分子材料、及び溶媒を含む混合溶液を準備し、混合溶液を紡糸して酸化チタン前駆体と高分子材料との間の相分離により内部に微細な繊維素が含まれた酸化チタン高分子複合繊維を形成し、複合繊維を熱圧搾し、複合繊維から高分子材料を除去して酸化チタンナノロッドを得る。 - 特許庁

In the method for preparing a transistor having a semiconductor containing source and drain regions and a channel formation regions, a gate insulated film in contact with the semiconductor, and a gate electrode in contact with the gate insulated film; the source and drain regions are formed by adding N or P type impurities in the semiconductor and then radiating an Nd: YAG laser beam onto the semiconductor having the impurities added therein.例文帳に追加

ソース領域、ドレイン領域及びチャネル形成領域を含む半導体、該半導体に接したゲート絶縁膜並びに該ゲート絶縁膜に接したゲート電極を有するトランジスタの作製方法において、前記ソース領域及び前記ドレイン領域は、半導体にＮ型もしくはＰ型の不純物を添加した後、前記不純物が添加された半導体にＮｄ：ＹＡＧレーザー光を照射して形成されることを特徴とするトランジスタの作製方法。 - 特許庁

The color filter includes a substrate, a black matrix formed on the substrate and including an opening, a color layer formed in the opening, a spacer formed on the black matrix by a photolithographic method, and a barrier layer formed on at least a spacer non-formation region surface on the substrate where the spacer is not formed.例文帳に追加

本発明は、基板と、上記基板上に形成され、開口部を備えるブラックマトリクスと、上記開口部に形成された着色層と、上記ブラックマトリクス上に、フォトリソグラフィー法により形成されたスペーサと、少なくとも上記基板上の上記スペーサが形成されていない領域の表面であるスペーサ非形成領域表面に形成されたバリア層と、を有することを特徴とするカラーフィルタを提供することにより、上記目的を達成するものである。 - 特許庁

In this method for measuring thickness of a thin film, in the formation of at least one thin film 12 or more on a transparent substrate 13, light is made to irradiate a thin film formed surface and the reflection factor and the transmissivity thereof are measured to determine the thickness of the thin films.例文帳に追加

透明基板１３上に少なくとも１層以上の薄膜１２を形成する際に、該薄膜形成表面から光を照射して反射率或いは透過率を測定し、該薄膜の膜厚を測定する方法であって、少なくとも一波長以上の光を用いた単色及び多色光測定において、測定光の波長、波長幅が関係式（１）を満足するようにして膜厚を測定するすることを特徴とする膜厚測定方法である。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of realizing an SOI integrated circuit of a complete depleting operation and low parasitic resistance, minimizing the damage of the SOI layer surface of a channel formation part while provided with a recess structure, minimizing a crystal defect while suppressing stress even at the end part of a channel region and suppressing the generation of a leakage current due to it, and provide its manufacturing method.例文帳に追加

完全空乏化動作及び低寄生抵抗のＳＯＩ集積回路を実現することができ、リセス構造を有しながら、チャネル形成部のＳＯＩ層表面のダメージを最小限に抑えることができ、チャネル領域の端部においても、応力を抑制しながら、結晶欠陥を最小限に止め、それに起因するリーク電流の発生を抑えることができる半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the exposure head includes a first step of forming a plurality of recessed portions, which define lens curved surfaces in lens formation regions of the second surface, by engraving the substrate from the second surface side and a second step of filling the plurality of recessed portions with a transparent resin and then forming the plurality of micro-lenses by curing the filled transparent resin.例文帳に追加

ドライエッチング法を用いて複数の凹部を形成した場合には、各凹部の内側表面の形状、即ち内側表面の曲率半径等のマイクロレンズの光学特性を決める要素を凹部毎に個別に設定できなかったが、非特許文献１及び２に開示された機械加工技術を凹部の形成に応用することによって、マイクロレンズのレンズ曲面を規定する各凹部４５の内側表面の形状をマイクロレンズ毎に個別に設定できる。 - 特許庁

