First Stageの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3752件
When a wiring groove 8 and a contact hole 6 are formed on a substrate 1 with different depth using a dual damascene method, a first stopper film 9 is formed on the top layer of the film, and a second stopper film 4 is formed at such position as depth of the bottom part of the wiring groove 8, with formation of the wiring groove 8 performed in separate 2-stage processes.例文帳に追加
デュアルダマシン法を用いて、基板1上の膜に配線溝8及びコンタクトホール6をそれぞれ深さを異ならせて形成するにあたって、前記膜の最上層に第1のストッパー膜9を形成し、配線溝8の底部深さ位置に第2のストッパ膜4を形成し、配線溝8の形成を2段階の工程に分けて行う。 - 特許庁
A gain is switched stepwise by a first variable gain amplifier 31, and an analog signal is converted into a digital signal by a A/D (analog/digital) converter 32, and level adjustment is operated by a gain control signal output circuit 34 so that the optimal signal level can be set by a circuit connected to the post stage by a second variable gain amplifier 33.例文帳に追加
第1の可変利得増幅器31にて利得を段階的に切り替え、A/D(アナログ/デジタル)変換器32にて、アナログ信号をデジタル信号に変換し、第2の可変利得増幅器33では、後段に接続される回路にて最適な信号レベルになるように、利得制御信号出力回路34にてレベル調整を行う。 - 特許庁
In a stage prior to inserting the lead frame 10 (first lead frame 211) into the element through-hole 84, the insulating separator 82 is used, and the lead frame 10 is arranged with respect to the inside separator 185 being a portion of the insulating separator 82, whereby a relative position between the inside separator 185 and the lead frame 10 can be set in a directly and visually recognizable state.例文帳に追加
この絶縁セパレータ82を用いることで、リードフレーム10(第1リードフレーム211)を素子挿通孔84に挿入する前段階において、絶縁セパレータ82の一部である内側セパレータ185に対してリードフレーム10を配置することで、直接視認可能な状況下で内側セパレータ185とリードフレーム10との相対位置を設定できる。 - 特許庁
The D-type Nch MOS transistor DNT2, which forms a differential pair with the D-type Nch MOS transistor DNT1, is connected to a drain of an E-type Nch MOS transistor NT2 of the first stage amplifying circuit 1, and a feedback voltage Ve1 outputted from a high-pass filter composed of a capacitor C2 and a resistor R4 is inputted to the gate.例文帳に追加
D型Nch MOSトランジスタDNT1とは差動対をなすD型Nch MOSトランジスタDNT2は、ドレインが1段目の増幅回路1のE型Nch MOSトランジスタNT2のドレインに接続され、ゲートにコンデンサC2及び抵抗R4から構成されるハイパスフィルターから出力される帰還電圧Ve1が入力される。 - 特許庁
To provide a method capable of separating selectively from other fission products, uranium and plutonium in spent nuclear fuel-dissolved nitric acid solution acquired in the first stage of spent nuclear fuel reprocessing.例文帳に追加
種々の放射性核種を含む硝酸水溶液からウラン及びプルトニウムを分離回収する方法において、従来技術において使用されたリン酸トリブチルに代わり、単座配位活性のある官能基(C=O)を有するN,N−ジアルキルアミドを抽出剤として使用し、更に芳香族炭化水素希釈剤に伴う問題点を改善した方法を提供すること。 - 特許庁
The method of removing the chlorate in the aqueous alkali chloride solution consists in introducing the aqueous chlorate-containing alkali chloride solution to be subjected to a cation exchange membrane process electrolysis of an aqueous alkali chloride solution and the hydrochloric acid into a first stage of reaction chambers of multiple stages connected in series and successively transferring the reaction liquid into the cells of post stages, thereby decomposing the chlorate.例文帳に追加
塩化アルカリ水溶液の陽イオン交換膜法電解に供する塩素酸塩含有塩化アルカリ水溶液と塩酸を、直列につないだ多段の反応槽の第1段目に導入し、反応液を順次後段の槽へ移液して塩素酸塩を分解することを特徴とする塩化アルカリ水溶液中の塩素酸塩の除去方法。 - 特許庁
The dehydrating system comprises a first preheater 3a, a plurality of dehydrating units 1a, 1b, 1c connected in series to a subsequent stage of the preheater and separating water from an organic aqueous solution, and a return means 6 returning a part of the organic aqueous solution having passed through at least one dehydrating units to the dehydrating unit or a dehydrating unit preceding the dehydrating unit.例文帳に追加
