| 例文 |
plane methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2513件
To provide a method of growing a semiconductor layer by which the plane direction of a semiconductor layer to be grown on a substrate can be selected and a piezoelectric field of the semiconductor layer can be suppressed and/or its crystal quality is improved as needed, and a method of manufacturing a semiconductor device using the same.例文帳に追加
基板上に成長させる半導体層の面方位を選択することができ、必要に応じて半導体層のピエゾ電界を抑えたり結晶品質を高くしたりすることができる半導体層の成長方法およびこの成長方法を用いた半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a retardation film, with which the retardation film having sufficiently large in-plane retardation R_e and retardation R_th in the thickness direction and improving contrast and a viewing angle of a liquid crystal display device is manufactured, and the retardation film obtained with such a manufacturing method.例文帳に追加
面内のリタデーションR_e及び厚み方向のリタデーションR_thが充分に大きく、液晶表示装置のコントラスト及び視野角を改善することが可能な位相差フィルムを製造することができる位相差フィルムの製造方法、及び、このような製造方法よって得られる位相差フィルムを提供する。 - 特許庁
To provide a tiling method, a tiling exposure mask and a method for producing a multi-layer wiring board by using them in which intra-plane pattern densities on the front side and the rear side of a tiling substrate can be made uniform and the number of the exposure masks to be used can be decreased when producing the multi-layer wiring board by tiling.例文帳に追加
多層配線板を多面付けで作製する際多面付け基板の表裏の面内パターン密度を均一化し、且つ露光マスクの使用枚数を減少できる多面付け方法、多面付け露光マスク及びそれらを用いた多層配線基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
The method for manufacturing an optical module, particularly a method for manufacturing an optical module having a sleeve comprises inserting a ferrule associated with an optical connector having a flange, from the outside of the optical module into the sleeve, and mounting a weight on the flange to hold the top end of the ferrule to an optical reference plane assumed within the sleeve.例文帳に追加
光モジュール製造方法は、スリーブを備える光モジュールの製造方法であって、前記スリーブに前記光モジュール外部から、フランジを備える光コネクタに付随するフェルールを挿入し、前記フランジに重りを載せ、前記フェルールの先端を前記スリーブ内に想定される光学的基準面に保持する。 - 特許庁
The pattern for optical adjustment includes a surface of a base 1 extending on a plane formed of the same material and in the same manufacturing method with a body to be inspected, and a plurality of pattern portions 2 formed on the surface of the base 1 of the same material and in the same manufacturing method with the body to be inspected.例文帳に追加
光学調整用パターンは、被検査測定物と同一の材料でかつ同一の製法で形成され平面上を延在する基材1の表面と、基材1の表面に、被検査測定物と同一の材料でかつ同一の製法で形成された複数のパターン部2とを備えている。 - 特許庁
To provide a method for jointing a microchip body which is a substrate having minute passage on the surface, to a microchip lid substrate which is a substrate becoming a lid having a flat plane adhering to the microchip body without causing blockage of the minute passage and pollution of an inner wall; and to provide the microchip produced by the method.例文帳に追加
表面に微細流路を有する基板であるマイクロチップ本体と、マイクロチップ本体と密着する平坦な面を有する蓋となる基板であるマイクロチップ蓋基板とを、微細流路の封鎖や、内壁の汚染がなく接合する方法とこの方法によって製造しうるマイクロチップを提供すること。 - 特許庁
To provide a method for detecting the defect of a photovoltaic element module in which the defective part of a photovoltaic element having a protective layer on the plane of incident can be detected with high sensitivity from above the protective layer without removing it, and a method for repairing the defect of a photovoltaic element from above the protective layer.例文帳に追加
光入射面上に保護層を有する光起電力素子の欠陥部分を、保護層を除去せずに、保護層の上から感度良く検出できる光起電力素子モジュールの欠陥検出方法、及び保護層の上から修復できる光起電力素子の欠陥修復方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a gallium nitride compound semiconductor and a method of manufacturing a light-emitting device which can reduce crystal defects, without causing warpages, achieving high perpendicularity on a side (optical resonant surface) relative to a growth plane, and eliminate damages caused by posttreatment, such as etching in the gallium nitride compound semiconductor.例文帳に追加
