「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(73ページ目) - Weblio英語例文検索

A common pattern candidate generation means 4 extracts feature quantity sets consisting of the text feature quantity 9b and individual multimedia feature quantities 9aa in the coefficient group and generates common pattern candidates 9c wherein feature quantity sets in same positions on arrangement of multimedia feature quantities 9aa in the coefficient group are collected.例文帳に追加

共通パターン候補生成手段４が、テキスト特徴量９ｂと係数群内の個々のマルチメディア特徴量９ａａとからなる特徴量セットを抽出し、係数群内でのマルチメディア特徴量９ａａの配列上の位置が同じ特徴量セットを集めた共通パターン候補９ｃを生成する。 - 特許庁

To provide a conductive paste composition capable of forming an electrode pattern having superior conductivity and adhesiveness, and capable of being appropriately used for forming the electrode pattern of a plasma display panel, and to provide a transcription film and an electrode for the plasma display panel obtained from the same.例文帳に追加

優れた導電性を有するとともに良好な密着性を有する電極パターンを形成することができ、プラズマディスプレイパネルの電極パターン形成のために好適に使用することができる導電性ペースト組成物、転写フィルムおよびそれから得られるプラズマディスプレイパネル用電極を提供すること。 - 特許庁

To provide an embedded pattern board having more rigidity than an exposed pattern board having the same insulating thickness while using a carrier-insulating layer joint for satisfying a predetermined thickness required by roll transfer equipment using a conventional thick board.例文帳に追加

同一の絶縁厚みを有する露出パターン基板に比して向上した剛性を有することができ、従来の厚い基板を対象としたロール移送装備を用いるために、装備から要求される所定厚みをキャリア−絶縁層の結合体を使用することにより満足させることができる埋め込みパターン基板を提供する。 - 特許庁

As a performance display in composing a prescribed prize mode in an image display means, first display forms F, H of variably displaying a plurality of pattern images simultaneously at high speed, and second display forms G, I or temporarily stopping a plurality of pattern images at the same time, are alternately displayed at least once each.例文帳に追加

画像表示手段において所定の賞態様が構成される際の演出表示として、複数の図柄画像を同時に高速で変動表示させる第１の表示形態（Ｆ、Ｈ）と、複数の図柄画像を同時に仮停止させる第２の表示形態（Ｇ，Ｉ）とを少なくとも１回ずつ交互に表示する。 - 特許庁

In a pattern forming method, a mask having a hole made in a desired shape is provided on a substrate, and when a pattern having the same shape as the mask is formed by adhering a substance from above the mask, the substance is dissolved in a super critical fluid or a subcritical fluid to jet from a fine hole to the substrate.例文帳に追加

基体上に所望の形状に孔を開けたマスクを設け、マスクの上から物質を付着させることによりマスクの孔の形状通りのパターンを形成するに当たり、該物質を超臨界流体または亜臨界流体に溶解させて微小孔から基体に向けて噴射することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

To obtain a printer for printing a pattern onto a cloth by discharge ink of a desired color, in which an operation on a user side for switching the drive voltage or the drive pulse width in order to stabilize the discharge quantity of ink regardless of difference in the viscosity characteristics of ink is eliminated, when the pattern is printed with the same color while varying the density.例文帳に追加

布帛に絵柄等を所望の色のインクを吐出させて染色するものにおいて、同一色においても濃度を変えて染色する場合、インクの粘度特性の違いに関係なくインクの吐出量を安定させるために駆動電圧又は駆動パルス幅を切換えるユーザ側での操作を省く。 - 特許庁

Big wins occur when figures of the same kind line up in the display result derived and shown as the results of the special pattern games or when the figures are odd in kind, big wins with the varying probability occur and the special control for varying of the probability is carried out to raise the probability of the occurrence of big wins in the following special pattern games.例文帳に追加

特図ゲームの結果として導出表示された表示結果が、同じ種類の図柄が揃ったものであれば大当たりとなるが、その図柄の種類が奇数図柄であれば確率変動大当たりとなり、その後の特図ゲームでの大当たりの発生確率が高くなる特別確率変動制御が行われる。 - 特許庁

