「Design process」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a production line using a work-in-flat-flowing-process stocker, which can efficiently design a layout of production facilitates for factory construction without restrictions on a factory building size etc., and can reduce the number of units and the cost in conveyance facilities.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、工場建屋サイズ等の制約によらず、工場建設の際に効率的な生産設備のレイアウト設計を可能とすると共に、搬送設備のユニット数や費用を少なくすることが可能な平面型ストッカーを用いた生産ラインを提案するものである。 - 特許庁

To provide a method of correcting mask patterns of a photomask to be used in a photolithography process step in manufacturing a conductor integrated circuit, etc., having fine circuit patterns in such a manner that transfer patterns approximate to desired design patterns can be obtained by improving the dimensional uniformity of the transfer patterns.例文帳に追加

微細な回路パターンを有する導体集積回路等を製造する際のフォトリソグラフィ工程において使用するフォトマスクについて、転写パターンの寸法均一性を向上させて所望の設計パターンに近い転写パターンが得られるようにマスクパターンを補正する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a schedule planning device for planning, from an initial stage of a design, a personnel plan and a schedule plan so that a main assembly process and a plurality of sub-assembly processes are performed in parallel, main assembly and sub-assembly can be synchronized in a merge point, and a total production period is minimized.例文帳に追加

メイン組立工程と複数のサブ組立工程を並行して作業し、合流ポイントでメイン組立とサブ組立の同期化が可能で、且つ総合工期が最短となるような人員計画及び日程計画を、設計の初期段階から立案する日程計画立案装置を得る。 - 特許庁

The pattern forming method has a step ST12 for preparing a reference table in which the relation between a distance between edges of a pattern and a process margin index value is defined for each portion of defining the distance between edges; and a step ST13 for forming a design pattern by referring to the relation defined in the reference table.例文帳に追加

パターンのエッジ間距離とプロセス裕度指標値との関係がエッジ間距離規定箇所毎に規定された参照テーブルを用意する工程ＳＴ１２と、参照テーブルに規定された前記関係を参照して設計パターンを作成する工程ＳＴ１３とを備える。 - 特許庁

To provide an air tube structure capable of exerting a relatively high load bearing capacity, without the use of a cumbersome manufacturing process using cutting and jointing of a planar membrane material and without adopting the use of a special joining member, an increase in internal pressure or a design with large-section dimensions.例文帳に追加

平面膜材の裁断及び接合による煩雑な製作過程を用いず、しかも、特殊な接合部材の使用や、内圧の増大、或いは、大断面寸法の設計を採用することなく、比較的高い荷重支持能力を発揮し得るエアチューブ構造物を提供する。 - 特許庁

To provide a lighting unit, capable of dispensing with such a complicated process as to work on a ceiling installation substrate face and a structural skeleton by solving such a problem that a ceiling face and a luminaire lack uniformity in design, and a construction method for a ceiling using the lighting unit.例文帳に追加

天井面と照明器具とが意匠的な統一感に欠けるような問題を解消し、天井施工下地面や構造躯体に対して手を加えるような煩雑な工程を不要にできる照明ユニット、及び照明ユニットを用いた天井の施工方法を提供する。 - 特許庁

This vehicle interior trim skin material has the design for enabling weight reduction by improving the recyclability by eliminating an adhesive process of urethane by being directly adhered to the base material layer without interposing the urethane layer by applying raising 4 to the reverse side of the skin material as a vehicle interior trim material of an automobile.例文帳に追加

自動車等の車両内装材としての表皮材の裏側に起毛４を施し、ウレタン層を介さずに直接基材層と接着させ、ウレタンの接着工程を省き、リサイクル性を向上し、軽量化を実現する意匠性のある車両内装用表皮材。 - 特許庁

The consultant side 13 derives a means for reducing the difference on the basis of the design data, the difference, and the manufacturing process information, and calculates the cost and time required for the derived means and a reduction effect for a manufacturing cost obtained by reducing the difference.例文帳に追加