窒化ガリウム系化合物半導体について、結晶欠陥を低減でき、反りが生じず、成長面に対する側面(光共振面)の垂直性が高く、さらにエッチング等の後加工によるダメージが無い、窒化ガリウム系化合物半導体の製造方法及び発光素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method by which generation of foreign substances caused by wear between a displaying panel main body or a base and a panel storing and holding tool can be sufficiently decreased in the method for manufacturing a plane displaying apparatus, comprising a process wherein the rectangular flat sheet-like displaying panel main body or the base is temporarily held in the panel storing and holding tool.例文帳に追加
矩形平板状の表示パネル本体または基板をパネル収納保持具に一時的に保持する工程を含む平面表示装置の製造方法において、表示パネル本体または基板とパネル収納保持具との間の摩耗に起因する異物の発生を充分に低減することのできる方法を提供する。 - 特許庁
In the case of using the omnidirectional camera installed in the middle of a rectangular table Tb to photograph people A to D taking a seat, the image processing apparatus selects the plane projection method whereby the image is naturally displayed to carry out image processing without adopting the cylindrical projection method whereby the display of the omnidirectional image is unnatural.例文帳に追加
この画像処理装置では、矩形のテーブルTbの中央に設置された全方位カメラを用いて着座した人物A〜Dを撮影する場合、全方位画像の表示が不自然となる円筒面投影法ではなく、自然な表示を行える平面投影法を選択し画像処理を行う。 - 特許庁
To provide a crystal defect inspection method and a crystal defect inspection apparatus capable of detecting the positions of dislocation and lamination defects precisely and speedily with high sensitivity, when inspecting the in-plane distribution of dislocation and lamination defects existing in the epitaxial film of a silicon carbide single-crystal wafer for manufacturing a semiconductor element by an electroluminescence method.例文帳に追加
エレクトロルミネッセンス法により半導体素子製造用の炭化珪素単結晶ウェハのエピタキシャル膜に存在する転位や積層欠陥の面内分布を検査する際に、転位や積層欠陥の位置を高感度かつ高精度で、さらに高速で検出可能な結晶欠陥検査方法および装置を提供する。 - 特許庁
A pasting method for pasting a pair of pasted faces facing each other in first and second objects to be pasted via the adhesive agent, includes a step of pasting the pasted faces by narrowing an interval between the pasted faces in a direction perpendicular to an in-plane direction while performing alignment processing which is relative positioning of the pasted faces in the in-plane direction.例文帳に追加
貼り合わせ方法は、第1及び第2の貼り合わせ対象物において互いに対向する一対の貼り合わせ面同士を接着剤を介して貼り合わせる方法であって、貼り合わせ面同士を、面内方向における相対的な位置合わせであるアライメント処理を行いつつ該面内方向と垂直な方向における貼り合わせ面同士の間隔を狭めてゆくことで貼り合わせる貼り合わせ工程を有する。 - 特許庁
In this external light coupling method, a semiconductor laser 97 is oscillated 101 using an oscillating means in the traveling direction of guided light, light emitted from the semiconductor laser 97 is converted to a plane wave using a convex lens 98 in an input section 91 of the hologram for external light coupling, and this plane wave is coupled as external light to a flat optical waveguide.例文帳に追加
本発明の導波路ホログラムにおける外部光の結合方法は、半導体レーザ97を振動手段を用いて導波光の進行方向に振動101させ、半導体レーザ97から出射される光を凸レンズ98を用いて外部光結合用ホログラムの入力部91にて平面波とし、この平面波を外部光として平面型光導波路に結合させることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a dry etching method in which machining with superior machining precision and quality can be performed by reducing in-plane variance in etching rate, by solving the problem that the outer periphery of a sample is insufficiently machined because of in-plane variance in etching rate in the sample is large as to dry etching of an oxide film etc., is large to possibly generate problems of machining precision and quality.例文帳に追加