In the method for image formation in which ink to be cured by active beam irradiation is discharged to a recording material by a recording head having at least one nozzle to selectively control discharge of ink drops, the ink contains at least one kind of a photo acid generator as a counter ion selected from aryl borate compound-containing diazonium, iodonium and sulfonium aromatic onium compounds and an iron allene complex.例文帳に追加

選択的にインク滴の吐出制御可能な少なくとも一つのノズルを有する記録ヘッドで、活性光線により硬化するインクを記録材料上に吐出する画像形成方法において、該インクが、対イオンとしてアリールボレート化合物を有するジアゾニウム、ヨードニウム、又はスルホニウム芳香族オニウム化合物、鉄アレン錯体から選ばれる少なくとも１種の光酸発生剤を含有することを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁

A plurality of times of engraving can be conducted to the same resin by a photolithographic method by using a positive type photosensitive polyimide resin material to an insulating layer 21, mask formation by a resist in a solder ball forming process and a rear etching process in the manufacture can be omitted, processes can be simplified, and a material used can be decreased, and manufacturing cost can be reduced.例文帳に追加

絶縁層２１にポジ型の感光性ポリイミド樹脂材料を使用することで、フォトリソグラフィー法によって同一の樹脂に対して複数回の製版を行うことが可能であり、従来の製造方法における半田ボール形成工程、裏面エッチング工程時のレジストによるマスク形成を省略することができるので、工程を簡略化でき、かつ使用する材料を減らすことができるので、製造コストの大幅な低減を図ることができる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of forming a dense pattern independently of standing waves and capable of further forming a resist pattern having a high aspect ratio by using an underlayer film excellent in dry etching resistance and usable as a thin film in combination with a specified polysiloxane-base radiation-sensitive resin composition having high transparency at ≤193 nm wavelength, and to provide a bilayer film for pattern formation.例文帳に追加

ドライエッチング耐性に優れ薄膜として使用可能な下層膜と、１９３ｎｍ以下の波長において透明性の高い特定のポリシロキサン系感放射線性樹脂組成物とを組み合わせて用いることにより、定在波による影響を受けることがなく、緻密なパターンを形成することができ、さらに高いアスペクト比を有するレジストパターンを形成することができるパターン形成方法およびパターン形成用多層膜を提供する。 - 特許庁

In the method for producing a polyimide film composition, a polyimide precursor solution is applied to the surface of a substrate and dried or half-cured to form a polyimide precursor resin layer, a metallic layer is formed on the surface of the polyimide precursor resin layer and the polyimide precursor resin layer is heat-cured after or during the formation of the metallic layer to form a polyimide resin layer.例文帳に追加

基体表面にポリイミド前駆体溶液を塗布して乾燥もしくは半硬化してポリイミド前駆体樹脂層を形成し、ポリイミド前駆体樹脂層表面に金属層を形成した後或いは形成途中に、ポリイミド前駆体樹脂層を加熱硬化してポリイミド樹脂層を形成するポリイミド被膜組成物の製造方法、並びに、それにより得られるポリイミド被膜組成物、無端ベルト、定着ベルト、及び、電子写真感光体である。 - 特許庁

To provide a holing sewing machine and a forming method for holed stitches capable of forming beautiful holed stitches and capable of easily setting the shape and size of reinforcing stitches and cross stitches corresponding to the desired holed stitches by continuously forming a plurality of reinforcing stitches formed at a pair of zigzag stitches formation planned sections respectively and a plurality of cross stitches formed at a pair of bar tacking stitches.例文帳に追加

１対の千鳥縫目形成予定部に夫々形成される複数本の補強用縫目を、１対の閂止め縫目に夫々形成される複数本の渡り縫目とともに連続的に形成することで、綺麗な穴かがり縫目を形成可能にし、しかも、所望の穴かがり縫目に対応する補強用縫目と渡り用縫目の形状とサイズを容易に設定可能な穴かがりミシン及び穴かがり縫目形成方法を提供する。 - 特許庁

