| 例文 |
process stepsの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1221件
To provide a method of manufacturing a semiconductor device having a polysilicon semiconductor thin film on which laser activation is uniformly performed without increasing process steps while contamination at laser activation is prevented.例文帳に追加
工程数を増加させることなくポリシリコン半導体薄膜のレーザー活性化を均一に行うことができ且つレーザー活性化時の汚染が防止されたポリシリコン半導体薄膜を有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing process of the packaging box forming material has the steps of supplying raw materials 200 to a flexographic press 300, wherein four flaps, namely, flaps 21, 22, 41 and 42 are severed, for removing, by a severing blade portion 304.例文帳に追加
梱包箱形成用材の製造方法では、原材200はフレキソ印刷機300に供給され、そこで切断用刃物部304によりフラップ21、フラップ22、フラップ41、およびフラップ42の4フラップが切断除去される。 - 特許庁
To provide a defect inspection device of a high resolution realizing the increase of inspection speed in a technology of inspecting defects of patterns, foreign matters, remnants, steps or the like on a wafer in the course of manufacturing process by electron beams.例文帳に追加
半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device including an LDMOS transistor and a scaled MOS transistor actualized through a minimum number of process steps as compared with conventional manufacturing methods, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
本発明は、従来の製造方法と比較し、LDMOS及び微細MOSトランジスタを最小限のプロセス工程数で実現可能な半導体装置及びその製造方法を提供する事を目的とするものである。 - 特許庁
End face 1g of a piezoactuator 1 is machined by a process of two steps and then the piezoactuator 1 is positioned by abutting the end face part 1f having high accuracy of planarity and rectangularity against an abutting jig 21 thus assembling an ink jet head 50.例文帳に追加
ピエゾアクチュエータ1の端面1gの加工を2段階の工程で行い、平面度、直角度の精度の高い端面部1fを突き当て冶具21に突き当て、ピエゾアクチュエータ1を位置決めし、インクジェットヘッド50の組立を行う。 - 特許庁
Moreover, whether the sample has been processed to the target position or whether it has been processed to the prescribed thickness is chocked, and if the answer is a No, then the steps will be repeated, otherwise the process will be finished.例文帳に追加
更にその後、試料が目的とする位置まで加工されたかどうか、あるいは所定の薄さに加工されたかどうかを確認し、その結果がNoならば以上のステップを繰り返し、Yesならば加工処理は終了する。 - 特許庁
A host computer includes a step (S100) for calculating the amount of a carrying object in a manufacturing process and steps (S104, S108, S112) for deciding a lift to be used among a plurality of lifts in accordance with the calculated carrier load.例文帳に追加
ホストコンピュータは、製造工程における搬送対象物の量を算出するステップ(S100)と、算出された搬送負荷に応じて、複数のリフトの中で使用するリフトを決定するステップ(S104、S108、S112)とを含む。 - 特許庁
The isolation process comprises the steps of causing a plurality of liquids having different electric conductivities to flow through the micro channel 12 having a plurality of passages, applying an electric field to make sub-micron particles of an object to be collected in one of them by an interface electro-kinetically driven flow in the micro channel.例文帳に追加
複数の流路を有するマイクロチャンネル12に、導電率の異なる複数の液体を流し、電界をかけて、マイクロチャンネル内における界面動電駆動流により、目的とするサブミクロン粒子8をいずれかに寄せる。 - 特許庁
The method further comprises the steps of reading the hand-writing information by the user, printing out or preserving the information when a print-out button 53 or an HDD storage button 47 is operated, and accounting such a print-out or reserving process by an accounting server 35.例文帳に追加
ユーザが手書き情報を閲覧し、プリントアウトボタン53またはHDD格納ボタン57を操作すると、プリントアウトまたは保存され、このようなプリントアウトや保存処理に対して課金が課金サーバ35で行なわれるようになっている。 - 特許庁
A condition setting is carried out by calculating a data pattern, a heating temperature, and a heating time in a following storage state heating process resting on stress calculated for each data pattern as to the steps S4 and S8 which are previously carried out.例文帳に追加