第一の予熱器3aと、該予熱器の後段に直列に接続された、有機水溶液から水を分離する複数の脱水装置1a、1b、1cと、一以上の脱水装置を経た有機水溶液の一部を、該脱水装置、または該脱水装置の前段の脱水装置に返送する返送手段6とを含んでなる脱水システム。 - 特許庁
Ignition timing is set after compression top dead center and fuel ignition is divided into two times to perform first fuel injection I1 during compression stroke and to perform second fuel injection I2 during expansion stroke before ignition timing and after compression top dead center at a time of cold start of an internal combustion engine which requires rise of temperature of a catalytic converter at an early stage.例文帳に追加
触媒コンバータの早期昇温が要求される内燃機関の冷間始動時に、点火時期を圧縮上死点後に設定するとともに、燃料噴射を2回に分割して、圧縮行程中に1回目の燃料噴射I1を行い、点火時期前でかつ圧縮上死点後の膨張行程中に2回目の燃料噴射I2を行う。 - 特許庁
Combustion air Aa made to flow in to an air inflow part of a heat transfer pipe unit 5 at the lowest stage is made to diverge into a first flow passage 14 and a second flow passage 16 and flow, and a flow rate of combustion air Ac made to flow in the second flow passage 16 is set lower than that of combustion air Aa made to flow in the overall heat transfer pipe.例文帳に追加
最下段の伝熱管ユニット5の空気流入部に流入した燃焼用空気Aaは、第1流路14と第2流路16とに分かれて流れ、第2流路16を流れる燃焼用空気Acの流量は、伝熱管全体を流れる燃焼用空気Aaの流量に比べて低流量である。 - 特許庁
The contact angle meter 1 includes: a stage 20 placing a sample 2; a first imaging apparatus 30 measuring a contact angle of droplets 4 by imaging the droplets 4 on the sample 2 from a side; and a second imaging apparatus 40 measuring an outline shape in a plan view of the droplets 4 by imaging the droplets 4 on the sample 2 from an upper part.例文帳に追加
本発明に係る接触角計1は、試料2が載置されるステージ20と、試料2上の液滴4を側方から撮像して液滴4の接触角を測定する第1撮像装置30と、試料2上の液滴4を上方から撮像して液滴4の平面視輪郭形状を測定する第2撮像装置40と、を備えている。 - 特許庁
The controller does not supply the mixed gas when the position of the reference mark is detected by the first detector, but it detects the position of the alignment mark in the mixed gas atmosphere, and exposes a resist while driving the substrate stage based on the detected results of the reference mark position and alignment mark position.例文帳に追加
前記制御部は、前記第1検出器により前記基準マークの位置を検出する場合には、前記混合ガスを供給せず、混合ガス雰囲気で、前記アライメントマークの位置を検出し、かつ、前記基準マークの位置の検出結果及び前記アライメントマークの位置の検出結果に基づいて前記基板ステージを駆動しながら前記レジストを露光する。 - 特許庁
When high speed display is instructed and a header includes parameter information indicating that distortion suppression processing is performed only in the preceding stage of the first frequency conversion, the parameter information in the header is rewritten with information indicating that no distortion suppression processing has been performed (S2605), and encoded image data including the rewritten header are decoded (S2606).例文帳に追加
高速表示の指示があり、且つ、ヘッダに最初の周波数変換の前段のみで前記歪み抑制処理が行われていることを示すパラメータ情報があるとき、ヘッダ内のパラメータ情報を、歪み抑制処理が1回も行われていないことを示す情報に書き換え(S2605)、書き換え後のヘッダを含む符号化画像データを復号処理する(S2606)。 - 特許庁
The Pachinko game machine includes an opening/closing drop hole in a crest part of the stage surface so as to communicate with a groove part located directly below, and an opening/closing member turning around a horizontal shaft parallel with a game board and alternately opening/closing the opening/closing drop hole and a drop hole on the inner side to produce a first mode and a second mode.例文帳に追加
パチンコ遊技機において、前記ステージ面の山状部分に、その直下に位置する前記溝部に連通する開閉式落下孔を設け、前記開閉落下孔と、奥側の落下孔とを択一的に開閉して第1態様と第2態様とを現出するように、遊技盤に平行な横軸回りに回動する開閉部材を設けてある。 - 特許庁
Between the place on a stage 30 in a working chamber 23 of the focused ion beam device and a holder 38 of a film-formation chamber 34 of a vacuum evaporation system 23, a target 31 for manufacturing a semiconductor element is moved with a transportation mechanism (a first transportation mechanism 48, an elevating table 64 and a second transportation mechanism 58) through the transportation mechanism chamber 47.例文帳に追加