By this electrophotography method, the electrophotographic sensitive body is repeatedly processed by at least electrostatic charging, image exposure, development, transfer, cleaning, and destaticization; and the electrophotographic sensitive body is manufactured by using coating liquid for electric charge transfer layer formation (CTL coating liquid) after adsorption processing to form the charge transfer layer of the electrophotographic sensitive body having at least the charge transfer layer.例文帳に追加

電子写真感光体に、少なくとも帯電、画像露光、現像、転写、クリーニング、除電を繰り返し行なう電子写真方法であって、該電子写真感光体として、少なくとも電荷輸送層を有する電子写真感光体の該電荷輸送層の形成に吸着処理を施した電荷輸送層形成用塗工液（以下、ＣＴＬ塗工液という）を用いて製作された電子写真感光体を用いることを特徴とする電子写真方法。 - 特許庁

An insulating layer is formed of a positive photosensitive polyimide resin material, the same resin can undergo photoengraving a few times through a photolithographic method, and the formation of resist masks in a solder ball forming process and a rear etching process in a conventional manufacturing process can be dispensed with, so that a semiconductor device circuit member can be simplified in manufacturing process markedly reducing the manufacturing cost.例文帳に追加

絶縁層２１にポジ型の感光性ポリイミド樹脂材料を使用することで、フォトリソグラフィー法によって同一の樹脂に対して複数回の製版を行うことが可能であり、従来の製造方法における半田ボール形成工程、裏面エッチング工程時のレジストによるマスク形成を省略することができるので、工程を簡略化でき、かつ使用する材料を減らすことができるので、製造コストの大幅な低減を図ることができる。 - 特許庁

This invention is a production method for MeGBL and/or MeTHF from 3-(hydroxymethyl)-tetrahydrofuran (HOMeTHF), 3-formyltetrahydrofuran (FTHF) or their mixture wherein HOMeTHF, FTHF or their mixture are brought into contact with a copper on zirconia hydrate catalyst under the temperature and pressure conditions at which the formation of MeGBL and/or MeTHF are derived.例文帳に追加

本発明は、３−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロフラン（ＨＯＭｅＴＨＦ）、３−ホルミルテトラヒドロフラン（ＦＴＨＦ）又はそれらの混合物からのＭｅＧＢＬ並びに／又はＭｅＴＨＦの製造方法であって、ＭｅＧＢＬ及び／又はＭｅＴＨＦの形成を誘導する温度及び圧力の条件下において、ＨＯＭｅＴＨＦ、ＦＴＨＦ又はそれらの混合物を水和ジルコニア上に担持された銅を含む触媒と接触させるによる方法に関する。 - 特許庁

The method using an apparatus for growing the biopolymer crystal by a vapor diffusion process comprises holding a biopolymer-containing solution 11 in the void of a substrate 26 by surface tension, applying an alternating electric field to the above solution by a pair of electrodes 31 located near th void of the substrate to induce an induced dipole into the biopolymer so as to move in the solution, and thus promoting the formation of the crystal nucleus.例文帳に追加

生体高分子を蒸気拡散法によって結晶成長させる装置において、生体高分子を含有する溶液１１を表面張力により基板２６の間隙に保持し、その基板の間隙近傍に位置して対を成す電極３１によって、間隙に保持された溶液に対して交流電場を印加することで、生体高分子に誘起双極子を誘起して溶液中を移動させ、結晶核の形成を促進する。 - 特許庁

The method for producing a fiber assembly comprises (1) a process for supplying a polymer, (2) an irradiation process for irradiating the supplied polymer with laser to make the polymer in a deformable state, (3) a fiberization process for electrically pulling the deformable polymer, reducing the diameter, drawing and fiberizing the polymer and (4) a fiber assembly formation process for integrating the fiber to form a fiber assembly.例文帳に追加

