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element patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3332件
The laser medium 6 is excited by light having a lateral multi-mode pattern, and the wavelength conversion element 10 is irradiated with linear fundamental waves provided by oscillation of the laser medium 6 to output linear converted waves.例文帳に追加
横マルチモードパターンの光でレーザ媒質6が励起され、レーザ媒質6の発振により得られる線状の基本波を波長変換素子10に照射して線状の変換波を出力する。 - 特許庁
The offset quantities between the additive patterns and the main patterns on the reticle 100 are made adequate, by which the resist pattern sizes may be made uniform while the adverse influence on the formation of the element patterns is prevented.例文帳に追加
レチクル100では,付加パターンと主パターンとのずれ量を適正化することによって,素子パターンの形成への悪影響を防ぎつつ,レジストパターン寸法の均一化を図ることができる。 - 特許庁
The ring filter apparatus 10A has the ring filter element 12A with the open stub on a top surface 11Aa of a substrate 11A made of an epoxy resin and a ground pattern 15 entirely over a reverse surface 11Ab.例文帳に追加
リングフィルタ装置10Aは、エポキシ樹脂製の基板11Aの上面11Aaに、オープンスタブ付きリングフィルタエレメント12Aを有し、下面11Abの全面にグランドパターン15を有する構成である。 - 特許庁
To provide an aberration measurement method for maintaining orthogonality in an polynomial obtained, when Zernike expansion is carried out in an optical element, in which high-frequency components are superimposed on interference pattern.例文帳に追加
干渉縞に高周波成分が重畳されてしまう光学素子についてツェルニケ展開を行ったときにも、得られる多項式の直交性を保つことのできる収差測定方法を提供する - 特許庁
Sheet-type light emitting bodies 51A, 51B, 51C, 51D, which are divided into plural zones according to the element such as a pattern, character, etc., constituting the fixed information, are used as the light sources for the fixed information display parts.例文帳に追加
上記固定情報表示部の光源として、上記固定情報を構成する図柄や文字等の要素に応じて複数の領域に分割された面状発光体(51A,51B,51C,51D)を用いた。 - 特許庁
While providing such a process, the dummy pattern 12DMY at least on the underside and in the vicinity of a fuse element FUSE forming region is covered with a protective film 252 thus preventing silicification.例文帳に追加
このような工程を具備しつつ、上記サリサイド工程の前に少なくともヒューズ素子FUSE形成予定領域下及び近傍のダミーパターン12DMYを保護膜252で覆い、シリサイド化を防ぐようにする。 - 特許庁
To enable to have a light distribution pattern formed by its irradiation light appropriately changed in accordance with a traveling condition of the vehicle in a luminaire unit for a vehicle such as a light-emitting element to be a light source.例文帳に追加
発光素子を光源とする車両用灯具ユニットにおいて、その照射光により形成される配光パターンを車両走行状況に応じて適切に変化させ得るようにする。 - 特許庁
To provide a photosensitive element which ensures excellent adhesion of a pattern to a substrate in development and can suppress defective display such as burn-in when a display panel is fabricated.例文帳に追加
現像時のパターンの基板への密着性に優れるとともに、表示パネルを作製した場合に焼き付き等の表示不良の発生を十分に抑制することが可能な感光性エレメントを提供すること。 - 特許庁
To prevent problems of reduction in saturation charge quantity due to fluctuation of a well potential, a fixed pattern noise and saturation shading, in a CMOS sensor in which a unit pixel is formed of a light-receiving element and three transistors.例文帳に追加
受光素子と3つのトランジスタで単位画素が構成されたCMOSセンサにおいて、ウェル電位の揺れに起因した飽和電荷量の減少、固定パターンノイズ、飽和シェーディングなどの問題を防止する。 - 特許庁
A top of probe pin 110 of a probing tester is put in contact with a pad of an electrode pattern 102a, and a prescribed signal is received through the probe pin 110 to measure the characteristics for each element.例文帳に追加
プロービング検査装置のプローブピン110の先端を、電極パターン102aのパッド部に当接させ、プローブピン110を介して所定の信号を授受することで、素子毎に特性を測定する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a functional element in which distinguishing by different colors or the like is possible and a pattern of a large area can be formed at a low cost.例文帳に追加
本発明は、機能性素子の製造に際して、塗りわけ等が可能であり、かつ安価に大面積のパターンが形成可能な機能性素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁
The edge face where the bump 26 partially juts into the copper base 12 is a surface 26A where the electronic component is mounted, to which a semiconductor element 22 electrically connected to the circuit pattern 18 is directly joined.例文帳に追加
部分的にバンプ26の銅ベース12に対する突出端面は、回路パターン18に電気的に接続される半導体素子22が直接的に接合される電子部品搭載面26Aとされている。 - 特許庁
To provide a thin-film semiconductor element which has no matching margin in formation of a contact and wiring to greatly improve a degree of integration, and has increased flexibility of a layout pattern, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加
コンタクトおよび配線形成時の合わせマージンがゼロであり、集積度を大幅に向上し、パターンレイアウトの自由度の拡大を可能とする薄膜半導体素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
A drawing processing part 33 performs the drawing by determining which image element of a new drawing object or an image drawn before is to be drawn on the basis of the acquired drawing pattern 23.例文帳に追加
描画処理部33は、取得された描画パターン23に基づいて新たな図形オブジェクトの各画素またはそれ以前に描画されていた画像のいずれかを描画するか否かを判定して描画を行う。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED OBJECT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, INSULATING PROTECTIVE COATING FILM, PHOTOSENSITIVE ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物、硬化物及びその製造方法、絶縁保護被膜、感光性エレメント及びその製造方法、レジストパターンの形成方法、並びにプリント配線板及びその製造方法 - 特許庁
The electrode pattern 40 of a conduction electrode 46 is configured with the base metallic layer 41 except a part of side faces 271, 272 of the piezoelectric element chip 2 that are curved or bent, and the electrode pattern 40 of this part is configured with the base metallic layer 41 and a gold electrode layer 42.例文帳に追加
導通用電極46は、圧電素子片2の側面部271、272が湾曲形状あるいは屈曲形状をもつ一部分を除いて電極パターン40が下地金属層41により構成され、この一部分では電極パターン40が下地金属層41および金電極層42により構成されている。 - 特許庁
The illuminator comprises a diffraction optical element forming a light pattern having a desired illuminance distribution on a predetermined plane by using the luminous flux from a light source, and a focus optical system for projecting the light pattern formed on the plane on a prescribed plane wherein the image formation optical system has a variable magnification.例文帳に追加
照明装置において、光源からの光束を用いて所望の照度分布を持つ光パターンを予め決めた平面に形成する回折光学素子と、該平面に形成される前記光パターンを所定の平面に投影する結像光学系とを有し、該結像光学系は倍率が可変であることを特徴とするようにする。 - 特許庁
When the length of the resistance failure evaluation pattern 102 is set to A and the total length of a resistance element 111 mounted on a semiconductor integrated circuit device 110, as a product, is set to B, the number of the resistance failure evaluation pattern 102 included in one of the chip region 101 is set at ≥1/100 times and ≤10 times of B/A.例文帳に追加
抵抗不良評価パターン102の長さをAとし、製品となる半導体集積回路装置110に搭載された抵抗素子111の合計長さをBとすると、チップ領域101の1つに含まれる抵抗不良評価パターン102の数はB/Aの1/100倍以上で且つ10倍以下である。 - 特許庁
To provide a magnetic recording medium in which a recording layer is formed in a prescribed recessed and projecting pattern, a recording element is formed as a projecting part of the recessed and projecting pattern to have high surface recording density and a crash of a magnetic head hardly occurs to have high reliability, and a magnetic recording and reproducing device provided with such a magnetic recording medium.例文帳に追加
記録層が所定の凹凸パターンで形成され、記録要素が凹凸パターンの凸部として形成されて面記録密度が高く、且つ、磁気ヘッドのクラッシュが生じにくく信頼性が高い磁気記録媒体及びこのような磁気記録媒体を備える磁気記録再生装置を提供する。 - 特許庁
The polarized light separating element is constituted such that a rugged pattern 2 constituting the diffraction grating is formed on the surface of a base material 1 made of material having light transmissivity in the usage wavelength range and at least two or more surfaces of protruded parts 3 of the rugged pattern 2 are covered with a film 4 made of material comprising a metal or a metal compound.例文帳に追加
使用波長範囲において光透過性を有する材料より成る基材1の表面に、回折格子を構成する凹凸パターン2が設けられ、この凹凸パターン2の凸部3の少なくとも2つ以上の面が、金属或いは金属化合物より成る材料膜4で被覆されて成る構成とする。 - 特許庁