Since the adhesive force between the insulating substrate 101 and the carbon nanotube 301 is smaller than the adhesive force between the insulating substrate 101 and the cathode conductor 102, the carbon nanotube 301 adhered directly to the insulating substrate 101 is peeled with the adhesive tape 403, so as to form the prescribed pattern of an emitter 401 as being the same with the pattern of the cathode conductor 102.例文帳に追加

このとき、絶縁基板１０１はカソード導体１０２よりもカーボンナノチューブ１０３との接着力が小さいため、絶縁基板１０１に直接被着されたカーボンナノチューブ３０１は粘着テープ４０３に被着して剥離され、カソード導体１０２と同一の所定パターンのエミッタ４０１が形成される。 - 特許庁

The non conduction section 54 is provided with a first region 55 of the same material as the conduction pattern piece 53b and formed to be flush with the surface of the conduction pattern piece 53b and a second region 56 formed to surround the first region 55 as well as being formed so that the first slide piece 52a is not slid.例文帳に追加

非導通部５４は、導体パターン片部５３ｂと同じ材料で導体パターン片部５３ｂの表面と面一になるように形成された第１領域５５と、第１領域５５を囲むように形成されているとともに、前記第１摺動片５２ａが摺動できないように形成された第２領域５６とを備えている。 - 特許庁

When the traveling pattern of the cart 1 is designated from a control and monitor device 4, the communication controller 10 performs the traveling control of the cart and the beam direction control so that the traveling pattern can be realized, and the communication controller 20 performs the beam direction control at the same time so that an optical transmission line during the traveling of the mobile cart can be ensured.例文帳に追加

操作・監視装置４から台車１の走行パターンが指定されると、そのパターンとなるように通信制御装置１０は台車の走行制御とビーム方向制御を行い、同時に通信制御装置２０もそのビーム方向制御を行って、走行中の光伝送路を確保する。 - 特許庁

The division pixel is compared with a reference division pixel; and if the division pixel is found larger, the charged particle beam is made to repeatedly scan a plurality of times in the first scanning direction by using the data corresponding to the pattern in the scanning line portion of the pattern data without aligning the scanning start positions of the charged particle beam in the same division pixel.例文帳に追加

基準分割画素と分割画素とを比較し、分割画素が大きい場合、同じ分割画素内で荷電粒子ビームの走査開始位置を一致させることなく、パターンデータのうち、走査線部分のパターンに相当するデータを用いて、荷電粒子ビームを第１の走査方向に複数回繰り返し走査させる。 - 特許庁

A measuring line pattern is read by the image reader, by forming the measuring line pattern having a plurality of line blocks recorded by using the recording elements separated by a predetermined interval in the row direction of the substantial recording elements of the recording head, and a reference line block including a line recorded by the respectively same recording elements to the respective line blocks.例文帳に追加

記録ヘッドの実質的な記録素子の並び方向に所定間隔離れた記録素子を用いて記録される複数のラインブロックと、各ラインブロックに対して、それぞれ同じ記録素子で記録されるラインを含んだ基準ラインブロックと、を有する測定用ラインパターンを形成し、該測定用ラインパターンを画像読取装置で読み取る。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for obtaining a photosensitive element superior in photosensitivity, chemical resistance, mechanical strength, peeling property, adhesion, resolution, flexibility and storage stability, a resist pattern and a printed wiring board, a photosensitive element using the same, a method for producing a resist pattern, and to provide a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

光感度、耐薬品性、機械強度、はく離特性、密着性、解像度、柔軟性、保存安定性等に優れる感光性エレメント、レジストパターン、プリント配線板を得るための感光性樹脂組成物これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供する。 - 特許庁

In the photodiode group 5 for origin position detection, a photodiode 5z for phase z and a photodiode 5z' for phase z' are arrayed according to an M-series array pattern, and in the reflecting grating group 8 for origin position detection, a reflecting grating 81 and a non-reflecting grating 82 are arrayed following the same M-series array pattern.例文帳に追加

原点位置検出用のホトダイオード群５はＭ系列の配列パターンに従ってＺ相用ホトダイオード５ＺおよびＺ’相用ホトダイオード５Ｚ’が配列され、原点位置検出用の反射格子群８は、同じくＭ系列の配列パターン従って反射格子８１および非反射格子８２が配列されている。 - 特許庁