コンサルタント１３側は、前記設計データ、差異、及び製造工程情報に基づいて、前記差異を縮小する手段を求め、求めた前記手段に対して必要な費用及び時間、及び前記差異を縮小した場合に得られる製造費用削減効果を算出する。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shielding sheet with a new structure, which has a novel grounding structure which makes direct connection to an outer earth terminal possible, which achieves reduction in the cost of a plasma display device without applying a special design to and giving a consideration to the plasma display, and on which a scratch is not easily made in a manufacturing process.例文帳に追加

外部のアース端子との直接の接続が可能となる新しい接地構造を有し、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の電磁波シールドシートを提供する。 - 特許庁

Mutual heat interference by two heaters is offset by a correction process of approximating it using combination of transfer functions only with primary delay, a first compensator PID_1(s), a second compensator PID_2(s) are connected as control systems independent of each other to design the control systems.例文帳に追加

２本の加熱ヒータによる相互の熱干渉を一次遅れのみの伝達関数の組み合わせを用いて近似する補正プロセスによって相殺するとともに、それぞれ独立した制御系として第１補償器ＰＩＤ_１（ｓ）、第２補償器ＰＩＤ_２（ｓ）を接続して制御系の設計を行なう。 - 特許庁

To make a condition set efficiently, to shorten an inspection time, and to enhance reliability of inspection, in a circuit pattern inspection device for inspecting a defect, a foreign matter, a residue or the like in the same design pattern of a semiconductor device on a wafer under a production process for the semiconductor device, by an electron beam.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上の半導体装置の同一設計パターンの欠陥，異物，残渣等を電子線により検査する回路パターン検査装置において、条件設定の効率、検査時間の短縮及び検査の信頼性を向上する。 - 特許庁

In the process for forming the mask for exposure, correction is performed as necessary so as to allow the widths of mask patterns 153, 154 arranged at least at either one of formation planning positions among a plurality of line patterns 53 for grounding and a plurality of line patterns 54 for a power source, to be set to a size being not more than a design value.例文帳に追加

露光用マスク作成工程では、複数のグランド用ラインパターン５３及び複数の電源用ラインパターン５４のうちの少なくともいずれかの形成予定位置に配置されるマスクパターン１５３，１５４の幅を設計値以下の大きさに設定する補正を、必要に応じて実施する。 - 特許庁

To provide a game machine capable of simplifying a production process by eliminating the need of an adjusting work to mechanically change a detection position of the rotation origin of an annular reel, and reducing apparatus cost by the simplification of the annular ring structure and the simplification of design caused thereby.例文帳に追加

環状リールの回転原点の検出位置を機械的に変更する調整作業を不要として生産工程を簡略化できると共に、環状リールの構造の簡略化とそれに伴う設計の簡易化とにより、装置コストを低減することができる遊技機を提供すること。 - 特許庁

To form an excellent image without causing faulty transfer around a rising part on the surface of an image forming article and other evils even when obtaining the image forming article having the rising part on its surface, which is good in design and the feel of touch, as the output object of an image forming apparatus by an electrophotographic process.例文帳に追加

電子写真プロセスによる画像形成装置の出力物として、デザイン性及び触感性に優れた、表面に隆起部のある画像形成品を得る際にも、隆起部周辺における転写不良や、その他弊害を発生させず、良好な画像を形成することを目的としている。 - 特許庁

A source code automatically generating apparatus 10 compares a source code fragment with the corresponding source code part before the regeneration registered with the source code memory section 20 whenever it generates the source code fragment in the process of generating each source code, based on the template A and the design information B.例文帳に追加

ソースコード自動生成装置１０は、テンプレートＡと設計情報Ｂとに基づいて各ソースコードを生成する過程において、ソースコード断片を生成する毎に、そのソースコード断片とソースコード記憶部２０に登録されている対応する再生成前ソースコードの該当部位とを比較する。 - 特許庁

To provide a powder coating composition which is adaptable to any powder coating material, can be produced easily at a low cost without changing the production process, and can form a satin-like uneven-patterned coating film with high design properties expressed by a homogeneous, compact, and fine pattern.例文帳に追加

任意の粉体塗料に適用可能で、製造工程を何ら変更する事無く容易且つ安価に粉体塗料を得ることができ、均一かつ緻密で微細な模様で表現される、意匠性の高いサテン調の凹凸模様塗膜を形成する粉体塗料組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shield sheet with a new structure, which has a novel grounding structure which makes direct connection to an outer earth terminal possible, which achieves reduction in the cost of a plasma display device without applying a special design to and giving a twist to the plasma display, and on which a scratch is not easily made in a manufacturing process.例文帳に追加