To provide a letterpress having few pattern defects when manufacturing an organic electronic device such as an organic electroluminescent element at a letterpress printing method, an inspection method for a letterpress for implementing in advance to preventing of the pattern defect, a manufacturing method for an organic electronic device using the same letterpress, and an organic electronic device using the same letterpress.例文帳に追加
有機エレクトロルミネッセンス素子をはじめとする有機電子デバイスを凸版印刷法で作製する際、パターン欠陥の少ない凸版、及びパターン欠陥を防止するために予め行う凸版の検査方法、並びにそれを用いた有機電子デバイスの製造方法並びにそれを用いた有機電子デバイスを提供する。 - 特許庁
To obtain techniques to improve the performance in microprocessing of a semiconductor element using high energy rays, in particular, KrF excimer laser light, X-rays, electron beams or EUV (extreme UV) rays, and to provide a negative resist composition satisfying the requirements for high sensitivity, high resolution, a preferable pattern profile and preferable dependence on the pattern density.例文帳に追加
高エネルギー線、特にKrFエキシマレーザー、X線、電子線あるいはEUV光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な疎密依存性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
The light emitting device includes a body, a first electrode having a protruding pattern on the body, a second electrode electrically isolated from the first electrode on the body, a junction layer on the first electrode containing the protruding pattern, and a light emitting element on the junction layer.例文帳に追加
本発明による発光装置は、胴体と、上記胴体の上に突出パターンを有する第1電極と、上記胴体の上に上記第1電極と電気的に分離された第2電極と、上記突出パターンを含む第1電極の上の接合層と、上記接合層の上の発光素子と、を含む。 - 特許庁
A pattern recognition device includes an element extraction unit for extracting a string of elements of a minimum unit required for pattern recognition from an image read out from a storage part, and a section output unit for reading all parts in which positions of breaks of parts in each path record of a path table and parts that follow those parts coincide, and sweeping them out as a block.例文帳に追加
パターン認識装置は、記憶部より読み出した画像から、パターン認識に必要な最小限の単位のエレメントの列を抽出するエレメント抽出部と、パステーブルの各パスレコード内のパーツとこのパーツに続くパーツとの切れ目の位置が一致したパーツを全て読み出しブロックとして掃き出す部分出力部とを備える。 - 特許庁
The output value of a light receiving element obtained by irradiation with light when a reflection object is not in the detection area of the optical sensor, is deducted from the output voltage of the optical sensor when the toner patches of the gradation pattern are detected, to remove a crosstalk voltage component from the output voltage of the optical sensor when the toner patches of the gradation pattern are detected.例文帳に追加
階調パターンのトナーパッチを検知したときの光学センサの出力電圧から、光学センサの検知領域に反射物がないときに、光を照射して得られた受光素子の出力値を差し引き、階調パターンのトナーパッチを検知したときの光学センサの出力電圧から、クロストーク電圧成分を除去する。 - 特許庁
The system further includes switching means controlling on/off of the application of the voltage by the voltage application means, and control means controlling on/off timing of the switching means, wherein it is determined whether a variation pattern of the characteristics of the PTC element originating from a plurality of on/off actions matches with a characteristic variation pattern stored beforehand.例文帳に追加
電圧印加手段による電圧の印加のオンオフを制御するスイッチング手段と、該スイッチング手段のオンオフのタイミングを制御する制御手段とを備え、複数回のオンオフによるPTC素子の特性変動パターンが、事前に記憶されている特性変動パターンと適合するか否かを判定する。 - 特許庁
The supply voltage variation analysis device comprises a circuit element selection part 1 for selecting one or more circuit elements constituting a semiconductor integrated circuit to be analyzed, an analytic pattern generation part 2 for generating an analytic pattern for operating all or part of the selected circuit elements, and an analysis part 3.例文帳に追加
解析対象となる半導体集積回路を構成する一つ以上の回路素子を選択する回路素子選択部1と、選択された回路素子の全部又は一部を動作させる解析用パタンを生成する解析用パタン生成部2と、解析部3とで電源電圧変動解析装置を構成する。 - 特許庁
