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pattern surfaceの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 10306



例文

To prevent connection failures between the connecting surface of a conductive pattern of a board and an electrode of an electronic component, as well as a shortcircuit between adjoining connecting surfaces.例文帳に追加

本発明は電子部品実装体とその製造方法とそれを用いた電子機器に関するもので、基板の導電パターンの接続面と、電子部品の電極との接続不良を防止すること、および隣接する接続面間の短絡を防止することを目的とする。 - 特許庁

To prevent pecking by sharingly supporting at a plurality of required points the top surface of a die by post means, in accordance with a piercing pattern for each thin substrate of a laminated ceramic substrate for mounting high density IC chips such as BGA (ball grid array) and CSP (chip size package).例文帳に追加

BGA(ボール・グリッド・アレイ)、CSP(チップ・サイズ・パッケージ)等の高密度化するICチップを搭載するセラミックス積層基板の各薄肉基板に穿孔パターンに応じて、ダイのトップ面所要位置複数箇所をポスト手段で分担して支承してペッキングを防止する。 - 特許庁

In the semiconductor module 100, a circuit element such as a power semiconductor 2 or a driving IC 3 is connected to a circuit pattern of a lead frame 1 by bonding wires 4, 5 and is covered with a molding resin 6, and a ceramics insulating layer 7 is formed in a reverse surface of the molding resin 6.例文帳に追加

パワー半導体2または駆動IC3等の回路素子をボンディングワイヤ4,5によりリードフレーム1の回路パターンに接続して成形樹脂6で覆い、この成形樹脂6の反対面に、セラミックス絶縁層7を形成した半導体モジュール100とした。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate having excellent adhesion and flocculation resistance in development, reducing rib top defects and working a fine pattern on a substrate to be worked in a good yield as a mask material for sandblast, and a sandblast surface working method using the same.例文帳に追加

密着性、現像凝集性に優れ、かつリブ頂部欠損を低減し、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂積層体、及びそれを用いたサンドブラスト表面加工方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which is improved such that, in planarizing an interlayer insulating film, occurrence of global steps is restricted without depending on the density of an underlying pattern, and high planarization characteristic of the surface of the interlayer insulating film is obtained.例文帳に追加

層間絶縁膜の平坦化に際し、下地パターンの粗密に依存せず、グローバル段差の発生が抑制され、層間絶縁膜表面の高い平坦性が得られるように改良された半導体装置の製造方法を提供することを主要な目的とする。 - 特許庁


例文

To provide a manufacturing method of unidirectional diffusion plate capable of manufacturing a diffusion plate having a fine relief pattern of the order of several micrometer pitch which can be used also for a high precision display device, and to provide a surface relief type diffusion plate.例文帳に追加

本発明は、高精細なディスプレイ装置にも用いることができるような、数μmピッチ程度の細かいレリーフパターンの拡散板の作成ができるような、一方向性拡散板の作成方法および表面レリーフ型拡散板を提供することを目的としている。 - 特許庁

A resin solder resist layer 8 or resin build-up layers 6 and 4 as resin layers for coloration are colored opaque or translucent, whereby the tone of color of the surface of a core wiring pattern layer 3 thereof is no longer reflective in the tone of color of the appearance of a board.例文帳に追加

樹脂ソルダーレジスト層8あるいは樹脂ビルドアップ層6,4を着色対象樹脂層として、これを不透明又は半透明に着色することで、そのコア配線パターン層3の表面の色調が基板の外観色調に反映されなくなる。 - 特許庁

A hard plating layer 15 is provided on the outer peripheral surface, on which the printing pattern 14 is formed, of a cylinder main body 13, comprising the cylinder 11 of a gravure printing machine under the condition that the plating layer 15 is applied so as to leave un-plated portions 16 at both the end parts of the cylinder 13.例文帳に追加

グラビア印刷機のシリンダー11を形成する胴本体13の印刷の図柄14を形成した外周面に硬質のメッキ層15を設け、上記メッキ層15が胴本体13の端部にメッキ層のない部分16を残すように施されている。 - 特許庁