外部のアース端子との直接の接続が可能となる新しい接地構造を有し、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の電磁波シールドシートを提供する。 - 特許庁

To provide a holding jig with which the number of processing wafers can easily be increased without remarkably changing a design of a device and a boat, and effective use and productivity of process gas can be improved, and to provide a manufacturing device of the semiconductor wafer and a mounting method of a semiconductor substrate and the holding jig.例文帳に追加

装置及びボートの大幅な設計変更を行わずに、容易に処理枚数を増加することができ、プロセスガスの有効利用と生産性とを向上することのできる保持治具、半導体ウェーハの製造装置、半導体基板及び保持治具の搭載方法を提供する。 - 特許庁

Then, by evaluating the trially manufactured molding object 50 in terms of design or function in the exact size by using the molding display system 1 in a product-designing process, the product in accord with sense of a designer can be manufactured and the designing period can be shortened.例文帳に追加

そして、製品設計の過程で造形ディスプレイシステム１を用いて試作された造形対象物５０を、実寸大にてデザイン的又は機能的に評価することで、設計者の感性に合致した製品を造りだすことができるとともに、その設計期間の短縮化が図れる。 - 特許庁

This system is applied to a system design support device for handling specifications at the system level such as specifications of software to be executed by a computer, specifications of hardware combining semiconductor elements, specifications of an incorporating system incorporating the software and hardware, and specifications of business process such as a workflow.例文帳に追加

計算機で実行されるソフトウエアの仕様、半導体素子等を組み合わせたハードウエアの仕様、ソフトウエアとハードウエアとを組み合わせた組み込みシステムの仕様、ワークフロー等のビジネスプロセスの仕様などについてのシステムレベルでの仕様を扱うシステム設計支援装置に適用される。 - 特許庁

The repeated process includes to replace at least one unirradiated fuel bundle selected at least currently unirradiated fuel bundle for every fuel location and to simulate reactor action concerning the reference core design for obtaining a plurality of powers.例文帳に追加

反復プロセスは、燃料場所ごとに、現在未照射燃料バンドルのうちの少なくとも１つを選択された未照射燃料バンドルのうちの少なくとも１つと置き換えることと、複数の出力を得るために基準炉心デザインについて原子炉動作をシミュレートすることとを含む。 - 特許庁

Thereby, since it is unnecessary to detach and attach a wire harness for connecting an occupant detection sensor 11 and an electronic unit as before when the seat 12 is detached from and attached to an automobile, it is possible to reduce the manufacturing process and to improve the degree of freedom of seat layout design.例文帳に追加

これにより自動車に座席１２を着脱する際に、従来のように乗員検知センサ１１と電子ユニットとを接続するためのワイヤーハーネスを着脱する必要がなくなり、製造工程の軽減を図るとともに、設計の座席レイアウトの自由度の向上を図ることができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a dye-sensitized solar cell capable of obtaining a reliable dye-sensitized solar cell with excellent design property without leakage of an electrolyte and realizing simplification of a manufacturing process and to provide a dye-sensitized solar cell.例文帳に追加

意匠性に優れるとともに、電解質が漏出することがなく信頼性の高い色素増感太陽電池を得ることができ、かつ、製造工程の簡略化を実現できる色素増感太陽電池の製造方法及び色素増感太陽電池を提供することを目的とする。 - 特許庁

To improve efficiency of condition setting, to shorten inspection time, and to improve reliability of an inspection, in a circuit pattern inspection device for inspecting, with an electron beam, a defect, foreign substance, residue, or the like of the same design pattern of a semiconductor device on a wafer in a manufacturing process of the semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上の半導体装置の同一設計パターンの欠陥，異物，残渣等を電子線により検査する回路パターン検査装置において、条件設定の効率、検査時間の短縮及び検査の信頼性を向上する。 - 特許庁

To produce a fuel tank excellent not only in mechanical capacity and lightweight properties but also in fuel impermeability with high moldability (the enhancement of the degree of freedom of a design and wall thickness uniformity, the shortening of a molding cycle and the reduction of a recycling ratio in a process).例文帳に追加