To provide a resist composition capable of improving the performance in minute processing of a semiconductor element using an electron beam, an X ray, a KrF excimer laser beam, or an ArF excimer laser beam, excellent in terms of sensitivity, resolution, focal margin (DOF) performance, LWR, reduction of blur, and reduction of pattern surface roughness; and to provide a pattern-forming method using the same.例文帳に追加
電子線、X線、KrFエキシマレーザー光、ArFエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上であり、感度、解像力、フォーカス余裕度(DOF)性能、LWR、裾引き低減、パターン表面荒れの低減に優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁
A light-emitting device 1 includes: a mounting substrate 3 made of an inorganic material in which a circuit pattern 4 mounted with an LED element 2 is provided; an external connection electrode 44 of the circuit pattern 4; and a protection film 5 which is provided so as to cover the outer edge of the exposed surface of the external connection electrode 44 and is made of an inorganic material.例文帳に追加
発光装置1は、LED素子2を搭載する回路パターン4を設けた無機材料からなる搭載基板3と、回路パターン4の外部接続電極44と、外部接続電極44の露出する面の外縁を覆うように設けられ、無機材料からなる保護膜5とを有する。 - 特許庁
To provide a curable resin composition for a column spacer from which a column spacer having a pattern width in a desired size can be formed while suppressing pattern thickening without decreasing sensitivity to irradiation light, and to provide a column spacer and a liquid crystal display element using the curable resin composition for a column spacer.例文帳に追加
照射光に対する感度を低下させることがなく、かつ、パターン太りを抑制した所望のサイズのパターン幅を有するカラムスペーサを形成することができるカラムスペーサ用硬化性樹脂組成物、該カラムスペーサ硬化性樹脂組成物を用いてなるカラムスペーサ及び液晶表示素子を提供する。 - 特許庁
In a memory cell array region 1, the pattern of the element components (active regions 10-15 and 21-23 and polysilicon regions 31-42) of each unit memory cell and the pattern of the dummy cell of a dummy cell region 3 for outer periphery are made equal to each other and both patterns have an axisymmetrical relation with respect to their boundary line BC1.例文帳に追加
メモリセルアレイ領域1の1メモリセル単位のメモリセルの素子構成要素(活性領域10〜15,21〜23及びポリシリコン領域31〜42)のパターンと外周用ダミーセル領域3のダミーセルのパターンとは同一で、かつ両者のパターンは境界線BC1に対して線対称な関係を呈している。 - 特許庁
To provide a halftone phase shift mask which need not form a superfine pattern, suppresses a sub peak of light intensity exerting adverse influence on image formation at the time of exposure and has a light shielding pattern of lowered transmissivity in an outside region of an element region where multiple exposure is applied and to provide a manufacturing method of the halftone phase shift mask.例文帳に追加
超微細なパターンの形成を必要とせず、露光時の像形成に悪影響を及ぼす光強度のサブピークを抑え、かつ、素子領域の外側の多重露光される領域での透過率を下げた遮光パターンを有するハーフトーン位相シフトマスク及びハーフトーン位相シフトマスクの製造方法。 - 特許庁
The heating element circuit pattern is provided with a plurality of island-shape heating elements 1 distributed on a substrate 2 or inside the substrate 2 in an island-shape distribution pattern, and arranged so that heating densities in the substrate 2 are nearly equal, and all the island-shape heating elements 1 are connected in parallel by a lead circuit 3.例文帳に追加
発熱体回路パターンは、複数の島状発熱体1が基板2上もしくは基板2内部に独立した島状に分布し、基板2内における発熱密度が略均一になるように配置されると共に、全ての島状発熱体1がリード回路3によって並列に接続されている。 - 特許庁
Further, the semiconductor package has a semiconductor element mounted on the interposer, and the method of manufacturing the interposer includes a step of forming the conductor pattern on a metal foil of the prepreg formed by bonding the metal foil to the one surface by etching and a step of forming the coating layer so as to cover at least the part of the conductor pattern.例文帳に追加
また、半導体パッケージは、上記インターポーザに半導体素子を搭載しており、インターポーザの製造方法は、片面に金属箔を接合してなるプリプレグの金属箔にエッチングにより導体パターンを形成する工程と、前記導体パターンの少なくとも一部を覆うように被覆層を形成する工程とを有する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device which can correctly measure a wiring shape and a film thickness and a film quality of a wiring interlayer film in a monitor mark formation region which has less deviation with a function element formation region, and correctly measure overlay deviation between a lower layer pattern and an upper layer pattern in the monitor mark formation region.例文帳に追加