In light obtained by reflecting displayed light emitted from the display screen 108 of the special pattern display device 106 by the glass panel 22, the part of the reflected light of displayed light DL emitted from a display surface in a vertical direction is no longer incident onto the CMOS camera 200.例文帳に追加

特別図柄表示装置106のディスプレイ画面108から照射された表示光がガラス板22で反射した光のうち、表示面から垂直方向へ照射された表示光DLの反射光分はCMOSカメラ200へ入射しなくなる。 - 特許庁

例文

Since energy does not concentrate at some parts on the wafer 130 even if the magnitude of energy is increased sufficiently for attaining a desired cleaning effect, the contaminant particles can be removed efficiently from the surface of the wafer 130 while preventing pattern lifting.例文帳に追加

したがって、所望の洗浄効果を得るに十分な程度でエネルギーの大きさを増加させてもエネルギーがウェーハ130上のある部位に集中しないためにパターンリフティングを防ぎながらウェーハ130の表面から汚染粒子を効率的に除去しうる。 - 特許庁

例文

The method of crystallization includes: providing a cap film on a laser beam incident surface of a non-single crystal semiconductor film; and irradiating the non-single crystal semiconductor film with a laser light of a light intensity distribution having an upside-down triangularly-profiled peak pattern formed of an alternate repetition of monotonous increase and monotonous decrease.例文帳に追加

非単結晶半導体膜のレーザ光入射面上にキャップ膜を設け、単調増加と単調減少を繰り返す断面逆三角形状ピークパターンを有する光強度分布のレーザ光を非単結晶半導体膜に照射する。 - 特許庁

To provide a projection type lighting device of which ornamental property at the environmental area of a light source is improved by enhancning the utilization rate of the light source around the surface of a dinner table, and enabling to project the light including colored or colorless pattern like a character even around the light source with a necessary lightness.例文帳に追加

食卓等のテーブル面において光源の光の利用率を高め、光源の周囲をもキャラクタ等の光の有色あるいは無色模様を含め所要の明るさで投光するを可能にして、光源周囲の装飾性を高めるようにする。 - 特許庁

In synchronization with this, an area 303 on the terrain model 23, on which color representing water and an image pattern having a design are projected by a projector 22 is expanded so as to be matched with an area where the three-dimensional model goes below the surface of water in the virtual three-dimensional world (a2 and a3).例文帳に追加

また、これに同期して、仮想三次元世界中の三次元モデルの水没領域に整合するように、投影装置22によって水を表す色、模様を有する画像パターンを投影する地形模型23上の領域303を拡大する(a2、a3)。 - 特許庁

Respective evaluating patterns MP1-MP6 are arranged respectively on wiring layers L1-L6 being the same as metallic circuits arranged in an insulating film 2 with a stepped form so that the evaluating pattern, formed at a deeper position from the upper surface of the IC 10, is formed so as to be longer in the direction of plane.例文帳に追加

各評価用パターンMP1〜MP6は絶縁膜2中に配設されたメタル配線と同じ配線層L1〜L6にそれぞれ配設され、階段状に、IC10上表面から深い評価用パターンほど平面方向に長く形成されている。 - 特許庁

A surface material comprising this acrylic BMC for decoration and a backing material comprising a fiber-reinforced thermosetting resin molding material (a general-purpose SMC or the like) not containing a pattern material for decoration are laminated and subjected to hot-press molding in a mold to give a decorative molded article.例文帳に追加

この加飾用アクリル系BMCからなる表面材と加飾用柄材を含有しない繊維補強熱硬化性樹脂成形材料(汎用のSMCなど)からなる裏側材とを重ね、これを金型内で熱圧成形することにより加飾成形品を得る。 - 特許庁

A conductor pattern 11 formed on the surface of a substrate layer 10-1 composing a drive coil L1 and each of the interfaces of substrate layers 10-1 to 10-n is electrically connected through a through hole 12 penetrating the substrate layers 10-1 to 10-n.例文帳に追加

