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heat processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2415件
The processed meat product is obtained by carrying out a preservability imparting process which improves stability of the solution, comprises heat processing of a water-soluble meat protein solution, addition for a sugar to the solution after removing aggregate by centrifugal separation, subjecting to an ultrasonic treatment, or adjusting pH to acidity or alkalinity.例文帳に追加
水に可溶な食肉タンパク質の溶液を加熱処理後、遠心分離により凝集物を除去した溶液への糖の添加、超音波処理、又は酸性もしくはアルカリ性へのpH調製を行い、溶液状態での安定性を向上させ、保存性賦与処理をして食肉調製品を調製する。 - 特許庁
By providing a block body 4 of spring structure which can be contracted and angularly corrected and a heater 2 as a heat source at a pressurizing head 1, a semiconductor element 5 is stably jointed with the circuit board 8, and the batch processing of a plurality of the semiconductors is achieved so s to improve productivity.例文帳に追加
加圧ヘッド1に収縮及び角度補正が可能なばね構造のブロック体4と熱源としてのヒータ2を設けた構成とすることにより、半導体素子5と回路基板8の安定した接合を実現し、また複数のフリップチップ実装の一括処理を可能にし、生産性を向上するようにした。 - 特許庁
To provide an inexpensive rear-face protection sheet for a solar cell that is excellent in environment resistance such as hydrolysis resistance and weather resistance, has good electrical insulation properties and dimension stability, can cope with large modularization, and enables omission of a heat fixation step such as anneal processing; and to provide a solar cell module using the same.例文帳に追加
本発明は、耐加水分解性や耐候性などの耐環境性に優れ、電気絶縁性また寸法安定性が良く、大型モジュール化にも対応でき、アニール加工などの熱固定工程を省略することができる安価な太陽電池用裏面保護シートおよびそれを用いた太陽電池モジュールを提供することを目的とする。 - 特許庁
In an image processing camera device for recognizing a white line on a road by the camera, by transmitting operation signals to one of a headlight, a wiper, a heat ray and an air conditioner in the case that the white line can not be recognized, factors which deteriorate the image pickup conditions, such as the nighttime, the rainfall, the frost, the high temperature or the low temperature, are eliminated.例文帳に追加
カメラにより道路上の白線を認識する画像処理カメラ装置において、白線が認識できない場合に、ヘッドライト,ワイパー,熱線,エアコンのいずれかに対して動作信号を送信する構成とすることで、夜間,降雨,霜,高温又は低温等、画像の撮像条件を悪化させる要因を除去する。 - 特許庁
To provide a washing-alternative stabilizing solution which prevents wet heat cyan fading and improves image preservability, when a processed photosensitive material is stored over a long period of time in a high-humidity or high-temperature environment, and which prevents adhesion of processing solution components to a squeeze roller in a stabilizing solution tank, roller contamination and occurrence of a dent on a photosensitive material surface.例文帳に追加
処理済み感光材料の高湿度又は高温度で経時したときの湿熱シアン褪色を防止して画像保存性を改良し、安定液槽のスクイズローラーに処理液成分の付着、ローラー汚れ、感光材料面に押し後発生を防止する水洗代替安定液を提供すること。 - 特許庁
To efficiently dissipate the heat generated in a MPEG IC mounted on a MPEG board in a recording and reproducing apparatus having a DVD unit, a HDD unit, and a VTR unit and provided with the MPEG board for processing video and audio signals of both of the DVD unit and the HDD unit.例文帳に追加
DVDユニットとHDDユニットとVTRユニットを有し、DVDユニットとHDDユニットとの両方の映像音声信号を処理するMPEG基板を備える記録再生装置に関し、MPEG基板に実装されるMPEG ICの発熱を効率よく放熱する記録再生装置を提供する。 - 特許庁