酸化膜等のドライエッチングに関し、試料内におけるエッチングレートの面内バラツキが大きいために試料外周部に加工量の不足部分が発生して加工精度や品質面において問題発生の恐れがあるという課題を解決し、エッチングレートの面内バラツキを低減して加工精度や品質面において優れた加工を行うことができるドライエッチング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an oxidation apparatus for manufacturing a surface-emitting type semiconductor laser for maintaining the temperature in the plane of a workpiece uniformly and enhancing the in-plane uniformity of the oxidation rate of a semiconductor layer including aluminum and arsenic, and provide a method of manufacturing the surface-emitting type semiconductor laser for forming a high-quality current constriction layer by using the oxidation apparatus for manufacturing the surface-emitting type semiconductor laser.例文帳に追加
被処理体の面内における温度を均一に保ち、アルミニウムと砒素を含む半導体層の酸化速度の面内均一性を高めることができる面発光型半導体レーザ製造用酸化装置、およびその面発光型半導体レーザ製造用酸化装置を用いることにより、品質の高い電流狭窄層を形成することができる面発光型半導体レーザの製造方法を提供する。 - 特許庁
In a manufacturing method of an epitaxial wafer for forming an epitaxial film on a main plane of a substrate disposed on a substrate mount stage by rotating the substrate mount stage and the substrate and feeding a material gas onto the main plane of the substrate, the epitaxial film is formed while changing the film thickness control parameter in accordance with the position of the substrate mount stage in a rotation direction.例文帳に追加
基板載置台と該基板載置台に載置された基板とを回転させ、前記基板の主面上に原料ガスを流通させることにより、前記基板主面上にエピタキシャル膜を形成させるエピタキシャルウェーハの製造方法において、前記基板載置台の回転方向の位置に応じて、膜厚制御パラメータを変化させて前記エピタキシャル膜を形成させることを特徴とするエピタキシャルウェーハの製造方法。 - 特許庁
The visualization method includes: displaying a plurality of parameters to be viewed which are related to a given object on a 2D plane being different layers along the Z axis of a 3D coordinate system; determining one of the 2D planes as an interested plane; and in response to focusing on an object instance of the object by a user, linking and displaying locations of the object instance on other planes.例文帳に追加
視覚化方法は所与のオブジェクトに関連する複数の閲覧対象パラメータを、3D座標システムのZ軸に沿って別々の層である2D平面に表示するステップ、2D平面のうちの1つを対象の平面として決定するステップ、ユーザによって前記オブジェクトの或るオブジェクト・インスタンスにフォーカスされたことに応えて、前記オブジェクト・インスタンスの位置を他の平面上にリンク表示するステップを含む。 - 特許庁
The method for producing optical element molding materials includes: an adhesion process for sticking at least a part of preform molten glass G1 to a plane portion 11a of a base material 11 so that it becomes hemispherical or semielliptic molten glass body G2; and a solidification process for then solidifying the molten glass body G2 adhering to the plane portion 11a in the hemispherical or semielliptic form.例文帳に追加
光学素子成形用素材の製造方法は、母材溶融ガラスG1の少なくとも一部を半球形状又は半楕円体形状の溶融ガラス体G2となるように基材11の平面部11aに付着させる付着工程と、その後、平面部11aに付着した溶融ガラス体G2を、半球形状又は半楕円体形状の状態で固化させる固化工程と、を含む。 - 特許庁
To provide an SiC single crystal having few anisotropic crystals or heterogeneous polymorphic crystals, allowing cutting out of a large-diameter {0001} plane substrate, and to provide a method for producing the SiC single crystal, and an SiC wafer cut out from such an SiC single crystal.例文帳に追加
異方位結晶や異種多形結晶が少なく、かつ、大口径の{0001}面基板を切り出すことが可能なSiC単結晶及びその製造方法、並びに、このようなSiC単結晶から切り出されるSiCウェハを提供すること。 - 特許庁
To provide a method and a device for cutting a short material which make easy the positioning of the cut surface of the short material of a disk shape in parallel to a cut plane by a cutting tool and can facilitate cutting after positioning.例文帳に追加
円板状の短尺材の切断面を切断工具による切断平面に対して平行に位置決めすることが容易であり、かつ位置決め後の切断を容易に行うことのできる短尺材の切断方法及び装置を提供する。 - 特許庁
To provide a sound field processing apparatus and method by which a listener can obtain a symmetrical sound field well even when there is a reflection plane like a wall, etc., or the position of the listener is biased to one side.例文帳に追加
壁等の反射面が存在する場合もしくは聴取者の位置が一方に片寄っている場合においても、聴取者が良好に左右対称な音場を得ることができる音場処理装置および音場処理方法を提供すること。 - 特許庁
In the method of holding the mask in the vertical condition in which a conic hole 1a, V-groove 1b and plane area 1c provided on a mask and three projections provided to a mask chuck are respectively engaged and pushed, a pushing force of the conic portion becomes maximum.例文帳に追加
