「顕微鏡観察」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目) - Weblio英語例文検索

本発明に係る鋼中非金属介在物検査方法は、照明光源として単波長レーザ光源を使用した光学顕微鏡を用いて鏡面研磨した鋼の表面を観察し、観察した濃淡画像における鋼と非金属介在物との輝度差に基づいて、非金属介在物を識別することを特徴とする。例文帳に追加

In the inspection method of the nonmetal inclusion in steel, the surface of steel subjected to mirror surface polishing is observed using an optical microscope using a single wavelength laser beam source as an illumination light source and the nonmetal inclusion is discriminated on the basis of the brightness difference between steel and the nonmetal inclusion in the observed variable density image. - 特許庁

電子顕微鏡は、所定の像観察条件に基づいて、電子銃に加速電圧を印加して電子線を試料に照射し、試料から放出される二次電子または反射電子を１以上の検出器で検出しながら試料表面の所望の領域を走査することで、観察像を結像し表示部２８にて表示可能である。例文帳に追加

An electron microscope can display the observed image on a display unit 28 by applying an acceleration voltage to an electron gun to irradiate a sample with an electron beam based on predetermined image observation conditions, scanning the desired area of the surface of the sample while secondary electrons or reflected electrons emitted from the sample are detected by one or more detectors, thereby focusing the image. - 特許庁

観察者の眼と被検試料との間の距離調節装置と、少なくとも２つの光学レンズとを有するとりわけ顕微鏡又は望遠眼鏡等の光学拡大装置において、光学レンズの少なくとも一方は、前記被検試料（７）上で合焦するよう、観察光ビームの光軸（２）に対し横断方向に摺動可能な多焦点レンズ及び／又はプログレッシブレンズ（３）として構成する。例文帳に追加

An optical magnification device for varying the distance between an observer's eye (1) and an object (7), e.g. for a binocular magnifier or a microscope, in which focusing onto the object (7) is accomplished by means of progressive and/or multifocal lenses (3) displaceable perpendicular to the observation beam(s) 2. - 特許庁

電界放射型電子銃と、電界放射型電子銃から放射された電子線を試料に収束する収束手段と、試料を照射する収束電子線を走査する偏向手段と、試料像を投影する投影手段と、試料厚さ測定手段とを備える走査透過型電子顕微鏡観察装置を用いて観察を行う。例文帳に追加

The observation is performed by a scanning transmission electron microscope observation equipment equipped with a field emission electron gun, a convergence means to converge an electron ray emitted from the field emission electron gun onto a sample, a deflecting means to scan a convergence electron ray irradiating the sample, a projecting means to project a sample image, and a measuring means for a sample thickness. - 特許庁

メーカの開発拠点・サービスセンタのメンテナンスコンピュータ６０から、データ通信回線８０を介して、通常のＳＥＭ制御手段４１との間で実行する観察作業に関わる操作機能や観察作業に関わる出力機能を実行するコンピュータ５０を経由して、走査電子顕微鏡装置本体１０のＳＥＭ制御手段４１をメンテナンスモードに設定する。例文帳に追加

An SEM control means 41 of a scanning electron microscope device body 10 is set at a maintenance mode via a computer 50 processing an operation function about an observation operation processed with a normal SEM control means 41, or an output function about an observation operation via a data telecommunication line 80 from a maintenance computer 60 of a development base, a service center or the like of the manufacturer. - 特許庁

これによれば、レチクルステージＲＳＴをＹ軸方向に移動しながら、例えばレチクルＲ上の複数のマーク対とウエハステージ上の基準マーク板上の一対の基準マークとを、レチクル顕微鏡（観察領域５２ＲＡ、５２ＲＢ）を用いて、順次観察し、各マークの基準マークに対する位置誤差を計測する。例文帳に追加

A reticle microscope (observation area 52RA, 52RB) is used to successively observe a plurality of mark pairs on a reticle R and a pair of reference marks on a reference mark plate on a wafer stage, and to measure a positional difference of the respective marks to the reference mark while it moves on a reticle stage RST in Y-axis direction. - 特許庁

本発明の荷電粒子ビーム装置による表面凹凸形状の観察方法は、形状を観察したい個所の試料表面に直線を引くステップと、試料ステージを傾斜させるステップと、試料を傾斜させた状態で前記直線部分を含む近傍領域をビーム走査して顕微鏡画像を取得するステップとからなる。例文帳に追加