条件の設定は、既に行なったステップS4およびステップS8の工程について、データパタンごとに算出したストレスに基づき、次記憶状態加熱工程のデータパタン、加熱温度、加熱時間の算出をすることにより行なう。 - 特許庁
The method for drying the timber without cracking comprises the steps of applying a high pressure in the oven to extract a moisture so as to dry the timber, and drying the timber without cracking by utilizing drying of the air in the oven in a process of returning the high pressure to an ordinary pressure.例文帳に追加
この発明は、木材を乾燥させるのに、高圧釜で高圧をかけて水分を抜き、さらに常圧に戻す課程で釜の内部の空気が乾燥するということを利用して木材をひび割れなく乾燥させる方法である。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus that can choose arbitrary pages from a plurality of files by a small number of steps to print them as a single printed material by coupling them with each other while using a print job generated in a normal printing process.例文帳に追加
通常の印刷処理で発生する印刷ジョブを利用して、少ないステップ数により複数のファイルから任意のページを選択し、連結して1つの印刷物として印刷できる画像形成装置を提供する。 - 特許庁
Or, the inspection apparatus 101 carries out steps of subjecting a synthesized image of the RGB image to translucent process (step 208 and step 209), and synthesizing with a trapping enhanced image having an enhanced overlapped part to produce a difference enhancing image (step 207).例文帳に追加
また、検版装置101は、RGB画像の合成画像に半透明化処理を行い(ステップ208、ステップ209)、重複部分を強調処理したトラッピング強調画像と合成して、差異強調画像を作成する(ステップ207)。 - 特許庁
To provide a semiconductor device having a novel structure which can attain connection of front wiring for a buried control electrode subjected to downscaling easily without increasing the number of components and the fabrication steps, and to provide its fabrication process.例文帳に追加
微細化された埋め込み制御電極に対する表面配線の接続が、部材点数と製造工程を増すことなく、容易に達成出来る新規な構造を有した半導体装置及び製造方法を提供すること - 特許庁
To provide a water-soluble photoresist excellent in pattern size reproducibility after development independently of a change in the time elapsed after patternwise exposure in patternwise exposing and developing steps in a process for producing a shadow mask and a lead frame.例文帳に追加
シャドウマスク及びリードフレームの製造工程で、パターン露光、現像工程において、パターン露光後の焼き置き時間の変動に対し現像後のパターン寸法再現性に優れた水溶性レジストを提供することを目的とする。 - 特許庁
The link adaptation process comprises the steps of: evaluating the current radio link conditions; and switching from a current physical layer mode to another physical layer mode by applying a criteria depending on the evaluated current radio link conditions.例文帳に追加
リンク適応方法は、現在の無線リンク条件を評価するステップと、評価された現在の無線リンク条件に応じた基準を適用することにより現在の物理層モードから別の物理層モードに切り替えるステップとを含む。 - 特許庁
For example, the Japan-Mexico EPA provides that on the request of either Party, the Parties shall consult to consider further steps in the process of liberalization of trade between the Parties in respect of goods after 4years from the date of entry into force of this Agreement.例文帳に追加
例えば、メキシコとのEPAについては物品の自由化を定める「物品章」につき発効後4 年経過後に自由化のための追加的手段について一方の締結国の要請に基づき協議を行うことを定めている。 - 経済産業省
The solution is to create a separate process or thread to handle each request; theForkingMixIn and ThreadingMixIn mix-in classes can beused to support asynchronous behaviour.Creating a server requires several steps.例文帳に追加
こうした状況の解決方法は別のプロセスを生成するか、個々の要求を扱うスレッドを生成することです; ForkingMixIn および ThreadingMixIn 配合クラス(mix-in classes) を使えば、非同期的な動作をサポートできます。 サーバの作成にはいくつかのステップがあります。 - Python
To obtain a resin/metal composite thin tubular body which consists of a resin layer on its inner side and a metallic layer on its outer side, does not give rise to trouble in machining, etc., by post process steps and is straight and uniform.例文帳に追加