マスクに設けた円錐孔部1a 、V溝部1b 、平面部1c と、マスクチャックに設けた3つの突起部とをそれぞれ係合させて押し付け、マスクを縦にして保持する方法において、円錐部の押し付け力が最大であることを特徴とする。 - 特許庁
The method for producing the bag-like porous film is to process the plane porous film comprising a thermoplastic resin to have a bag-like shape by fusion, subsequently apply radiation to the porous film and react a hydrophilic monomer to the irradiated film.例文帳に追加
熱可塑性樹脂よりなる平膜状の多孔質膜を融着によって袋状に加工した後、該多孔質膜に放射線を照射し、照射した膜に親水性モノマーを反応させることを特徴とする袋状の多孔質膜の製造方法。 - 特許庁
To provide a method and a device for manufacturing a metal plate including a steel strip without any defective shape caused by the out-of-plane deformation during cooling.例文帳に追加
本発明は、鋼帯をはじめとする金属板を製造する際に、冷却時に面外変形による形状不良を生じさせることなく金属板を製造することができる金属板の製造方法および製造装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an electronic component mounting device and an electronic component mounting method capable of quickly/accurately obtaining the plane coordinate position and height of a component extraction part of parts feeders arranged side by side to the component supply part of a batch exchange carriage system.例文帳に追加
一括交換台車方式の部品供給部に並設されたパーツフィーダの部品取り出し部の平面座標位置や高さを迅速・正確に求めることが出来る電子部品実装装置および電子部品実装方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an optical recording medium in which optical distortions are not generated and recording and reproducing can be performed with uniform intensity over a whole plane of an optical recording medium, and to provide its manufacturing method with which the optical recording medium can be manufactured efficiently.例文帳に追加
光学的な歪みがなく、光記録媒体の全面に亘って均一な強度で記録及び再生が可能な光記録媒体及び、該光記録媒体を効率よく生産することができる光記録媒体の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a phase measuring method and measuring apparatus that can easily and high accurately measure the angle characteristic of a film given on a reflecting mirror with curvature and plane reflecting mirror, especially the phase characteristic of a film up to an angle of vertical incidence.例文帳に追加
曲率のある反射鏡や平面反射鏡に施した膜の角度特性、特に垂直入射に近い角度まで膜の位相特性を容易に、しかも高精度に測定することができる位相測定方法及び位相測定装置を得ること。 - 特許庁
To provide a semiconductor film deposition apparatus which can ensure good in-plane uniformity stably for a long term by preventing occurrence of internal leak in a deposition chamber due to particles produced in the deposition chamber, and to provide a semiconductor film deposition method.例文帳に追加
製膜室内で発生したパーティクルに起因した製膜室における内部リークの発生が防止され、良好な面内均一性を長期間、安定に実現可能な半導体膜製造装置および半導体膜製造方法を得ること。 - 特許庁
To provide a workpiece consisting of an aluminum alloy, which generates no rust on the surface, is superior in corrosion resistance, develops a glossy, clear, and beautiful mirror plane, and is optimally employed for an automotive wheel, and to provide a surface treatment method therefor.例文帳に追加
表面に錆などが発生することなく耐食性に優れ、しかも光沢のある透明な美しい鏡面を表出させて、自動車用ホイールなどとして最適に使用できるアルミ合金からなる加工材とその表面処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a horizontal diffusion furnace capable of manufacturing a diffusion wafer with high in-plane uniformity of a depth of a diffusion layer within a wafer surface including a center part and an outer peripheral part without complicating the horizontal diffusion furnace, and to provide a heat treatment method of a semiconductor wafer.例文帳に追加
横型拡散炉が煩雑化することなく、中心部と外周部を含むウェーハ面内の拡散層深さの面内均一性が高い拡散ウェーハを製造することができる横型拡散炉、半導体ウェーハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a space motion recognition system and a recognition method thereof, whereby motions over a three-dimensional space can be recognized like writing on a two-dimensional plane, increasing the ability to recognize writing actions over the space without the necessity of other writing planes.例文帳に追加