集束イオンビーム装置の加工室23のステージ30上と真空蒸着装置23の成膜チャンバー34のホルダー38との間で、半導体素子製作用ターゲット31を、搬送機構室47を介して搬送機構(第1搬送機構48,昇降テーブル64及び第2搬送機構58)により移動させる様に成す。 - 特許庁
In this method for manufacturing a mounted substrate wherein the first side and the second side of a substrate are mounted with electronic components, respectively, a soldering paste containing an active thermosetting resin having a thermosetting temperature T3 which is higher than a solder melting point T2 is applied, but only to the second side to be processed at a later stage.例文帳に追加
基板の第1面と第1面の裏側の第2面にそれぞれ電子部品が実装された実装基板を製造する実装基板の製造方法において、活性作用を有し半田融点温度T2よりも高い熱硬化温度T3の熱硬化性樹脂を含む半田接合用ペーストを後に実装対象となる第2面に限定して用いる。 - 特許庁
Concretely, a capacitor C_S branched and electrically connected to an input side of the charge sensitive amplifier CSA in the first stage is provided, and an electrode in a side opposite to the branch side out of two electrodes which constitute the capacitor C_S and face each other is electrically connected to a power source V_Q for variable voltage, whereby the offset voltage is added.例文帳に追加
具体的には、初段の電荷感応型アンプCSAの入力側に分岐して電気的に接続されたコンデンサC_Sを備え、そのコンデンサC_Sを構成する互いに対向した2つの電極のうち、上述した分岐側とは逆側の電極を可変電圧用電源V_Qに電気的に接続することで、オフセット電圧を付加する。 - 特許庁
By respectively providing a first heater 50 and a second heater 52 in the air duct 10, and respectively attaching temperature sensors for controlling them to the air duct 10 and a precise atmosphere chamber 42, two stage temperature control with different temperature resolutions is made possible, and the highly accurate air conditioner 40 with superior controllability can be provided.例文帳に追加
また、エアダクト10に第1の加熱器50と第2の加熱器52を夫々設け、これらを制御するための温度センサをエアダクト10および精密環境チャンバ室42に夫々取り付けることで、温度分解能の異なる2段階の温度制御を可能として、制御性の優れた高精度の空調設備40を提供できる。 - 特許庁
This is an energy absorption structure for a vehicle in which a member to absorb a collision energy is formed in the shape of a column member having a box like section 1, and a tip 1a to be deformed at first upon collision is provided with an initial bending of more than the thickness of plate to thereby reduce the high peak load generating at the initial stage of the deformation.例文帳に追加
衝突エネルギを吸収する部材を箱形断面の柱状部材(箱形断面柱)1とし、衝突時に最初に変形の生じるその先頭部分1aに板厚以上の初期撓みを設けてその変形の初期段階で生じる高いピーク荷重を減少させるようにした車両用のエネルギ吸収構造である。 - 特許庁
A semiconductor wafer SW is placed on a wafer stage 57a in a dry cleaning chamber 57 of a film forming apparatus, a reducing gas is supplied thereto to dry-clean the major surface of the semiconductor wafer SW, and then the semiconductor wafer SW is heat treated at a first temperature of from 100 to 150°C using a shower head 57c kept at 180°C.例文帳に追加
成膜装置のドライクリーニング処理用のチャンバ57に備わるウエハステージ57a上に半導体ウエハSWを置いた後、還元ガスを供給して半導体ウエハSWの主面上をドライクリーニング処理し、続いて180℃に維持されたシャワーヘッド57cにより半導体ウエハSWを100から150℃の第1の温度で熱処理する。 - 特許庁
In dividing the in-plane into two regions to perform crystallization, an optical means in which the intensity distribution of a laser beam is made to be asymmetry in a longitudinal direction is used, and a stage on which the substrate is placed is rotated by 180° in first irradiation and second irradiation, thereby irradiating the in-plane of the substrate with the laser at a laser intensity symmetric centered at a splitting line.例文帳に追加
面内を2領域に分けて結晶化を行なうに当たり、レーザー光の強度分布を長手方向において非対称とする光学手段を用い、1度目の照射と2度目の照射において基板が載るステージを180°回転することにより、基板面内をその分割線を中心に対称となるレーザー強度で照射する。 - 特許庁