内側が樹脂層、外側が金属層からなる樹脂・金属複合細管体において後工程による機械加工等で不具合が発生しない真っ直ぐで均一な樹脂・金属複合細管体が得られることを可能にする。 - 特許庁
In a distance measuring process, two light sources are lighted in turn to project light to the object (step 102), an electronic shutter is opened for a fixed time (steps 104, 106), then the light intensity of the reflected light is received (step 108).例文帳に追加
距離計測処理では、まず2つの光源を交互に点灯して対象物体に光を投光し(ステップ102)、電子シャッターを一定時間開放した後(ステップ104、106、反射光の光強度を取り込む(ステップ108)。 - 特許庁
To provide a motor control device and a control method that make it possible to obtain the same effect as when a temperature sensor is used even without using the temperature sensor, by using an existing device, and that make the number of steps in the mounting process, too, of the temperature sensor unnecessary.例文帳に追加
既存の装置を使用し、温度センサを使用しなくとも温度センサを使用したときと同様の効果が得られ、温度センサの取り付け工数も不要とすることができるモータ制御装置および制御方法を提供する。 - 特許庁
The process comprises steps wherein the rare earth alloy powder is prepared, filled into the cavity of the die and compressed employing a pair of pressing surfaces opposing each other.例文帳に追加
希土類合金粉末を用意する工程と、ダイのキャビティ内に希土類合金粉末を充填する工程と、キャビティ内に充填された前記希土類合金粉末を互いに対向する一対の加圧面で圧縮する工程とを含む。 - 特許庁
Furthermore, in fabricating the semitransmissive liquid crystal display, the fabricating method includes a step for forming a projecting and recessing structure without especially increasing the number of patterning steps only for the purpose of forming the projecting and recessing structure in the manufacturing process.例文帳に追加
さらに半透過型の液晶表示装置を作製するにあたり、その製造プロセス中において、凹凸構造を形成するためだけのパターニング工程を特に増やすことなく、凹凸構造を形成することを特徴とする。 - 特許庁
The processor-based system comprises a program for operating to request first and second welding process data to a user in steps 34 and 36 to process the requested data received from the user in a step 38 and thereby to output a comparison report of the first and second welding processes in step 40 to enable the processor-based system to establish various attributes of welding a specific weld joint using a specific welding process.例文帳に追加
プロセッサ式システムは、ステップ34,36でユーザに対して第1と第2溶接処理のデータを要求し、ステップ38でユーザから受信した要求データを処理することで、ステップ40で第1と第2の溶接処理の比較レポートを出力し、特定の溶接プロセスを用いた特定の溶接継手の溶接に関する種々の属性をそのプロセッサ式システムが確立することを可能とすべく作用するプログラムを備える。 - 特許庁
This method includes steps of providing a semiconductor substrate 11 having a metallic pattern 12 having different pattern densities thereon, depositing a porous oxide film 14 on the entire surface of the substrate so as to cover the metallic pattern 12, subjecting the surface of the porous oxide film to a plasma process, and polishing the film 14 subjected to the plasma process in a CMP process.例文帳に追加
本発明は、異なるパターン密度に金属パターン12が形成された半導体基板11を提供する段階、前記金属パターン12を覆うように、前記半導体基板の全面上に多孔性の酸化膜14を蒸着する段階、前記多孔性の酸化膜の表面をプラズマ処理する段階、及び前記プラズマ処理した多孔性の酸化膜14をCMP工程にて研磨する段階を含む。 - 特許庁
The method may include the steps of producing a substrate having a bearing portion from a first material, spraying particles of a second material onto the bearing portion of the substrate in accordance with a predetermined spraying technique to provide a coating thereon, and subjecting the coated bearing portion to a hot isostatic press molding process, a vacuum sintering process, or a controlled atmospheric sintering process.例文帳に追加
本方法は、第1の材料から、ベアリング部分を有する基質を形成するステップと、所定の溶射技術にしたがって第2の材料からなる粒子を前記基質の前記ベアリング部分に対して吹き付けて、前記ベアリング部分上にコーティングを設けるステップと、前記コーティングされた前記ベアリング部分を熱間等静圧圧縮成形プロセス、真空焼結プロセス、又は制御大気焼結プロセスに晒すステップとを含んでもよい。 - 特許庁