3次元空間上のモーションを2次元平面上の筆記のように認識でき、別の筆記面なしに空間における筆記動作について認識能力を向上させられる空間モーション認識システム及びその認識方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of forming a bump having a flat top shape or forming a metal film having preferable in-plane uniformity even under a condition of high current density when performing the plating of an object (substrate) to be plated such as a semiconductor wafer.例文帳に追加
半導体ウェハ等の被めっき体(基板)にめっきを行う場合に、高電流密度の条件であっても平坦な先端形状のバンプを形成したり、良好な面内均一性を有する金属膜を形成したりする方法を提供する。 - 特許庁
To provide a rotation angle detection device and a rotation angle detection method which can simply and quickly detect inclination of objects such as person's face from reference posture, in other words a rotation angle of an object image in an image plane.例文帳に追加
例えば人物の顔等のオブジェクトの、基準姿勢からの傾き、即ち、オブジェクト画像の画像平面内での回転角度を簡便且つ迅速に検出することのできる回転角度検出装置および回転角度検出方法を提供する。 - 特許庁
Whether the proper operation is performed or not is confirmed as needed when a control method for reducing power consumption with respect to an air conditioner not shown in Figure is applied by monitoring the alarm/abnormality detecting image plane 53.例文帳に追加
警報・異常検知画面53を監視することにより、図示されない空気調和機に対して消費電力を削減するための制御方法が採用された場合に、随時に適切な動作が行われているか否かを確認することができる。 - 特許庁
To provide building damping structure and method that sufficiently secure the earthquake-proof performance of a building and a degree of the freedom of plane planning in it, and moreover reduce the number of member constructing the building and a construction cost.例文帳に追加
建物の耐震性能および建物の平面計画の自由度を十分に確保できた上で、建物を構成する部材の点数を減少させてコストを抑えることができる建物の制震構造および建物の制震方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device by which number of manufacturing processes can be reduced for forming UBM films having a plane size smaller than that of a bump electrode and reducing concentration of stress on the peripheral border of the UBM films.例文帳に追加
UBM膜の平面サイズよりもバンプ電極の平面サイズを小さく形成し、UBM膜周縁に生じる応力集中を減少するための製造工程数を減少することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an inclination control method for an automobile seat capable of positively supporting lateral acceleration (acceleration in a horizontal direction inside a plane vertical to a traveling direction of an automobile) during traveling of the automobile even in regard to an infant or a disabled person.例文帳に追加
乳幼児や身障者に対しても、自動車の走行時における横加速度(自動車の進行方向に垂直な面内で水平方向の加速度)を確実に支え得るようにした自動車の座席の傾斜制御装置を提供すること - 特許庁
To provide a method for manufacturing a thin film transistor, wherein laser annealing is carried out while scanning and irradiating linear laser light on a semiconductor thin film, crystallization and crystallinity are improved with a high crystallization by improving the in-plane homogeneity after annealing, and the influences of output fluctuations of a laser light source is avoided.例文帳に追加
半導体薄膜に線状レーザー光を走査しながら照射してレーザーアニールを行い、結晶化や結晶性の向上を図るに際し、アニール後の半導体薄膜の面内均質性を向上させつつ、高い結晶性を得る。 - 特許庁
To provide a pneumatic tire wherein it is easily judged whether a tread center displacement is within an allowable range even if a linear main groove is formed on a tire equatorial plane, and also to provide a simple judgment method for a tread center displacement.例文帳に追加
タイヤ赤道面上に直線状の主溝が形成されていても、トレッドセンターずれが許容範囲内であるか否かを容易に判定することができる空気入りタイヤ、及び、トレッドセンターずれの簡易判定方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
The third interlayer insulating film 214 is so flattened by a CMP method that the surface of the third interlayer insulating film 214 is in the same plane of the upper surface of the interlayer connection metal 208 and the surface of the first interlyaer insulating film 204.例文帳に追加
第3の層間絶縁膜214の表面が層間接続用金属208の上面および第1の層間絶縁膜204の表面と同一平面になるように、CMP法によって第3の層間絶縁膜214を平坦化する。 - 特許庁
Paying attention to the propagation constant of a plane wave component in an electromagnetic field in a periodic structure as to a strictly coupled wave analyzing method, a duty ratio of grating cycles such that variation in imaginary part to TE polarized light becomes large is searched for first (S11).例文帳に追加