駆動コイルL1を構成する基板層10−1の表面及び基板層10−1〜10−nの界面それぞれに形成される導線パターン11は、基板層10−1〜10−(n−1)を貫通するスルーホール12を通じて電気的に接続される。 - 特許庁

The complex device including the FIB lens barrel and the SEM lens barrel has a slit formed into a shape to be worked at an aperture for the FIB, whereby ion beam work is performed by transferring a pattern to a sample surface instead of running a converged ion beam thereon.例文帳に追加

本発明はFIB鏡筒と、SEM鏡筒を備えた複合装置において、FIB用のアパーチャに加工形状のスリットを備えることにより、集束したイオンビームの走査ではなく試料面にパターンを転写することによりイオンビーム加工するようにした。 - 特許庁

To provide a curable composition for color filters having good pattern forming property and excellent adhesion to a hard surface as a substrate even when the composition contains a colorant at high concentration.例文帳に追加

着色剤を高濃度に含有する場合であっても、良好なパターン形成性を有し、基材である硬質表面との密着性に優れたカラーフィルタ用硬化性組成物、解像力の着色パターンを形成してなるカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Instead of this, a specific certification pattern may be formed by moving the substrate 1 at a variable speed by passing through the nozzles 4 or adjusting pressure of the nozzles 4 or an interval of the nozzles 4 from a surface of the substrate while moving the substrate 1 by passing through the nozzles 4.例文帳に追加

これに代えて、基板1を可変の速度でノズル4を過ぎて動かすか、ノズル4の圧力または基板の表面からのノズル4の間隔を基板1がノズル4を通過して動く間に調節することにより特定の証明パターンを生成してもよい。 - 特許庁

To provide a concealment card which is of a simple construction having a sharp fluorescent pattern which can be certainly distinguished by ultraviolet irradiation from the surface of a concealing layer but is not visible by a solar light or an indoor illumination, and a method for manufacturing this concealment card.例文帳に追加

簡単な構成を有する隠蔽カードであって、隠蔽層表面からの紫外線照射によって確実に識別でき、かつ太陽光や室内光によっては視認できない鮮明な蛍光絵柄を有する隠蔽カード、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The light path changing function layer 2 is formed by feeding the flowable PDSM on the flat surface of the glass substrate 1, pressing a stamper 4 provided with a pattern forming part 5 thereon to cure the PDSM and after that, peeling off the stamper.例文帳に追加

ガラス基板1の平坦面上に流動性のあるPDMS原材料を流し、その上からパターン成形部5を設けたスタンパ4を圧接してPDMSを硬化させた後、スタンパを剥離して、ガラス基板の上面に光路変更機能層2を形成する。 - 特許庁

An insulator 9 having high adhesion to the conductive adhesive 8 is increased in area by being exposed in an anode pattern 51 or cathode pattern 41 on a capacitive element connection terminal surface of the conversion substrate 2, and when the conductive adhesive 8 and exterior resin 3 are connected, fixation reliabilities of the conversion substrate 2 and exterior resin 3, and the conversion substrate 2 and conductive adhesive 8 are improved.例文帳に追加

変換基板2のコンデンサ素子接続端子面の陽極パターン51または陰極パターン41の中に絶縁体9を露出させることにより、導電性接着剤8と密着性の高い絶縁体9の面積を拡大させ、導電性接着剤8、及び外装樹脂3を接続した際、変換基板2と外装樹脂3、及び変換基板2と導電性接着剤8の固着信頼性を向上させる。 - 特許庁

The liquid crystal display panel is constituted of a black matrix 402 of a resin material formed in a prescribed region extended from one end part of a first substrate 401 and a boundary region between pixels, a color filter 403 formed corresponding to each pixel, a seal pattern 406 formed on an upper surface of the black matrix 402 and a second substrate 407 stuck to the first substrate 401 by the seal pattern 406.例文帳に追加