This surface rugged shape observation method with a charged particle beam device comprises a step for drawing a straight line on a sample surface in a part to be observed for shape observation, a step for tilting a sample stage, and a step for scanning a periphery area including the straight line part with a beam while the sample is tilted for obtaining a microscopic image. - 特許庁

試料３のサイズや試料３の移動範囲および観察範囲の大きい電子顕微鏡として利用する場合は、試料室８の一部を構成し、試料室８の空間を大きくし、搭載できる試料のサイズや試料の移動範囲および観察範囲を大きくすることができるアダプタ１３を取り付ける。例文帳に追加

If the microscope is used for a large sized testpiece or a large shifting and observation range of a testpiece, a part of the testpiece chamber 8 is structured to enlarge a space in the testpiece chamber, and an adaptor 13 is installed for enabling to mount a large sized testpiece and have a large shifting and observation range of the testpiece. - 特許庁

電子銃２と観察用試料１１との間に電子線用プリズム３と分散角増幅用レンズ６とアパーチャ８とを設け、該プリズムによって電子線軌道のエネルギー分散を発生させ、分散角増幅用レンズによって分散角を増幅し、その後ろに設けたアパーチャを通り抜ける電子線のみを使って観察用試料の顕微鏡像を作成する。例文帳に追加

An electron beam prism 3, a dispersion angle amplification lens 6 and aperture 8 are provided between an electron gun 2 and an observation sample 11, the energy dispersion of electron beam orbit occurs by the prism, dispersion angle is amplified by the dispersion angle amplification lens, and only an electron beam passing through the aperture provided next to the dispersion angle amplification lens is used, thereby preparing a microscopic image of the observation sample. - 特許庁

プローブ１をチルトさせてその先端部を試料５の目標位置に接近させながら、プローブ１先端部と前記目標位置の距離を荷電粒子ビーム顕微鏡で観察しつつ、観察画面上で前記目標位置にてプローブ１とプローブ１の影との先端部が一致する方向へ、プローブ１を移動させる。例文帳に追加

The probe 1 is tilted and moved to the direction where the tip of the probe 1 corresponds to the tip of the shade of the probe 1 at a target position on an observation screen while causing the tip thereof to approach the target position of the sample 5, and observing a distance between the tip of the probe 1 and the target position by a charged particle beam microscope. - 特許庁

実体顕微鏡は、ベース１に立てた支柱２に対して上下動可能なアーム３に取り付けられた変倍鏡体４と、変倍鏡体４に取り付けられた対物レンズ５と、変倍鏡体４に取り付けられた観察用鏡筒６と、観察用鏡筒６に取り付けられた接眼レンズ７とを有している。例文帳に追加

The stereoscopic microscope has the variable magnification lens body 4 fitted to an arm 3 capable of moving up and down along a prop 2 stood on a base 1, an objective 5 which is fitted to the variable magnification lens body 4, a lens barrel 6 for observation which is fitted to the variable magnification body 4, and an ocular 7 which is fitted to the lens barrel 6 for observation. - 特許庁

本発明によれば、共焦点型顕微鏡のセクショニング機能を利用して観察対象表面の凹凸高さを測定し、その観察対象の凹凸高さに相当する焦点深度になるように開口絞りを自動的に設定するので、最適のコントラストの画像を短時間で取得することができる。例文帳に追加

The height of the ruggedness on the surface of the observation object is measured by utilizing the sectioning function of the confocal type microscope and the aperture diaphragm is automatically set so that the depth of focus may be equivalent to the height of the ruggedness of the observation object, so that the optimum-contrast image is obtained in a short time. - 特許庁

透過型電子顕微鏡用の試料の作製方法において、半導体デバイスの特定箇所の観察断面に非晶質構造の保護膜を形成する工程と；前記保護膜が形成された観察断面の周囲を除去する工程と；少なくとも前記保護膜を含む領域を薄膜化する工程とを含むことを特徴とする。例文帳に追加

This manufacturing method of a sample for a transmission type electron microscope includes a process for forming a protective film of an amorphous structure to the observation cross section of the specific place of a semiconductor device, a process for removing the periphery of the observation cross section to which the protective film is formed and a process for forming the region containing the protective film into a thin film state. - 特許庁