sections 15 to 22 of the Ordinance (which provide for the recording in the register of a designated patent application as the first stage of an application for a standard patent) apply in relation to-- 例文帳に追加
条例第15条から第22条まで(標準特許出願の第1段階として指定特許出願を登録簿へ記録することについて規定する)が,指定特許庁における発明特許の出願,及び条例第12条に基づいて当該発明の標準特許出願をする権利を有する者に関して適用されるように,次に関して適用される。 - 特許庁
To reduce exhaust emission in an extremely early stage in engine startup from a first combustion to idle operation start in order to comply latest exhaust emission regulations and future exhaust emission regulations as catalyst performance and accuracy of catalyst control are improved and the amount of exhaust emission in engine startup is dominant as to the exhaust emissions from an engine.例文帳に追加
触媒の高性能化および触媒制御の高精度化が進み、エンジンからの排気は、始動時に排出される量が支配的であり、特に、最新の排気規制のおよび今後の排気規制に適合するためには、初爆の発生からアイドル運転開始までの始動時のごく初期における排気低減が重要な課題となってきている。 - 特許庁
The body part 2 includes: a first energizing member 34 for turning and energizing the retractable lens holding frame 20 in a direction toward the photographing optical axis in the middle stage in the movable area from the advance position to the extension position; and a second energizing member 27 for energizing the retractable lens holding frame 20 in a direction opposite to the direction toward the extension position.例文帳に追加
本体部2には、進出位置から繰り出し位置までの可動領域間の途中段階で、退避レンズ保持枠20を撮影光軸に向かう方向に回動付勢する第1付勢部材34と、退避レンズ保持枠20を繰り出し位置に向かう方向とは逆方向に付勢する第2付勢部材27とが設けられている。 - 特許庁
A simultaneous engagement avoiding control means shifts to a forward third gear speed stage during control by a low voltage failure determination control means, and controls first and second clutch apply relay valves 21, 22 and a solenoid valve S1 to avoid simultaneous engagement of clutches C-1 to C-3 during the continuation of a low voltage state until the occurrence of the low voltage failure is determined.例文帳に追加
同時係合回避制御手段は、低電圧故障確定制御手段による制御中に、前進3速段に変速し、第1、第2クラッチアプライリレーバルブ21,22とソレノイドバルブS1を制御して、低電圧故障発生が確定判定されるまでの低電圧状態の継続中でのクラッチC−1〜C−3の同時係合を回避させる。 - 特許庁
An imaging part 101 has an output part which outputs an image signal at intervals of a first horizontal blanking period shorter than a prescribed horizontal blanking period prescribed by a processing part in a succeeding stage, within a block being the prescribed number of lines N constituting an image, and is capable of outputting an image signal at intervals of a second horizontal blanking period, between blocks.例文帳に追加
撮像部101は、画像を構成する所定の複数ラインNをブロックとし、ブロック内においては後段の処理部により規定される規定水平ブランキング期間よりも短い第1の水平ブランキング期間を空けて画像信号を出力し、ブロック間においては第2の水平ブランキング期間を空けて画像信号を出力可能な出力部を有する。 - 特許庁
The original stator vanes (31) on opposite axial sides of the first stage buckets are removed from the upper casing half (30) and replaced by an additional set of stator vanes (33) providing a non-uniform vane spacing as between the upper and lower halves of the compressor as well as between axially adjacent stages S0 and S1.例文帳に追加
第1段バケットの軸方向に対向する側面に位置する元のステータベーン(31)は、上部ケーシング半体(30)から取り外され、圧縮機の上部及び下部半体の間での並びに軸方向に隣接する段S0及び段S1の間での不均一なベーン間隔を形成するように付加的な組のステータベーン(33)によって置き換えられる。 - 特許庁
To provide a multi-stage compression type rotary compressor of inside high pressure type capable of furnishing inside a sealed vessel with an intermediate communication passage for leading a refrigerant gas at middle pressure compressed by a first rotary compressing element to a second rotary compressing element without worsening the operating efficiency and the compressing efficiency while the performance is well maintained.例文帳に追加
内部高圧型の多段圧縮式ロータリコンプレッサにおいて、運転効率や圧縮効率を悪化させること無く、性能を維持しながら、第1の回転圧縮要素で圧縮された中間圧の冷媒ガスを第2の回転圧縮要素に導くための中間連通路を密閉容器内部に形成することを目的とする。 - 特許庁