本発明の繊維集合体の製造方法は、（１）ポリマーを供給する供給工程、（２）前記供給したポリマーに対してレーザーを照射してポリマーが変形可能な状態にする照射工程、（３）前記変形可能なポリマーを電気的に牽引し、細径化するとともに引き伸ばして繊維化する繊維化工程、及び（４）前記繊維を集積して繊維集合体を形成する繊維集合体形成工程、とを備えている。 - 特許庁

In an ink jet printing method for forming an image directly on a print medium by ink jet system ejecting oil ink utilizing an electrostatic field based on the signal of image data and producing a printed matter by fixing that image, dust on the print medium M is suction removed by rolling an adhesive roller 2 on the print medium M before and/or during formation of the image on the print medium.例文帳に追加

画像データの信号に基づき、静電界を利用して油性インクを吐出させるインクジェット方式で印刷媒体上に直接画像を形成し、該画像を定着することにより印刷物を作成するインクジェット式印刷方法において、印刷媒体への画像の形成前及び／又は画像形成中に、粘着性ローラ２を印刷媒体Ｍ上で転動させて印刷媒体Ｍ上の粉塵を吸着除去するようにした。 - 特許庁

This material for the metal oxide film formation is employed in a method to form the metal oxide film by coating thermal decomposition, and contains the saturated normal chain fatty acid salt of a metal constituting the metal oxide film, a crystallization inhibitor selected from normal chain or branched fatty acid having a substituent group and their salt, and an organic solvent.例文帳に追加

塗布熱分解により金属酸化物膜を形成する方法に使用される金属酸化物膜形成用材料であって、金属酸化物膜形成用材料が、金属酸化物膜を構成する金属の飽和直鎖脂肪酸塩と、分岐状脂肪酸、置換基を有する直鎖状又は分岐状脂肪酸及びそれらの塩から選択される結晶化阻害剤と、有機溶媒とを含むことを特徴とする金属酸化物膜形成用材料により上記の課題を解決する。 - 特許庁

The designed coating formation method comprises the steps of (1) forming a top coat by applying a coating material of a top coat with different color tone from that of a coating material of an undercoat on the substrate surface previously coated with the undercoat and (2) forming scraping patterns by scraping a portion of the top coat surface by a coating roller having roughened surface before the top coat is dried.例文帳に追加

（１）予め下塗り塗料を塗装した基材表面に該下塗り塗料とは、異なる色調の上塗り塗料を塗装することによって、上塗り塗膜を形成する工程、（２）該上塗り塗膜が乾燥する前に、該上塗り塗膜の表面の一部分、または、該上塗り塗膜の表面の一部分及び該上塗り塗膜の一部分を、表面に凹凸を有する塗装ローラーで掻き取ることによって、掻き取り模様を形成する工程、を有することを特徴とする意匠性塗膜の形成方法。 - 特許庁

In this method for manufacturing the organic EL element by forming a first electrode, one or more organic layers and a second electrode in order on a substrate, in any process before the film formation of the organic layer after forming a wiring electrode on the substrate, dry ice particles supplied from a dry ice supply means 3 are sprayed onto the substrate 2 together with a transport fluid to clean the substrate 2.例文帳に追加

少なくとも基板上に第１の電極と１層または２層以上の有機層と第２の電極とを順次形成する有機ＥＬ素子の製造方法であって、少なくとも前記基板２上に配線電極を形成した後、有機層成膜までのいずれかの工程で、ドライアイス供給手段３から供給されるドライアイス粒子を移送流体と共に基板２上に吹き付けて洗浄を行う有機ＥＬ素子の製造方法および装置とした。 - 特許庁

A method which forms a polycrystalline silicon film from a microcrystal silicon film includes a step of depositing a microcrystalline silicon film 14 including microcrystallites buried in amorphous substance, a step of annealing the deposited film 14 and, at least, partially forming a polycrystalline film, and a step of promoting formation of uniform crystal particles 28, 30 having comparatively large size by allowing the amorphous substance to contain buried seed crystals 16.例文帳に追加