To improve the S/N of image data by suppressing a dark current caused by heat generation of an imaging device when reading images in a photograph film developing and processing device in which the images of a photograph film developed at least are read by using an image reader and outputted as digital image data.例文帳に追加
少なくとも現像処理された写真フィルム上の画像を画像読み取り装置を用いて読み取り、ディジタル画像データとして出力する写真フィルム現像処理装置において、画像読み取りの際の撮像素子の発熱に起因する暗電流を抑制し、画像データのS/Nを向上させる。 - 特許庁
In an interface unit 4 of the coating/developing process system 1, first and second partitioning plates 82, 85 are arranged, which partition a transfer region 50 in which a wafer transfer mechanism 54 is arranged, a heat treatment region 51 in which a sixth processing device group G6 is arranged, and an interface region 52 in which a wafer transfer member 80 is arranged.例文帳に追加
塗布現像処理システム1のインタフェイス部4に,第1及び第2仕切板82,85を設け,ウェハ搬送機構54が配置された搬送領域50と,第6の処理装置群G6が配置された熱処理領域51と,ウェハ搬送体80が配置された受け渡し領域52とに分ける。 - 特許庁
The sealant film for packaging is manufactured by highly kneading a resin composition comprising 20-50 wt.% polylactic acid and 50-80 wt.% polybutylene succinate to form a molten resin, volatilization processing its volatile components by volatilization under vacuum, and forming it into a film, and has a haze of 25-35%, and a heat-seal strength of 10-20 N/15 mm.例文帳に追加
包装用シーラントフィルムは、ポリ乳酸20〜50重量%とポリブチレンサクシネート50重量%〜80%からなる樹脂組成物が高混練されて溶融樹脂が生成され、その揮発成分が真空脱揮処理された後、製膜された、ヘイズ25〜35%及びヒートシール強度10〜20N/15mmを有する。 - 特許庁
A cleaning section 40 is provided in an image rewriting unit comprising an erasing section 11 or a recording section 17 where a thermal recording medium 100 having a reversible recording layer 102 varying the state reversibly is subjected to erasing or recording processing by touching a heat roller 12 or a thermal head 18 thereto.例文帳に追加
可逆的に状態が変化する可逆記録層102を有する感熱記録媒体100に対して、ヒートローラ12又はサーマルヘッド18を接触させて消去処理又は記録処理を行う消去部11又は記録部17を有する画像書換装置等に、クリーニング部40が設けられている。 - 特許庁
To cope with faster processing linear velocity, to achieve fast warming up and to hardly propagate heat generated from a heating means to an image forming means while keeping low power consumption to prevent the occurrence of such a defect that toner is melted and stuck in the image forming means.例文帳に追加
より高速なプロセス線速に対応できるとともに、高速なウォームアップを実現でき、しかも消費電力を少なく保ちながら、加熱手段から発生した熱が画像形成手段に伝播しにくく、画像形成手段でトナーが溶融して固着するといった不具合が発生することを防止する。 - 特許庁
Whenever operation support information is received from the information processing apparatus body 1, an operation device 2A executes selection of a Peltier element for direction presentation, continuous cooling driving control thereof, selection of a Peltier element for distance presentation, and intermittent pulse-like heat generation driving control by the cycle according to the distance.例文帳に追加
また、操作デバイス2Aにおいて、情報処理装置本体1から操作支援情報が受信されるごとに、方向提示用ペルチェ素子の選択とその連続的な冷却駆動制御、及び距離提示用ペルチェ素子の選択と距離に応じた周期による間欠的なパルス状発熱駆動制御を実行する。 - 特許庁
The method for processing the substrate includes a step of forming an interlayer 4 between a chemical amplification type resist film 3 and an antistatic film 5, a step of exposing a desired pattern to a substrate specimen 1; a step of performing a thermal process to the substrate specimen 1 after the exposure; and a step of performing a development process to the substrate specimen 1 after the heat treatment.例文帳に追加