第1基板401の一端部から延長される所定領域及び画素間の境界領域に形成された樹脂材のブラックマトリックス402と、前記各画素に対応して形成されたカラーフィルタ403と、前記ブラックマトリックス402の上面に形成されたシールパターン406と、前記シールパターン406により前記第1基板401と合着される第2基板407と、を含んで液晶表示パネルを構成する。 - 特許庁

A continuous member 20 includes a first substrate 21; a second substrate 22 juxtaposed with the first substrate; a first electrode pattern 23 formed within an area of the first substrate and a second electrode pattern 24 formed within an area of the second substrate 22; electrode wiring sections 26 and 27 connected to the electrode patterns respectively; and a connecting section 25 protruded from a side surface of the second substrate in an integrated manner.例文帳に追加

第1基材21と、第1基材と並設された第2基材22と、第1基材の領域内に形成された第1電極パターン23及び第2基材22の領域内に形成された第2電極パターン24と、各電極パターンに接続された電極配線部26,27と、第2基材の側面から一体となって突出した接続部25と、を有して連設部材20が構成されている。 - 特許庁

The method of forming the fine flow channel 40 includes the processes of: forming a mask pattern 20 on a substrate 10; coating an exposed part 10a of the substrate 10 with noble metal particles 30; and forming the fine flow channel 40 on the surface of the substrate 10 by dipping the substrate 10 in an etching solution to etch the substrate 10 under the exposed part 10a of the substrate using the mask pattern 20 as a mask.例文帳に追加

基板10上にマスクパターン20を形成する工程と、貴金属微粒子30を前記基板10の露出部10aに塗布する工程と、前記基板10をエッチング溶液に浸漬して前記マスクパターン20をマスクとして前記基板の露出部10a下部の基板10をエッチングすることにより、前記基板10表面に微細流路40を形成する工程と、を含む微細流路40の形成方法である。 - 特許庁

In the method of manufacturing a diffraction optical device having at least two optical materials 1, 3 which are substantially transparent in the wavelength region to be used and having a relief pattern 2 on at least one interface of the two different optical materials, the second material 3 having ≤5,000 mPa.s viscosity is laminated on the first optical material 1 having the relief pattern 2 on at least one surface.例文帳に追加

使用する波長帯域で実質的に透明である少なくとも2つの光学材料1,3と、その少なくとも1つの互いに異なる光学材料1,3の境界面にレリーフパターン3を有する回折光学素子の製造方法において、少なくとも一方の面の上記レリーフパターン2を有した第1の光学材料1の上に、粘度が5000mPa・s以下の第2の光学材料3を積層する。 - 特許庁

In the surface defect data display management device 3, a risk level calculation part 33 calculates an influence degree of a defect upon yield of the final product on the basis of a defect size of the wafer detected by an appearance inspection device 12 and a review device 10 and a pattern density obtained from design data of a pattern figure corresponding to neighbors of the position of the defect.例文帳に追加

表面欠陥データ表示管理装置3において、危険率算出部33は、外観検査装置12やレビュー装置10によって検出されたウェーハの欠陥サイズと、その欠陥の位置の近傍に対応するパターン図の設計データから得られるパターン密度とに基づき、その欠陥が最終製品の歩留まりに影響を及ぼす影響度を表面欠陥の危険率として算出する。 - 特許庁

The diffraction optical element 201 has a relief pattern formed on a surface of thereof, wherein a fine periodic structure 203 having a pitch shorter than the minimum wavelength of working wavelengths is formed on the relief pattern 202, and by changing parameters such as pitch, width and height (or depth) of the fine periodic structure 203, the wavelength dependency of effective refractive index in the fine periodic structure 203 is adjusted.例文帳に追加

本発明は、表面にレリーフパターンが形成されている回折光学素子201において、前記レリーフパターン202上に、使用する波長の最小波長よりも短いピッチを有する微細周期構造203を形成し、該微細周期構造203のピッチ、幅、高さ(または深さ)などのパラメータを変えることにより微細周期構造203における有効屈折率の波長依存性を調整する。 - 特許庁