機械的性能及び軽量性に優れ、さらに燃料透過防止性にも優れた燃料タンクを、高い成形性（デザイン自由度の向上、肉厚の均一性の向上、成形サイクルの短縮化、工程内リサイクル率の低減化）により製造する方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

A part of the whole surface where the surface of the planar part 3 is added to the surface of the imitation stone-like partitions 21 constituting the stone fence design part 2 is formed as an antifouling face 4 where the fair-faced concrete is treated with an antifouling process and also other parts are left, as a fair-faced concrete face as it is.例文帳に追加

石垣デザイン部を構成する擬石状区画部の表面と平面部の表面を合わせた全表面のうち、一部の表面がコンクリート地肌を汚損抑制処理した汚損抑制面４に形成され、残りの表面がコンクリート地肌のままの地肌面５に形成されている。 - 特許庁

To provide an inorganic fiber molded board having characteristics such as good handling property in execution of work and low flexure while having design property as a building interior material without adding a new process for enhancing the strength of the inorganic fiber molded board.例文帳に追加

無機繊維成形板の強度を高くするための新たな工程を付け加えることなく、かつ建築内装材としての意匠性を持ちつつ、施工時のハンドリング性が良く、さらにたわみが小さいという特性を備えた無機繊維成形板を提供することを課題とする。 - 特許庁

In assessing the operation of process-level controls which were indicated as effective by the results of the previous fiscal year’s assessment of internal controls, if there are no items which should be additionally verified, e.g. no significant changes in the design of those process-level controls, then consider performing efficient procedures, such as using the management’s assessment results and the sample selected in the management’s assessment. 例文帳に追加

なお、前年度において、内部統制の評価結果が有効であった業務プロセスに係る内部統制の運用状況の評価に当たっては、当該業務プロセスに係る内部統制の整備状況に重要な変更がないなど新たに確認すべき事項がない場合、経営者が評価において選択したサンプル及びその評価結果を利用するなど効率的な手続の実施に留意する。 - 金融庁

(m) "Infringement of Patent" means any violation of any of the rights of patentees and holders of utility model patents and industrial design registrations under Part II of the IP Code and/or the applicable IP Law, including the act of making, using, offering for sale, selling, or importing a patented product or a product obtained directly or indirectly from a patented process, or the use of a patented process without the authorization of the patentee;例文帳に追加

(m) 「特許の侵害」とは，IP 法第2 部及び／又は適用するIP 法律に基づく特許権者並びに実用新案特許及び意匠登録の所有者の権利の侵害をいい，特許権者の許可を得ないで，特許製品，若しくは特許方法により直接的若しくは間接的に得られた物の生産，使用，販売の申出，販売若しくは輸入をする行為又は特許方法を使用する行為を含む。 - 特許庁

Then, the process flow data indicating the design process flow is stored in a memory (S109).例文帳に追加

そして、データの種類を示すデータ情報、データが入力か出力かを示す入出力情報、データを入力または出力する設計工程の工程情報が記録され、製品の機能を示す機能情報、キーデバイスを示すデバイス情報が記録可能なレコードが複数格納された入出力データDB 21を参照して、製品情報に基づき製品の設計工程フローを設定し(S104-S108)、設計工程フローを示す工程フローデータをメモリに格納する(S109)。 - 特許庁

In this filter design method by directly approximating a transfer function of the FIR filter having the minimum phase transition characteristic by using the sequential projection process, the restriction of a predetermined condition is given to a step size necessary in updating the n-th coefficient of the sequential projection process, and a root of the transfer function is limited on a unit circle or in a unit circle.例文帳に追加

この発明に係るフィルタの設計方法は、逐次射影法を用いて最小位相推移特性を有するＦＩＲフィルタの伝達関数を直接近似することによりフィルタを設計する方法において、前記逐次射影法のｎ回目の係数更新の際に必要となるステップサイズに所定の条件の制限を与え、伝達関数の根を単位円上あるいは単位円内に制限する。 - 特許庁