化学増幅型のレジスト膜3と帯電防止膜5との間に中間膜4を形成する工程と、基板試料1に所望のパターンを露光する工程と、露光後の基板試料1に対し加熱処理を施す工程と、加熱処理の後に基板試料1に現像処理を施す工程とを有する。 - 特許庁
As for the manufacturing method, a composite is constituted which is composed of laminating a boron (B) layer so as to contact a magnesium (Mg)-lithium (Li) alloy layer, and after processing this to a wire shape or a tape shape, the magnesium boride (MgB_2) superconducting layer is formed by heat-treating this at a diffusion reaction temperature of magnesium (Mg) and boron (B).例文帳に追加
製造方法は、マグネシウム(Mg)−リチウム(Li)合金層と接触する形でボロン(B)層を積層してなる複合体を構成し、これを線状あるいはテープ状に加工した後、マグネシウム(Mg)とボロン(B)の拡散反応温度で熱処理することによって二硼化マグネシウム(MgB2)超伝導層を生成させる。 - 特許庁
On a substrate transfer arm 10, which transfer substrate W into a heat processing furnace, supporting plane areas 14 directly supporting the substrate at the bottom on the supporting planes areas and a moving restrict area 16 which come close to face an outer periphery edge along the periphery of the substrate are formed and installed.例文帳に追加
基板Wを支持して熱処理炉内へ搬入する基板搬入アーム10に、基板下面と面接触して基板を支持する支持平面14、および、基支持平面上に支持された基板の外周縁に沿うように基板の外周端面に近接して対向する移動規制部16を形設した。 - 特許庁
To obtain a thermosetting resin composition having various properties such as heat resistance, workability (including solubility to a solvent), dielectric characteristics, enough compatible with flame retardancy, suitable for production of a circuit board which responds to improvement in information processing potential in electronic components.例文帳に追加
耐熱性、加工性(溶媒可溶性も含む)、誘電特性等の諸物性と、難燃性とを十分に両立させることが可能であり、特に、電子機器における情報処理能力の向上に十分に対応できる配線基板の製造に好適に用いることができる熱硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
In the optical fiber end face treatment device for performing end face treatment of an optical fiber 3 by a melting method using a laser light source or a heat source 1, a temperature distribution having a plurality of peaks in a processing cross-section of the optical fiber 3 is formed using a lens, a shielding plate or a reflection plate 2.例文帳に追加
本発明は、レーザ光源もしくは熱源1を用い、溶融により光ファイバ3の端面処理を行う光ファイバ端面処理装置において、レンズもしくは遮蔽板もしくは反射板2を用いて、光ファイバ3の処理断面に複数のピークをもつ温度分布を形成することを特徴とするものである。 - 特許庁
To reduce end part cutting to adjust length, the post-processing of a molding for boring to fit a sink, a gas table, etc., a molding material, and industrial waste when a large-size molding such as a kitchen counter and a washing counter is heat press-molded with the use of a thermosetting resin molding material such as BMC.例文帳に追加
BMCなどの熱硬化性樹脂成形材料を用いてキッチンカウンターや洗面カウンター等の大型成形品を加熱加圧成形する場合に、長さ調節のための端部切断や、シンクやガス台などを取り付けるための穴開けのための成形物後加工を軽減し、さらに成形材料および産業廃棄物を低減する。 - 特許庁
To provide a short cut polyester conjugate fiber that can solve the problems of polylactic acid inferior in strength, abrasion resistance and moist heat decomposition resistance in spite of including a polylactic acid as a constituent component, is not provided with crimps, has no pile bending and is suitably useful for wet papermaking and flocky processing of electrodeposition.例文帳に追加
ポリ乳酸を構成成分としながらも、強度、耐摩耗性、耐湿熱分解性に劣るポリ乳酸の問題点を解消することができ、捲縮が付与されておらず、かつパイル曲がりもなく、湿式抄紙や電着フロッキー加工に好適に使用することができるショートカットポリエステル複合繊維を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate processing apparatus that decreases heat dissipation at a bellows provided to its elevating/descending mechanism to suppress a temperature reduction, stably deposits and generates a thin film on a substrate even under the use of a raw material sensitive to temperature, and copes with small quantity and large variety production, and uses various kinds of raw materials.例文帳に追加