Since a semiconductor film on the surface of a substrate is obliquely irradiated with a laser beam while the substrate is moved at a constant speed of 20-200 cm/s, the semiconductor film on the large-sized substrate can be uniformly irradiated with the laser beam, the concentric circle pattern is not formed or the formation of the concentric circle pattern is reduced in a semiconductor device being manufactured.例文帳に追加

本発明によれば、20〜200cm/sの間の一定の速度で基板を移動させながら、前記基板の表面上の半導体膜にレーザ光を斜めに照射させるので、大型の基板上の半導体膜においても均一なレーザ光を照射することができ、同心円模様が形成されない、もしくは同心円模様の形成を低減した半導体装置を作製することができる。 - 特許庁

The method for producing the artificial leather involves forming the nap on the surface of the nonwoven fabric by using a grinding material having the uneven pattern by rubbing the nonwoven fabric with the grinding material while pushing the grinding material to the nonwoven fabric, or by rubbing the nonwoven fabric while pushing the nonwoven fabric to the grinding material by using a member having the uneven pattern.例文帳に追加

かかる人工皮革の製造方法は、1デシテックス以下の極細繊維を含む不織布を立毛化するに際し、凹凸模様を有する研削材を用いて、この研削材を該不織布に押しつけながら擦過するか、または、凹凸模様を有する部材を用いて該不織布を、研削材に押しつけながら擦過するかのいずれかの手段により、該不織布の表面に立毛を形成することを特徴とするものである。 - 特許庁

At least one layer of conductive film is formed on an insulating surface, a resist pattern is formed thereon, and then the conductive film having the resist pattern is etched to form a metallized wiring having a tapering angle αcontrolled depending on the bias power density, ICP power density, temperature of a lower electrode, pressure, total flow rate of etching gas, and the ratio of oxygen or chlorine in the etching gas.例文帳に追加

本発明は、絶縁表面上に少なくとも一層の導電膜を形成し、前記導電膜上にレジストパターンを形成し、前記レジストパターンを有する導電膜にエッチングを行い、バイアス電力密度、ICP電力密度、下部電極の温度、圧力、エッチングガスの総流量、エッチングガスにおける酸素または塩素の割合に応じてテーパー角αが制御された金属配線を形成することを特徴としている。 - 特許庁

The pattern wiring sheet or electronic device chip has an electric function developing material layer formed of an electronic function developing material on a surface of a flexible sheet base, provided on a mount base of paper, resin, etc., or a hybrid material of both with an adhesive layer interposed therebetween, using an injection head of ink jet principle, so the novel pattern wiring sheet or electronic device chip is provided.例文帳に追加

パターン配線シートあるいは電子デバイスチップは、紙、樹脂等、あるいは両者のハイブリッド材料である台紙基材上に粘着層を介して設けられた可撓性シート基材の表面に、インクジェッド原理の噴射ヘッドを使用して、電気的機能発現材料により形成される電気機能発現材料層を形成するので、新規なパターン配線シートあるいは電子デバイスチップを実現することが可能となる。 - 特許庁

The pattern wiring sheet or the electronic device chip has an electric function developing material layer formed of an electric function developing material, using a spray head employing ink jet principles, on a surface of a soft sheet base provided on a mount base of paper, resin, etc., or a hybrid material of both with an adhesive layer interposed therebetween, so the novel pattern wiring sheet or electronic device chip is provided.例文帳に追加

パターン配線シートあるいは電子デバイスチップは、紙、樹脂等、あるいは両者のハイブリッド材料である台紙基材上に粘着層を介して設けられた柔軟性シート基材の表面に、インクジェッド原理の噴射ヘッドを使用して、電気的機能発現材料により形成される該電気機能発現材料層を形成するので、新規なパターン配線シートあるいは電子デバイスチップを実現することが可能となる。 - 特許庁

The method of correcting the transmissivity of a photomask includes steps of: doping a front surface of the transparent substrate 205 with impurity ions; forming a photoresist pattern on a semiconductor substrate and measuring critical dimensions of the photoresist pattern; and doping the entire region or a partial region of the corresponding photomask 200 with impurity ions so as to improve the dispersion of the critical dimensions or to make the average of the critical dimensions closer to the target critical dimension.例文帳に追加