この電子顕微鏡は、少なくともＸＹ平面上を移動可能な前記試料台３３上に装着される、可視光観察像撮像用の可視光撮像部を備え、可視光撮像部は試料台３３に装着された状態で、試料台３３上に裁置される試料の可視光観察像を撮像可能な位置及び角度に調整されている。例文帳に追加

This electron microscope is provided with the visible light imaging part for imaging a visible light observation image which is attached to the sample table 33 movable at least on the XY plane, and the visible light imaging part is adjusted in a position and an angle in which the visible light observation image of the sample mounted on the sample table 33 is imaged in a state being attached to the sample table 33. - 特許庁

照明機構３０は、第一端部側に観察視野に向けて照明光を照出する照明光照出部を有するとともに、第二端側が観察視野から光学顕微鏡１３外に延出するライトガイド部３２と、該ライトガイド部３２の第二端側に照明光を供給する光源２３とを有してなる。例文帳に追加

The illumination mechanism 30 has: a light guide part 32 having an illumination light irradiation part for irradiating out illumination light toward the observation field to the first end side, wherein the second end side is extended from the observation field to the outside of the optical microscope 13; and a light source 23 for supplying the illumination light to the second end side of the light guide part 32. - 特許庁

原子間力顕微鏡を使って原子レベルでの形状観察と元素分析とを同時に行うことができ、さらには試料表面の化学状態を分析することが可能となり、また、液体中でも動作可能であるため生体試料に対する元素分析や化学状態分析を原子レベルの分解能で行うことが可能な量子線支援原子間力顕微法および量子線支援原子間力顕微鏡を提供する。例文帳に追加

To provide a quantum line-supported atomic force microscopic method and a quantum line-supported atomic force microscope capable of performing simultaneously shape observation and elemental analysis in the atomic level by using the atomic force microscope, analyzing the chemical state on the sample surface, and performing the elemental analysis or chemical state analysis with respect to a biosample with a resolution in the atomic level because of being operable even in liquid. - 特許庁

電子顕微鏡において観察したときに、１００本のカーボンナノチューブ中５０本以上の層数が２層〜５層、内径が３nm〜６nm、１００本のカーボンナノチューブ中５０本以上の長さが０．２〜２μｍ、５０本以上が１本の間に２個以上の屈曲点を持つことを特徴とするカーボンナノチューブを含有してなるカーボンナノチューブ集合体。例文帳に追加

The carbon nanotube assemblies include carbon nanotubes where 50 carbon nanotubes or more in 100 carbon nanotubes have 2-5 layers, whose inside diameter is 3-6 nm and where 50 carbon nanotubes or more in 100 carbon nanotubes have a length of 0.2-2 μm and have 2 or more inflection points per one carbon nanotube. - 特許庁

対物レンズと標本との間にある媒質の厚さの変化によって生じる諸収差を補正できる対物レンズにおいて、像が最も鮮明に見えるレンズの位置を容易に見付けて観察の効率を向上させることができると共に、性能を最大限に引き出すことが可能な顕微鏡対物レンズを提供する。例文帳に追加

To provide a microscope objective lens which can correct various aberration generated by the change of the thickness of a medium between the objective lens and a sample, can easily find a lens position for most sharply imaging, can improve the efficiency of observation and maximize the performance. - 特許庁

本発明は、オートフォーカス制御機構と、オフセットレンズ制御機構と、観察対象の試料が載せられるステージの変位を制御するステージ制御機構と、撮影機構と、を備える顕微鏡装置に、マルチポイント・タイムラプス撮影を行わせる情報処理装置を、通信接続した撮影システムである。例文帳に追加

A photographing system is connected for communication with an information processor which makes a microscope having an autofocusing control mechanism, an offset lens control mechanism, a stage control mechanism to control the displacement of the stage holding samples of the observation object, and a photographing mechanism to perform multipoint time lapse photographing. - 特許庁

電子顕微鏡から得られたステレオの検出データを適切に処理して、試料像を正確に精度よく立体観察すると共に、試料の三次元形状計測を行う為に、偏位修正画像を作成するために基準点となる基準マークを有する基準テンプレート及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a standard template with a standard mark as the standard point for producing an displacement-modified image for observing an image of a sample three-dimensionally correctly and precisely by appropriately processing stereo detection data obtained from an electronic microscope and for measuring the three-dimensional shape of the sample. - 特許庁