基板処理装置に於いて、昇降機構部に設けられるベローズ部分での放熱を低減し、温度低下を抑制し、温度に敏感な原料使用条件下に於いても安定に基板に薄膜を堆積生成し、少量、多品種生産への対応、又多種多様な原料の使用を可能とする。 - 特許庁
This method for processing the fabric is provided by applying a printing (3) by using an opal paste containing an acid for decomposing cellulose-based fibers and a printing (5) by using a ripple paste containing an alkali for shrinking the fabric (1) on a part of the glued fabric (1) and then performing a heat treatment for the fabric (1) to remove the decomposed cellulose-based fibers.例文帳に追加
地張りをされた生地(1)の一部に、セルロース系繊維を分解するための酸を含むオパール糊を用いた印捺(3)と、生地(1)を収縮させるためのアルカリを含むリップル糊を用いた印捺(5)とを施し、その後、生地(1)に加熱処理を施し、分解されたセルロース系繊維を除去する。 - 特許庁
To provide a small vacuum carburizing furnace capable of dispensing with large-scale disassembling work of a device in maintenance including replacement of a heat insulating material in a heating chamber, and replacement of an O-ring for a vacuum seal of an intermediate door and other mechanical components, with respect to a batch type small vacuum carburizing furnace in which the quantity of carburizing processing is comparatively small.例文帳に追加
比較的浸炭処理量が少量のバッチ型小形真空浸炭炉において、加熱室内の断熱材交換および中間扉の真空シール用Oリング、その他機械部品の交換を含むメンテナンス時において、装置の大きな分解作業を不要とした小形真空浸炭炉を提供。 - 特許庁
To provide a heat-shrinkable polyolefinic film enhanced in film taking-up properties by enhancing lubricity, excellent in processability, shaving resistance and transparency in printing and tubing, also excellent in antistatic properties and capable of being reduced in the occurrence of defectiveness at the time of processing by enhancing solvent adhesiveness.例文帳に追加
滑性を向上することによって、フィルムの巻き取り性を向上し、印刷やチュービングでの加工性、耐削れ性、透明性に優れ、さらに帯電防止性に優れ、溶剤接着性を向上することにより加工時の不良の発生を低減できる熱収縮性ポリオレフィン系フィルムを提供すること。 - 特許庁
To obtain liquid seasoning in which browning by an aminocarbonyl reaction (Maillard reaction) is controlled even without using an apparatus such as a plate type heat exchanger, etc., and an processing auxiliary such as liquid nitrogen, etc., quality stability and microbiological safety of a product are secured and to provide a method for producing the same.例文帳に追加
プレート式熱交換器などの装置や液体窒素などの加工助剤を用いなくともアミノカルボニル反応(メイラード反応)による褐変が抑制され、さらには製品の品質安定性及び微生物的安全性が確保された液体調味料及び液体調味料の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide, by an easy and inexpensive method, an etching protective material having all of excellent durability against an etchant (alkali and acid), heat resistance in processing, excellent adhesiveness to a wafer subjected to an etching treatment, and removability after the etching treatment; and to provide a method of manufacturing a device substrate using the same.例文帳に追加
簡便かつ安価な方法により、エッチング液(アルカリおよび酸)に対する良好な耐性、加工時の耐熱性、エッチング処理を施すウェハへの良好な密着性およびエッチング処理後の易除去性のすべてを兼ね備えるエッチング保護材およびその保護材を用いたデバイス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
The substrate processing apparatus has a heating chamber 2 for carrying a substrate 9 therein, a heating mechanism 3B for heat-treating the substrate 9, an ion generating mechanism 4 for ionizing a supplied gas to generate ions 12, and a dust collecting plate 5 for electrifying a dust to be charged to the opposite polarity of the ions 12.例文帳に追加