A detection signal pattern of a sensor other than a sensor to be mounted on a printed circuit board is also formed on the circuit board and further, a power supply line, a GND line for driving the sensor and a detection signal line of the sensor other than the sensor to be mounted on the circuit board constitute a pattern formed through the same side of the circuit board.例文帳に追加

プリント基板に実装されるセンサとは別のセンサの検出信号パターンも前記基板上に形成し、さらに、センサを駆動するための電源ラインとGNDライン、及び前記基板に実装されるものとは別のセンサ検出信号ラインは、前記基板の同一面上を貫通して成るパターンを構成する。 - 特許庁

In an LED light source device, an LED chip having positive and negative electrodes formed on the same plane thereof is mounted on a flexible substrate having a wiring pattern so that the electrodes face the wiring pattern, and a light-transmissible substrate having smaller flexibility than the flexible substrate is provided on the LED chip.例文帳に追加

配線パターンを有する可撓性基板上に、同一面に正負の電極が形成されたＬＥＤチップが、前記電極が前記配線パターンに対向するように載置されており、前記ＬＥＤチップ上に前記可撓性基板よりも可撓性の小さい透光性基板を備えるＬＥＤ光源装置。 - 特許庁

To provide an oxide semiconductor thin-film transistor whose reliability is improved by alleviating steep incline of the peripheral portion of a first insulation film pattern on an oxide semiconductor pattern so that a source/drain electrode formed on a thin-film transistor has a uniform and good step coverage, and a method for forming the same.例文帳に追加

本発明は、その上に形成されるソース・ドレイン電極が均一で良好なステップカバレッジを有するように、酸化物半導体パターン上の第１絶縁膜パターンの周縁部の急傾斜を緩和して信頼性が向上した酸化物半導体薄膜トランジスター及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

The semiconductor device is provided with a fuse circuit 11 and an all reversed fuse circuit 12 respectively including a plurality of program fuses and storing desired address by a cut pattern of the plurality of program fuses and the fuse circuit 11 and the all reversed fuse circuit 12 can store addresses different from each other by the same cut pattern.例文帳に追加

それぞれ複数のプログラムヒューズを含み、前記複数のプログラムヒューズの切断パターンによって所望のアドレスを記憶するヒューズ回路１１及び全反転ヒューズ回路１２を備え、ヒューズ回路１１と全反転ヒューズ回路１２は、同じ切断パターンによって互いに異なるアドレスを記憶可能に構成されている。 - 特許庁

Concerning equalization of the beam width to the 20 GHz and 30 GHz signals, a feed 16 overlaps the beam pattern of 20 GHz on the beam pattern of 30 GHz and performs both transmission and receiving of signals between the satellite and the same prescribed block on the ground.例文帳に追加

２０ＧＨｚ及び３０ＧＨｚ信号に対してビーム幅を等しくすることに関して、フィード１６は、３０ＧＨｚビーム・パターン上に２０ＧＨｚビーム・パターンを重ね合わせ、衛星及び地表上の同じ所定区域間において信号の送信及び受信双方を行なうように構成することができる。 - 特許庁

To provide a method for confirming pattern position accuracy by a proximity exposure device for manufacture of a color filter, to provide a data value with high pattern position accuracy at the end of exposure by using the proximity exposure device using the same method, and to provide the data value which is reliable.例文帳に追加

カラーフィルタの製造において、プロキシミティ露光装置により、パターン位置精度を確認する方法を提供することであり、当該方法を用いたプロキシミティ露光装置を用いることにより、露光終了時にパターン位置精度の高いデータ値が提供され、且つ信頼性の高いデータ値が提供されることである。 - 特許庁

Moreover, the scanning line driving circuit 2000 and a data line driving circuit 9300 perform respectively the driving of scanning lines and data lines based on the same selection voltage by transferring information (pattern data signals PD0, PD1, a carrier signal, a field identification signal and the like) of a selection voltage pattern to be used each other.例文帳に追加

さらに、走査線駆動回路２２００とデータ線駆動回路９３００とは互いに、使用する選択電圧パターンの情報（パターンデータ信号ＰＤ０，ＰＤ１、キャリー信号、フィールド識別信号など）の授受を行い、それぞれ、同じ選択電圧パターンに基づく走査線およびデータ線の駆動を行う。 - 特許庁

