Defectを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 18303件
To provide a fixing device capable of preventing an occurrence of an image defect, while preventing a misalignment of a fold position provided at a downstream side of a nip of a slide sheet, and an occurrence of sag or corrugation on the slide sheet, and to provide an image forming apparatus.例文帳に追加
摺動シートのニップ下流側に設けた折り目の位置がずれたり摺動シートに弛みや波打ちが発生したりするのを防止して画像不良の発生を抑制することが可能な定着装置および画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide a phase defect correction method of a reflective mask and a manufacturing method of the reflective mask which can correct an absorber pattern accurately without damaging a reflective layer and leaving correction marks, and which can obtain a good transfer pattern without being affected by phase defects.例文帳に追加
反射層に損傷を与えず、修正痕を残さずに吸収体パターンを精度良く補正し、位相欠陥の影響をなくして良好な転写パターンが得られる反射型マスクの位相欠陥補正方法および製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for correcting the defect of a color filter in which when a projection such as a photo-spacer or a projection for controlling orientation is missing, the missing projection is repaired and when a shape of the projection becomes defective, the projection is repaired; and also to provide a color filter.例文帳に追加
フォトスペーサーや配向制御用突起などの突起物が欠落した場合に、欠落した突起物を補修し、また、形状不良となった場合に、突起物を補修するカラーフィルタの欠陥修正方法、カラーフィルタを提供する。 - 特許庁
To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that excels in the roughness characteristics, exposure latitude, depth of focus, and development defect performance and that allows to form a pattern of favorable configuration, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加
ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an organic EL device and an organic EL device in which, when vapor depositing is carried out by using a mask, peeling of a part of a composition material adhered on the mask is prevented and thereby a sealing defect or the like are prevented from occurring.例文帳に追加
マスクを用いて蒸着を行った際、構成材料がマスクに付着してその一部が剥離し、封止欠陥等を引き起こしてしまうことを防止した、有機EL装置の製造方法及び有機EL装置を提供する。 - 特許庁
To provide a circuit board free of lamination defect (resin-unfilled part), and having a fewer variations in the sectional area of an electrical circuit, less influence on the resistance, and a fewer variations in impedance between a low density portion and a high density portion of the electrical circuit, thereby having a leeway for circuit design.例文帳に追加
積層カスレの発生がなく、電気回路の断面積のバラツキや抵抗値への影響が少なく、電気回路の低密度部分と高密度部分とでインピーダンスのばらつきが小さくて回路設計に余裕がある回路基板を提供する。 - 特許庁
To provide a magnetic resonance imaging apparatus and waveform adjusting method by which whether data such as sequence control output data, received NMR signals are correctly output or received is easily determined when imaging is performed and a period of malfunction such as image defect and sequence development period can be shortened.例文帳に追加
撮像を行う際、シーケンス制御出力データ、受信したNMR信号などのデータを正しく出力、受信されているかを容易に判断することができ、画像不良などの不具合期間やシーケンス開発期間を短縮することを可能とする。 - 特許庁
To provide a thermosetting resin composition providing a heat conductive sheet of excellent heat conductivity while holding an electric insulating property by controlling the generated part and a magnitude of a defect such as a void and a crack, and a B-stage heat conductive sheet.例文帳に追加
ボイドやクラックなどの欠陥の発生箇所及び大きさを制御して電気絶縁性を保持しつつ、優れた熱伝導性を有する熱伝導性シートを与える熱硬化性樹脂組成物及びBステージ熱伝導性シートを提供する。 - 特許庁
To provide a polishing device and a method in which a substrate can be withdrawn (released) from a top ring of the substrate safely and efficiently by reducing deformation of the substrate such as a semiconductor wafer and a stress applied to the substrate, thereby preventing defect and damage of the substrate.例文帳に追加
半導体ウエハ等の基板の変形および基板にかかる応力を低減し、基板の欠陥や基板の破損を防止して、基板のトップリングからの離脱(リリース)を安全で効率的に行うことができる研磨装置および方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for separating a printed product out of a stack and an embodied device, capable of carefully performing handling, by enhancing separation performance of the printed product in a simpler design structure, by avoiding a defect of a conventional technology.例文帳に追加