本発明の例に関わる基板処理装置は、基板9が搬送される加熱チャンバ2と、基板9に対して加熱処理を施す加熱機構3Bと、供給されるガスをイオン化して、イオン12を発生させるイオン発生機構4と、イオン12と反対の極性に帯電される集塵板5とを備える。 - 特許庁
In this case, the cleaning and drying treatment is performed to the substrate W after exposure processing at the cleaning/drying treatment section 80, and a sixth center robot CR6 takes the substrate out of the cleaning/drying treatment section 80 and carries the substrate W into the heat treatment section 151 for post-exposure baking in the cleaning/drying treatment block 15.例文帳に追加
まず、洗浄/乾燥処理部80において露光処理後の基板Wに洗浄および乾燥処理が施された後、第6のセンターロボットCR6は、基板Wを洗浄/乾燥処理部80から取り出し、当該基板Wを洗浄/乾燥処理ブロック15の露光後ベーク用熱処理部151に搬入する。 - 特許庁
To provide a heat fixing member, which can make lower the probability that toner fixation and wear due to a separation claw are induced when the member is mounted on an actual machine, and its manufacturing method by introducing a parameter for regulating the waveform shape of a roughness curve and making clear the standards of processing of a release layer surface.例文帳に追加
粗さ曲線の波形形状を規制するパラメータを導入して、離型層表面を加工するときの管理基準を明確にし、実機搭載時にトナー固着や分離爪による摩耗を誘発する確率を従来よりも低くし得る加熱定着部材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor manufacturing equipment, where a gap is restrained from occurring between a heat block fixed to a temperature detection work and a thermocouple for eliminating the influence of gas interposed between the thermocouple and the thermal block, so as to stably measure the inner temperature of a processing chamber provided inside the semiconductor manufacturing equipment, and a processed product can be improved in quality.例文帳に追加
半導体製造装置に於いて、被温度検出体に固着される熱ブロックと熱電対との間に間隙の発生を抑制し、又熱電対と熱ブロック間に介在する気体の影響を除去し、半導体製造装置の処理室内に於ける安定した温度測定を可能とし、処理品質の向上を図る。 - 特許庁
Compared with current troublesome production processing methods comprising adhering two or more resin-impregnated sheets to e.g. a metal sheet by heat pressurization and adhering the adhered product to a substrate with an adhesive, the method enables manufacture of a decorative sheet with good adhesion of resin-impregnated sheets to the metal sheet 4, with high productivity, and improvement of the production yield.例文帳に追加
複数の樹脂含浸紙を金属シート等と加熱加圧接着し、これを接着剤を用いて基板に貼着する従来の面倒な生産加工を不要とし、金属シート4と樹脂含浸紙とが良好に密着した化粧板を生産性良く製造し、その生産歩留まりの向上を図る。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a composite piezoelectric board in which a piezoelectric board and an insulation board are attached through an adhesive material, wherein the warpage is small after heat processing even if an inexpensive insulation board is used, and variations of the warpage are small and stable.例文帳に追加
圧電基板と絶縁体基板とが接着剤を介して貼り合わされた複合化された圧電基板の製造方法において、安価な絶縁体基板を用いたとしても熱処理後のソリの量が小さく、かつソリの大きさのバラツキが小さく安定している複合化された圧電基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
A transistor having a gate insulation film on which the oxygen dope processing is performed, and an oxide semiconductor film on which dehydration by heat treatment or dehydrogenation treatment is performed can reduce an amount of change of a threshold voltage of the transistor even before and after a bias-thermal stress test (BT test), and can be highly reliable.例文帳に追加