The Special Committee on Measures to Stop Falling Birth Rate under the Social Security Council developed basic concepts toward future discussions on the detailed system design, including (i) the need to enhance the quantity of services that have been established in terms of quality and (ii) the need to review the mechanisms through which childcare services are provided, such as the criteria to identify the "lack of childcare", contracts and other schemes for use. Based on these basic concepts, the government intends to swiftly forge ahead with the process of detailed system design.例文帳に追加

社会保障審議会少子化対策特別部会において、①「質」が確保されたサービスの「量」の拡充を目指す必要があること、②「保育に欠ける」要件や、契約等の利用方式など、保育のサービス提供の仕組み について見直しが必要であること等、今後の具体的な制度体系設計の検討に向け基本的考え方を取りま とめており、この「基本的考え方」に基づき、速やかに具体的制度設計を進めることとしている。 - 厚生労働省

A method of manufacturing a superconductive conductive coil obtained by winding a superconductive wire or a bundled conductor 21a formed by bundling the superconductive wires so as to make a plurality of turns has a design process to optimize design variables including at least a distance between the turns and relating to the superconductive coil to be manufactured so that the used length of the superconductive wire or the bundled conductor 21a is minimized under predetermined constraints.例文帳に追加

超電導線材もしくは超電導線材を束状にしてなるバンドル導体２１ａを、複数ターン巻回したものからなる超電導コイルの製造方法であって、そのターン間の距離を少なくとも含む、製造すべき超電導コイルに関する設計変数を、予め定められた制約条件下において、超電導線材もしくはバンドル導体２１ａの使用長さが最小化するように、最適化する設計工程を有していることを特徴とする。 - 特許庁

The accuracy of design values of a substrate or a molding 1 or a circuit pattern 11 formed on the substrate or the molding 1 is evaluated based on the positions or feature amounts of feature points obtained from an image picked up from the substrate or molding 1 forming the circuit pattern 11 and the evaluated result is used for the control of process conditions.例文帳に追加

回路パターン１１を形成した基板または成形品１を撮像した画像から得た特徴点の位置もしくは特徴量に基づき、基板または成形品あるいはその上に形成された回路パターンの設計値に対する精度を評価し、その評価結果を工程条件の制御に用いる。 - 特許庁

To provide a redundancy operation detecting device and a method for inserting operation stoppage circuit capable of detecting a circuit which operates statically in a non-operation mode and inserting an operation stoppage circuit in a spot to realize low power consumption in a circuit design process to realize low power consumption of a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路の低消費電力実現のための回路設計工程における、低消費電力実現の部分に、静的に非動作モード時に動作してしまう回路を検出し、動作停止回路を挿入する冗長動作検出装置および動作停止回路の挿入方法を提供する。 - 特許庁

Pattern data acquired from pattern design data 111 are decomposed into fundamental patterns (121), and each detection output of the fundamental patterns is calculated, by adding process condition data 112, material constant data 113 and a device parameter 115 (122), and each detection output of the fundamental patterns is integrated to generate an estimation image (124).例文帳に追加

パターン設計データ１１１から得られるパターンデータを基本パターンに分解（１２１）し、プロセス条件データ１１２、材料定数データ１１３、装置パラメータ１１５を加味して基本パターンの検出出力の計算を行い（１２２）、基本パターンの検出出力を統合して推定画像を作成する（１２４）。 - 特許庁

To adequately and easily generate analysis information for use in performance analysis of products such as a factorial effect analysis by constructing an appropriate user interface in the prior and post steps of an automated analysis process for successively executing multiple times a numerical analysis for a numerical model being constructed on the basis of design constraint, etc.例文帳に追加

設計制約等に基づき構築した数値モデルに対する数値解析を逐次的に複数回実行する自動解析プロセスの前後段階に適切なユーザインターフェースを構築して、要因効果分析など製品の性能解析のための解析情報を適切かつ容易に生成できるようにする。 - 特許庁

As for a design flow, the appearance position section of each node is specified based on a distance from a start point and a distance from an end point, and as for a task result flow, grouping is executed based on the most frequent appearance position section in which an event type included in a process instance appears, and the most frequent appearance group is specified.例文帳に追加

設計フローについては各ノードを始点からの距離及び終点からの距離に基づき出現位置区間を特定し、業務実績フローについてプロセスインスタンスに含まれるイベント種が出現する最頻出現位置区間に基づきグループ分けを実施して最頻出現グループを特定する。 - 特許庁