また、透明基板205の前面に不純物イオンをドーピングするステップと、半導体基板上にフォトレジストパターンを形成して臨界寸法を測定した後、その分散を改善させるか、または臨界寸法の平均値を目標臨界寸法に合わせるために、対応するフォトマスク200の全体または一部領域に不純物イオンをドーピングするステップと、を含むフォトマスクの透過率補正方法である。 - 特許庁

The rolling mold for transcribing the fine structural thin film has a roller with an outer peripheral surface and a thin filmy metallic template with the transcribing pattern for a fine structure and in which the thin filmy metallic template is replaceably bound to the roller by magnetic attraction or vacuum suction and the fine structural thin film can be formed by transcribing the transcribing pattern with the fine structure by pressing it while rotating the roller.例文帳に追加

外周表面を有するローラと、微細構造薄膜転写パターンを有する薄膜金属テンプレートとを備え、磁気吸着または真空吸着により薄膜金属テンプレートが取り替え自在にローラに結合され、ローラを回転させつつ押圧させることで、微細構造薄膜転写パターンにより微細構造薄膜が転写形成される微細構造薄膜転写用ローラモールドを提供する。 - 特許庁

To make a plurality of numbers of variable holding storage be the same as much as possible by deciding variation time by referring to respectively different numbers of the variable holding storage and the variation time of patterns in a pinball game machine provided with holding storage display parts corresponding to respective pattern variation display parts together with the plurality of pattern variation display parts on one game board surface.例文帳に追加

本発明は一つの遊技盤面上に複数の図柄変動表示部位と共に各々の図柄変動表示部位に対応した保留記憶表示部位を設ける弾球遊技機において、各々が別の変動保留記憶数や図柄の変動時間を参照して変動時間の決定を行うことで、複数の変動保留記憶数がなるべく同一になる形に向かうようにすることを目的とする。 - 特許庁

In the illumination method generating a proximity field light by projecting an irradiation light 210 to a mask 201 having a mask pattern of micro openings not larger than the wavelength size on a mask base material, i.e. a transparent substrate, an illumination means generating the proximity field light is arranged to illuminate the boundary surface of the transparent substrate and the mask pattern with the irradiation light obliquely from the transparent substrate side.例文帳に追加

マスク母材である透明基板上に波長サイズ以下の微小開口によるマスクパターンを有するマスク201に、照射光210を入射させ近接場光を発生させる照明方法であって、前記照射光により、前記透明基板と前記マスクパターンとの境界面を、該透明基板側から斜めに照明するようにして、近接場光を発生させる照明手段を構成する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the semiconductor device having the resistance element 41 comprising a resistance pattern 17b and a metal silicide layer 40 formed on a surface thereof, the method has a step S5 of designing the resistance element 41 so that contact resistance R_c between the resistance pattern 17b and metal silicide layer 40 is included in a design resistance value R_d of the resistance element 41.例文帳に追加

抵抗パターン17bとその表面に形成された金属シリサイド層40とで構成される抵抗素子41を備えた半導体装置の製造方法であって、抵抗パターン17bと金属シリサイド層40との接触抵抗R_cを抵抗素子41の設計抵抗値R_dに含めて抵抗素子41を設計するステップS5を有することを特徴とする半導体装置の製造方法による。 - 特許庁

A method includes the steps of: preparing a substrate; sequentially forming a lower semiconductor layer, an active layer, and an upper semiconductor layer on the substrate; forming a photoresist pattern on the upper semiconductor layer so that its side wall is inclined to an upper surface of the substrate; and sequentially etching the upper semiconductor layer, the active layer, and the lower semiconductor layer by using the photoresist pattern as an etching mask.例文帳に追加

基板を用意する段階と、前記基板上に、下部半導体層、活性層及び上部半導体層を順次形成する段階と、前記上部半導体層上に、その側壁が前記基板の上部面に対して傾斜するように、フォトレジストパターンを形成する段階と、前記フォトレジストパターンをエッチングマスクとして使用し、前記上部半導体層、活性層及び下部半導体層を順次にエッチングする段階とを有する。 - 特許庁