酸素ドープ処理されたゲート絶縁膜、熱処理による脱水化または脱水素化処理された酸化物半導体膜を有するトランジスタは、バイアス−熱ストレス試験(BT試験)前後においてもトランジスタのしきい値電圧の変化量が低減できており、信頼性の高いトランジスタとすることができる。 - 特許庁
To provide a curable resin composition having low-cure-shrinkage properties such as to be excellent in the reproducibility of curing-processing properties in producing a cured product thereof and can obtain the cure product with quality stability and also heat discoloration resistance, low thermal expansibility and high transparency.例文帳に追加
硬化物の製造工程における硬化・加工特性の再現性に優れて、品質の安定した硬化物が得られる低硬化収縮特性を備えた樹脂組成物であって、尚且つ、耐熱変色性、低熱膨張性、高透明性の硬化物を得ることができる硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an additive for a resin enhancing heat-resistance of the resin by enhancing a thermal decomposition temperature when in use of the resin or in molding processing and having no odor generation hetero element such as sulfur, and to provide a polymerizable composition containing the additive for the resin, and a resin composition.例文帳に追加
樹脂の使用時あるいは成型加工時における熱分解温度を高めることにより樹脂の耐熱性を向上させ、かつ、イオウのような臭気発生へテロ元素を有しない樹脂用添加剤並びに当該樹脂用添加剤を含有する重合性組成物及び樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
The objective polyimide asymmetrical hollow fiber membrane is obtained by producing a hollow fiber structure by means of a hollow fiber spinning device using a mixed solution of straight-chain polyamic acid and multibranched polyamic acid, heat-processing the produced hollow fiber structure, and imidizing the straight-chain polyamic acid and multibranched polyamic acid.例文帳に追加
直鎖ポリアミド酸と多分岐ポリアミド酸の混合溶液を用いて、中空糸紡糸装置にて中空糸状構造体を作製し、かかる中空糸状構造体に対して加熱処理を施して、直鎖ポリアミド酸及び多分岐ポリアミド酸をイミド化せしめることにより、目的とするポリイミド系非対称中空糸膜を得た。 - 特許庁
In order to remove metal impurities having adhered during cutting in forming this silicon part of a semiconductor processing apparatus, a treatment and a heat treatment are executed to at least a cut surface of a silicon plate with a solution, and the silicon part reduces metal contamination of a wafer when the silicon part is processed in a plasma atmosphere.例文帳に追加
半導体処理装置のシリコン部品を形成する際の切断中に付着した金属不純物を除去するため、溶液で前記シリコン板の少なくとも前記切断面を処理と熱処理を行い、シリコン部品がプラズマ雰囲気中で処理された際ウェハの金属汚染を減少させることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a gas sampling bag member having high sealability, not deteriorating a filling gas and for cutting off the ultraviolet rays or heat rays from the outside without executing special treatment or processing in the measurement of an offensive smell or the measurement of a component in a sample gas, and its manufacturing method.例文帳に追加
臭気の測定あるいは試料気体中の成分測定などにおいて、特殊な処理や加工を施すことなく、高いシール性を有し、充填されたガスの変質がなく、さらに外部からの紫外線や熱線などを遮断することが可能なガスサンプリング用袋体およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁
The processing member used for heat-developing a silver halide photographic sensitive material put on the member in the presence of water is manufactured by bonding a member with at least one constitutive layer containing a photographically useful material to a member with at least one constitutive layer having heat sealing property or at least one of water solubility and adhesion in a laminated state.例文帳に追加
ハロゲン化銀写真感光材料と処理部材を水の存在下で重ね合わせて熱現像するために用いるハロゲン化銀写真感光材料用の処理部材の作製方法において、写真有用性物質を含有する構成層を少なくとも1層有する部材と、ヒートシール性又は水溶性粘着性の少なくともどちらかの性質を有する構成層の少なくとも1層を有する部材と、を接着して積層させて作製するハロゲン化銀写真感光材料用の処理部材の作製方法である。 - 特許庁