The plug is detected the presence of such metal particles at an early stage, whereby the plug includes a preferably non-magnetic intermediate electrode 38, disposed in between the first and second magnetic electrodes, while also being designed to be in contact with the liquid flowing in the liquid circuit, when the magnetic plug is mounted.例文帳に追加
本発明は、第1および第2の電極の間に配置され、磁気プラグが取り付けられたときに液体回路を流れる液体にやはり接触するように設計された、好ましくは非磁性である中間電極(38)を、プラグがさらに含むことで、上記プラグがそのような金属粒子の存在を早期に検出できるようにしたことを特徴とする。 - 特許庁
The start circuit 17 compares the reference voltage 1j of the input signal by which the differential amplifier 11 becomes an interruption state, a first input signal 1a and a second input signal 1b and supplies start auxiliary current to the output stage of the differential amplifier 11 corresponding to the input signal exceeding reference voltage 1j by a current supply means.例文帳に追加
スタート回路17は、差動増幅器11が遮断状態となる入力信号の参照電圧1jと第1の入力信号1aと第2の入力信号1bと比較し、参照電圧1jを超えている入力信号に対応する差動増幅器11の出力段に対して、電流供給手段によりスタート補助電流を供給する。 - 特許庁
In this semiconductor device whose core region of the semiconductor IC comprises CMOS, protective transistor circuits 31 (31B, 31C) and 41 (41D, 41E) of the connection cell for input are constituted of only N-channel transistors, and a transistor 5 on a first stage of incoming signals that have passed the connection cell for input is arranged in the internal core region.例文帳に追加
この発明は、半導体集積回路のコア領域がCMOSで構成された半導体装置において、入力用回路セルの保護トランジスタ回路31(31B、31C)、41(41D、41E)が、Nチャネルトランジスタのみを用いて構成し、前記入力用回路セルを通った入力信号の初段のトランジスタ回路5は、内部コア領域に配置されている。 - 特許庁
In electron irradiation observation from a normal direction on the surface of a wafer WF using a first column 8 of a scanning electron microscope; when it is determined that a defect is caused by releasing, an edge of the wafer WF is moved to an imaging position of the second column 16 of the scanning electron microscope by an XYθ stage 24, and the edge of the wafer WF is observed obliquely.例文帳に追加
走査型電子顕微鏡の第一カラム8によるウェハWF表面の法線方向からの電子照射観察において、欠陥がはがれに起因すると判定される場合に、XYθステージ24によってウェハWFのエッジを走査型電子顕微鏡の第二カラム16の撮像位置に移動し、斜方からウェハWFのエッジを観察する。 - 特許庁
In the high-frequency power amplification circuit used for the radio communication system having the bias-fixed input variable system, temperature dependency in a forward voltage of a diode is utilized for changing the bias voltage of the amplification element in a first stage, so that the gain as the entire high-frequency power amplification circuit is kept constant to the temperature change.例文帳に追加
バイアス固定入力可変方式の無線通信システムに用いられる高周波電力増幅回路において、ダイオードの順方向電圧の温度依存性を利用して、初段の増幅素子のバイアス電圧を、温度の変化に対して高周波電力増幅回路全体としての利得を一定に保つように変化させるようにした。 - 特許庁
The second window display device receives combined video from the first window display devices or lower-stage window display devices, as input video by m video input parts and outputs a combined video which results from combining the input video and reflects display positions and display priorities of windows included in the input video.例文帳に追加
第2のウィンドウ表示装置は、m個の映像入力部に第1のウィンドウ表示装置又は下段のウィンドウ表示装置からの合成映像を入力映像として受け、当該入力映像を合成してなる合成映像であって、当該入力映像に含まれているウィンドウの表示位置及び表示優先度を反映した合成映像を出力する。 - 特許庁
A coat 3 is formed on a surface of a rolled copper foil 2 with metals or an alloy thereof, thereby phenomenon from the formation of an adherence slip band to a first stage crack is relaxed, and thereby the copper foil for a circuit board improved in bending characteristics or having high bending lifetime in another word used for a flexible printed-wiring board or the like is provided.例文帳に追加