The method for controlling the surface topography of an adhesion plane comprises a step in which a microreplicated topography is formed from contacting a microembossed pattern to a layer of an adhesive so that the topography of the adhesive surface controls the performance of the adhesion interface when the adhesion interface is established between the layer of an adhesive and a supporting substrate.例文帳に追加

接着面の表面形態を制御する方法であって、接着剤層と支持基材との問に接着界面が確立されると、接着面の表面形態がその接着剤と前記支持基材との間の接着界面の性能を制御するように、微細エンボスパターンを接着剤層に接触させて、微細複製接着面を形成するステップを含む方法を開示する。 - 特許庁

This device has a rigid board with thermal expansion characteristics near to silicon, formed by laminating flexible films having a lead wire and a contact pad pattern-formed with laser; and a noble metal contact element projecting from two major surfaces, and the first surface is in a mirror image relation with a closely separated chip pad, and the second surface is aligned with a more widely separated probe card pad.例文帳に追加

シリコンに近い熱膨張特性を有し、レーザーでパターン形成されたリード線およびコンタクトパッドを有する可撓性膜がラミネートされた剛性基板と、2つの主要表面から突出する貴金属のコンタクト素子とを含み、第1表面が密に離間したチップパッドと鏡像関係にあり、第2表面がより広く離間したプローブカードパッドに整合している。 - 特許庁

In a circuit board 1 in which an electronic part having a pair of terminal electrodes for a surface mounting is mounted and in which a circuit pattern having board side terminal electrodes 4a, 4b corresponding to the terminal electrodes is formed, an insulating layer 5 is wholly formed such that only the pair of board side terminal electrodes and the surface of the board between the pair of board side terminal electrodes are exposed.例文帳に追加

表面実装用の一対の端子電極を有する電子部品が搭載され、前記端子電極に対応した基板側端子電極4a,4bを有する回路パターンの形成された回路基板1において、前記一対の基板側端子電極及び該一対の基板側端子電極間の基板表面のみを露出して、全面的に絶縁層5を設けた構成とする。 - 特許庁

The displacement detection apparatus comprises a light emitting section 44 for irradiating the surface of the paper being transferred with laser light originating from a laser light source 45 and a light receiving section 47 having an image sensor 48 which receives laser light reflected off the surface of the paper within a fixed area B on which the laser light is irradiated, reads an interference fringe pattern imaged, and converts it into an electric signal.例文帳に追加

用紙搬送経路上の所定位置に、搬送中の用紙の表面にレーザー光源45からレーザー光を照射する発光部44と、レーザー光が照射される一定領域B内の用紙表面から反射するレーザー光を受光し、結像される干渉縞パターンを読み取り、電気信号に変換するイメージセンサー48を有する受光部47とを備えている。 - 特許庁

There is provided a medicine bag 1 having an opening 6, wherein at least one bag piece in a bag upper piece 2 and a bag lower piece 3 forming the medicine bag is either transparent or opaque, and its front surface side becomes a printed surface P and further adhesive agent for use in adhering the upper bag piece 2 and the lower bag piece 3 is coated in a predetermined intermittent pattern.例文帳に追加

開口部6が施された薬袋であって、該薬袋の袋部を形成する袋上片身2と袋下片身3の内、少なくとも一方が透明又は半透明であると共にその表面側がプリント面Pとされてなり、かつ、前記袋上片身2と前記袋下片身3とを接合する接着剤が所定の間欠パターンにて塗布されてなることを特徴とする薬袋1。 - 特許庁

The elastic crawler C is equipped with a crawler body made of a resilient material of rubber formed in the shape of endless belt where a plurality of driving projections 2 laid in line at a certain spacing in the crawling circumferential direction are provided on the inside surface 1a and a bunch of lugs 3 formed on the outside surface 1b of the crawler body 1 rigidly with a specified lug pattern.例文帳に追加