微結晶膜から多結晶膜を形成する方法であって、方法は、ａ）アモルファス物質に埋め込まれたマイクロクリスタライトを含む微結晶膜を堆積するステップと、ｂ）ステップａ）において堆積された膜をアニールして、少なくとも部分的に多結晶膜を形成するステップであり、それにより、埋め込まれたシードクリスタルをアモルファス物質内に含むことで比較的大きなサイズを有する均一な結晶粒子の形成を促進するステップとを含む方法が提供される。 - 特許庁

The method for preparing a polypyrrole film by an electrolytic polymerization comprises formation of a conductive polymer film on a working electrode by impressing a voltage between the working electrode and the counter electrode using an electrolyte containing pyrrole and/or a pyrrole derivative as a monomer component, an aromatic ester as a solvent and the perchlorate ion as the electrolyle.例文帳に追加

電解重合法を用いたポリピロール膜の製造方法であって、電解重合法に用いられる電解液はピロール及び／又はピロール誘導体をモノマー成分として含み、前記電解重合法は芳香族エステルを溶媒として含む電解液を用い、前記電解液は過塩素酸イオンを含み、作用電極及び対極に電圧を印加することにより作用電極上に導電性高分子膜が形成されることを特徴とするポリピロール膜の製造方法を用いる。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet sufficiently preventing a winding trace from being transferred to an adhesive layer when the adhesive sheet having the adhesive layer formed into a prescribed plane shape by precut processing or the like, and capable of sufficiently preventing the formation of voids by rolled-in air when pasting the adhesive layer on an adherend, to provide a method for producing a semiconductor device by using the adhesive sheet; and to provide the semiconductor device.例文帳に追加

プリカット加工等により所定の平面形状に形成された接着剤層を有する接着シートをロール状に巻き取った場合において、接着剤層に巻き跡が転写されることを十分に抑制し、被着体に接着剤層を貼り付ける際に空気の巻き込みによるボイドの発生を十分に抑制することが可能な接着シート、並びに、上記接着シートを用いた半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

(4) Notwithstanding the provisions of paragraph (1), it may be prescribed in the articles of association that it is not necessary for any change to a matter set forth in paragraph (1), item (ii) that relates to a minor matter or any other matter specified by an ordinance of the competent ministry to be decided at the general meeting. In this case, the scope of the matters that do not necessarily have to be decided at the general meeting and the notice, public notice, and any other method for making the contents of such change known to the partner shall be prescribed in the articles of formation. 例文帳に追加

４　第一項第二号に掲げる事項の変更のうち、軽微な事項その他の主務省令で定める事項に係るものについては、同項の規定にかかわらず、定款で、総会の議決を経ることを要しないものとすることができる。この場合においては、総会の議決を経ることを要しない事項の範囲及び当該変更の内容の組合員に対する通知、公告その他の周知の方法を定款で定めなければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

The formation method is characterized in that, after the phosphor paste is applied and dried, an adhesive tape is stuck to the phosphor paste adhering to the top of the rib, and then the adhesive tape is pulled up at a separation speed of 1 m/sec or higher, whereby the phosphor paste on the top is removed by attaching it to the adhesive tape.例文帳に追加

基板上のリブで区画されたセルに蛍光体ペ−ストを塗布する工程を行うプラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法において、蛍光体ペ−ストを塗布し乾燥した後、リブ頂部に付着した蛍光体ペ−ストに粘着テ−プを貼り合せ、次に前記粘着テ−プを剥がし速度１ｍ／秒以上で引き上げることにより前記頂部の蛍光体ペ−ストを粘着テ−プに付着させて除去することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法。 - 特許庁