The method may include steps of producing the substrate having a bearing portion from a first material, spraying the particles of a second material onto the bearing portion in accordance with a predetermined spraying technique to provide a coating thereon, and subjecting the coated bearing portion to a hot isostatic compression molding process, a vacuum sintering process, or a controlled atmospheric sintering process.例文帳に追加
本方法は、第1の材料から、ベアリング部分を有する基質を形成するステップと、所定の溶射技術にしたがって第2の材料からなる粒子を基質のベアリング部分に対して吹き付けて、前記ベアリング部分上にコーティングを設けるステップと、コーティングされたベアリング部分を熱間等静圧圧縮成形プロセス、真空焼結プロセス、又は、大気を制御した焼結プロセスに晒すステップとを含んでもよい。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an optical device in which reinforcement in members is unnecessary and the number of vapor deposition steps is not increased in the manufacturing process of an optical device including steps of stepwisely layering and adhering planar glass members subjected to film forming treatment and cutting and dividing the layered body into a plurality of pieces at a predetermined inclination angle, and to provide an optical device.例文帳に追加
成膜を施した平板状ガラス部材を階段状に積層、接着し、この積層体を所定の傾斜角度で複数個に切断分割するという工程を経る光学デバイスの製造工程において、部材間を補強する必要がなく、蒸着処理の工数増大を招くことがない光学デバイスの製造方法、及び光学デバイスを提供する。 - 特許庁
In the print system which has the information processor and a printer which performs a printing process according to data from the information processor, the information processor checks the operation state of the printer (steps S601 to S603, S606) and sets a time interval (t) for status acquisition to t0 to t2 according to its operation state (steps S604, S605, and S607).例文帳に追加
情報処理装置と、該情報処理装置からのデータに従って印刷処理を実行するプリンタとを有した印刷システムにおいて、当該情報処理装置は、プリンタの稼働状況を調べ(ステップS601〜S603、S606)、その稼働状況に応じてステータス取得のための時間間隔tをt0〜t2に設定する(ステップS604、S605、S607)。 - 特許庁
To provide a process for fabricating a semiconductor device in which the number of fabrication steps is decreased as compared with prior art by performing a patterning step and a recess step of a substrate region connected with a storage node contact plug, which had been performed in two chambers, in one chamber.例文帳に追加
2つのチャンバ内で行っていた、パターニング工程とストレージノードコンタクトプラグが接続される基板領域のリセス工程とを1つのチャンバ内で行い、従来よりも工程数が減少した半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
The dynamic X-ray photographing method comprises detecting steps (S2 and S6) for detecting the respiratory cycle of a subject and a controlling process (S3, S4, S7 and S8) for automatically controlling the photographing timing of an X-ray photograph according to the respiratory cycle.例文帳に追加
本発明のダイナミックX線画像撮影方法は、被検者の呼吸サイクルを検出する検出工程(S2,S6)と、前記呼吸サイクルに応じて、X線画像の撮影タイミングを自動制御する制御工程(S3,S4,S7,S8)とを有する。 - 特許庁
To easily and inexpensively manufacture an excellent silicon wafer which is increased in an oxygen deposition rate without addition of special equipment or process steps, is enhanced in the IG ability of the contaminated atoms in the silicon wafer and can be handled in the same manner as the conventional polished silicon wafer.例文帳に追加
特別な装置または工程を付加することなく酸素析出量を増やし、シリコンウエーハ中の汚染原子のIG能力を高め、かつ従来のポリッシュドウエーハと同様に扱える優れたシリコンウエーハを簡単かつ安価に製造する。 - 特許庁
The method for simulating the injection molding process comprises the steps of calculating a dimensional change amount of the molding based on thermal strain data due to a contraction of a cooling step and strain data in association with an internal stress change, and calculating relative position data of a mold and the molding generated in association with the dimensional change amount (S6).例文帳に追加
冷却過程の収縮による熱歪みデータおよび内部応力変化に伴う歪みデータに基づき、成形品の寸法変化量を算出し、それに伴って発生する型と成形品の相対位置データを算出する(S6)。 - 特許庁
The process includes the following steps: a step of placing the packaging device in a microwave oven, a step of raising the temperature of the product by exposing it to microwave radiation inside the oven, and a step of applying the product using an applicator.例文帳に追加