To provide a copper refining reverberatory type of recycle furnace which can greatly enhance the capacity of processing the industrial waste matter containing high fusing point compounds as material, by reducing the quantity of exhaust gas and raising the temperature of combustion flames, increasing the quantity of radiatively conducted heat and increasing the velocity of material dissolution.例文帳に追加
排ガス量を減少させ、燃焼火炎温度を上昇して輻射伝熱量を増加させ、原料溶解速度の上昇を図り、原料として高融点化合物を含んだ産業廃棄物の処理能力を飛躍的に向上させることのできる、銅製錬用反射炉タイプの産業廃棄物処理用リサイクル炉を提供する。 - 特許庁
The disk 81 has a recording layer given heat processing for lowering the intensity of magnetization occurring in magneto-optical recording to the degree of not disappearing by a prescribed pattern on a substrate and has a prescribed signal magneto- optically recorded in an area in which the identification signal is recorded by the difference of a performance index corresponding to the prescribed pattern.例文帳に追加
光磁気ディスク81は、光磁気記録時に生じる磁化の大きさを消失しない程度に低下させる熱処理が所定のパターンで施された記録層を基板上に有し、前記所定のパターンに対応する性能指数の違いによって識別信号が記録された領域に所定の信号が光磁気記録されている。 - 特許庁
To provide an image forming method using a negative image forming material on which an image is recorded with the use of IR laser by which an image having excellent resolution and printing durability is formed even though a heat treatment is not carried out after exposure, and a planographic printing plate having stable quality is obtained when subjected to a development processing with always constant solution activity.例文帳に追加
赤外線レーザを用いて記録するネガ型画像形成材料からの画像形成方法において、露光後加熱処理を施さずとも、解像力、耐刷性に優れた画像を形成し、常に一定の液活性のもとで現像処理することによって、安定した品質の平版印刷版を作製することができる方法を提供する。 - 特許庁
To provide a terminal-attached battery which can prevent a great quantity of soldering heat from being transmitted to a battery while firmly fixing the terminal-attached battery to a printed board and performing high- density mounting, thereby preventing a gasket and electrodes from being deteriorated, and prevent occurrence of spring back to improve processing precision of terminals.例文帳に追加
プリント基板に対する端子付電池の強固な固定と高密度実装とを図りつつ、多量の半田熱が電池に伝わるのを抑制することによりガスケットや電極が劣化するのを抑え、且つ、スプリングバックが生じるのを防止して、端子の加工精度を向上させることができる端子付電池の提供を目的としている。 - 特許庁
A heating medium passage 133 and a heating medium passage 143 are constituted by the grooves formed to the mated surfaces of the second and first mold cores 130 and 140 to rapidly and uniformly heat/cool a resin plate 300 being a processing target.例文帳に追加
第2金型コア130、第1金型コア140は、第2部材131、第1部材132、および第2部材141、第1部材142を張り合わせて構成され、合わせ面に形成された溝により、熱媒体通路133、熱媒体通路143が構成され、加工対象の樹脂板300の急速かつ均一な加熱/冷却を行う。 - 特許庁
The transfer sheet on which a toner image formed on an image carrier is transferred and fixed, whereby the image is formed, contains heat foaming material in the shape of a predetermined pattern in advance, and produces the rising part in the predetermined pattern by heating and pressuring processing after forming the image.例文帳に追加
像担持体上に形成されたトナー像を転写し、定着することにより、画像を形成されることを目的とする転写シートであり、該転写シートは予め所定のパターン状に熱発泡材を含有し、画像形成後における加熱加圧処理により、所定のパターンの隆起部分を発生させることのできることを特徴とする転写シートを提供する。 - 特許庁
Gas containing a phenyl group and silicon and not containing nitrogen is used to form a low dielectric film, energy is applied to an interlayer insulating film by heat treatment, UV irradiation treatment or SPA plasma treatment as a post-processing process to thereby make moisture leave the interlayer insulating film, forming a Si-O-Si skeleton structure.例文帳に追加