厳密結合波解析法における周期構造内部の電磁場の平面波成分の伝播定数に着目し、まずTE偏光に対して伝播定数の虚部の変化が大きくなるような格子周期のデューティ比を探索する(S11)。 - 特許庁
To provide an atmospheric-pressure plasma generating method and device wherein atmospheric-pressure plasma, capable of plasma treatment in a distance direction and in a wide range in plane with respect to a reaction space where the plasma is generated, can be generated by a small input power.例文帳に追加
プラズマを発生する反応空間に対して遠近方向に、また平面的にも広い範囲でプラズマ処理が可能な大気圧プラズマを小さな入力電力で発生することができる大気圧プラズマ発生方法及び装置を提供する。 - 特許庁
The method clusters a plurality of multivariate data by the SOM to display shapes of cells as quadrangulars or sexanglulars on a two-dimensional plane and calculates a degree of similarity to representative vectors of adjacent each cell to draw a dendrogram three-dimensionally.例文帳に追加
複数の多変量データをSOMによってクラスタリングして二次元平面上にセルの形状を四角形または六角形として表示し、隣接する各セルの代表ベクトルとの類似度を計算して三次元的にデンドログラムを描写する。 - 特許庁
A manufacturing method of a semiconductor device includes providing a spacer 50 on each of a plurality of semiconductor chips 20 arranged in plane on a substrate 10, wherein processes of forming the spacers 50 is collectively executed on the substrate 10.例文帳に追加
半導体装置の製造方法は、基板10上に平面的に並べられた複数の半導体チップ20の、それぞれの半導体チップ20にスペーサ50を設けることを含み、複数のスペーサ50を形成する工程を、基板10上で一括して行う。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a metal gasket in the specified plane form including a base board made of metal which is coated with a seal part made of a resilient material such as rubber and furnished with a beads part, whereby it is practicable to enhance the productivity and the quality.例文帳に追加
金属製の基板にゴム状弾性材製のシール部をコーティングするとともにビード部を設けた所定平面形状の金属ガスケットについて、その生産性および品質を向上させることが可能なガスケットの製造方法を提供する。 - 特許庁
The method is for calibrating the ultrasonic probe, and comprises a step for guiding the probe to receive ultrasonic waves reflected from a target including one or a plurality of liner members disposed to cross a beam flat plane of the probe at corresponding intersections.例文帳に追加
超音波プローブを較正するための方法であって、対応する交点でプローブのビーム平面に交わるように配置された1または複数の線形部材を含むターゲットから反射される超音波を受け取るようにプローブを案内するステップを含む。 - 特許庁
To provide a film forming method for obtaining an extremely thin interface oxide film having high in-plane uniformity of film thickness and less defect by performing a low oxygen partial pressure oxidation while the surface of a silicon layer is protected by a chemical oxide film.例文帳に追加
シリコン層の表面をケミカル酸化膜で保護した状態で低酸素分圧酸化を行うことにより、膜厚の面内均一性が高くて且つ欠陥の少ない極めて薄い界面酸化膜を得ることが可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁
To provide a thermal treatment boat for a semiconductor wafer and a thermal treatment method for the semiconductor wafer using the same, wherein a wafer in-plane temperature distribution of wafers loaded in a lower part of the thermal treatment boat is reduced and a slip can be restricted from occurring.例文帳に追加
熱処理用ボート下部に積載されたウェーハのウェーハ面内温度分布を小さくし、スリップ発生を抑制することを可能にする半導体ウェーハ熱処理用ボートおよびこれを用いた半導体ウェーハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁
A calibration substrate 10 having a plane transmission line is connected to one measuring port of a measuring device 16, and an error from a prescribed calibration surface of the calibration substrate 10 to the measuring device 16 is derived by an error correction method utilizing the calibration substrate 10.例文帳に追加
平面伝送路を有する校正基板10を測定器16の1つの測定ポートに接続し、校正基板10を利用した誤差補正方法により、校正基板10の所定の校正面から測定器16までの誤差を導出する。 - 特許庁
To provide a nonvolatile semiconductor memory, and its fabricating method, in which deterioration of the characteristics is suppressed even if a semiconductor memory element of microsize is fabricated in the plane of a semiconductor substrate and recording operation of 2 bits per unit memory element is ensured.例文帳に追加
半導体基板面内における半導体記憶素子のサイズの微細化を行っても、特性の劣化が少なく、かつ、単位記憶素子あたり2ビットの記録の動作が可能な不揮発性半導体記憶装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|