この半導体ウエハ研磨用組成物のシリカ／尿素のモル比は４０〜３００であることが好ましく、また、尿素が固定化された非球状の異形シリカ粒子の透過型電子顕微鏡観察による平均短径が７〜３０ｎｍであり、長径／短径比が１．２〜１０であり、かつ長径／短径比の平均値が１．２〜５であることが好ましい。例文帳に追加

The composition for polishing the semiconductor wafer preferably has a 40 to 300 mol ratio of silica/urea, an average short diameter of the aspherical heteromorphic silica particles having urea fixed through a transmission electron microscope is 7 to 30 nm, and a long diameter/short diameter ratio is 1.2 to 10, an average value of the long diameter/short diameter ratio being preferably 1.2 to 5. - 特許庁

ベンゾトリアゾールの存在下で活性珪酸を原料として製造されるコロイダルシリカであって、液相にベンゾトリアゾールを含有し、透過型電子顕微鏡観察による長径／短径比が１．２〜１５の範囲にありかつ長径／短径比の平均値が１．５〜１０である非球状の異形シリカ粒子群を含有するコロイダルシリカである。例文帳に追加

The colloidal silica is produced by using an active silicic acid as a raw material in the presence of benzotriazole, and contains benzotriazole in the liquid phase and a group of non-spherical heteromorphic silica particles which has a major axis/minor axis ratio by a transmission electron microscope in the range of 1.2-15 and an average value of the major axis/minor axis ratio of 1.5-10. - 特許庁

偏光顕微鏡で観察した断面の光学組織が、ファインモザイク組織と流れ組織とで形成された異方性組織であり、かつ両組織の面積割合が、前者／後者＝１０／９０〜７０／３０であるコークスを２１００〜２７００℃程度で熱処理して、リチウムイオン電池用負極炭素材を調製する。例文帳に追加

The negative electrode carbon material for a lithium ion battery is prepared by heat-treating coke at about 2,100-2,700°C, wherein a cross-sectioned optical structure of the coke observed with a polarizing microscope is of an anisotropic structure formed with a fine-mosaic structure and a flow structure and an area ratio of both structures is: the former/the latter=10/90 to 70/30. - 特許庁

透明基材１と、透明基材１上に所定のパターンで形成された導電性組成物からなる凸状パターン層２を有する電磁波シールド材１０であって、該導電性組成物は導電性粒子とバインダー樹脂を含んでなり、凸状パターン層２の横断面の電子顕微鏡写真による観察において、該導電性粒子の少なくとも一部が融合した連なりを有する。例文帳に追加

The present invention relates to the electromagnetic wave-shielding materials 10 including a transparent substrate 1 and a projection pattern layer 2 composed of a conductive composition formed in a prescribed pattern on the transparent substrate 1, wherein the conductive composition contains conductive particles and a binder resin, and in observation of a transverse cross section of the projection pattern layer 2 by electron microscopic photography, at least a part of the conductive particles has a fused continuation. - 特許庁

荷電粒子線顕微鏡において、試料の観察視野を走査して得られたフレーム画像を複数枚取得し（Ｓ３０４、Ｓ３０５）、それらの画像を積算し（Ｓ３０７）、試料上に形成されたパターンの寸法を算出（Ｓ３０８）すると共に、フレーム画像を構成する１フレーム画像またはサブフレーム画像等からなる分別画像（Ｓ３０９，Ｓ３１０）を用いてパターン情報を取得する（Ｓ３１４）。例文帳に追加

The charged particle beam microscope acquires a plurality of frame images by scanning the field of view of the sample (S304, 305), adds the images together (S307), computes the dimensions of the pattern formed on the sample (308), and at the same time acquires pattern information (314) using a separated image (309, 310) composed of a single frame image comprising a frame image, a subframe image, and the like. - 特許庁

比較演算部８２は、ＷＳ３３が算出した顕微鏡観察視野に対する内視鏡３５及びバイポーラ３７の挿入状態のデータと、設定領域記録部８１が設定する表示禁止領域の位置のデータを比較し、この比較結果を画像制御部８３の第１の入力側に供給する。例文帳に追加