従来技術の短所を回避し、さらに簡単な設計上の構造において印刷物の分離性能を上げかつ取扱いを丁寧に行なうことができる、堆積体から印刷物を分離するための方法および対応した装置提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing an electronic component that can improve reliability of the electronic component by preventing moisture such as a plating solution from entering a body, and also preventing an increase in product size and mounting defect of the electronic component.例文帳に追加
メッキ液等の水分が素体内に侵入することを防止すると共に電子部品の製品寸法の増大及び実装不良を防止し、電子部品の信頼性を向上させることができる電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing the master disk of an optical disk capable of transferring a concave/convex pattern, which is formed on an inorganic resist layer by use of a thermochemical reaction, to a stamper without causing a minute concave defect in a surface by an electroforming process.例文帳に追加
熱化学反応を利用して無機レジスト層に形成された凹凸パターンを、電鋳処理により、表面に微小な陥没状の欠陥を生じさせることなく、スタンパに転写可能な光ディスク原盤の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an inspection device and an inspection method that precisely detect a shape defect part of an electrode pattern formed on a glass plate through a small number of times of measurement, and a method of manufacturing a panel for image display using the same.例文帳に追加
ガラス板上に形成された電極パターンの形状欠陥部を少ない測定回数で精度よく検出できる検査装置、検査方法およびこれらを用いた画像表示用パネルの製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁
To provide a repair method for a paste pattern in which the line width of the paste pattern is kept constant in a repair section of the paste pattern where a defect occurs by applying paste by a dot coating system by an amount corresponding to the repair section.例文帳に追加
ペーストパターンの欠陥が発生したリペア区間に対して、リペア区間に対応する量のペーストを点形塗布方式により塗布することで、リペア区間でペーストパターンの線幅を一定に維持し得るペーストパターンのリペア方法を提供すること。 - 特許庁
The screen displaying/defect determining apparatus 23 identifies the generated thickness reduction from a Rayleigh wave echo component and finds the thickness reduction depth from a relational expression among an appearance location of a transverse reflection wave echo in the thickness reduction section, a previously-found reflection strength, and a distance.例文帳に追加
画面表示及び欠陥判別装置23は、レイリー波エコー成分から減肉の発生を識別し、減肉部の横波反射波エコーの出現位置と予め求めた反射強度および距離の関係式から減肉深さを求める。 - 特許庁
Thereby, when lead frames after a plated layer 2e is formed therein are transferred or stored in pile, a defect that the upper lead 2b contacts with the plated layer 2e of the lower lead 2b to form a scratch in the plated layer 2e can be reduced or prevented.例文帳に追加
これにより、メッキ層2e形成後のリードフレームを重ねて搬送または保管した場合に、上側のリード2bが、下側のリード2bのメッキ層2eに接触しそのメッキ層2eに擦れ傷を形成してしまう不具合を低減または防止できる。 - 特許庁
To provide a metallic mold for casting with which the air mixed in molten metal is surely exhausted and the invasion of the air in a cavity is prevented and further, even in the case of increasing the casting quantity, cast defects, such as missrun, gas defect, can be prevented.例文帳に追加
溶湯中に混在する空気を確実に抜き、キャビティ内への空気の浸入を阻止し、さらに、鋳込み量が増加した場合であっても、湯廻り不良やガス欠陥等の鋳造欠陥を防止することが可能な鋳造用金型を提供する。 - 特許庁
Consequently, even when the flattening insulating film 17 is formed in a heated state, large thermal stress is generated in neither the pixel electrode 9a nor the flattening insulating film 17, so a defect such as a hillock is hardly generated on the surface of the pixel electrode 9a.例文帳に追加
このため、加熱した状態で平坦化絶縁膜17を成膜しても、画素電極9aおよび平坦化絶縁膜17に大きな熱応力が発生しないので、画素電極9aの表面にヒロック等の欠陥が発生しにくい。 - 特許庁
To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition excellent in roughness characteristics, exposure latitude, focus depth and development defect performance and capable of forming a pattern having a satisfactory shape and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加
ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device in which a defect or fault is not generated even if a ZnO semiconductor film is used and a ZnO film to which an n-type or p-type impurity is added is used for a source electrode and a drain electrode, and a manufacturing method thereof.例文帳に追加
ZnO半導体膜を用い、ソース電極及びドレイン電極にn型又はp型の不純物を添加したZnO膜を用いたときでも欠陥や不良が生じない半導体装置及びその作製方法を提供する。 - 特許庁