To provide a simple and effective method for labeling DNA, having an excellent labeling yield, accordingly excellent sensitivity, specific at a level of labeling position, and finally for the purpose of hybridization of the labeled and fragmented DNA to a nucleic acid probe, particularly to a nucleic acid probe linked to a solid supporting body, particularly without affecting on hybridization characteristics of a base relating to double helix formation via hydrogen bonding.例文帳に追加

良好な標識収率、したがって良好な感度をもたらし、標識位置のレベルで特異的であり、特に、水素結合を介しての二重らせんの形成に関する塩基のハイブリダイゼーションの特性に影響を及ぼさず、最後に、これらの標識されたDNA断片を核酸プローブ、特に、固体支持体に結合している核酸プローブにハイブリダイゼーションすることを目的に、DNAを断片化することができる簡単かつ有効なDNA標識技術に対する必要性が存在する。 - 特許庁

The method for manufacturing platens for linear motors includes the steps of: forming platen dots arranged in a matrix pattern on a plate-like magnetic material by screen printing using magnetic ink; after the platen dot formation step, filling lattice-shaped grooves between platen dots with nonmagnetic resin material; and, after the resin material filling step, flattening the surface of the work piece with a surface grinding machine.例文帳に追加

板状の磁性体に磁性材インクを用いたスクリーン印刷によりマトリックス状に配列形成したプラテンドットを形成するプラテンドットの形成工程と、このプラテンドットの形成工程後にプラテンドット間の格子状溝に非磁性材製の樹脂材を埋め込む樹脂材の埋め込み工程と、この樹脂材の埋め込み工程後に表面を平面研削盤で表面を平坦に加工する表面平坦加工工程とでリニアモータ用プラテンの製造方法を構成している。 - 特許庁

The film forming method comprises introducing the particulate material for film formation as well as the inert gas through a transfer pipe into a film forming chamber, and forming a thin film on a substrate arranged on a stage in the above film- forming chamber through a nozzle.例文帳に追加

アーク電極は、先端が複数の放電部からなり、前記ガス中蒸発法が、真空チャンバ内で原材料を蒸発させて生じる蒸発原子を該チャンバ内に導入された不活性ガスと衝突させて、蒸発原子同士を結合させ、成膜用粒子状材料とする方法であり、該成膜用粒子状材料を不活性ガスとともに搬送管を通して膜形成室に導き、ノズルを通じて前記膜形成室内のステージ上に設置された基板上に薄膜を形成する。 - 特許庁

In an underground obstacle eliminating method for eliminating an underground obstacle buried in the underground postioned vertically under an aboveground or underground facility, a easing for cutting a hole is diagonally advanced from the ground at a specified horizontal distance from the aboveground or underground facility toward the underground, a cut hole is formed in the underground, and the underground obstacle buried in the underground is eliminated by formation of the cut hole.例文帳に追加

地上または地下設備の垂直下方に位置する下方地中に埋設される地中障害物を除去するための地中障害物の除去方法において、前記地上または地下設備から所定の水平距離離れた地上から、削孔用のケーシングを前記下方地中に向けて斜めに前進させ、前記下方地中に削孔穴を形成し、この削孔穴の形成により前記下方地中に埋設される地中障害物を除去することを特徴とする。 - 特許庁

The rasterization image processing method of the rasterization unit 200 for converting manuscript image data 100 into raster data suitable for the image formation device 300 having a plurality of recording heads for recording divisions of one recording object by the individual recording heads comprises a dividing process for dividing the manuscript image data 100 into the divisions to be recorded by the recording heads and a rasterization process for rasterizing the divided manuscript image data.例文帳に追加

記録ヘッドを複数有し、一つの記録体上を複数の記録ヘッドが分割して記録する画像形成装置３００に対し、原稿画像データ１００を画像形成装置３００に適したラスターデータへ変換するラスター化装置２００のラスター化画像処理方法であって、原稿画像データ１００を記録ヘッドが記録する領域に分割する分割工程と、分割された原稿画像データをラスター化するラスター化工程とを有することにより上記課題を解決する。 - 特許庁