A comparison arithmetic section 82 compares data of the insertion states of an endoscope 35 and a bipolar 37 relative to the microscope observing field calculated by a WS33 with data of the position of the display prohibition region which is set by the setting region recording section 81, so as to supply the comparison result to the first input side of an image control section 83. - 特許庁

集束イオンビームを利用する微細加工により、微細粒子の凝集体からなる膜の断面を、透過電子顕微鏡観察する目的の薄片化試料を作製する際、微細加工端面に露呈する微細粒子の剥落を防止でき、また、薄片化された部位の大気暴露を防止可能な、薄片化試料の作製方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for preparation of thinned samples that can prevent, when thinned samples are prepared by micro-machining utilizing a focused ion beam for use in transmission electron microscopic observation of sections of a film made up of an aggregate of micro-particulates, micro-particulates exposed on micro-machined end faces from coming off and prevent exposure of thinned regions from being exposed to the atmosphere. - 特許庁

本発明は顔料分散物安定性及びインク液安定性が極めて良好であり、優れた色相及び着色力を有するアゾ顔料を提供することを目的とするものであり、好ましくは透過型顕微鏡で観察した際の長軸方向の長さが０．０１μｍ〜３０μｍであるアゾ顔料を提供することを目的とするものである。例文帳に追加

To provide an azo pigment which gives good stability to pigment-containing dispersion and ink liquid, and includes an excellent tint and optical density, and preferably a longitudinal length of which is 0.01-30 μm, when measured using a transmission microscope. - 特許庁

蛍光顕微鏡による生体高分子の動き、生物反応の観察、遺伝子関連、又は創薬開発におけるハイスループットスクリーニング用途におけるマイクロアレイスキャナーを用いた、スポット別の蛍光強度を測定する場合において好適な樹脂製プレートと製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a plate made of a resin that is suitable, when measuring the fluorescence intensity of each spot, using a microarray scanner in high-throughput screening applications in the movement of a biopolymer by a fluorescent microscope, the observation of the reaction of living organisms, gene relation, or drug design development. - 特許庁

ＣＮＴカンチレバーを使用した走査型プローブ顕微鏡による試料表面の観察で問題となるＣＮＴの湾曲や滑りに起因するベース探針の破壊、変形および接合部の破壊の問題を解決し、試料表面の凹凸に確実にアプローチして高分解能で表面状態を測定することができるようにする。例文帳に追加

To approach unevenness of sample surface and measure surface state at high resolution by solving such problems as destruction, deformation of a base probe, destruction of a jointed part, caused by distortion and slipping of the CNT probe, which cause problems in observing the sample surface with a scanning probe microscope using a CNT cantilever. - 特許庁

立体顕微鏡は、所定の基線長に隔てられるとともに同一観察対象物に対する一対の像を形成する一対の撮影光学系と，各撮影光学系の光軸を互いに接近する方向に夫々平行にシフトさせてＣＣＤ１１６の撮像面上の左右の撮像領域に導く輻輳寄せプリズム２６０とを有している。例文帳に追加

The stereoscopic microscope possesses the pair of the photographing optical systems separated by a prescribed base line length and forming the pair of images for the same observation object and a convergence prism 260 to guide the optical axis of each photographing optical system to right and left image pickup areas on the image pickup surface of a CCD 116 by respectively shifting in parallel in directions in which they approach with each other. - 特許庁

特定比の実質的に（ａ）ポリエステル樹脂及び（ｂ）ポリフェニレンスルフィド樹脂（ＰＰＳ樹脂）からなる樹脂組成物で構成され、かつ、該樹脂組成物中に電子顕微鏡で観察される樹脂相分離構造としてＰＰＳ樹脂層が連続相や帯状分散相等の特殊な構造を持った樹脂構造体とする。例文帳に追加

The resin structure is constituted by a resin composition substantially comprising (a) a polyester resin and (b) a polyphenylene sulfide resin(PPS resin) at a specific ratio and, simultaneously, the PPS resin layer being allowed to have a special structure such as a continuous phase and a belt-shaped dispersion phase as the resin phase separation structure to be observed in the resin composition by an electron microscope. - 特許庁