Therefore, the alignment marker 5 and the pattern 3 can be simultaneously manufactured in the same manufacturing process, a risk of poor alignment between both can be reduced, and lighting of the alignment marker 5 can be executed independently of lighting of the pattern 3 with an inexpensive light source 7, thereby achieving alignment in situ by providing the alignment sensor 1 in a lithographic apparatus.例文帳に追加

それで整列マーカ５とパターン３を同じ製造プロセスで同時に製造することができ、両者間の整列不良のリスクが少なく、整列マーカ５の照明を安い光源７でパターン３の照明と独立に行えるので、この整列センサ１をリソグラフィ装置内に設け、その場での整列ができる。 - 特許庁

When the timing of performing a first correcting operation and the timing of performing a second correcting operation overlap each other, and an image pattern for the first correcting operation and an image pattern for the second correcting operation have such a relationship not to overlap in a forming position of an intermediate transfer belt 50, both image patterns are formed on the same non-image area.例文帳に追加

第１の補正動作の実行タイミングと第２の補正動作の実行タイミングが重なり、第１の補正動作用の画像パターンと第２の補正動作用の画像パターンが、中間転写ベルト５０に形成される位置において重ならない関係にある場合、両画像パターンを同一の非画像領域に形成する。 - 特許庁

Pattern matching with the input image is performed with plural matching patterns, to obtain a moving image from a positional deviation between the positional deviation candidate area of the input picture high in the matching ratio and the area of the matching patterns to re-conduct pattern matching at the same position of the area of the plural matching patterns with the moving image.例文帳に追加

複数のマッチングパターンで入力画像とのパターンマッチングを行って、マッチング率が高い入力画像の位置ずれ候補エリアとマッチングパターンのエリアとの位置ずれ量から移動画像を得て、移動画像で複数のマッチングパターンのエリアと同じ位置において再度パターンマッチングを行うようにしたものである。 - 特許庁

When an on-vehicle element 5 detects two ground elements 2a, 2b of the same frequency F1 within a constant time, a brake pattern BP is generated from the restriction speed possessed by the frequency f1 without condition and the speed of the train 3 is pattern-controlled by the simple constitution without giving the influence to the existing ATS device.例文帳に追加

車上子５が同一周波数ｆ１の２個の地上子２ａ，２ｂを一定時間以内に検出したとき、無条件で周波数ｆ１が持つ制限速度からブレーキパターンＢＰを発生して、既存のＡＴＳ装置に影響を与えることなく、簡単な構成で列車３の速度をパターン制御する。 - 特許庁

A flexible printed circuit board 243 to supply various electric signals or power in order to control operations of a pickup 242 is formed in stacking structure that a detected part 243C is printed, formed with the same material as that of a conductive pattern 243B in a predetermined area with the conductive pattern 243B and held by a synthetic resin sheet 243A.例文帳に追加

ピックアップ２４２を動作制御するために各種電気信号や電力を供給するためのフレキシブルプリント基板２４３を、導電パターン２４３Ｂと同材質で導電パターン２４３Ｂとともに所定の領域に被検出部２４３Ｃを印刷形成し、合成樹脂シート２４３Ａにて挾持する積層構造に形成する。 - 特許庁

In a lens position detection device for a zoom lens which performs focus drive in part of the moving range of zoom drive, a switch pattern which detects the reference position of each zoom and a uniform resistance pattern which detects the absolute position of a zoom moving range are present in one united body and lens position is detected with the same sliding segment.例文帳に追加

ズーム駆動の移動範囲の一部でフォーカス駆動を行なうズームレンズのレンズ位置検出装置において、各ズームの基準位置を検出するスイッチパターンとズーム移動範囲の絶対的な位置を検出する均一抵抗パターンとを一体的に有し、同一摺動切片によってレンズ位置を検出する構成としている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a thin film transistor which easily realizes a fine electrode pattern, and forms so that a substrate front surface and an electrode pattern front surface may turn into the same plane, thereby laminating an insulating film which is laminated on the upper surface of the electrode, and which can, as a result, lower the drive voltage of a transistor.例文帳に追加

微細な電極パターンを容易に実現し、かつ基材表面と電極パターン表面とが同一平面となるように形成することにより、電極の上部に積層する絶縁膜を薄膜化することができ、その結果トランジスタの駆動電圧を下げることが出来る薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the electronic pen system which needs identification of the paper having the same dot pattern, an identification code input form with a code to be converted which is predetermined according to the position of the dot pattern is prepared, and the type of form is identified by the combination of a plurality of codes determined by the content inputted to the business form.例文帳に追加