圧延銅箔2の表面に金属又はそれらの合金で被膜3を形成することにより、固執すべり帯の形成から初期亀裂にいたる現象を緩和させることで、屈曲特性の向上、言い換えるなら高い屈曲寿命を持つフレキシブルプリント配線基板などに用いられる回路基板用銅箔を提供することができる。 - 特許庁
This method for designing a semiconductor integrated circuit includes: a step for deciding a flipflop in which the number of post stage gates driven in accordance with a change in stored data is not less than a standard value, as a first flipflop (large power FF); and a step for creating a scan chain having a group of flipflops working based on the same clock signal.例文帳に追加
本発明による半導体集積回路の設計方法は、保持するデータの変化に伴って駆動する後段ゲートの数が、基準値以上のフリップフロップを第1フリップフロップ(パワー大FF)として決定するステップと、同一のクロック信号によって動作するフリップフロップ群を有するスキャンチェーンを作成するステップとを具備する。 - 特許庁
The file 40 includes cast information 440 including first information which specifies data called from a collection 30 of an analysis data file and second information which specifies a display mode of the data to be displayed produced from the called data, and stage information 420 including third information which specifies the cast information regarding a display element.例文帳に追加
ファイル40には、解析データファイルの集合30から呼び出すデータを指定する第1の情報と呼び出されたデータから生成した表示用データを表示する表示態様を指定する第2の情報とを含むキャスト情報440と、表示要素についてのキャスト情報を指定する第3の情報を含むステージ情報420とが含まれる。 - 特許庁
This apparatus for forming the pattern is provided with: a stage moving mechanism for moving the substrate 9 in an X direction on which a plurality of first linear pattern elements 91 are formed beforehand in a Y direction; a discharge part for discharging a pattern forming material from a discharge port 541 toward the substrate 9; and a light emitting part 53 for emitting ultraviolet rays toward the substrate 9.例文帳に追加
パターン形成装置は、Y方向を向く直線状の複数の第1パターン要素91が予め形成されている基板9をX方向に移動するステージ移動機構、吐出口541からパターン形成材料を基板9に向けて吐出する吐出部、および、基板9に向けて紫外線を出射する光出射部53を備える。 - 特許庁
The first stage register 2 adds a value by 0.5 LSB continuously to digital outputs D3 to D0 of the analog/digital converter 1 and cancel the offset component resulting from rounding off by the 0.5 LSB in average by the analog/digital converter 1 to correct the offset, then the offset correction device can correct the offset included in an output of the analog/digital converter 1.例文帳に追加
初段レジスタ2では、A/Dコンバータ1のデジタル出力D3〜D0に連続して0.5LSB分の値を加算し、このA/Dコンバータ1において平均的に0.5LSB分が切り捨てられたオフセット分を相殺してオフセット補正するので、コスト高を招致することなく、A/Dコンバータ1の出力に含まれるオフセット分を補正することができる。 - 特許庁
The stage device 34 includes a wafer table 36 for holding a lower substrate Wd, a tilt table 38 where the wafer table 36 is mounted, first to third load cells 40, 42, 44 which are provided between the tilt table 38 and wafer table 36 and detect a load input through the wafer table 36, and a support table 45 which supports the tilt table 38.例文帳に追加
ステージ装置34は、下基板Wdを保持するためのウェハテーブル36と、ウェハテーブル36を搭載するチルトテーブル38と、チルトテーブル38とウェハテーブル36との間に設けられ、ウェハテーブル36を介して入力される荷重を検出する第1から第3ロードセル40,42,44と、チルトテーブル38を支持する支持テーブル45と、を備える。 - 特許庁
To provide a ballpoint pen tip, in which a ball is centered from the first stage of writing, which has neither problems such as a grating writing touch, dripping, which spoils the surface of a paper, of excess ink in the surface of the paper and the development of a noisemaking phenomenon by a tip nor a complicated structure and which is worked simply and has a proper manufacturing cost.例文帳に追加
筆記の初期からボールがセンタリングされ、ガリガリした書き味や、筆記時の余分なインクが紙面に落ちて紙面を汚すボテの問題や、筆記時のキリキリというチップ音鳴き現象が発生するという問題もなく、また、チップの構造も複雑になることなく、簡単な加工で、製造コストも適正なボールペンチップを提供する。 - 特許庁