This method for forming the plating resist layer comprises a process for forming an electrolytic latent image on the first resist layer formed on the first metallic conductive layer, a process for forming the second resin layer on the first resist layer at the section equivalent to the circuit non-formation part, and a process for removing the first resist layer equivalent to the circuit formation part.例文帳に追加

貫通孔および／または非貫通孔を有していても良い絶縁性基板表面に第一金属導電層を設け、回路未形成部にめっきレジスト層を形成する工程と、電解めっきを行って第一金属導電層が露出する部分の表面に第二金属導電層を形成する工程と、該めっきレジスト層を除去する工程と、該めっきレジスト層下の第一金属導電層をエッチング除去して回路を形成する工程とからなる回路基板の製造方法において、第一金属導電層上に設けた第一樹脂層上に静電潜像を形成する工程、回路未形成部に相当する部分の第一樹脂層上に第二樹脂層を形成する工程、回路形成部に相当する第一樹脂層を除去する工程により、該めっきレジスト層を形成することを特徴とする回路基板の製造方法。 - 特許庁

To provide an ultraviolet curable inkjet composition excelling in storage stability and suitably usable for the formation of a pattern (printed part) excelling in glossiness and scuff resistance, metallic powder used for producing the ultraviolet curable inkjet composition, a method for efficiently producing the metallic powder, and a recorded matter having the pattern excelling in glossiness and scuff resistance which is formed using the ultraviolet curable inkjet composition.例文帳に追加

保存安定性に優れ、光沢感、耐擦性に優れたパターン（印刷部）の形成に好適に用いることのできる紫外線硬化型インクジェット組成物を提供すること、当該紫外線硬化型インクジェット組成物の製造に用いられる金属粉末を提供すること、前記金属粉末を効率よく製造することができる製造方法を提供すること、また、前記紫外線硬化型インクジェット組成物を用いて形成された光沢感、耐擦性に優れたパターンを有する記録物を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate with ceramics and its manufacturing method wherein a heat can be efficiently radiated from a semiconductor element; properties superior in heat radiation, optical transparency, mechanical strength or the like can be obtained; a problematic warpage of the substrate or chip can be reduced while the complicated manufacturing process and an increase in cost are suppressed; and cleavage and dicing during formation of the semiconductor substrate into chips can be eased.例文帳に追加

半導体素子の熱を効率的に放熱することができ、放熱特性、光透過性及び機械的強度等に優れたセラミックス付き半導体基板及びセラミックス付き半導体チップを得ることができ、更に特に問題となる基板又はチップの反りを、製造プロセスの複雑化及び高コスト化を抑制しつつ、低減することができ、更にまた、半導体基板からチップにするときの劈開及びダイシング加工を容易にすることができるセラミックス付き半導体基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a coated active material having an active material and a coating layer of oxide covering the active material comprises: a preparation step for preparing a mixture for formation of the coating layer which includes the active material, raw materials of the oxide, and water; and a hydrothermal treatment step for performing a hydrothermal treatment on the mixture to form the coating layer.例文帳に追加

本発明においては、活物質と、上記活物質を被覆し、酸化物からなる被覆層とを有する被覆活物質の製造方法であって、上記活物質と、上記酸化物の原料と、水とを混合してなる被覆層形成用混合体を調製する調製工程と、上記被覆層形成用混合体を水熱処理することにより、上記被覆層を形成する水熱処理工程とを有することを特徴とする被覆活物質の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

This thin film formation method has a process for decomposing at least a part of molecule incorporated in raw gas by making catalyst 9 function on raw gas, a process for generating active seeds of elements constituting molecule by performing plasma treatment for raw gas whereon the catalyst 9 is made to function, and a process for forming a thin film which is practically formed of at least one kind of elements which constitute molecule on a substrate 7.例文帳に追加