同一ドットパターンを持つ紙を識別する必要がある電子ペンシステムにおいて、ドットパターンの位置に応じて変換されるコードを予め定めた識別コード入力用の帳票を準備しておき、その帳票へ入力された内容によって定まる複数のコードの組み合わせにより帳票種別を識別する。 - 特許庁

The same material as that of electrode patterns 2, which are wired in a region on which a bare IC is to be mounted, is used as material of the pattern 4, so that the height of the pattern 4 is made identical to that of the electrode patterns 2, contact area between a substrate 1 and the anisotropic conducting film 3 is enlarged, and bonding strength is increased.例文帳に追加

また、接着用パターン４の材料としては、ベアーＩＣが実装される領域の配線されている電極パターン２の材料と同一材料を用いることにより、電極パターン２と同じ高さにし、基板１と異方性導電膜３との接触面積を拡大し、接着強度を強化する。 - 特許庁

A semiconductor device has the solder bump 20 formed on a substrate 10, and the composition measurement pattern 30 formed on the substrate 10 for measuring the composition of the solder bump 20, the composition measurement pattern 30 having the same volume with the solder bump 20 and larger surface area than the solder bump 20.例文帳に追加

基板１０に形成されたはんだバンプ２０と、前記基板１０に形成されていて前記はんだバンプ１０の組成を測定するための組成測定パターン３０を有し、 前記組成測定パターン３０は、前記はんだバンプ２０と同体積を有し、前記はんだバンプ２０の表面積よりも大きい表面積を有する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a printed-wiring board for restraining the generation of non-bonding or a void at a pattern gap when forming solder resist, and at the same time for restraining the generation of void when injecting a sealing resin into the gap between packaging components and a substrate in a printed-wiring board having a narrow-pitch pattern.例文帳に追加

狭ピッチのパターンを有するプリント配線板において、ソルダレジストを形成する際、パターン間隙での未着、ボイドの発生を抑えるとともに、実装部品と基板の隙間に封止樹脂を注入する際、ボイドの発生を抑えたプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a polymeric compound appropriate for a base resin of a positive resist material having a high resolution exceeding a conventional positive resist material, an excellent pattern shape after exposure, and further exhibiting excellent etching resistance, particularly of a chemically amplified positive resist material, a positive resist material and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a component configuration for reducing a packaging surface and thinning the thickness of a film incorporating components when incorporating the chip component into a substrate, and manufacturing method for accurately packaging and incorporating such chip passive component as an LCR by forming a fine wiring pattern on a circuit board and at the same time forming the connection with the wiring pattern.例文帳に追加

チップ部品を基板に内蔵するにあたって実装面積が小さく、部品内蔵層厚が薄くできる部品構成、及び回路基板に微細な配線パターンを形成しつつ、配線パターンとの接続を形成しながらＬＣＲ等のチップ受動部品を正確に実装、内蔵する製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image pickup device for detecting the surface condition of a circuit pattern-formed wafer with high resolution and a defect detection apparatus using the same, without being affected by steep pattern steps, reflectance distributions and optically transparent substance which are formed after resist patterns are formed and removed.例文帳に追加

本発明の目的は、レジストパターン形成後やレジスト除去後の回路パターン付ウェハに存在する急峻なパターン段差、反射率分布、光学的透明体に影響を受けることなく、表面状態を高解像度で検出する撮像装置並びにこれを用いた欠陥検査装置を提供することである。 - 特許庁

In the method of creating the service map, service transaction repository related to the same service transaction on at least two functions is determined, a data feature pattern in the service transaction repository is determined, and the service map for associating the determined data feature pattern with the service is determined.例文帳に追加

本発明のサービスマップを生成する方法は、少なくとも二の機能上同一のサービストランザクションと関連付けられるサービストランザクションリポジトリを決定し、前記サービストランザクションリポジトリにおけるデータ特徴パターンを決定し、決定された前記データ特徴パターンとサービスとを関連付けるサービスマップを決定する。 - 特許庁

A difference calculator 63 reads out data temporary stored in a data storage register 50 at every processing unit to be one group on the basis of each of a plurality of items of pattern information stored in an LUT 61 and calculates the difference between the data read out at the last time to specify the pattern information frequently making the same differences continuous.例文帳に追加