To provide a charging unit that maintains the cleanability of a charging member, hardly pollutes the charging member even when the charging member and a charging member clean-up member are stored in a contact state, and suppresses the occurrence of density unevenness or an image quality defect such as a color point.例文帳に追加
帯電部材のクリーニング性を維持しつつ、帯電部材と帯電部材清掃部材とを接した状態で保管した場合でも、帯電部材を汚染しにくく、濃度むら、色点等の画質欠陥の発生を抑制する帯電装置を提供する。 - 特許庁
To provide a cleaning member for an electrifying member which makes an electrifying member hardly stained and suppresses occurrence of an image quality defect such as irregular density even when it is kept for a long term in such a state that it contacts with the electrifying member while maintaining cleaning performance for the electrifying member.例文帳に追加
帯電部材のクリーニング性を維持しつつ、帯電部材と接した状態で長期に保管した場合でも、帯電部材を汚染しにくく、濃度むら等の画質欠陥の発生を抑制する帯電部材清掃部材を提供する。 - 特許庁
To provide a corrosion resistant member coated with a coating film free from generation of a film defect such as a crack and capable of enhancing corrosion resistance, to provide a vapor deposition device, to provide a vapor deposition method and to provide a coating method.例文帳に追加
クラック等の膜欠陥が発生するおそれが無く、耐食性を大きく向上させることができるコーティング膜が施された耐食性部材、気相成長装置、気相成長方法及びコーティング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a semiconductor processing apparatus and a diagnostic method for the semiconductor processing apparatus capable of diagnosing a defect of reassembling of a process chamber after wet cleaning or a state of the process chamber such as deposition of reaction products and shaved components.例文帳に追加
ウエットクリーニング後の処理室再組み立ての不都合、あるいは反応生成物の堆積、部品の削れ等の処理室の状況を診断することのできる半導体処理装置及び半導体処理装置の診断方法を提供する。 - 特許庁
To provide a process for producing a polycarbonate resin composition having stable productivity upon production, excellent appearance without causing a surface defect such as a silver streak and stable flame retardancy, and to provide a molded article obtained by injection-molding the polycarbonate resin composition.例文帳に追加
製造時の生産性が安定し、また、シルバーストリーク等の表面欠陥の発生がなく、外観性に優れ、かつ、安定した難燃性を有するポリカーボネート樹脂組成物の製造方法及びそれを射出成形して得られた成形品を提供する。 - 特許庁
The confocal differential interference image shows unevenness change of approximately several nm of a sample surface in the form of a luminance distribution, so a crystal defect appearing on the SiC substrate surface or epitaxial layer surface is detected based upon the luminance distribution.例文帳に追加
共焦点微分干渉画像は、試料表面の数nm程度の凹凸変化を輝度分布として表すので、SiC基板表面又はエピタキシャル層表面に出現した結晶欠陥を、輝度分布に基づいて検出することができる。 - 特許庁
To provide a laminated ceramic electronic component which prevents inner defect during baking such as delamination and crack, prevents crack in a thermal impact test, is excellent in print property of conductive paste, and has small characteristic dispersion, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
デラミネーション、クラックなどの焼成時の内部欠陥を防止するとともに、熱衝撃試験におけるクラックを防止し、かつ導電性ペーストの印刷性が良好で、特性ばらつきが小さい積層セラミック電子部品及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
Preferred embodiments of the present invention can be used to rapidly navigate to one single bit cell in a memory array or similar structure, for example to characterize or correct a defect in individual bit cells in the memory array or similar structure.例文帳に追加
例えばメモリ・アレイまたは類似の構造内の個々のビット・セルの欠陥を特徴づけまたは補正するために、本発明の好ましい実施形態を使用して、メモリ・アレイまたは類似の構造内の単一のビット・セルへ迅速にナビゲートすることができる。 - 特許庁
To provide a camera, which has a lens frame unit containing driving mechanisms so that a defect of the lens frame can be detected in an early production stage and minimizes the scale of an electric circuit to suppress the rise of the cost, and an electric driving unit.例文帳に追加
カメラのレンズ鏡枠の不良を早い工程で検出可能なようにレンズ鏡枠単体で駆動機構の簡潔したカメラであり、電気回路の規模を最小限に抑えコストアップを抑えたカメラと電動駆動ユニットを提供すること。 - 特許庁
The wafer appearance inspection device 201 includes: a measuring stage 205; a monitor camera 203 for imaging a surface shape of a wafer 204 placed on the stage; and a control computer 202 for executing detection processing of surface shape defect of the wafer 204.例文帳に追加