長さおよび／または高さで線状に可変の視野高を有する光学観察装置、特に顕微鏡のための鏡胴（１０）であって、前記鏡胴（１０）が、少なくとも２つの光学要素（２３、２４）が配設された光学光路を有する鏡胴において、 少なくとも２つの光学要素（２３、２４）が互いに独立して可動式に光学光路内に配設されている鏡胴である。例文帳に追加

The lens barrel 10 for an optical observing device having a linearly variable visual field height in length and/or height, especially for the microscope, includes an optical path in which at least two optical elements 23, 24 are disposed, wherein at least the two optical elements 23, 24 are disposed to be movable independently of each other in the optical path. - 特許庁

１０〜４００ｍ^２／ｇの比表面積値とそれから換算される３〜１１０ｎｍの範囲の粒子径を有し、走査型電子顕微鏡観察による一次粒子径の平均値が５〜１５０ｎｍの範囲にある酸化ジルコニウム粒子を含有する水性ゾルを含み、半導体装置製造時の酸化珪素膜の研磨に使用される研磨用組成物。例文帳に追加

A polishing composition comprises water sol containing zirconium oxide particles having a specific surface area value of 10 to 400 m^2/g, a particle diameter in the range of 3 to 110 nm converted from it, and the mean value of a primary particle diameter by scanning electron microscope observation in the range of 5 to 150 nm; and is used for polishing a silicon oxide film in manufacturing semiconductor devices. - 特許庁

このアルミニウム合金板は、加工率が３０乃至６０％の冷間圧延が施され、切断法により求めた平均結晶粒径が３０μｍ以下であり、走査型電子顕微鏡の観察画面像の画像解析により求めた表面における金属間化合物の面積占有率が１．０乃至５．０％である。例文帳に追加

The aluminum alloy sheet is subjected to cold rolling at a working ratio of 30 to 60%, the average crystal grain size obtained by a cutting method is ≤30 μm, and the area occupancy ratio of intermetallic compounds on the surface obtained by the image analysis of an observed picture in a scanning type electron microscope is 1.0 to 5.0%. - 特許庁

雰囲気制御が可能な試料チャンバー２、試料チャンバー内に揮発性物質含有試料を導入する試料ホルダー１４、この保持された試料を観察するための走査電子顕微鏡、試料ホルダー１４に保持された試料をサンプリングするマニピュレータ、サンプリングされた試料を試料チャンバー２の外部に取り出すための試料ホルダー１５を具備する。例文帳に追加

The device comprises a sample chamber which enables atmosphere control, a sample holder 14 which introduces a volatile substance containing sample in the sample chamber, a scanning electron microscope for observing this sample held, a manipulator which samples the sample held in the sample holder 14, and a sample holder 15 for taking out the sample sampled to the outside of the sample chamber 2. - 特許庁

顕微鏡等の光学観察装置の安定的、無振動的、かつ（位置）再現性のある支持を可能にし、とりわけ、鉛直方向において、振動状態の改善、その構造の機械的性質による構造全体の剛性ないし強度の更なる増進、構造全体の重量の可及的軽量化も図ることが可能な支持装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a retaining apparatus which retains an optical viewing device, for example, a microscope stably without any vibration and with (position) reproducibility, and specially improves a vibration state perpendicularly, increases the rigidity and strength of the whole structure by mechanical properties of the structure, and makes the structure as lightweight as possible on the whole. - 特許庁

顕微鏡観察画像をカラー画像として出力する撮像手段と、選択された検鏡法に適合するカラー画像／モノクロ画像変換係数を設定する係数設定手段と、前記設定されたカラー画像／モノクロ画像変換係数を適用して前記カラー画像をモノクロ画像に変換する画像変換手段とを具備する。例文帳に追加

The microscope imaging apparatus comprises: an imaging means for outputting a microscope observation image as a color image; a coefficient setting means for setting the color images/monochromatic image conversion coefficient conformed to the selected microscope inspecting method; and an image conversion means for converting the color image into a monochromatic image by applying the set color image/monochromatic image conversion coefficient. - 特許庁

試料台２上に試料１を載置し、金属接合材３を超音波振動させながら加熱することで試料１と試料台２とを金属接合材３により接合して固定すると共に電気的に接続する固定工程を備え、試料台２上に試料１を固定した状態で電子顕微鏡を用いた観察を行う。例文帳に追加