機能素子形成領域との乖離が少ないモニター用マーク形成領域において、配線形状並びに配線層間膜の膜厚・膜質を正確に計測し、かつモニター用マーク形成領域における下層パターンと上層パターンとの重ね合わせずれの正確な測定が可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁
The inductance element used for a high frequency circuit includes a plurality of wiring patterns formed so as to be disposed in parallel on an insulating film of a substrate, and a plurality of bonding wires for sequentially connecting the other end of one wiring pattern of the two adjacent wiring patterns to the one end of the other wiring pattern.例文帳に追加
高周波回路に用いられるインダクタンス素子において、基板の絶縁膜上に平行に位置するように形成された複数の配線パターンと、互いに隣接する2つの前記配線パターンのうち一方の前記配線パターンの他端と他方の前記配線パターンの一端を順次接続する複数のボンディングワイヤとを設ける。 - 特許庁
Either one of the anode and cathode of the semiconductor laser element 5 is connected to the wiring pattern 2c of the flexible wiring board 2 abutted to the upper surface 1a of the base 1, and the wiring pattern 2c is electrically connected to the base 1 through an opening 7 provided on the part to be abutted to the base 1 of the insulating layer 2b.例文帳に追加
半導体レーザ素子5のアノードまたはカソードの何れかは、基台1の上面1aに当接されたフレキシブル配線基板2の配線パターン2cに接続されており、配線パターン2cは、絶縁層2bの基台1に当接する部位に設けられた開口部7を介して、基台1に電気的に接続されている。 - 特許庁
By using the half-wave plate 38, an effective incidence range 60 for emitting the s-polarized light from an entire back face of the polarization conversion element 30 becomes the checkered pattern and it becomes easier to irradiate to the effective incident range with the illumination light from the light source arranged in the checkered pattern.例文帳に追加
この1/2波長板38を用いることで、偏光変換素子30の背面全体からS偏光を出射させるための有効入射範囲60が市松模様状となり、市松模様状に配列された光源からの照明光を有効入射範囲に照射することが容易となる。 - 特許庁
When an on-vehicle element 5 detects two ground elements 2a, 2b of the same frequency F1 within a constant time, a brake pattern BP is generated from the restriction speed possessed by the frequency f1 without condition and the speed of the train 3 is pattern-controlled by the simple constitution without giving the influence to the existing ATS device.例文帳に追加
車上子5が同一周波数f1の2個の地上子2a,2bを一定時間以内に検出したとき、無条件で周波数f1が持つ制限速度からブレーキパターンBPを発生して、既存のATS装置に影響を与えることなく、簡単な構成で列車3の速度をパターン制御する。 - 特許庁
A light-emitting device comprises: a light-emitting element having a first primary surface emitting light and first and second bonding pads provided on a second primary surface; and a substrate having a first land pattern 21 to which the first bonding pad is connected and a second land pattern 23 to which the second bonding pad is connected.例文帳に追加
発光装置は、光を放射する第1の主面と、第2の主面に設けられた第1および第2のボンディングパッドと、を有する発光素子と、前記第1のボンディングパッドが接続された第1のランドパターン21と、前記第2のボンディングパッドが接続された第2のランドパターン23とを有する基板と、を備える。 - 特許庁
To provide a nonreciprocal circuit element employing a novel lower case capable of increasing a forming area of a lamination substrate itself, also increasing a forming area of an electrode pattern formed to the lamination substrate, and preventing a short circuit caused between the electrode pattern formed to the lamination substrate and a wall comprising metallic conductors of the lower case.例文帳に追加
積層基板自体の形成面積を増加させることが可能であり、積層基板に形成した電極パターンの形成面積も増加させ、積層基板に形成した電極パターンと下ケースの金属導体からなる壁部との短絡を防ぐことが可能な新規な下ケースを用いた非可逆回路素子を提供する。 - 特許庁
In setting the animation mode in place of the pattern mode, a pattern element using all three number elements in the animation mode is replaced stepwise on the basis of repetitive display of a replacement video, so that the player can recognize stepwise that the animation mode is set according to the repetition of the replacement video.例文帳に追加
図柄モードに換えてアニメーションモードを設定するときには差替映像を繰返し表示することに基づいて3個の数字要素の全部をアニメーションモードで使用する絵柄要素に段階的に差替えたので、アニメーションモードが設定されることを遊技者が差替映像の繰返しから段階的に認識することが可能になる。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a thin film magnetic head, wherein when formation of a narrow pattern exceeding a limit of resolution of an imaging layer is required, a lift-off resist of a narrow pattern is applied and an angle of an end part of a GMR film is made steep so as to be ≥45° by a lift-off method to form a GMR element.例文帳に追加