ウェーハ外観検査装置201は、測定ステージ205と、その上に載置されたウェーハ204の表面形状を撮像するモニタカメラ203と、ウェーハ204の表面形状欠陥の検出処理を実行する制御用コンピュータ202を備える。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device which eliminates the need for tapering a connection hole by wet etching to reduce the aspect ratio of the connection hole and can reduce the generation rate of a connection hole formation defect.例文帳に追加
本発明は、接続孔のアスペクト比を低減するために、ウェットエッチングにより接続孔にテ−パを施す必要がなく、接続孔形成不良の発生率を低減することができる半導体装置の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide a lighting device for inspection which is capable of irradiating a long-sized object to be inspected like a cable with uniform illuminance so that a defect of appearance can be stably detected by an image processing system, when inspecting the appearance of the object to be inspected.例文帳に追加
ケーブルのような長尺物の被検査物の外観検査を行うに当たって、画像処理システムで安定して外観の欠陥を検出できるよう、一様な照度で被検査物を照射することができる検査用照明装置を提供する。 - 特許庁
In the case the defective pixel is found out with dynamic operating inspection or the like, the laser irradiation is performed through the gouged out parts 11, 21 related to the defective pixel from the display surface side so as to short-circuit a source electrode 41 and a gate electrode 42 and the defective pixel turns into an unlit defect.例文帳に追加
点灯検査等により欠陥画素が発見された場合、該欠陥画素に係る抜き部11,21を通じて、表示面側からレーザー照射を行うことにより、ソース電極41とゲート電極42とを短絡させて、滅点化を行う。 - 特許庁
To provide an surgical microscope capable of being simply and rapidly subjected to equilibration and especially avoiding the defect of an existing device like the attachment of an additional weight or the joining with an arm or the like only on the side of one of the opposed parts (side surfaces) of the microscope.例文帳に追加
平衡化を簡単かつ迅速に行うことができ、かつとりわけ付加重りの取り付けや顕微鏡の相対する部分(側面)の一方側のみでのアーム等との結合のような既知の装置の欠点を回避する手術顕微鏡。 - 特許庁
When conducting the marking, the rotary actuator 180 rotates the marker 183 to advance the marker 183 to a position opposed to the defect portion and the elevation mechanism 182 make the marker 183 go down to a position where the marker 183 abuts on the substrate 90.例文帳に追加
マーキングを行う場合には、ロータリーアクチュエータ180がマーカ183を回動させることにより、マーカ183を欠陥箇所に対向する位置に進出させ、昇降機構182がマーカ183を基板90に当接する位置に降下させる。 - 特許庁
To provide a liquid crystal display device in which the probability of correction of a defect in a display area is improved by lowering the probability of occurrence of a short circuit at crossing parts of rescue wiring and signal lines of the liquid crystal display device provided with thin film transistors.例文帳に追加
薄膜トランジスタを備えた液晶表示装置のレスキュー配線と信号線の交差部での短絡の発生確率を低下させ、表示領域の欠陥の修正が可能となる確率を向上させた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
Then, the film 106 is patterned to form the film 106 into island-like silicon layers 108 and thereafter, a thermal oxidation treatment of the layers 108 is performed in an oxidizing atmosphere containing a halogen element, whereby island-like silicon layers 109 from which a trap level and a defect are removed, are obtained.例文帳に追加
次に単結晶シリコン薄膜106をパターニングして島状シリコン層108とした後、ハロゲン元素を含む酸化性雰囲気中で熱酸化処理を行うことで、トラップ準位や欠陥の除去された島状シリコン層109を得る。 - 特許庁
To provide a pattern forming method, a substrate processing method, a replication method of a mold structure, which can duplicate the mold structure with high precision by single imprint, is low in defect generation and can form a micropattern efficiently, and the mold structure.例文帳に追加
モールド構造体の複製を1回のインプリントで高精度に行え、欠陥の発生が少なく、微細パターンを効率よく形成することができるパターン形成方法、基板加工方法、モールド構造体の複製方法、及びモールド構造体の提供。 - 特許庁
To obtain a defect-free welded body in a butt welding method by a friction stir welding method between metallic materials, between organic materials, or a metallic material and a organic material, different in physical characteristics or mechanical characteristics.例文帳に追加
物理的特性または機械的特性の異なる金属材料同士,有機系材料同士または金属材料と有機材料とを、摩擦攪拌接合方法によって突合せ接合する方法において、欠陥のない健全な接合部を得る。 - 特許庁
To stably grow an Si single crystal having no defective region by clearly detecting the type of a defective region or a defect-free region of an Si single crystal grown with a certain pull speed profile and feeding back such data for the subsequent pulling.例文帳に追加
ある引き上げ速度プロファイルで育成されたSi単結晶の欠陥領域あるいは無欠陥領域のタイプを明確に検出し、このデータを次の引き上げにフィードバックすることよって、欠陥領域のないSi単結晶を安定して育成する。 - 特許庁