The sample observation method using the electron microscope includes a fixing process for placing the sample 1 on a sample stand 2 and heating the metal joining material 3 while subjecting the same to ultrasonic vibration not only to join and fix the sample 1 and the sample stand 2 but also to electrically connect both of them and the sample 1 is observed using the electron microscope as it remains fixed on the sample stand 2. - 特許庁

生体用金属に対する血清タンパク質複合体形成の評価方法であって、少なくとも、＜１＞生体用金属を血清中でインキュベーションする工程、＜２＞緩衝液で洗浄する工程、＜３＞精製水で洗浄する工程、および、＜４＞生体用金属に対しての血清タンパク質複合体形成の有無を走査型電子顕微鏡で観察する工程を含むことを特徴とする。例文帳に追加

The evaluation method of the formation of the serum protein composite to the biometal includes a process <1> for incubating the biometal in serum, a process <2> for washing the biometal with a buffer solution, a process <3> for washing the biometal with refined water and a process <4> for observing the presence of the formation of the serum protein composite to the biometal by a scanning electron microscope. - 特許庁

半導体チップから試料２を切り出し、機械的研磨により薄くした後、透過型電子顕微鏡観察用の単孔メッシュ６に取付け、端面の特定深さの部分にＰｔ膜７を形成し、試料の主面に平行なガリウムイオンビーム８を照射して要部以外の部分をエッチングして薄膜化する。例文帳に追加

A sample 2 is cut from a semiconductor chip to be made thin by mechanical polishing and the thin sample is attached to a single-ported mesh 6 for transmission type electron microscope observation and a Pt film 7 is formed to the part with specific depth of an end surface and irradiated with gallium ion beam 8 parallel to the main surface of the sample to make the part other than a principal part thin by etching. - 特許庁

電子顕微鏡法で観察して水酸化カルシウムの粒子表面に炭酸カルシウムが存在する粒子構造を有し、且つ二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）で測定して、特定式で表される炭酸化強度比（ＲＩ_４００）が０．８以上の範囲である塩素含有重合体用複合安定剤。例文帳に追加

The composite stabilizer for a chlorine-containing polymer has a particle structure where calcium carbonate exists, as is measured by the electron microscopic method, on the surface of a particle of calcium hydroxide with a carbonation intensity ratio (RI_400), measured by the secondary ion mass spectrometric device(SIMS) and represented by a specific equation, in the range of at least 0.8. - 特許庁

導電性支持体上に、少なくとも中間層、電荷発生層、電荷輸送層が順次積層されて成る電子写真用感光体の製造方法において、前記中間層が熱可塑性樹脂を含有し、且つ、原子間力顕微鏡による形態観察をして得られた微視的な十点平均粗さが３．２ｎｍ以下であることを特徴とする。例文帳に追加

In a method for manufacturing the electrophotographic photoreceptor obtained by sequentially stacking at least an intermediate layer, a charge generating layer and a charge transport layer on a conductive support, the intermediate layer contains a thermoplastic resin and a microscopic ten-point average roughness obtained by shape observation through an atomic force microscope is ≤3.2 μm. - 特許庁

抵抗特性を測定すべき被検試料１０ａに陽イオンビームを照射して帯電させた後、被検試料１０ａを走査イオン顕微鏡にて観察し、被検試料１０ａから生じる二次電子による電子像（二次電子像）のコントラストから、電気抵抗値がその他の領域とは異なる箇所（低抵抗箇所）６を検出する。例文帳に追加

After the sample 10a to measure the resistance characteristics is irradiated with cation beams and charged, the sample 10a is observed with a scanning ion microscope, and the part (low resistance part) 6 where the electric resistance is different from the other area is detected from the contrast of electronic images (secondary electronic images) by a secondary electron from the sample 10a to be tested. - 特許庁

本発明のある実施の形態の画像処理装置７０において、可視光画像取得制御部７７１は、顕微鏡１０の動作を制御し、ＨＥ染色が施され、細胞核と特異的に結合する蛍光色素によって染色（蛍光標識）が施された標本の可視光観察像を撮像して可視光画像を取得する。例文帳に追加

In an image processing device 70, a visible light image acquisition control part 771 controls operation of a microscope 10 and acquires a visible light image by imaging visible light observation image of a sample to which HE dyeing has been applied and dyeing (fluorescent label) has been applied with fluorescent dye binding specifically to a cell nucleus. - 特許庁