プロセスは次の段階、すなわち、 −包装器具をマイクロ波オーブンの中に配置する段階と、 −製品の温度を、製品をオーブン内部のマイクロ波照射に晒すことにより高くする段階と、 −製品をアプリケーターを使用して塗布する段階と、を含む。 - 特許庁
Also, the multilayer flexible circuit board is manufactured by preparing buildup substrates 13, 63, 114 and 212 provided with recesses on the top of conductive protrusions, and preparing core substrates 81, 132 and 230 which are manufactured by different process steps and stacking the buildup substrates on the core substrates.例文帳に追加
また、導電性突起の頂部に凹部があるビルドアップ基材13,63,114,212を用意し、別工程で作製したコア基板81,132,230を用意し、前記コア基板に前記ビルドアップ基材を積層する、多層フレキシブル回路基板を製造することを特徴とする。 - 特許庁
To avoid the influence of the thickness ununiformity of an additional function layer on that of a laminated semiconductor thin layer, by forming a peeling ion-implanted layer by twice ion implanting steps before and after a deposition process of the additional function layer.例文帳に追加
剥離用イオン注入層を付加機能層の堆積工程を挟む2回のイオン注入で形成することにより、付加機能層の膜厚不均一が貼り合わせ半導体薄層の膜厚均一性に影響を及ぼさないようにする。 - 特許庁
This optical encoder device can be produced with a simple manufacturing work and a small number of process steps due to the excellent performance possessed by the light through beam solution for optically encoded element and the single non- folding common substrate.例文帳に追加
光符号化要素用の光スルービームソリューションは優れた性能を有していると共に、単一の非折り畳み型共通基板により、本発明による光エンコーダデバイスは単純な製造作業とわずかなプロセス段階によって製造することができる。 - 特許庁
By using the semiconductor device, a power supply line is not required, thereby achieving a higher aperture ratio without increasing the number of masks or the number of steps in a panel creation process in comparison with a conventional semiconductor device.例文帳に追加
本発明の半導体装置を用いることにより、電源供給線が必要なくなるため、従来の半導体装置に比べて、パネル作成プロセスにおけるマスク枚数や工程数の増加を伴うことなく、より高い開口率を実現することが出来る。 - 特許庁
The process of producing chip-type dressing includes the steps of mixing raw bread crumb and/or semi-dry bread crumb, and powdered seasoning, and drying the mixture of the raw bread crumb and/or semi-dry bread crumb, and the powdered seasoning.例文帳に追加
生パン粉および/またはセミドライパン粉と粉末調味料とを混合する工程と、生パン粉および/またはセミドライパン粉と粉末調味料との混合物を乾燥する工程とを含むことを特徴とするチップ状ドレッシングの製造方法。 - 特許庁
To provide a method for producing a single-crystal 3C-SiC substrate with which it is possible to greatly reduce surface defects generated during epitaxial growth process and thereby simplify subsequent steps while ensuring quality as a semiconductor device.例文帳に追加
エピタキシャル成長過程において発生する表面欠陥を大幅に減少させることができ、後工程を簡略化しながら半導体デバイスとしての品質を確保できる単結晶3C−SiC基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an optical pickup device which uses only one one-dimensional diffraction grating having a constant grating pitch in an optical path from a light source to an optical recording medium, thereby reducing the number of steps in an assemble adjustment process and adjustment time.例文帳に追加
光源から光記録媒体までの光路中に、格子ピッチが一定の一次元回折格子を1つだけ使用することにより、組立て調整工程の工数の削減と調整時間の短縮とを図り得る光ピックアップ装置を提供する。 - 特許庁
The process comprises the steps of condensing tar sludge a1 separated from coal tar generated in the coke oven to have a solid concentration of ≥90% and discharging the tar sludge thus obtained on a coal feed conveyor 2 so that the tar sludge "a" can be coated with coal "c" being carried on the coal feed conveyor.例文帳に追加
コークス炉から発生するコールタールから分離されたタール滓a1を、固形分濃度が90%以上となるように濃縮し、得られたタール滓aを、送炭コンベア2上に、該送炭コンベアで配送中の石炭cで被覆されるように払出す。 - 特許庁
To provide a method for producing a fluorine-containing resin powder coating material composition having a curable functional group by spray drying process, capable of being produced easily and at a low cost without needing long and complicated production steps and without causing gelling at the production.例文帳に追加