差分計算部６３は、データ保持レジスタ５０に一時記憶されたデータを、１まとまりとなる処理単位毎に、ＬＵＴ６１に保持される複数のパターン情報のそれぞれに基づいて読み出し、直前に読み出したデータとの差分を算出して、同じ差分が連続する場合が多いパターン情報を特定する。 - 特許庁

To provide a positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which achieves high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness and suppression of outgassing, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin film and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The inserting label 2 and the hanging label 3 are formed so as to have the same shape with either one turned upside down, and a inserting part 23 is formed at the lower par of a pattern printing section 21 of the inserting label 2, and a hanging section 32 is formed at the upper part of a pattern printing section 31 of the hanging label 3.例文帳に追加

差し込み用ラベル２と吊り下げ用ラベル３は、一方が上下反転状態で相互に同一形状となるように形成され、差し込み用ラベル２の絵柄印刷部２１の下部に差し込み部２３が形成され、吊り下げ用ラベル３の絵柄印刷部３１の上部に吊り下げ部３２が形成されている。 - 特許庁

To provide an efficient processing method and its device that realize uniform processing without bluntness of the pattern border area and can perform plural pattern processing at the same time in implementing deposition processing or etching processing of prescribed patterns using the focusing ion beam device.例文帳に追加

本発明の目的課題は、集束イオンビーム装置を用いて所定パターンのデポジション加工またはエッチング加工を施す場合に、パターン境界領域の鈍りが出ない均一な加工を実現し、複数のパターン加工を同時に実行出来る効率的な加工方法並びにその装置を提供することである。 - 特許庁

When printing data is input from a printing data input device 10, an area which has a high density of printing data is detected by a dot counter 13, and only the dot same as the examination pattern memorized in an examination pattern storage memory 14 from the printing data in the area is extracted and printed in the printing medium.例文帳に追加

印刷データが印刷データ入力装置１０から入力された場合に、ドットカウンター１３で印刷データの濃度の高い領域を検出し、その領域内の印刷データから検査パターン記憶メモリ１４に記憶された検査パターンと同じドットのみを抽出して印刷媒体に印刷を行う。 - 特許庁

On the first thin film, a first mark 110 including a first pattern extending in a first direction with a first pitch is formed while on the second thin film, a second mark 120 including a second pattern adjacent to the first mark and extending in the first direction with a second pitch substantially the same as the first pitch is formed.例文帳に追加

第１薄膜には第１方向に伸びる第１パターンを含み第１ピッチを有する第１マーク１１０が形成され、第２薄膜上には第１マークと隣接して第１方向に伸びる第２パターンを含み第１ピッチと実質的に同一の第２ピッチを有する第２マーク１２０が形成される。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and development defect performance, in lithography especially using an electron beam, an X-ray or an EUV ray as an exposure light source, and to provide a resist-film and pattern formation method utilizing the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、現像欠陥性能を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

As a more concrete mode, a focus adjustment method of carrying out focus adjustment as well as pattern measurement by alternately arranging (each other, or each several) beam scanning position(s) for obtaining signals for focus adjustment and for obtaining signals for pattern measurement in the same FOV, and the charged particle beam device are proposed.例文帳に追加

より具体的な一態様として、同じＦＯＶ内にて、フォーカス調整用信号を得るためのビーム走査位置と、パターン測定用信号を得るためのビーム走査位置を交互（１本ごと、或いは複数本ごと）に配置して、焦点調整とパターン測定を実行する焦点調整方法、及び荷電粒子線装置を提案する。 - 特許庁

In the second stage, the pulse position information pertaining to each pulse width is generated (step S18), based on the first halftone data, using the pulse width-to-pulse position table where the pulse position to each pulse width value is written, as to the same pattern matrix as was used in the first stage and each reference No. in the pattern matrix.例文帳に追加

第２段階では、第１段階で用いたと同じパターンマトリクスと、パターンマトリクスの各参照番号について、各パルス幅値に対するパルス位置が書き込まれたパルス幅値対パルス位置テーブルを用いて、第１ハーフトーンデータに基づいて、各パルス幅値についてのパルス位置情報を生成する（ステップＳ１８）。 - 特許庁