To provide a cargo protective member wherein a shock and vibration can be effectively prevented to keep a cargo from being broken or damaged, movement due to a shift of the cargo is suppressed, and a defect of a precision instrument due to static electricity can be prevented from occurring.例文帳に追加
衝撃や振動を効果的に防止して、荷物の破損や損傷を防止するとともに、荷物のズレによる移動を抑止し、かつ静電気による精密機器の欠陥の発生を防止することができる荷物保護部材を提供すること。 - 特許庁
A bit which may cause a retention defect of a data retention capability resulting from random changes with time is screened by repeating a pause refresh test for checking a data retention function in the whole chip surface and the whole bits by an optimized frequency.例文帳に追加
データ保持機能を調べるポーズ・リフレッシュ試験を、チップ全面全ビットにおいて、最適化された回数分繰り返すことで、データ保持能力のランダムな経時変化に起因したリテンション不良を生じる可能性のあるビットをスクリーニングする。 - 特許庁
The polarization (alpha)(an angle (alpha) from s-polarization) of light irradiated to a sample, an object under defect detection, is calculated by substituting the condition of the circuit pattern of the sample, and the azimuth angle, and incident angle of irradiation light into a prescribed formula.例文帳に追加
欠陥検出を行なう被対象物である試料に照射する光の偏光(アルファ)(s偏光からの角度(アルファ))を、試料の回路パターンの条件、照射光の方位角及び入射角を所定の計算式に代入して算出する。 - 特許庁
Since a lower layer electrode 31 formed on the top face of the core 11 is unerringly covered by a light-emitting layer 32 formed on the top face, a defect such as a disconnection or a short circuit can be prevented from occurring in the light-emitting element 30.例文帳に追加
上記構造によれば、コア11上面に形成される下層電極31を、その上面に成膜される発光層32が確実に被覆できるため、発光素子30に断線や短絡という欠陥が発生することを確実に防止できる。 - 特許庁
Then, the kind of a defect is discriminated within the image photographed by the imaging device 1, under the condition where the inspected object is lighted by the oblique light source 4, based on a form of density change in the area of the defective portion, in the image processing part 7.例文帳に追加
その後、画像処理部7は、斜方光源4により検査対象を照明した状態で撮像装置1に撮像された画像内において不良部分を含む領域の濃度変化の形により不良の種類を識別する。 - 特許庁
The magnetic recording layer 3b which needs to be heated or cooled prior to recording is disposed on one surface of a base material 2 provided with a IC module 4, printings 5a and 5b and the like and coated thereon with a masking layer 7b having high thermal conductivity to eliminate the defect.例文帳に追加
ICモジュール4、印刷5a、5b等を備えた基材2の片面に、記録に先立って、加熱もしくは冷却を要する磁気記録層3bを有し、その上を熱伝導性の高い隠蔽層7bで被覆し、課題を解消することができた。 - 特許庁
The pattern inspection device 1 is equipped with an ideal pattern generation part 30 which automatically generates an ideal pattern PR and a comparison decision part 50 which decides a defect of an inspected pattern by using the result of a comparison between the ideal pattern PR and inspected pattern PS.例文帳に追加
パターン検査装置1は、理想パターンPRを自動生成する理想パターン生成部30と、理想パターンPRおよび被検査パターンPSとの比較結果を用いて被検査パターンの欠陥を判定する比較判定部50とを備えている。 - 特許庁
To obtain large relieving efficiency with small area by using a common fuse set for row/column common relieving for arbitrary one side of row relieving or column relieving, according to that the defect of row being more or the defects of column being more in a memory chip and to enhance relieving efficiency.例文帳に追加
メモリチップにロウ不良が多いかカラム救済が多いかに応じてロウ/カラム共通救済用フューズセットをロウ救済あるいはカラム救済の任意の一方に使用し、救済の効率を高め、少ない面積で大きな救済効率を得る。 - 特許庁
To provide a weighing system for diagnosing quickly an abnormality of a weighing head in a weighing head abnormality diagnosis mode for generating a state wherein a specific weighing head supposed to be a cause of weighing defect is used without fail.例文帳に追加
計量不良の要因と想定される特定の計量ヘッドを必ず使用する状況を作り出すという計量ヘッド異常診断モードによって、その計量ヘッドにおける異常の存否を迅速に診断する計量システムを提供する。 - 特許庁
To provide an ultraviolet irradiation device which can cure good an ultraviolet curable color ink of a plurality of colors adhered on a recording medium for the purpose of multi-color printing such as full-color printing without the defect of bleeding and color mixture caused.例文帳に追加
フルカラー印刷等の多色印刷のために記録媒体上に付着された複数色の紫外線硬化型のカラーインクを、にじみや色混じりという不具合を招くことなく、良好に硬化させることのできる紫外線照射装置を提供する。 - 特許庁
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