フェニル基とシリコンとを含み、窒素を含まないガスを用いて低誘電率膜を形成した後、後処理工程として、この層間絶縁膜に対して熱処理、UV照射処理あるいはSPAプラズマ処理などによりエネルギーを加えることによって、層間絶縁膜から水分を脱離させて、Si−O−Si骨格構造を形成する。 - 特許庁
To provide an antistatic agent for a polycarbonate resin in which the transparency of a resin is not lowered and the resin is not colored even if the agent is added to the polycarbonate resin, and which has heat resistance which can bear a processing temperature of the polycarbonate resin, and is excellent in durability of an antistatic effect, and to provide a polycarbonate resin composition to which the antistatic agent is added.例文帳に追加
ポリカーボネート樹脂に添加しても樹脂の透明性を下げることも、樹脂を着色することなく、ポリカーボネート樹脂の加工温度にも耐えられる耐熱性を有する上、帯電防止効果の持続性にも優れたポリカーボネート樹脂用帯電防止剤及び該帯電防止剤を添加したポリカーボネート樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a novel heat resistant resin used preferably for a substrate for dust removal in a substrate-processing apparatus such as for a semiconductor device which excels in performances of transportability and a vacuum-reaching time, and dust removal properties, and usable under a condition possibly involving the generation of serious disadvantages due to silicone contamination such as for HDD application and some semiconductor applications.例文帳に追加
搬送性、真空到達時間などの性能とともに、除塵性に優れた、半導体装置などの基板処理装置内の除塵用基板に好適に使用され、HDD用途や一部半導体用途などシリコーンの汚染により重大な障害が発生し得る状況下においても使用可能な新規な耐熱性樹脂を提供する。 - 特許庁
To provide a thermal recording material improved in blemishing and breaking during processing and in the consequent peeling of a protective layer while maintaining the storage stability of aqueous resin, that is, maintaining durability (plasticizer resistance, water resistance and heat resistance) of a recording layer of the thermal recording material and recorded images.例文帳に追加
本発明の目的は、水性樹脂の保存安定性を維持しながら、更に上記のような問題を生じない、即ち感熱記録材料の記録層及び記録画像の耐久性(耐可塑剤性・耐水性・耐熱性)を維持しながら、加工時の傷つきや折り割れ、それに伴う保護層の剥がれを改良した感熱記録材料を提供することである。 - 特許庁
To provide a resin composition for a light diffusion lens, excellent in translucency, light resistance and heat resistance, having a fine lens surface or shape which has such high-level processability and mold releasability as highly-accurate processing can be applied thereto, and useful for, for example, a light diffusion lens for a light emitting diode (LED) element, and to provide a light diffusion lens using the composition.例文帳に追加
透光性、耐光性及び耐熱性に優れると同時に、レンズ表面や形状に微細でかつ高精度な加工を施すことができるほどに高レベルの加工性及び離型性を有し、例えば発光ダイオード(LED)素子用の光拡散レンズ等に有用な光拡散レンズ用樹脂組成物、並びに、それを用いた光拡散レンズを提供する。 - 特許庁
To provide a blade for a shear type milling and pulverizing apparatus of which an uneven blade edge part can be obtained without using a large quantity of heat energy for preheating, post-heating, etc. for an edge worn part or without requiring a special processing means, which is provided with improved shear capability and excellent in wear resistance, and which is capable of keeping the cutting capability for a long duration.例文帳に追加
刃先摩耗部に対して、予熱、後熱などの多大な熱エネルギーを使用することなく、かつ、特別な加工手段を要することなく、凹凸状の刃先部を得ることができ、刃物の剪断能力を向上させるとともに耐摩耗性に優れ、切断能力を長期にわたり維持することが可能な剪断式粉砕破砕装置用の刃物を提供する。 - 特許庁
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