本発明の薄膜形成方法は、原料ガスに触媒９を作用させて、前記原料ガスに含まれる分子の少なくとも一部を分解する工程、前記触媒９を作用させた原料ガスをプラズマ処理して、前記分子を構成する元素の活性種を生成する工程、及び前記活性種を基板７の表面に供給して、前記基板７上に前記分子を構成する元素の少なくとも１種から実質的になる薄膜を形成する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

The wiring formation method includes: a process for forming a coating layer 3 having a dispersed solution including conductive fine particles, on a resin substrate 1; a process for forming a conductive fine wiring 4 by consecutively irradiating a specific area of the coating layer 3 with a laser beam 6; and a process for removing material in the area other than the conductive fine wiring 4.例文帳に追加

樹脂基板１上に、導電性微粒子を含有する分散溶液の塗布層３を形成する工程と、レーザ光６を塗布層３の特定領域に連続的に照射していくことで、導電性微細配線４を形成する工程と、導電性微細配線４以外の領域の材料を除去する工程とを備え、塗布層３の厚さをｄ、塗布層３の光吸収係数をα、レーザ光６の入射光強度をＩ_0、樹脂基板１上に到達するレーザ光６の透過光強度をＩ_1とするとき、以下の関係式から成り立つことを特徴とする。 - 特許庁

The method also comprises steps of: forming a first optical film having a lens shape by patterning a lens substrate; and forming a second optical film on the first optical film by controlling the film formation condition so that a lens having a desired curvature is constructed.例文帳に追加

半導体基板上に、光電変換部と前記光電変換部で生成された電荷を転送する電荷転送部とを備えた撮像部を形成する工程と、前記撮像部上に、平坦化膜を介して形成された集光レンズを形成する工程とを具備した固体撮像素子の製造方法において、前記レンズ基体をパターニングすることにより、レンズ形状を有する第１の光学膜を形成する工程と、前記第１の光学膜上に、所望の曲率のレンズを構成するように、成膜条件を制御して、第２の光学膜を形成する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

iii) Qualified spin-off-type company split, qualified capital contribution in kind or qualified post-formation acquisition of assets and/or liabilities (hereinafter referred to in this item as "qualified spin-off-type company split, etc."): Any part of the taxed amount of retained income or individually taxed amount of retained income of the split corporation, corporation making a capital contribution in kind or corporation effecting a post-formation acquisition of assets and/or liabilities involved in the qualified spin-off-type company split, etc. for each business year within ten years before the company split, etc. (meaning each business year or each consolidated business year that commenced within ten years before the first day of the business year that includes the date of the qualified spin-off-type company split, etc., or each consolidated business year or each business year that commenced within ten years before the first day of the consolidated business year that includes the date of the qualified spin-off-type company split, etc.; the same shall apply in the next paragraph), which is calculated pursuant to the method specified by a Cabinet Order as the amount of income corresponding to the number of shares, etc. of the said specified foreign subsidiary company, etc. transferred to and therefore held by the said domestic corporation through direct and/or indirect ownership as a result of the said qualified spin-off-type company split, while taking into consideration the contents of the claim prescribed in Article 66-6(1 例文帳に追加

三　適格分社型分割、適格現物出資又は適格事後設立（以下この号において「適格分社型分割等」という。）　当該適格分社型分割等に係る分割法人、現物出資法人又は事後設立法人の分割等前十年内事業年度（適格分社型分割等の日を含む事業年度開始の日前十年以内に開始した各事業年度若しくは各連結事業年度又は適格分社型分割等の日を含む連結事業年度開始の日前十年以内に開始した各連結事業年度若しくは各事業年度をいう。次項において同じ。）の課税済留保金額又は個別課税済留保金額のうち、当該適格分社型分割等により当該内国法人が移転を受けた当該特定外国子会社等の直接及び間接保有の株式等の数に対応する部分の金額として第六十六条の六第一項に規定する請求権の内容を勘案して政令で定めるところにより計算した金額 - 日本法令外国語訳データベースシステム