無端帯状に形成されたゴム製の弾性体よりなりかつクローラ周方向Xにおいて一定間隔おきに並ぶ複数の駆動突起2が内周面1aに設けられたクローラ本体1と、このクローラ本体1の外周面1bに所定のラグパターンで一体に形成された複数のラグ3よりなるラグ群とを備えている弾性クローラCである。 - 特許庁

To provide a nonaqueous inkjet ink of which various parameters, such as viscosity, surface tension, and boiling point of solvent, must be controlled, of which the bleeding or wetting expanse on a flat substrate is small without treating the surface after jetting, and which obtains a good pattern film and does not require the heating of an inkjet head because of low viscosity.例文帳に追加

粘度、表面張力、溶剤の沸点等の様々なパラメータをインクジェット用に制御しなければならない非水系インクジェット用インクにおいて、ジェッティング後、表面処理を行わずに平坦な基板ににじみあるいはぬれ広がりの少なく、良好なパターン膜が得られ、かつ低粘度のためインクジェットヘッドの加熱が不必要な非水系インクジェット用インクを提供すること。 - 特許庁

To provide an ink for use in a reverse printing process with less safety issue, which has appropriate wettability and releasability to a surface of a silicone blanket, wherein: an ink layer having uniform thickness and causing no vertical stripes, unevenness and pinhole can be formed on the surface of the silicone blanket; and an ink pattern having uniform thickness can be formed on an object to be printed such as a substrate.例文帳に追加

シリコーンブランケットの表面に対して適度の濡れ性と離型性とを兼ね備え、前記シリコーンブランケットの表面に縦スジやムラ、ピンホール等のない厚みが均一なインキ層を形成するとともに、基板等の被印刷体の表面に厚みが均一なインキパターンを形成でき、しかも安全性の問題等も生じにくい反転印刷法用のインキを提供する。 - 特許庁

The present invention relates to an RFID tag including: a dielectric substrate; a conductor layer formed on one surface of the dielectric substrate; a conductor pattern formed on another surface of the dielectric substrate and having a long and slender slot; and an IC chip connected to two sides opposite each other in a width direction of the long and slender slot, respectively, for transmitting and receiving an electric wave through the long and slender slot.例文帳に追加

誘電体基板と、この誘電体基板の一方の面に設けた導体層と、前記誘電体基板の他方の面に設け、長細状スロットを有する導体パターンと、前記長細状スロットの幅方向に対向する二辺にそれぞれ接続され、前記長細状スロットを通して電波を送受信するICチップとを備えたことを特徴とするRFIDタグ。 - 特許庁

To provide a photosensitive film for circuit formation which does not contaminate a mask since it follows up surface unevenness of a substrate to be laminated well and is very small in the viscosity of a photosensitive layer on a surface coming into contact with a pattern mask, as a photosensitive film for circuit formation which is adaptive to higher density of wiring of a printed wiring board and high resolution.例文帳に追加

プリント配線板の配線の高密度化及び高解像度化に対応した回路形成用感光性フィルムを提供するものであって、ラミネートすべき基板の表面の凹凸に対して追従性が良く、且つパターンマスクと密着する面の感光層の粘着性が極めて小さいため、マスクを汚染しない回路形成用感光性フィルムを提供する。 - 特許庁

例文

To provide a surface defect inspection device having the most simple and rational constitutions of an irradiation system and an imaging system, and capable of conducting highly reliable inspection, in the surface defect inspection device provided with the irradiation system comprising a plurality of light emitting elements arranged with a prescribed lay-out pattern, and an imaging camera for imaging an inspected face receiving irradiation light emitted from the irradiation system.例文帳に追加

所定のレイアウトパターンで配置された複数の発光素子からなる照射系と、その照射系から照明される照射光を受けた被検査面を撮像する撮像カメラとを備える表面欠陥検査装置において、照射系と撮像系との構成が最も合理的かつシンプルであり、信頼性の高い検査を行うことが可能なものを得る。 - 特許庁




  
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