長くて複雑な製造工程を経ることなく、容易かつ低コストで製造でき、製造時にゲル化を起こすことのないような、噴霧乾燥法による硬化性官能基を有する含フッ素樹脂粉体塗料組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁
In this plasma treatment method wherein plasma is generated and then a high-frequency voltage is applied to an object on a wafer for etching, the wafer temperature during the etching process is changed by steps for radicals to enter to reach the bottom of the pattern on the object.例文帳に追加
プラズマを生成し、高周波電圧を印加することによりウエハ上の被処理材をエッチングするプラズマ処理方法において、エッチング中にウエハ温度を、被処理材のパターン内底部までラジカルが入射できる温度にステップ的に変化させる。 - 特許庁
The process includes the steps of: applying the curable composition to a supporting substrate to form a layer; curing the layer at one or more temperatures in a temperature range; and engraving to form at least one cell in the cured layer.例文帳に追加
当該方法は、硬化性組成物を支持基材に塗布して層を形成する工程、層をある温度範囲内の1つ以上の温度で硬化させる工程、および硬化層に彫刻して少なくとも1つのセルを形成する工程を包含する。 - 特許庁
To provide a method for fabricating a semiconductor element in which the process time can be shortened by performing a series of pretreatment steps for depositing a subsequent film after making contact holes on a semiconductor substrate in a clustered plasma system.例文帳に追加
半導体基板上にコンタクトホールを形成した後、後続膜を蒸着するまでの一連の前処理工程をクラスター化されたプラズマ装置で行うことによって工程時間を短縮できる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing fine metallic parts which can inexpensively manufacture the fine metallic parts having sharp corner edges in particular, excellent perpendicularity in a height direction and a high aspect ratio in a large amount with good reproducibility with smaller process steps.例文帳に追加
とくにコーナーエッジが鋭く、かつ高さ方向の垂直性に優れた、アスペクト比の高い微細金属部品などを再現性良く、しかもより少ない工程で安価かつ大量に製造することができる微細金属部品の製造方法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing an element including the structures 3, 5 having the photonic crystal effect comprises the steps of forming a GaN system semiconductor layer 3 including a crystal inverting region 4 and removing the crystal inverting region 4 with the wet etching process.例文帳に追加
フォトニック結晶効果を有する構造3,5を含む素子を製造する方法であって、結晶反転領域4を含むGaN系半導体層3を形成する工程と、結晶反転領域4をウェットエッチングにより除去する工程とを含む。 - 特許庁
To provide an efficient method for producing a fluorine-containing (meth)acrylate ester generating no byproducts such as polymers of the fluorine-containing (meth)acrylate ester, peroxides and the like, requiring no purification process and a small amount of steps in a distillation column and reduced in cost.例文帳に追加
含フッ素(メタ)アクリル酸エステルの重合物や過酸化物のような副生物が生成せず、精製工程が不要で、蒸留塔では段数が少数で済み、コストが削減された効率のよい含フッ素(メタ)アクリル酸エステルの製造方法を提供する。 - 特許庁
A user of the pedometer for running wears a pedometer body 201 on the back of the left wrist by the strap, starts a step measuring process using an input means 109, starts to run, and starts to measure steps.例文帳に追加
走行用歩数計の使用者は、ベルトによって自身の左手首甲側に歩数計本体201を装着して、入力手段109により歩数計測処理を開始させると共に、走行を開始することにより歩数の計測を開始する。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright Ministry of Economy, Trade and Industry. All Rights Reserved. |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
| この対訳コーパスは独立行政法人情報通信研究機構の研究成果であり、Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0 Unportedでライセンスされています。 |
| Copyright 2001-2004 Python Software Foundation.All rights reserved. Copyright 2000 BeOpen.com.All rights reserved. Copyright 1995-2000 Corporation for National Research Initiatives.All rights reserved. Copyright 1991-1995 Stichting Mathematisch Centrum.All rights reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|