In this multistage steam separator having a swirler 123 composed of a hub 124 and a plurality of swirl vanes 125 in a diffuser 122 connected to a stand pipe 121, the average angle θ at the outlets of the vanes 125 and the ratio (d/D) of the diameter (d) of the hub 124 to that D of a first-stage inner pipe 126 are adjusted within prescribed ranges.例文帳に追加
スタンドパイプ121にディフューザ122を接続し、この中に、ハブ124と複数の旋回羽根125からなるスワラー123を有する多段式の気水分離器120において、旋回羽根125の出口での平均角度θと、ハブ124の直径dと第1段内筒126の直径Dの比(d/D)を所定の範囲にしたもの。 - 特許庁
After a semiconductor wafer SW is positioned on a wafer stage 27a equipped in a dry-cleaning chamber 27 of a film forming apparatus, a reducing gas is supplied to dry-clean on the main surface of the semiconductor wafer SW, then, the semiconductor wafer SW is heat-treated at a first temperature 100-150°C by a shower head 27c kept at 180°C.例文帳に追加
成膜装置のドライクリーニング処理用のチャンバ27に備わるウエハステージ27a上に半導体ウエハSWを置いた後、還元ガスを供給して半導体ウエハSWの主面上をドライクリーニング処理し、続いて180℃に維持されたシャワーヘッド27cにより半導体ウエハSWを100から150℃の第1の温度で熱処理する。 - 特許庁
Water is jetted from the spouting nozzle 23 of a second circularly cleaning tank 20, which is arranged at the succeeding stage of the first circularly cleaning tank 10 for treating harmful gas, so that the harmful gas passing through the opening 22 of the second circularly cleaning tank 20 is furthermore removed and negative pressure is generated for guiding the harmful gas in a predetermined direction in the second circularly cleaning tank.例文帳に追加
また、その第1の循環浄化槽10に対し処理過程の後段に設けられた、第2の循環浄化槽20における噴射口23からの噴射は、その第2の循環浄化槽20の開口22を通過する有害ガスをさらに除去すると共に、有害ガスをその装置内部の所定方向に導く引圧を発生させている。 - 特許庁
First, U.S. and European makers have been promoting sales by improving the environment of U.S. and European universities and research institutes which many students and interns from emerging countries visit, or by cooperating in the human resource development of local medical personnel, thus actively providing opportunities for the people to get familiar with them from an early stage with their medical equipment made in their own countries.例文帳に追加
まず、欧米のメーカーは、欧米の大学・研究機関に新興国から多くの留学生・研修生が訪れる環境を活かす、又は、現地医療関係者の人材育成といった協力を実施することを通じて、早期段階から自国製の医療機器に慣れてもらう機会を積極的に形成し、売り込みを進めている。 - 経済産業省
The ammonium content in the gas atmosphere is reduced in the first nitriding stage (N1) and/or the second nitriding stage (N2).例文帳に追加
次の方法ステップ:加工品を処理チャンバに導入するステップであって、処理チャンバがガス雰囲気の生成及び維持のために処理チャンバに流体を供給するための、特に水及びガスを供給するための、ガス供給手段を含むステップ;窒素及び/又は酸素ガス雰囲気内で、特に窒素ガス雰囲気内で、加工品を昇温させるステップ;第1窒化段階(N1)の間に加工品を窒化するステップ;第1窒化段階(N1)の後の第2窒化段階(N2)において窒化を継続するステップ;を含み、本発明によれば、ガス雰囲気のアンモニア含量が第1窒化段階(N1)及び/又は第2窒化段階(N2)において減らされる。 - 特許庁
When all of the lamps of each display panel of the paper feed device, each display panel of the extension paper feed device and each display panel of the first stage paper discharge device, and each display panel of the second stage paper discharge device flicker, the timings of the lighting and light out of are made coincident with each other.例文帳に追加
画像形成制御部から、給紙制御部、増設給紙制御部、第一段排紙制御部、及び第二段排紙制御部に対して、給紙装置の各表示パネル、増設給紙装置の各表示パネル、第一段排紙装置の各表示パネル、及び第二段排紙装置の各表示パネルにおけるランプの点滅を同期させる手段を設け、給紙装置の各表示パネル、増設給紙装置の各パネル、第一段排紙装置の各表示パネル、及び第二段排紙装置の各表示パネルのランプが共に点滅する場合に、点灯および消灯の契機を一致させることを特徴とする。 - 特許庁
The method for producing a spherical silica-based mesoporous body comprises: a first stage where a silica raw material and a surfactant are mixed in a solvent to obtain porous precursor particles in which the surfactant is introduced into the silica raw material; and a second stage where the surfactant comprised in the porous precursor particles is removed to obtain the spherical silica-based mesoporous body.例文帳に追加
溶媒中でシリカ原料と界面活性剤とを混合し、前記シリカ原料中に前記界面活性剤が導入されてなる多孔体前駆体粒子を得る第1の工程と、前記多孔体前駆体粒子に含まれる前記界面活性剤を除去して球状シリカ系メソ多孔体を得る第2の工程とを含む球状シリカ系メソ多孔体の製造方法であって、前記界面活性剤として下記一般式(1): [式中、R^1、R^2およびR^3は炭素数1〜3のアルキル基、Xはハロゲン原子、nは13〜25の整数をそれぞれ示す。 - 特許庁