イメージング層の解像度の限界を超える狭いパターンを形成する必要がある場合に、狭いパターンのリフトオフレジストを適用し、リフトオフ方法によって,GMR膜端部の角度を45度以上に急峻にして、GMR素子を作成する薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition for laser direct drawing exposure, which allows the formation of a resist pattern having high sensitivity, an excellent resist feature, a preferable resolution, an adhesion property and a release property in laser direct drawing exposure, and to provide a photosensitive element, a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加
レーザ直接描画露光において高感度で、レジスト形状に優れ、解像度、密着性及び剥離性が良好なレジストパターンを形成することが可能なレーザ直接描画露光用感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity to both of light of 350-370 nm and light of 400-410 nm, capable of forming a resist pattern having a good profile with high resolution, and ensuring good strippability of the formed resist pattern, and a photosensitive element using the composition.例文帳に追加
350nm〜370nm及び400nm〜410nmのいずれの光に対しても高感度であり、良好な形状を有するレジストパターンを高解像度で形成することができるとともに、形成されたレジストパターンの剥離性が良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメントを提供すること。 - 特許庁
The method for manufacturing optical element is provided with: a metal layer-forming process of forming a metal layer 2 on a substrate 11A made of a dielectric; and a groove pattern forming process of forming a linear groove pattern 13 with a prescribed array by electric discharge machining for the metal layer 2.例文帳に追加
本発明の光学素子の製造方法は、誘電体からなる基板11A上に金属層2を形成する金属層形成工程と、前記金属層2に対して、放電加工により線状の溝パターン13を所定配列で形成する溝パターン形成工程と、を具備してなることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a method for performing an etching processing by using a resist film when a pattern of an organic film is formed or when a pattern of a thin film, which is formed on the organic resin film, is formed and removing the resist film without swelling the organic resin film in a manufacture of a semiconductor element substrate having the organic resin film.例文帳に追加
有機樹脂膜を有する半導体素子基板の作製において、有機樹脂膜のパターン形成時、または、これらの有機樹脂膜上に形成される薄膜のパターン形成時にレジスト膜を用いたエッチング処理を行った後、有機樹脂膜を膨潤させることなくレジスト膜を除去する方法について提供する。 - 特許庁
An inspection pattern is input in the semiconductor circuit 14 per instruction from a controller 11, the output of the semiconductor circuit 14 for driving is compared with a previously calculated output pattern by an inspection result discriminating means 16 and a display element 17 or the like informs a person measuring as to whether the output is normal.例文帳に追加
半導体回路14にコントローラ11により指示されて検査パターンを入力し、駆動用半導体回路14の出力をあらかじめ算出された出力パターンと検査結果判定手段16により比較し、出力が正常化どうかを表示素子17などにより測定者に知らせる。 - 特許庁
To prepare a tire finite element model facilitating preparation of an FE model for a tread pattern having hexahedral solid elements capable of highly precise computer simulation, enabling to precisely representing a tilt angle of a groove wall proper to the tread pattern, and facilitating correction of the groove wall tilt angle.例文帳に追加
精度の高いコンピュータシミュレーションを行うことのできる6面体立体要素を持ったトレッドパターンのFEモデルを容易に作成し、しかもトレッドパターンに特有の溝壁の傾斜角度を正確に表現することができ、溝壁の傾斜角度を容易に修正することができるタイヤ有限要素モデルの作成。 - 特許庁
One end 14a of an antenna coil 14 fixed to the peripheral part of an insulating substrate 11 is connected to a die pad pattern 17 of an integrated circuit element 16, and the other end 14b of the antenna coil 14 is connected to capacitor patterns 18a, 18b formed in a position opposite to the die pad pattern 17 with an insulating substrate 11 interposed between them.例文帳に追加
絶縁性基板11の周辺部に固着されたアンテナコイル14の一端14a集積回路素子16のダイパッドパターン17に接続し、アンテナコイル14の他端14bに絶縁性基板11を挟んでダイパッドパターン17と対向する位置に形成されたコンデンサパターン18a,18bに接続する。 - 特許庁
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