(2) In a producing process of the disk 30 of this producing method of the high design wheel 10, the disk flange 31 extending over the entire circumference along the circumferential direction and extending inward along the axial direction is formed, and the decorative hole 32 having the vertical wall 33 is formed by squeezing the hole peripheral end part outward along the disk axial direction after piercing the disk.例文帳に追加

（２） ディスク３０の製造工程で、ディスク３０に、周方向に全周にわたって延びかつ軸方向内側に延びるディスクフランジ３１を形成するとともに、ディスクに穴抜き後穴周縁部をディスク軸方向外側にしごいて立壁３３をもつ飾り穴３２を形成する、高意匠ホイール１０の製造方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of an article with a patterned defogging effect to afford high-design characters, by virtue of temperature and moisture changes, to glass or transparent plastic for a window or a shop window, an inward viewable see-through article such as a show case or a glass tumbler, or a reflexible article of high surface brightness such as a mirror and the like.例文帳に追加

窓やショーウインドウ等に用いられるガラスや透明プラスチック、ショーケースやガラスコップ等の内部が透視できる透視性物品或いは鏡その他表面輝度の高い反射性物品に、温湿度の変化を利用して高い意匠性を付与し得るパターン状に防曇効果を有する物品の製造方法を提供する。 - 特許庁

A manufacturing process for a resin made masking material 1 using a die, wherein the die for molding the resin made masking material 1 to protect a masked section 3 of a masking object 2 is prepared by using CAD data on a design of the masking object 2.例文帳に追加

マスキング対象部材２の設計に関するＣＡＤデータを用いて該マスキング対象部材２の被マスキング部位３を保覆する樹脂製マスキング材１を成形するための成形型を製造し、該成形型によって樹脂製マスキング材１を成形する樹脂製マスキング材１の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor chip with an adhesive layer, relaxing the limitation of a mixture design for an adhesive even when the method for manufacturing the semiconductor chip with the adhesive layer includes a process of cutting work by using a tool bit, suppressing the generation of the water absorption of the adhesive layer and voids, and achieving the high reliability of a semiconductor device.例文帳に追加

バイトを用いて切削加工する工程を有していても接着剤の配合設計の制限を緩和することができ、接着剤層の吸水及びボイドの発生を抑制して、半導体装置の高信頼性を実現することのできる接着剤層付き半導体チップの製造方法を提供する。 - 特許庁

e. The board of directors, corporate auditors or audit committee cannot supervise, monitor or examine internal control over financial reporting effectiveness due to the lack of records on the design of internal controls, such as records on the process flow, identification of misstatement risks or internal controls over risks. 例文帳に追加

ｅ．業務プロセスに関する記述、虚偽記載のリスクの識別、リスクに対する内部統制に関する記録など、内部統制の整備状況に関する記録を欠いており、取締役会又は監査役若しくは監査委員会が、財務報告に係る内部統制の有効性を監督、監視、検証することができない。 - 金融庁

To provide a manufacturing method for a bicycle frame member and a bicycle capable of enhancing rigidity in a manufacturing process without requiring dies or machining, having sufficient anti-scratch performance and anti-abrasiveness, and has enhanced design quality and high accuracy.例文帳に追加

金型や機械加工を必要とせず、製造工程において剛性を向上させることが可能で、十分な耐スクラッチ性あるいは耐摩耗性を有し、意匠性の向上した高精度の自転車フレーム用部材を生産することができる自転車フレーム用部材の製造方法及び自転車を提供すること。 - 特許庁

To eliminate the necessity of a high voltage regulator by simply providing a simple outside attaching element out of an IC for an abnormal voltage from a DC power supply having possibility of generating an unexpected abnormal voltage, to reduce the overvoltage resistance of the IC and to facilitate a process design including an overvoltage limiting circuit.例文帳に追加

予期せぬ異常電圧を発生してしまうおそれのある直流電源からの異常電圧を、ＩＣ外部に簡単な外付け素子を設けることにより、高耐圧レギュレータを不要とするとともに、ＩＣの過電圧耐量を低減し、かつ過電圧制限回路を含めてプロセス設計を容易にすること。 - 特許庁