As the specific method of estimation, in the first stage, theoretical sales are estimated on the basis of capital, labor and R&D, and then the residual between actual sales and the estimated sales is recognized as the contribution from non-R&D intellectual assets (they are further divided into non-R&D intellectual assets common to all companies and non-R&D intellectual assets inherent in each company). In the second stage, in order to verify the validity of the above estimation of non-R&D intellectual assets, the correlation between non-R&D intellectual assets and typical proxy indicators of non-R&D intellectual assets (IT expenditures, market share, and selling, general and administrative expenses) is examined.例文帳に追加
具体的な推計方法としては、第一段階で、資本、労働及びR&Dにより理論上の売上額を推計した上で、現実の売上額と推計された売上額との残差を非R&D知的資産(さらに、すべての企業に共通な非R&D知的資産と各企業固有の非R&D知的資産とに区別される)の寄与分とし、第二段階で、上記の非R&D知的資産の推計の有効性を検証するため、非R&D知的資産と非R&D知的資産の代表的な代理指標(IT支出、マーケットシェア及び販管費)との相関関係を見ている。 - 経済産業省
In addition, the fourth feature is the three-programmed stages.After experiencing the first stage, called the “gateway period,” for up to four months, trying to find jobs with the assistance of intensive counseling and professional advice, those who are still unable to find employment go on to the second stage, called the “option period,” where they must participate in either of the following option programs: (i) subsidized employment (six months); (ii) participation in full-time education and training (up to 12 months); (iii) employment and training at volunteer organizations (six months); (iv) employment and training on publicly-funded environmental preservation projects (six months); or (v) establishment of own business (subsidies for six months).例文帳に追加
加えて、第四に、ゲートウェイ期間と呼ばれる第一段階を最長4か月間経験する中で、集中的カウンセリングや助言による求職活動を行った後、なお就職できなかった者は、第二段階のオプション期間において、①助成金つき就職(6か月)、②フルタイムの教育や訓練への参加(最長12か月)、③ボランティア団体への就労と訓練(6か月)、④公的環境保全事業への就労と訓練(6か月)、⑤自営業の開業(6か月間の助成)のいずれかのオプションプログラムに参加しなければならないことが挙げられる。 - 経済産業省
(2) If a person who has qualified to become an associate professional engineer intends to become an associate professional engineer, he/she shall appoint a professional engineer to assist (whose technical discipline shall be the same as that of the first stage examination in which he/she passed (or the same technical discipline recognized by the Minister of Education, Culture, Sports, Science and Technology for a person having qualification to become an associate professional engineer pursuant to the provision of preceding Article paragraph (2). hereinafter the same shall apply in this paragraph)) and shall obtain a registration in the associate professional engineer's registry with name, date of birth, name of the technical discipline passed in the first stage examination, name of the professional engineer to assist, office's name and address of the said professional engineer and other particulars specified by Ordinance of the Ministry of Education, Culture, Sports, Science and Technology. 例文帳に追加
2 技術士補となる資格を有する者が技術士補となるには、その補助しようとする技術士(合格した第一次試験の技術部門(前条第二項の規定により技術士補となる資格を有する者にあつては、同項の課程に対応するものとして文部科学大臣が指定した技術部門。以下この項において同じ。)と同一の技術部門の登録を受けている技術士に限る。)を定め、技術士補登録簿に、氏名、生年月日、合格した第一次試験の技術部門の名称、その補助しようとする技術士の氏名、当該技術士の事務所の名称及び所在地その他文部科学省令で定める事項の登録を受けなければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
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| ※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。 |
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